JP4179198B2

JP4179198B2 - 基板の液処理装置及び液処理方法

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Publication number: JP4179198B2
Application number: JP2004074351A
Authority: JP
Inventors: 良井崎
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2004-03-16
Filing date: 2004-03-16
Publication date: 2008-11-12
Anticipated expiration: 2024-03-16
Also published as: JP2005268279A

Description

本発明は基板の液処理装置及び液処理方法に関するものである。

例えば、液晶パネルを構成するＴＦＴ基板においては、ガラス板等で構成される透明基板の表面に透明な電子回路のパターンが形成される。この電子回路は、基板の表面に成膜、フォトレジスト膜の塗布、現像、エッチング、剥離といった一連の処理工程を繰り返し経ることにより形成されることになる。これらの各処理工程として、例えばエッチング液を用いたエッチング処理等の液処理が含まれる。このように、エッチング等の液処理を行なうに当っては、複数枚の基板を同時に処理する方式と、１枚ずつ連続的に処理する方式とが実用化されている。そして、基板に対する液処理を連続的に行なうには、基板をコンベア等の搬送手段により概略水平搬送する間に、基板の上部から洗浄液を噴射させるように構成したものが広く用いられている。

ここで、基板の上部から洗浄液を噴射させる場合には、基板と処理液との接触時間が短くなり、効率的に液処理を行なうことができず、また基板の部位により処理液との接触が不均一になって処理むらの発生を完全には防止できない等といった問題点がある。以上のことから、内部に所定の処理液を収容させた処理槽を用いて、基板を水平搬送して、この処理槽の内部を通過させるようになし、この間に基板を処理液に接触させるように構成したものは、例えば特許文献１に示されている。
特開２００３−１６８６７４号公報

前述した従来技術の構成では、内槽と外槽とからなる２重の槽を用いて、内槽から外槽に処理液をオーバーフローさせるように構成して、基板の液処理は内槽の内部に導入された段階で行なわれるようにしている。従って、内槽には基板の搬入口及び搬出口にシャッタを設けて、このシャッタを開閉することにより基板を内槽に搬入したり、内槽から搬出させたりする。そして、シャッタの開放により内槽から外槽に処理液が流出することになるので、外槽に回収された処理液を内槽の内部に循環させるようにしている。

以上のように構成すれば、基板の液処理が均一かつ効率的に行なうことができる等の利点があるが、この方式においても、なお問題点がない訳ではない。

即ち、内槽に処理液の流れを形成するために、内槽の底面に処理液の導入管を接続する構成としており、しかも導入管から供給された処理液の余剰部分は槽上面部からオーバーフローさせるという方式となっているために、内槽の内部では主に上昇流となり、かつ流速分布が均一とはならず、また澱み部も生じることになる。そして、通常、処理液による基板の処理を効率的に行なうために、槽内に供給される処理液を加温することが多いが、前述したように均一な流れが形成されないと、槽内での処理液の温度を均一にすることができなくなる。また、基板に対して液処理を行なうと、処理液が汚損乃至劣化することになるが、槽内に均一な処理液の流れが形成されないと、円滑な流れが形成される箇所と、流れが悪い箇所とでは処理液の汚損・劣化の度合いに差が出ることになり、この点も基板における処理むらの原因となる。

以上のように、槽内での処理液の流れが均一かつ円滑に形成されないと、その処理を行なうに当って、基板に対して処理むらを完全には防止できず、基板全面への処理の厳格な均一性が達成されない。しかも、槽内で処理液の流れが形成されるにしても、十分な流速が得られないことから、処理効率の点でもなお不満が残ることになる。

本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、基板を連続的に液処理するに当って、その液処理をむらなく均一に行なうことができ、しかも効率的な処理を可能にすることにある。

