JP4184384B2

JP4184384B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体

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Publication number: JP4184384B2
Application number: JP2006072239A
Authority: JP
Inventors: 省蔵岩渕
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2006-03-16
Filing date: 2006-03-16
Publication date: 2008-11-19
Anticipated expiration: 2020-09-26
Also published as: JP2006236561A

Description

本発明は、コンピュータ等の情報機器の記録媒体として使用される磁気記録媒体、その磁気記録媒体用の基板として用いられるガラス基板等等に関する。

磁気ディスク等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきたが、磁気ディスクの小型・薄板化と、高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ強度、平坦性、平滑性に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。
また、磁気ヘッドの方も高密度記録化に伴って、薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、巨大磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきている。したがって、ガラス基板を用いた磁気記録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生することが、これからの大きな潮流となることが予想される。

ガラス基板を用いた磁気記録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生する際、記録密度の向上を求めてヘッドの浮上高さを下げると、サーマル・アスペリティによって再生の誤動作あるいは再生が不可能になるという問題があり、その解決策として特開平１０−１５４３２１に記載の技術が提案されている。
この技術は、サーマル・アスペリティ発生の原因は、ガラス基板端面から発塵するパーティクルであるとして、そのパーティクルの発生を抑えるために、ガラス基板の側面と面取部との間、及びガラス基板の主表面と面取部との間のうちの少なくとも一方に、半径０．２〜１０ｍｍの曲面を介在させるものである。
特開平１０−１５４３２１号公報

その一方で、高密度記録を達成するためのさまざまな試みがなされている。
その一つとして磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの低浮上化がある。磁気ヘッドの低浮上化のために、今までの停止状態の磁気記録媒体上に磁気ヘッドを載置しておき、磁気記録媒体が高速回転することによって、磁気ヘッドを媒体に対し一定間隔をあけて浮上させ、この状態で記録再生を行うコンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式の記録再生方式から、磁気記録媒体装置が停止状態において、磁気ヘッドが磁気記録媒体の外側のランプと呼ばれる傾斜台に退避しており、装置起動時に磁気ヘッドがランプから滑りだし、アームによって磁気ヘッドを媒体に対し一定間隔をあけて浮上させ、この状態でデータの記録再生を行うロード・アンロード方式（ランプロード方式）へと徐々に置き換わりつつある。このようなロード・アンロード方式に使用する磁気記録媒体においては、磁気ヘッドの吸着を防止するためのテクスチャーを設ける必要がないため、高い平滑性の基板を使用することができ、より磁気ヘッドの低浮上化が実現できる。
また、磁気記録媒体においては、線記録密度及びトラック記録密度が年々向上している。線記録密度及びトラック記録密度の向上に伴って、記録再生する際の磁気ヘッドの位置決め精度が重要な要素であり、基板の形状精度（特に内径の寸法精度、真円度等）がより厳しくなっている。これはトラック幅が狭くなり、サーボ信号によるヘッドの位置決め精度が厳しくなっているからである。一般に、磁気記録媒体装置における磁気記録媒体は、磁気記録媒体の中心孔を回転用スピンドルに装着し、固定用クランプによって固定されるが、上述した特開平１０−１５４３２１で得られるガラス基板を使用した磁気記録媒体の場合、ガラス基板の内周端面部分における側面と面取部との間や主表面と面取部との間に形成された曲面の半径が大きいために、回転用スピンドルに対し磁気記録媒体が斜めに装着されたり、磁気記録媒体が回転用スピンドルにきちんと（規定の精度で）固定されず、これらが原因で記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュするなどの問題があった。

本発明は上述した背景の下になされたものであり、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることのない装着信頼性の高い磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明は以下の構成を有する。

（構成１）磁性層を含む薄膜を形成するガラス基板の主表面とガラス基板の側面との間に面取りによる面取部を設けた磁気記録媒体用ガラス基板であって、
ガラス基板の側面と面取部との間、及びガラス基板の主表面と面取部との間のうちの少なくとも一方に、半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面を介在させたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。

（構成２）前記ガラス基板の内周端面における、ガラス基板の側面と面取部との間、及びガラス基板の主表面と面取部との間のうちの少なくとも一方に、前記曲面を介在させたことを特徴とする構成１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。

（構成３）前記曲面が、前記ガラス基板の側面と面取部との間に介在された曲面であることを特徴とする構成１又は２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。

（構成４）前記ガラス基板は、中心部に円孔を有する円板状のガラス基板であって、該円孔の直径の寸法精度が±２０μｍ以内であることを特徴とする構成１ないし３のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板。

（構成５）前記側面、前記面取部の表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ以下とすることを特徴とする構成１ないし４のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板。

