JP4190469B2 - リソグラフ装置及び装置の製造方法 - Google Patents
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Description
所望のパターンに応じて投影ビームを模様付けするパターン形成装置を支持する支持構造体と、
基板を保持する基板テーブルと、
模様付けされたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影システムとを含み、
前記パターン形成装置は、前記投影システムの最良の物面にほぼ一致する像を提供するホログラフィックパターン形成装置であり、前記最良の物面は、前記パターン形成装置にほぼ平行であり、前記支持構造体は、前記投影システムの前記最良の物面から変位した平面内に前記パターン形成装置を位置決めするように配置されているリソグラフ投影装置が提供される。
照射システムを使用して放射の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成装置を用いて前記投影ビームに横断面においてパターン(模様)を付与するステップと、
投影システムを用いて前記基板の目標部分上にパターン形成された放射ビームを投影するステップとを含み、前記パターン形成装置は、前記投影システムの最良の物面にほぼ一致する像を提供するホログラフィックパターン形成装置であり、前記最良の物面は、前記パターン形成装置にほぼ平行であり、前記ホログラフィックパターン形成装置は、パターン形成された放射ビームの発射中に、前記投影システムの最良の物面から変位した場所で前記投影ビーム内に配置される、装置の製造方法が提供される。
また、リソグラフ装置は、投影装置の最終素子と基板との間のスペースを埋めるために比較的高い屈折率を有する液体、例えば水に基板がつけられるタイプのものであってもよい。含浸液体は、例えば、マスクと投影システムの最終素子との間でのリソグラフ装置の他のスペースに応用することもできる。含浸技術は、投影装置の開口数を増大するためにこの技術分野でよく知られている。
パターン形成装置(例えば、マスク)MAを支持し、アイテムPLに対してパターン形成装置を正確に位置決めするために第1の位置決め装置PMに接続された第1の支持構造体(例えば、マスクテーブル)MTと、
1.ステップモードにおいて、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的には静止しており、投影ビームに付与されたパターン全体は、一回の行程(すなわち、単一の静的露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTは、異なる目標部分Cが露光されることができるようにX及び/又はY方向に移行される。ステップモードにおいて、露光フィールドの最大寸法は、単一の静的露光で結像された目標部分Cの寸法を制限する。
2.走査モードにおいて、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは、投影ビームに付与されたパターンが目標部分C(すなわち、単一の動的露出)に投影される間、同期して走査される。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの(デ)マグニフィケーション及びイメージ・リバーサル特性によって決定される。走査モードにおいて、露光フィールドの最大寸法は、単一の動的露光における目標部分の幅(非走査方向における)を制限する。それに対し、走査運動の長さは、目標部分の高さ(走査方向における)を決定する。
3.他のモードにおいて、マスクテーブルMTは、基本的にプログラム可能なパターン形成装置を静止して保持し続け、基板テーブルWTは、投影ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、移動されるか、走査される。このモードにおいて、一般にパルス放射源が使用され、プログラム可能なパターン形成装置は、基板テーブルWTの各移動後に、又は走査中の連続的な放射パルスの間に必要に応じて更新される。動作のこのモードは、上述したようなタイプのプログラム可能なミラー・アレイのようなプログラム可能なパターン形成装置を使用するマスクレス・リソグラフィに容易に応用することができる。使用の上述したモード又は使用の全体が異なるモードの組み合わせ及び/又は変形例を使用することもできる。
図面において、対応する参照符号は、対応する部品を示す
Claims (9)
- 放射の投影ビームを提供するための照射システムと、
所望のパターンによって投影ビームをパターン形成するパターン形成装置を支持する支持構造体と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影システムとを含み、
前記パターン形成装置はホログラフィックパターン形成装置であり、前記支持構造体は、前記ホログラフィックパターン形成装置に対してほぼ平行な前記投影システムの最良の物面から間隔を置いた平面内に、前記ホログラフィックパターン形成装置を位置決めするように配置されており、
前記ホログラフィックパターン形成装置はホログラフィックマスクであり、当該マスクは複数のピクセルを含み、前記ピクセルの各々が入射放射ビームに所定の位相変化及び/又は減衰を付与して、所望とするパターンを有する像を前記基板の目標部分に投影する
リソグラフ投影装置。 - 前記パターン形成装置は、反射性ホログラフィック素子を含む請求項1に記載の装置。
- 前記放射システムは、5から20nmの範囲の波長を有する放射の投影ビームを提供する請求項1又は2に記載の装置。
- 前記投影システムは、0.2未満、好ましくは0.1の、パターン形成装置の側の開口数を有する請求項1,2又は3に記載の装置。
- 前記ホログラフィックマスクは、実質的に反射性であり、反射された放射線を調整する請求項1に記載の装置。
- 前記ホログラフィックマスクは、異なる区域の高さの差が必要な位相シフトを生じるように形成された表面輪郭を有する基板を含む請求項5に記載の装置。
- 前記ホログラフィックマスクは、その反射性を改善するために前記基板に付与された複数層の積層を含み、前記複数層の積層は、好ましくは、5から20nmの範囲の波長で反射性のピークを有する請求項6に記載の装置。
- 前記ホログラフィックマスクは、ほぼ平坦な基板と、その上に選択的に設けられた反射性を改善するための複数層の積層と、減衰及び/又は位相移行材料の局所化された層とが設けられている請求項5に記載の装置。
- 基板を提供するステップと、
照射システムを使用して投影放射ビームを提供するステップと、
支持構造体に支持されたパターン形成装置を用いて前記投影ビームに横断面においてパターンを付与するステップと、
投影システムを用いて前記基板の目標部分上にパターン形成された放射ビームを発射するステップとを含み、
前記パターン形成装置はホログラフィックパターン形成装置であり、前記支持構造体は、前記ホログラフィックパターン形成装置に対してほぼ平行な前記投影システムの最良の物面から間隔を置いた平面内に、前記ホログラフィックパターン形成装置を位置決めするように配置されており、
前記ホログラフィックパターン形成装置はホログラフィックマスクであり、当該マスクは複数のピクセルを含み、前記ピクセルの各々が入射放射ビームに所定の位相変化及び/又は減衰を付与して、所望とするパターンを有する像を前記基板の目標部分に投影する
装置の製造方法。
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