前述した目的を達成するために、本発明における基板の液処理装置の構成としては、基板を搬送する間に、所定の処理液を貯留した処理槽を通過させることによって、この基板に対して液処理を行なうものであって、前記処理槽内にはその搬入側から搬出側に向けて前記基板を搬送する搬送手段が装着されており、さらに前記処理槽内には整流板が装着されており、前記搬送手段は前記基板を傾斜状態にして搬送するものであり、また前記整流板はこの基板の傾斜方向と同じ方向に向けて傾けられ、かつこれら基板及び整流板は処理液の液面下に位置しており、前記処理槽には、前記基板及び整流板の傾斜方向の上方側から下方側に向けて処理液が整流状態で流れるように供給する処理液供給部を設ける構成としたことを特徴としている。

ここで、基板の液処理は、現像液の塗布やその剥離液による処理、エッチング液処理等様々な液処理が対象となり、さらに液洗浄等も本発明の処理の対象となる。そして、基板は処理液に完全に浸漬させるようにして処理が行なわれる。従って、基板の処理槽への搬入及び処理槽からの搬出は、液面下に設けた開口部から行なわれる。このために、処理槽から処理液が流出することから、このように流出した処理液を回収し、このようにして回収された処理液を処理槽に循環させる。このために、処理液回収部と処理液供給部とが設けられる。処理液を回収するために、処理槽の前後に、少なくとも基板の搬送方向における長さ分以上の長さを有する基板搬入部及び基板搬出部を設け、この基板搬入部の始端位置から基板搬出部の終端位置までの長さを有する液回収容器を設置して、この液回収容器に回収された処理液を液貯留タンクに回収する。また、液回収容器に回収された処理液を処理槽に供給するために、液貯留タンクに液供給管を接続して設け、この液供給管にポンプを設けて、液回収容器で回収された処理液をポンピングして処理液供給部に供給するように循環使用する構成とすることができる。そして、処理液は基板と整流板との間に供給するが、このために処理液供給部は処理槽に付設され、液供給管が接続された一時貯留部と、この一時貯留部から基板の幅方向のほぼ全長に及ぶように流出させる流入口部とを供える構成となし、かつこの流入口部は前記基板と整流板との間からこれら基板及び整流板の傾斜方向と同じ方向に向けて傾斜させるようにするのが望ましい。

ここで、基板と整流板との間の間隔をあまり狭く設定すると、その間を処理液が円滑に流れなくなり、また間隔を広くし過ぎると、層流状態の流れを形成するのが困難になってしまう。従って、基板と整流板との間の間隔を適正に設定しなければならないが、この間隔は処理液の粘度や比重等に応じて変化するので、実験等により適正な間隔を与えるようにする。また、基板と整流板との傾斜角はあまり大きくする必要はない。要は、その間に層流状態の流れを形成することであり、このためには例えば５°乃至１０°程度の傾斜を有しておれば良い。

基板及び整流板の傾斜方向は、搬送手段による基板の搬送方向に向けて傾斜させるか、または基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる。また、基板の搬送方向に傾斜させる場合、搬送方向前方に向けて立ち上がる方向に傾斜させても良く、また搬送方向前方に向けて立ち下がる方向に傾斜させるようにすることもできる。基板と整流板との間には、層流状態で処理液が流れるが、この基板の搬送方向に向けて処理液の流速を変化させるように構成することもできる。このためには、整流板をその傾斜角を調整可能に設けるようにすれば良い。さらに、例えばエッチング処理である場合等においては、処理液中での処理の進行度合いを検出できるようにするのが望ましい。このためには、所定の検出手段、例えばエッチング処理の場合のエンドポイントディテクタ等を設けるが、この検出手段は整流板に取り付けるようにすることができる。

次に、本発明による基板の液処理方法としては、基板を搬送する間に、所定の処理液を溜めた処理槽を通過させることによって、この基板に対して液処理を行なうに当って、前記処理槽内に整流板を傾けた状態で配設して、この整流板の傾き方向の上部側から下部側に向けて処理液を流すようになし、前記記基板は、前記整流板の傾斜方向と同じ方向に傾斜させるようにして前記処理槽内を通過させることによって、この基板と整流板との間に処理液が層流状態で流れるようにしたことを特徴としている。