（構成６）前記基板の主表面の表面粗さが、Ｒｍａｘで１０ｎｍ以下であることを特徴とする構成１ないし５のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板。

（構成７）構成１ないし６のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。

（構成８）ロード・アンロード方式対応の磁気記録媒体であることを特徴とする構成７記載の磁気記録媒体。

なお、本発明でいう内周端面及び外周端面には、図８及び図９に示すように、面取りした面取部１ｂ、１ｂ’と、側面１ａ、１ａ’とをそれぞれ含む。
（作用）

構成１にあるように、ガラス基板の側面と面取部との間、及びガラス基板の主表面と面取部との間のうちの少なくとも一方に、半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面を介在させることにより、回転用スピンドルに対し磁気記録媒体が斜めに装着されることがなく、磁気記録媒体が回転用スピンドルにきちんと（所定の装着角精度で）固定されるので、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることがない。曲面の半径が０．００３ｍｍ未満の場合、回転用スピンドル装着時等において端面に欠けが発生しやすくなるので好ましくない。また、曲面の半径が０．２ｍｍ以上の場合、回転用スピンドルに対し磁気記録媒体が斜めに装着されやすくなるので好ましくない。より好ましくは、これらの曲面の半径を０．０１ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下とすることが好ましい。

また、構成２にあるように、上記構成１に記載の効果を確保するために、前記ガラス基板の内周端面における、ガラス基板の側面と面取部との間、及びガラス基板の主表面と面取部との間のうちの少なくとも一方に、前記曲面を介在させることが必要である。つまり、前記曲面は、磁気記録媒体が回転用スピンドルによって固定される少なくとも内周端面に形成された面を含むことが必要である。基板の外周端面については、上記構成１で規定する曲面としても良く、サーマル・アスペリティ防止のために、０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下の曲面としても良い。

また、構成３にあるように、磁気記録媒体装置への磁気記録媒体の装着角精度を確保するために、前記曲面は、ガラス基板の側面と面取部との間に介在された曲面であることが必要である。

また、構成４にあるように、ガラス基板は、中心部に円孔を有する円板状のガラス基板であって、円孔の直径の寸法精度を±２０μｍ以内とすることによって、磁気記録媒体装置への磁気記録媒体の装着位置精度がさらに向上するので好ましい。

また、構成５にあるように、ガラス基板の側面、面取部の表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ以下とすることにより、さらに磁気記録媒体装置への磁気記録媒体の装着位置精度が向上する。側面等の表面粗さを構成する突起によって磁気記録媒体が回転用スピンドルに対し斜めに装着される可能性があるからである。製造コストを考えると、好ましくは、Ｒｍａｘで０．０１〜１μｍとすることが好ましい。

また、構成６にあるように、本発明は、磁気ヘッドの低浮上走行が可能な、主表面の表面粗さがＲｍａｘで１０ｎｍ以下のガラス基板を用いる場合に特に有用である。好ましくは、磁気ヘッドのより低浮上走行が可能な、主表面の表面粗さがＲｍａｘで５ｎｍ以下、さらに好ましくは、Ｒｍａｘで３ｎｍ以下のガラス基板が好ましい。

また、構成７にあるように、上記構成１から６に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の主表面上に少なくとも磁性層を形成することにより、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることのない装着信頼性の高い気記録媒体が得られる。特に、構成８にあるように、本発明は、磁気ヘッドが低浮上走行し高密度記録再生が行われるロード・アンロード方式対応の磁気記録媒体に有用である。

（実施例）
以下、実施例にもとづき本発明を説明する。

まず、実施例で使用する研磨装置について説明する。
図１は内周端面研磨に使用する研磨装置の一例を示す要部断面図である。図１において、１は研磨対象である磁気ディスク用ガラス基板（以下ＭＤ基板という）、２は多数のＭＤ基板１を研磨液中に浸漬させつつ収納する基板ケース、３は基板ケース２を固定保持する回転保持台、４は多数積層されたＭＤ基板１の中心孔に挿入された研磨ブラシ、５は研磨液を収容する研磨液収容部、６は各ＭＤ基板を離間するためのスペーサである。

基板ケース２は、軸方向上部からカラー２１を介して締め付けカバー２２を締め込むことで、ＭＤ基板１とスペーサ６との主表面間の摩擦係数あるいは各ＭＤ基板１どうしの主表面間の摩擦係数（スペーサを設けない場合）により、基板ケース２や研磨ブラシ４の回転に影響されることなくＭＤ基板１を保持する機構を有する。なお、この基板ケース２には、ケース内外部の研磨液が流通できるように適当な部位に研磨液流通孔２３が設けてある。

回転保持台３は、研磨液収容部５の底板５１の中心部に気密的に取り付けられた回転軸部３１の回転軸３２に結合され、その回転軸３２を正逆の双方向に回転駆動する回転駆動装置３４によって回転できるようになっている。なお、この回転駆動装置３４はその回転数を可変できるようになっており、研磨目的に応じた適切な回転数を選定できるようになっている。また、回転軸部３１における回転軸カバー３３に設けられたエアー供給口３５からエアー供給路３６を通じてエアーを供給することにより、エアーシール層３７を形成して、研磨液が回転軸３２に流入するのを防ぐ。研磨液収容部５は、円板状の底板５１の外周部に筒状の側壁５２が気密的に取り付けられたもので、研磨液５０を収容する。

研磨ブラシ４は、回転駆動装置４１の回転軸４２に接続されており、正逆の双方向に回転可能に構成されている。研磨ブラシ４は、初期状態においては研磨ブラシ４の回転中心の位置が、基板ケース２の回転中心と一致するように設定されている。また、回転ブラ４は、ブラシ毛４３のＭＤ基板１への接触長さを加減するため、エアシリンダ等を利用した機構（図示せず）によって、ＭＤ基板１の内周端面部分への押しつけ、つまりブラシの回転軸方向に対し垂直方向への押しつけ量が調整可能に構成されている。研磨ブラシ４は、カム機構（図示せず）によって、上記内周端面への押しつけと同時にブラシの回転軸方向に沿って往復しつつ揺動運動ができるように構成されている。なお、揺動運動によって、ブラシ先端の方向を変化させ、端面の表面状態をより向上させることができる。

図２は外周端面研磨に使用する研磨装置の要部を正面から見た部分断面図、図３は要部の平面図である。

これらの図において、１は研磨対象である以下ＭＤ基板、２００は多数のＭＤ基板１を重ねて保持する保持手段、３００は保持手段２００を保持する回転保持台、４は多数枚重ねられたＭＤ基板１の外周端面部分に接触する研磨ブラシ、５００、５００’は研磨液を供給する研磨液供給手段、６００は研磨室である。なお、図２において、各ＭＤ基板を離間するためのスペーサは図示を省略した。

基板保持手段２００は、軸２２１に挿入したＭＤ基板１を受け部材２２２で受け、軸方向上部からカラー２２３を介して締め付け治具２２４で積層ＭＤ基板を締め込むことで、ＭＤ基板１とスペーサとの主表面間の摩擦係数あるいは各ＭＤ基板１どうしの主表面間の摩擦係数（スペーサを設けない場合）により、基板保持手段２００の回転や研磨ブラシ４の回転によってずれることなくＭＤ基板１を保持する機構を有する。

回転保持台３００は、回転軸３３１に結合され、その回転軸３３１を回転駆動する回転駆動装置（図示せず）によって正逆の双方向に回転できるようになっている。なお、この回転駆動装置はその回転数を可変できるようになっており、研磨目的に応じた適切な回転数を選定できるようになっている。

研磨ブラシ４は、回転駆動装置（図示せず）の回転軸４２に接続されており、正逆の双方向に回転可能に構成されている。研磨ブラシ４は、基板セッティング時に図示Ａ方向に退避可能に構成されている。また、研磨ブラシ４は、ブラシ毛４３のＭＤ基板１への接触長さを加減するため、ＭＤ基板１の外周端面部分への押しつけ量を調整可能に構成されている。研磨ブラシ４は、カム機構（図示せず）によって、ブラシの回転軸方向（図示Ｂ方向）に沿って往復運動ができるように構成されている。この際、研磨ブラシ４の往復運動範囲は、セットされたＭＤ基板１の最下部から最上部までの範囲が研磨ブラシ４のブラシ毛の植毛範囲内に収まる範囲内とする。

なお、研磨ブラシ４は、回転駆動装置側の回転軸４２とは反対側（図示下側）に回転軸を有していないが、回転軸４２の反対側にも回転軸及びこの回転軸を固定する軸受を設けることにより、外周端面部分の研磨時においても研磨ブラシ４の回転軸がずれることがなく研磨することができ、表面粗さ、サイズにばらつきがない高精度な研磨を行うことができるので好ましい。軸受としては、べアリング、ボ−ル軸受、ころ軸受、すべり軸受など公知の軸受を使用することができる。軸受は、研磨ブラシ４の回転軸の複数箇所に設けることができ、回転駆動装置側の回転軸４２にも設けることができる。

研磨液供給手段５００は、研磨液供給ノズル５５１、研磨液供給管５５３等からなり、積層ガラス基板１０に研磨液５０を供給する。研磨液供給手段５００’は、図３及び図４に示すように、研磨液供給ノズル５５１’から、積層ガラス基板１０’に研磨液５０を供給する。