また、基板を搬送する間に、エッチング液を溜めた処理槽を通過させる間に、この基板に対してエッチング処理を行なう方法に関する他の発明は、処理槽内に整流板を傾けた状態で配設して、この整流板の傾き方向の上部側から下部側に向けてエッチング液を流すようになし、前記記基板は、前記処理槽内で、前記整流板の傾斜方向と同じ方向に傾斜させて、この傾斜方向と直交する方向に搬送することによって、この基板と整流板との間に処理液が層流状態で流れる間に、前記基板をエッチングするようになし、この基板のエッチング状態を前記整流板に設けたエンドポイントディテクタにより検出して、この検出信号に基づいて前記基板の前記処理槽内での搬送速度を調整することを特徴とする。

従って、本発明によれば、基板を連続的に液処理するに当って、その表面全体にわたって液処理をむらなく均一に行なうことができ、しかもその処理効率を向上させることができる等の効果を奏する。

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。まず、図１に基板の液処理装置の全体構成を示す。なお、以下の説明においては、透明基板のエッチングを行なう工程について例示するが、本発明はこの処理工程を実行するためのものに限定されるものではない。

図中において、１は液処理が行なわれる基板である。基板１は、ローラコンベア、ベルトコンベア等からなる搬送手段２によって、基板搬入部１０から液処理部１１を経て基板搬出部１２に向けて搬送されるようになっている。ここで、搬送手段２は基板１を水平状態で搬送するのではなく、傾斜させた状態にして搬送するようになっている。その傾斜方向は、図１の構成では、搬送方向前方に向けて立ち上がる方向となっている。

基板１の傾斜は、遅くとも基板搬入部１０から液処理部１１に移行するまでの間に行なわれ、また液処理部１１を経た後において、基板搬出部１２以降において水平状態に戻される。基板１の水平状態から傾斜状態への移行、傾斜状態から水平状態への移行は、搬送手段２による搬送時に連続的に行なわれるか、若しくは搬送手段２における搬送経路の途中に設けた基板傾動手段（図示せず）により行なうことができる。

液処理部１１には処理槽２０が配設されており、この処理槽２０内には処理液が供給されるようになっている。処理槽２０は、その底面部２０ａが基板１の搬送方向の上流側に向けて立ち上がる方向に傾斜している。そして、処理槽２０における入口側と出口側の端壁２０ｂ，２０ｃには、基板導入口２１と基板導出口２２とが開口しており、これら基板導入口２１及び基板導出口２２にはスライド式のシャッタ２３，２４が設けられている。また、処理槽２０の下部には液回収容器２５が設置されている。この液回収容器２５は、搬送手段２による基板１の搬送方向において、処理槽２０の設置部から、その手前側及び前方側に向けて基板１の搬送方向における長さ分以上の長さを有している。この処理槽２０の手前側に位置しているのが基板搬入部１０であり、前方に位置しているのが基板搬出部１２である。従って、液回収容器２５の全長は基板搬入部１０の始端位置から基板搬出部１２の終端位置まで及んでいる。

液回収容器２５の下部位置には排出管２６が接続されており、この排出管２６は液貯留タンク２７に接続されている。従って、液回収容器２５に回収された処理液は排出管２６から液貯留タンク２７に回収されることになる。さらに、排出管２６の液貯留タンク２７への接続部には、処理液中に含まれる不純物等を除去するためのフィルタ２８が設けられている。

液貯留タンク２７内の処理液は循環して使用されるものであり、このために液貯留タンク２７には処理液供給部が設けられている。この処理液供給部は、図２からも明らかなように、液貯留タンク２７に接続した供給管２９を有し、この供給管２９には処理液を圧送するためのポンプ３０と流量計３１とが装着されている。そして、供給管２９は左右に分岐して、液回収容器２５及び処理槽２０を迂回しながら上方に向けて延在され、その先端部は処理槽２０の端壁２０ｃの上部位置に、この端壁２０ｃのほぼ全長に及ぶように設けた一時貯留部３２の両側部に接続されている。そして、この一時貯留部３２は端壁２０ｃから処理槽２０の内部に延在させた流入口部３２ａが設けられており、この流入口部３２ａから処理槽２０内に処理液が供給されるようになっている。