上述した内外周端面研磨に使用する研磨ブラシ４は、図５に示すように、円筒又は円柱形の胴部４４にブラシ毛４３を帯状且つ螺旋状に植毛したものである。図６に示すように、螺旋状に植毛したブラシ毛４３の傾斜角γは、内周端面研磨の場合にあっては０°〜９０°であり、好ましくは２°〜５°であり、外周端面研磨の場合にあっては２°〜８０°であり、好ましくは４５°〜７０°である。基板の内外周端面部分を研磨する場合、ブラシ毛の傾斜角が小さいと、効率良く研磨加工することができないからである。図５等に示す態様の研磨ブラシによれば、図８及び図９に示すＭＤ基板の内周端面における面取り部１ｂと側面１ａの双方、及び外周端面における面取り部１ｂ’と側面１ａ’の双方、を同時に良好に研磨できる。研磨ブラシ４の他の態様としては、円筒形の胴部にブラシ毛を点在して植毛した部分植毛などの態様が挙げられる。
また、ブラシ毛４３としては、図７に示す蛇行形にカールさせたナイロン繊維（直径０．０５〜０．３ｍｍ、長さ１〜２０ｍｍ（内周端面研磨の場合）、長さ１０〜３０ｍｍ（外周端面研磨の場合））が使用されているが、ナイロン繊維の代わりに塩化ビニル繊維、豚毛、ピアノ線、ステンレス製繊維などを用いてもよい。硬度が低い繊維、あるいは柔軟性の高い繊維を利用すれば、ブラシ毛の弾性変形によって擦る力が過大になることを防止でき、スクラッチなどのキズの発生をより良好に防止できる。また、カールさせた繊維は、窪み等に対する接触性がよく、例えば、図８及び図９に示すＭＤ基板の内周端面における面取り部１ｂ、及び外周端面における面取り部１ｂ’、をより効率よく研磨することが可能になるが、面取り部１ｂ、１ｂ’の研磨の効率をそれ程考慮しなければカールのない直線状の繊維を利用してもよい。なお、ブラシ毛４３として、樹脂に研磨剤を混入しこれを成形してブラシ毛に研磨剤を含有したものを用いれば、研磨速度をさらに高めることができる。

上述した内外周端面研磨に使用するスペーサ６は、ＭＤ基板の内周端面及び外周端面の面取部の研磨ブラシによる研磨残りを確実に防止するため、及び、研磨時におけるガラス基板等の破損を確実に防止するために設けられたもので、その形状は、ＭＤ基板と同じく中心部に円孔を有する円板状である。具体的には、装着した際、図１０に示すように、スペーサの端部（側面）６ａ、６ａ’がＭＤ基板の面取部１ｂ、１ｂ’の終端１ｃ、１ｃ’から０〜２ｍｍ程度内側（好ましくは０．５〜２ｍｍ程度内側）になるように、ＭＤ基板の大きさにしたがって調整される。なお、図１０はＭＤ基板の中心部の円孔から片側半分だけを部分的に示している。スペーサの端部６ａ、６ａ’をＭＤ基板の面取部の終端１ｃ、１ｃ’から内側にした場合、スペーサの厚さとブラシ毛の線径にもよるが、ブラシ毛がＭＤ基板の主表面の領域まで入り込むことによって、主表面と面取部の間の稜線部が丸味を帯びる傾向になる。また、スペーサの端部６ａ、６ａ’をＭＤ基板の面取部の終端１ｃ、１ｃ’と一致させた場合、ＭＤ基板の主表面の領域までブラシ毛が入り込むことはなく、主表面と面取部の間の稜線部が丸味を帯びることはないが、それらの端部を一致させなければならないので、スペーサを装着することが難しくなる。なお、スペーサの端部がＭＤ基板の面取部の終端から内側にある場合であっても、主表面は研磨工程によって除去されるので、上述の丸味は問題とならない。
また、スペーサの厚さは、使用するブラシ毛の線径によって適宜調整される。その厚さは、０．１〜０．３ｍｍ程度が好ましい。
また、スペーサの材質としては、ポリウレタン、アクリル、プラスチック、研磨工程で使用する研磨パッドと同じ材料などＭＤ基板より軟質な材料からなることが好ましい。具体的には、研磨ブラシ又は研磨パッドからの圧力によって生じるＭＤ基板の破壊を阻止しうる程度に軟質な材料からなることが望ましい。