処理槽２０内には整流板３３が設けられている。この整流板３３は少なくとも基板１と同形か、若しくはそれより縦横寸法が大きい板体で構成されている。整流板３３は、その全体が搬送手段２による基板１の搬送方向と同じ方向に向けて傾斜しており、かつ処理槽２０における処理液の液面下であって、搬送手段２による基板１の搬送面より上方位置に配置されている。ここで、整流板３３の傾斜角と搬送手段２上に位置する基板１の傾斜角とはほぼ同一角度となっている。そして、一時貯留部３２における流入口部３２ａは、整流板３３と基板１との間に開口しており、この流入口部３２ａの開口幅は少なくとも基板１の幅方向の全長に及ぶものである。また、この流入口部３２ａは斜め下方に向いており、従って供給される処理液は整流板３３と基板１との間に向くように斜め下方に流れるようになっている。

以上のように、基板１は搬送手段２によって斜め上方に向けて搬送されるようになっており、しかも処理槽２０内では処理液に完全に浸漬した状態となり、さらに処理槽２０内では液流が形成されることになる。そこで、基板１を安定的に搬送し、その浮き上がり等を防止するために、搬送手段２は、少なくとも処理槽２０内においては、図３及び図４に示したように構成されている。これらの図から明らかなように、搬送手段２は送りローラユニット３と押えローラユニット４とから構成されるものであり、これら送りローラユニット３と押えローラユニット４とは上下に対向した位置となるようにして、搬送方向に所定のピッチ間隔をもって配設されている。送りローラユニット３は、回転軸３ａの左右に一対からなる搬送ローラ３ｂを装着したものであり、搬送ローラ３ｂは鍔付きローラから構成され、基板１の搬送方向における左右の両側部は搬送ローラ３ｂの段差部に当接するようになっている。一方、押えローラユニット４は、シャフト４ａの左右に一対の押えローラ４ｂを装着することにより構成される。

ここで、図示したものにあっては、押えローラユニット４は処理槽２０の内部にのみ設けられ、基板搬入部１０及び基板搬出部１２では、送りローラユニット３のみが配置されている。これら基板搬入部１０及び基板搬出部１２にも押えローラユニット４を設ける構成としても良い。また、搬送手段２は基板１の進行方向前方に向けて立ち上がる方向に傾斜しているために、送りローラユニット３及び押えローラユニット４は、基板１の搬送方向前方に向けて順次高い位置となるように設定されている。基板１の進行方向前方に向けて立ち下がる方向に傾斜させる場合には、これら送りローラユニット３及び押えローラユニット４を基板１の搬送方向前方に向けて順次高さを低くする。さらに、基板１の搬送方向と直交する方向に傾斜させる場合には、送りローラユニット３及び押えローラユニット４における回転軸３ａ，４ａをその軸線方向に傾斜させるようにすれば良い。

基板１は、その左右両側部が搬送ローラ３ｂと押えローラ４ｂとに挟持された状態で搬送されることになる。このために、少なくとも送りローラユニット３を構成する回転軸３ａはモータ等の駆動手段で回転駆動されるようになっており、押えローラユニット４側は必ずしも駆動する必要はないが、送りローラユニット３と同期させて回転させるようにしても良い。ここで、基板１に対して、その表面にのみ液処理を行なう場合には、表面側に当接する押えローラ４ｂは基板１の両側端部と当接させるが、裏面側に設けた搬送ローラ３ｂへの当接部は多少の幅を持たせることもでき、また回転軸３ａの中間部分に１または複数の支持ローラを設けることもできる。

以上のように構成される基板１の液処理装置によって、基板１に対して所定の液処理、即ち本実施の形態の場合には、エッチング処理が行なわれる。基板１は、搬送手段２によって、この液処理装置の基板搬入部１０に搬入される。そして、この基板搬入部１０から処理槽２０の端壁２０ｂと対面する位置にまで搬送されると、この端壁２０ｂに設けたシャッタ２３が開いて、基板１は処理槽２０内に導入される。ここで、シャッタ２３が開くと、処理槽２０内の処理液が流出することになり、しかも傾斜状態となっている基板１の上面に沿って流れることになる。しかしながら、基板搬入部１０の下部位置には液回収容器２５が配置されており、しかもこの基板搬入部１０は基板１の搬送方向における全長以上の長さを有するものであるから、流出した処理液の全量が液回収容器２５内に回収されることになり、外部への漏出はない。そして、液回収容器２５に回収された処理液は液貯留タンク２７に戻されて、供給管２９を介して処理槽２０に循環される。従って、処理槽２０内の液面が低下して、整流板３３が液面上に露出する等といった事態が生じることがなく、液面はほぼ一定の状態に保持される。

処理槽２０の内部では、図５に示したように、上部側の一時貯留部３２における流入口部３２ａから処理液が流入しており、しかも処理槽２０の底面部２０ａが流入口部３２ａ側から下向きに傾斜しているので、処理槽２０内の処理液はこの傾斜に沿って端壁２０ｃ側に向けて流れることになる。しかも、流入口部３２ａの上部位置には整流板３３が配設されているので、流入した処理液の流れは整流板３３の下面に沿うように矢印方向に流れることになる。従って、基板１が処理槽２０内を進行する間の部位では、処理液の流れは整流板３３と基板１との間を層流状態で流れるようになり、流速分布及び液の温度分布が均一になる。その結果、基板１の表面全体にわたって均一に、しかも効率的に処理が行われる。

また、基板１の表面に沿う方向に処理液が所定の流速をもって流れるので、常に新鮮な処理液が基板１の表面全体と接触することになり、処理液が局所的に劣化したり、汚損されたりすることもなくなる。特に、エッチング処理を行なう場合のように、基板１の表面に凹凸部を形成するには、その表面に沿った処理液の流れの作用によってシャープな段差形状を作り出すことができる。さらに、処理槽２０に供給された処理液を基板１と整流板３３との間で層流状態にして流すことによって、気泡等の発生を防止できる。

以上のようにして処理槽２０内で基板１の液処理が高精度に行なわれ、基板１の端部が処理槽２０内に完全に入り込んだ後にもシャッタ２３を開放しておくことによって、処理液の層流状態が維持される。ただし、処理槽２０の基板１の搬送方向における長さが十分長い場合には、シャッタ２３を閉じるようしても良い。この場合には、余剰の処理液は処理槽２０からオーバーフローすることになるが、基板１の表面での層流状態にさほど影響を与えることはない。

基板１が処理槽２０の端壁２０ｃの直近位置に至ると、基板導出口２２を閉鎖しているシャッタ２４を開放する。処理槽２０内の処理液の液面は基板導出口２２より高所にあるので、この基板導出口２２から処理液が流出するが、一時貯留部３２における流入口部３２ａは処理槽２０の内部に入り込んでいるので、基板１と整流板３３との間における処理液の液面が低下することはない。また、液処理部１１を構成する処理槽２０の前方位置は基板搬出部１２となっており、液回収容器２５はこの基板搬出部１２の下部に及んでいるので、基板１が基板搬出部１２に完全に搬出されるまでに処理槽２０から持ち出される処理液は液回収容器２５に回収されて、液貯留タンク２７に還流する。基板１が処理槽２０から搬出されたときにはシャッタ２４を閉鎖する。一方、基板導入口２１側のシャッタ２３は基板１の通過後には閉鎖させても良いが、少なくともシャッタ２３を開放状態に保ち、またポンプ３０を連続的に稼動させることによって、処理槽２０内で処理液の円滑な流れが維持される。