上述した内外周端面研磨に使用する研磨液の主成分である研磨剤としては、酸化セリウムが使用されているが、他にも酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ等の研磨剤を用いることもできる。好ましくは、被研磨物の材料（ＭＤ基板）に近い硬さのものが望ましく、ガラス基板の場合、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、コロイダルシリカが望ましい。研磨剤が硬すぎるとガラス基板の内外周端面部分にキズを与えることになってしまい好ましくない。また、研磨剤が軟らかすぎるとガラス基板の内外周端面部分を鏡面にすることができなくなるので好ましくない。
研磨剤の平均粒径としては、１〜５μｍが好ましい。１μｍ未満の場合、研磨剤がガラス基板を研削する力が弱く、研磨ブラシの先端が直接ガラス基板の内外周端面部分に接触した状態で研磨されることが多くなるので、ＭＤ基板の面取り形状を制御することが難しく、図８及び図９に示す、内周端面部分における側面１ａと面取り部１ｂとの間の箇所、及び外周端面部分における側面１ａ’と面取り部１ｂ’との間の箇所が、だれてしまうので好ましくない。また、５μｍを超える場合、研磨剤の粒径が大きいので表面粗さが大きくなるので好ましくない。

上述した内外周端面研磨では、研磨ブラシ４に替えて、研磨パッドを用いることができる。研磨パッドとしては、例えば、スウェード、ベロアを素材とする軟質ポリシャや、硬質ベロア、ウレタン発砲、ピッチ含浸スウェード等の硬質ポリシャなどが挙げられる。研磨パッドは、例えば、円筒形の胴部に研磨パッドを全周に巻き付けて配設したものが好ましい。

上述した内周端面研磨装置は、研磨液をガラス基板に吹き掛ける方式のものを採用することができる。また、上述した外周端面研磨装置は、研磨液にガラス基板を浸漬する方式のものを採用することができる。

実施例１
以下の工程を経て磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を製造した。

（１）粗ラッピング工程
まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いてダイレクト・プレスして、直径６６ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍ（２．５インチ）、直径８５ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍ（３．０インチ）、及び直径９６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍ（３．５インチ）の円板状のガラス体を成形した。
この場合、ダイレクト・プレス法の代わりに、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから、研削砥石で切り出して円板状のガラス体を得てもよい。
なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ₂：５８〜７５重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：５〜２３重量％、Ｌｉ₂Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ₂Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。

次いで、ガラス基板にラッピング加工を施した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。ラッピング加工は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒度を＃４００として行った。
詳しくは、粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）（ＪＩＳＢ０６０１で測定）６μｍ程度にラッピングした。

（２）形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中心部に円孔（直径１９ｍｍφ（２．５インチ）、２４ｍｍφ（３．０インチ、３．５インチ））を開けるとともに、内周部を研削加工して直径を２０ｍｍφ（２．５インチ）、２５ｍｍφ（３．０インチ、３．５インチ）とし、外周部も研削して直径を６５ｍｍφ（２．５インチ）、８４ｍｍφ（３．０インチ）、９５ｍｍφ（３．５インチ）とした後、外周部及び内周部に所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板の内外周端面の表面粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。

（３）端面研磨工程
上述した図１に示す研磨装置を用いてガラス基板の内周端面を研磨した。
まず、研磨ブラシ４を基板ケース２の上から適当量退避させておき、基板ケース２にＭＤ基板１とスペーサ６（材質：ポリウレタン、厚さ：０．１ｍｍ）とを交互に多数配置した後、カラー２１を上下に配置して締め付けカバー２２を締め込むことによりクランプする。このとき、ＭＤ基板１の内周穴部の芯ずれは、基板ケース２の内周部とＭＤ基板１の外周部との寸法差によるクリアランスで決定される。このクリアランスについては、作業性、基板ケース内周部の真円度により調整が必要だが、ＪＩＳＢ０４０１（１９８６）における、はめあいのすきまばめから中間ばめの範囲が適正である。スペーサ６の内周穴部の芯ずれは、装着時の作業方法によって決定される。
次に、上記ＭＤ基板１を多数セットした基板ケース２を、回転保持台３にセットする。
次いで、基板ケース２の回転中心と同一線上にある研磨ブラシ４を図１のようにＭＤ基板１の内周部に挿入する。研磨ブラシ４の停止位置はセットされたＭＤ基板１の最下部１’から最上部１”までの範囲が研磨ブラシ４のブラシ毛４３の植毛範囲内に収まる位置とする。
続いて、研磨液収容部５に研磨液５０を適当量だけ満たす。ここで、適当量とは、ＭＤ基板１の締め付けカバー２２の上端面が僅かに液面下に位置するようになる量である。この量は研磨目的に応じて適宜決定される。研磨液を満たす時期は、研磨ブラシ４をＭＤ基板１の内周穴部に挿入する前、あるいは挿入と同時期でもよい。
次に、研磨ブラシ４（ブラシ毛４３を含めた直径５〜２５ｍｍφ、ブラシ毛４３の毛足１〜２０ｍｍ、ブラシ毛４３の線径０．０５〜０．３ｍｍφ、螺旋状に植毛されたブラシ毛４３の傾斜角γ＝３°）のブラシ毛４３がＭＤ基板１の内周端面に当接するように、研磨ブラシ４の押し付け量を調整する。この調整は、ブラシ毛４３がカールしたナイロン繊維の場合にあっては、ブラシ毛４３の先端位置がＭＤ基板１の被研磨面に１〜２ｍｍ程度押しつけられた位置とする。
次に、回転保持台３と研磨ブラシ４とを互いに逆方向に回転させた状態で、研磨を行う。この場合、好ましい研磨ブラシの回転数は空転時で１０００〜２００００ｒｐｍである。本実施例では、回転保持台３の回転数は６０ｒｐｍとし、研磨ブラシ４の研磨液中での回転数は６０００ｒｐｍ（空転時は１００００ｒｐｍ）とし、研磨時間は約１０分とした。

上記内周端面の研磨後に、上述した図２、図３、図４に示す研磨装置を用いてガラス基板の外周端面を研磨した。
まず、内外周の面取り加工等が済んだＭＤ基板１を図２に示す基板保持手段２００にスペーサを介してセットする。詳しくは、１つの基板保持手段に対し５００枚、本実施例では２つの基板保持手段があるので合計１０００枚のＭＤ基板をセットした。
次に、図５に示す研磨ブラシ４（ブラシ毛４３を含めた直径２００〜５００ｍｍφ、ブラシ毛４３の毛足１〜３０ｍｍ、ブラシ毛４３の線径０．０５〜０．３ｍｍφ、螺旋状に植毛されたブラシ毛４３の傾斜角γ＝６５°）を図３に示すようにＭＤ基板１の外周端面部分に押し付ける。この際、研磨ブラシ４のブラシ毛４３のＭＤ基板１の外周端面部分への押し付け量を調整する。この調整は、ブラシ毛４３がカールしたナイロン繊維の場合にあっては、ブラシ毛４３の先端位置がＭＤ基板１の被研磨面に１〜５ｍｍ程度押しつけられた位置とする。

次に、図２〜図４に示すように、研磨液供給手段５００、５００’の研磨液供給ノズル５５１、５５１’研磨液供給口５２からＭＤ基板１の外周端面部分に向けて、２．５インチ基板１００枚当たり５０００ｍｌ／ｍｉｎ、３．０インチ基板１００枚当たり６５００ｍｌ／ｍｉｎ、３．５インチ基板１００枚当たり６５００ｍｌ／ｍｉｎ、の流量の研磨液（研磨剤：酸化セリウム、研磨液の粘度：２ｃｐｓ）５０を供給する。なお、単位枚数（１００枚）当たりの研磨液の流量は、ＭＤ基板総数に対する研磨装置に供給される研磨液の総供給量から計算し求めた。
次に、積層したＭＤ基板１と研磨ブラシ４とを互いに逆方向に回転させた状態で、研磨を行う。具体的には、研磨ブラシ４を７００〜１０００ｒｐｍで回転させ、積層したＭＤ基板１を６０ｒｐｍで回転させ、基板外周端面部分に研磨液を供給して１５分間研磨を行った。
上記内外周端面研磨の際、ＭＤ基板の破損はなく、特に、２．５インチ用の薄いＭＤ基板についても破損は生じなかった。
なお、これらの端面研磨工程は、ガラス基板を重ね合わせて端面研磨する際にガラス基板の主表面にキズ等が付くことをより以上に避けるため、端面研磨工程で使用する砥粒の粒径が後述する第一ポリッシング工程又は第二ポリッシング工程で使用する砥粒の粒径よりも小さい場合は、第一ポリッシング工程の後、あるいは、第二ポリッシング工程の後に行ってもよい。なお、後工程にいくほど仕上板厚に近くなり、表面キズが問題となる。
上記端面研磨を終えたガラス基板を水洗浄した。

（４）第二ラッピング工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に変え、ガラス基板表面をラッピングすることにより、平坦度３μｍ、主表面の表面粗さをＲｍａｘで２μｍ程度、Ｒａが０．２μｍ程度とした。Ｒｍａｘ、ＲａはＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定した。
なお、ラッピング工程によって得られた２．５インチ用ＭＤ基板、３．０インチ用ＭＤ基板、３．５インチ用ＭＤ基板の厚さは、それぞれ０．６８ｍｍ、１．０３ｍｍ又は１．２９ｍｍ、１．０３ｍｍであった。
上記のラッピング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。

（６）第一ポリッシング工程
次に、第一ポリッシング工程を施した。このポリッシング工程は、上述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的とするもので、研磨装置を用いて行った。
許しくは、ポリシャ（研磨パッド）として硬質ポリシャ（セリウムパッドＭＨＣ１５：ローデルニッタ社製）を用い、以下の研磨条件で第一ポリッシング工程を実施した。
研磨液：酸化セリウム＋水
荷重：３００ｇ／ｃｍ²（Ｌ＝２３８ｋｇ）
研磨時間；１５分
除去量：３０μｍ
下定盤回転数：４０ｒｐｍ
上定盤回転数：３５ｒｐｍ
内ギア回転数：１４ｒｐｍ
外ギア回転教：２９ｒｐｍ
上記第一ポリッシング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。

（７）第二ポリッシング工程
次に、第一ポリッシング工程で使用した研磨装置を用い、ポリシャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリテックス：スピードファム社製）に替えて、第二ポリッシング工程を実施した。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ²、研磨時間を５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一ポリッシング工程と同様とした。
上記第二ポリッシング工程を終えたガラス基板を、ケイフッ酸、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。

（８）化学強化工程
次に、洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、化学強化処理槽に硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を３４０℃に加熱し、３００℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を２時間浸漬して行った。
上記化学強化を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。これにより、微小クラックが入った不良品を除去することができる。
上記化学強化工程を終えたガラス基板を、濃度１０重量％の硫酸、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。

評価
上記の工程を経て得られた磁気記録媒体用ガラス基板について図１１に丸囲みの数字で示す各測定部位１、２、３、４における曲面の半径（単位ｍｍ）を、コントレーサＣＶ−５００（ミツトヨ社製）で測定した。なお、図１１では曲面部分は誇張して描いてあり、実際の曲面状態を表すものではない。また、図１１の丸囲みの数字及び’で示す１’、２’、３’、４’の部位は、端面研磨前の角張った部位を示す。測定結果を表１〜４に示す。

表１〜４から、曲面の半径は内外径の１、２、３、４の部位で０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満であり、内径の１、２、３、４の部位で０．０１ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下であることがわかる。また、内外周端面内ともに１、３の部位の方が２、４の部位に比べ曲面の半径が同じか小さくなっていることがわかる。

また、内外周端面の表面粗さをサーフテストＳＶ−６００（ミツトヨ社製）で測定したところ、外周端面の表面粗さはＲｍａｘ：０．５１μｍ、Ｒａ：０．０８μｍ、内周端面の表面粗さはＲｍａｘ：０．６９μｍ、Ｒａ：０．０８μｍであった。
さらに、ガラス基板の主表面１ｄの表面粗さＲａは０．３〜０．７ｎｍ（ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定）であった。

（８）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面に、インライン型スパッタリング装置を用いて、ＮｉＡｌシード層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層、水素化カーボン保護層を順次成膜し、ディップ法によってパーフルオロポリエーテル液体潤滑層を成膜してＬＵＬ（ロード・アンロード）方式用磁気ディスクを得た。
上記の方法で得られた磁気ディスク（１００枚）をＬＵＬ方式のＨＤＤ（ハードディスクドライブ）に搭載したが、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることはなかった。

比較例
上述の端面研磨工程において、ガラス基板の内周端面における側面１ａと面取部１ｂとの間に、半径０．２〜１０ｍｍの曲面２、４を形成したこと以外は実施例１等と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を得た。
上記の方法で得られた磁気ディスク（１００枚）をＬＵＬ方式のＨＤＤ（ハードディスクドライブ）に搭載したが、記録再生時のエラーが１３枚発生し、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュするものが３枚あった。

実施例２〜３
アルミノシリケートガラスの代わりにソーダライムガラス（実施例２）、結晶化ガラス（実施例３）を用い、表に示すサイズ・厚さとしたこと以外は実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得た。
実施例１と同様にして曲面の半径を測定した結果を表５〜６に示す。

表５から、曲面の半径は内外径の１、２、３、４の部位で０．０１ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下であり、内径の１、２、３、４の部位で０．０１５ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることがわかる。また、表６から、曲面の半径は内外径の１、２、３、４の部位で０．０２ｍｍ以上０．２ｍｍ未満であり、内径の１、２、３、４の部位で０．０６ｍｍ以上０．２ｍｍ未満であることがわかる。
実施例２〜３で得られた磁気ディスク（１００枚）をＬＵＬ方式のＨＤＤ（ハードディスクドライブ）に搭載したが、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることはなかった。

以上好ましい実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるものではない。

例えば、ガラス基板の種類や磁性層の種類は実施例のものに限定されない。

ガラス基板の材質としては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、又は結晶化ガラス等のガラスセラミックや、セラミックなどが挙げられる。

アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ₂：６２〜７５重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：５〜１５重量％、ＬｉＯ₂：４〜１０重量％、Ｎａ₂Ｏ：４〜１２重量％、ＺｒＯ₂：５．５〜１５重量％を主成分として含有するとともに、Ｎａ₂Ｏ／ＺｒＯ₂の重量比が０．５〜２．０、Ａｌ₂Ｏ₃／ＺｒＯ₂の重量比が０．４〜２．５である化学強化用ガラス等が好ましい。
また、ＺｒＯ₂の未溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすためには、モル％表示で、ＳｉＯ₂を５７〜７４％、ＺｒＯ₂を０〜２．８％、Ａｌ₂Ｏ₃を３〜１５％、ＬｉＯ₂を７〜１６％、Ｎａ₂Ｏを４〜１４％含有する化学強化用ガラス等を使用することが好ましい。
このような組成のアルミノシリケートガラス等は、化学強化することによって、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌープ硬度にも優れる。

磁性層としては、例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＴａＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどの磁性薄膜が挙げられる。磁性層は、磁性膜を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＴａＰｔ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＴａＰｔなど）としてもよい。

磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は巨大磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁性層としては、Ｃｏ系合金に、Ｙ、Ｓｉ、希土類元素、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎから選択される不純物元素、又はこれらの不純物元素の酸化物を含有させたものなども含まれる。

また、磁性層としては、上記の他、フェライト系、鉄一希土類系や、ＳｉＯ₂、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性層は、内面型、垂直型のいずれの記録形式であってもよい。

（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることのない装着信頼性の高い気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体が得られる。
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体は、特に、磁気ヘッドが低浮上走行し高密度記録再生が行われるロード・アンロード方式対応の磁気記録媒体に有用である。

実施例で使用した内周端面研磨装置の要部を示す断面図である。実施例で使用した外周端面研磨装置の要部を示す断面図である。実施例で使用した外周端面研磨装置の要部を示す平面図である。実施例で使用した外周端面研磨装置の要部を示す側面図である。研磨ブラシの一態様を示す斜視図である。図５の部分拡大図である。ブラシ毛の一態様を示す拡大図である。磁気ディスク用ガラス基板を切断して見たときの斜視図である。磁気ディスク用ガラス基板を切断して見たときの断面図である。スペーサを介して積層された基板を示す部分断面図である。実施例における測定部位を説明するための模式図である。

符号の説明

１基板
１ａ，１ａ’ 側面
１ｂ，１ｂ’ 面取部
２基板ケース
３回転保持台
４研磨ブラシ
５研磨液収容部
６スペーサ
１０積層ガラス基板
３１回転軸部
４３ブラシ毛
５０研磨液
２００基板保持手段
３００回転保持台
５００、５００’ 研磨液供給手段
６００研磨室
３３１回転軸
５５１研磨液供給ノズル

Claims

主表面と側面との間に面取りによる面取部が形成されているとともに、前記主表面と前記面取部との間及び前記側面と前記面取部との間のうち少なくとも一方に半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面が形成された磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板の主表面と側面との間に面取り加工を行なって前記主表面と前記側面との間に面取部を形成する形状加工工程と、
前記形状加工工程の後、前記ガラス基板の前記側面及び前記面取部をブラシで研磨する端面研磨工程と、
前記端面研磨工程の後、前記ガラス基板の前記主表面を研磨する主表面研磨工程とをそなえ、
前記端面研磨工程では、前記ガラス基板の少なくとも内周端面における前記主表面と前記面取部との間及び前記側面と前記面取部との間の両方に半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面が形成されるように前記ガラス基板の少なくとも内周端面における前記側面及び前記面取部をブラシで研磨することを特徴とする、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
前記ガラス基板の外周端面における前記主表面と前記面取部との間及び前記側面と前記面取部との間の両方に半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面が形成されるように前記ガラス基板の外周端面における前記側面及び前記面取部をブラシで研磨することを特徴とする、請求項１記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
前記端面研磨工程では、前記ガラス基板とスペーサとを交互に複数配置した状態で前記ガラス基板の前記側面及び前記面取部を研磨するとともに、前記スペーサの端部が前記ガラス基板の前記面取部の終端よりも内側になるように前記スペーサを配置することを特徴とする、請求項１又は２記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
前記スペーサの厚さが、０．１〜０．３ｍｍであることを特徴とする、請求項３記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
前記スペーサは、前記ガラス基板よりも軟質な材料から形成されていることを特徴とする、請求項３又は４記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板の主表面上に、磁性層を形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。