ここで、基板１の搬送方向と直交する方向においては、処理液が均一な流れとなるが、基板１の搬送方向に流速を連続的に変化させることもできる。このためには、図６に示したように、整流板３３の先端部、つまり流入口部３２ａ側の端部に傾動軸４０を連結して設け、この傾動軸４０を軸回りに回動させるように構成する。これによって、整流板３３の他端部が上向きに変位させると、この他端部側が整流板３３と基板１との間隔が広くなるので、処理液の流れは下流側の流速が遅くなる。また、他端部を下向きに変位させると、他端側に向けて整流板３３と基板１との間隔が狭くなるので、処理液の流速が下流側に向けて速くなる。

さらに、本実施の形態のように、基板１に対してエッチング処理を行なう場合には、その進行度合いを監視しなければならない。エッチングは基板１の表面に形成した金属膜Ｍを所定のレジストパターンＲに沿って剥離する処理を行なうものであり、このエッチングの度合いを検出するためには、一般的に、光学手段を用いて基板１の表面における金属膜Ｍの膜厚を測定することにより行なわれ、金属膜Ｍが完全に除去されて、基板１の表面が露出したこと、つまりエンドポイントを検出する。このエンドポイントを検出するには、図７に示したエンドポイントディテクタ５０を用いる。エンドポイントディテクタ５０は、発光素子５１と受光素子５２とを備え、発光素子５１からの光を集光レンズ５３により基板１の表面に照射して、この基板１からの反射光は集光レンズ５４を介して受光素子５２で受光させて、その受光量に基づいてエンドポイントを検出する。

そこで、図８に示したように、エンドポイントディテクタ５０を整流板３３に装着することができる。整流板３３は処理槽２０における液面下に配置されているので、発光素子５１から照射される光及び基板１から反射して受光素子５２により受光される光は液中に位置しており、かつ整流板３３の下部を流れる処理液は層流状態となっている。従って、液面上からエンドポイントを検出する場合のように、液面からの反射を考慮する必要がなく、また液の揺らぎ等といった誤差要因をほぼ完全に排除できるようになる。その結果、極めて正確にエンドポイント検出を行なえるようになる。

本発明における実施の一形態を示す基板の液処理装置の全体構成を示す説明図である。図１の右側面図である。搬送手段の構成説明図である。搬送ローラと押えローラとの係合状態を示す説明図である。基板の液処理を行なっている状態を示す作用説明図である。整流板を傾動可能とした構成例を示す図５と同様の説明図である。エンドポイントディテクタの構成説明図である。エンドポイントディテクタを組み込んだ処理槽を示す構成説明図である。

符号の説明

１基板２搬送手段
３送りローラユニット４押えローラユニット
１０基板搬入部１１液処理部
１２基板搬出部２０処理槽
２１基板導入口２２基板導出口
２３，２４シャッタ２５液回収容器
２６排出管２７液貯留タンク
２９供給管３０ポンプ
３２一時貯留部３２ａ流入口部
３３整流板４０傾動軸
５０エンドポイントディテクタ

Claims

基板を搬送する間に、所定の処理液を貯留した処理槽を通過させることによって、この基板に対して液処理を行なう装置において、
前記処理槽内にはその搬入側から搬出側に向けて前記基板を搬送する搬送手段が装着されており、
さらに前記処理槽内には整流板が装着されており、
前記搬送手段は前記基板を傾斜状態にして搬送するものであり、また前記整流板はこの基板の傾斜方向と同じ方向に向けて傾けられ、かつこれら基板及び整流板は処理液の液面下に位置しており、
前記処理槽には、前記基板及び整流板の傾斜方向の上方側から下方側に向けて処理液が整流状態で流れるように供給する処理液供給部を設ける
構成としたことを特徴とする基板の液処理装置。
前記処理槽の前後に、少なくとも前記基板の搬送方向における長さ分以上の長さを有する基板搬入部及び基板搬出部を設け、この基板搬入部の始端位置から前記基板搬出部の終端位置までの長さを有する液回収容器を設置して、この液回収容器に回収された処理液を液貯留タンクに回収し、この液貯留タンクには、さらに液供給管を接続して設け、この液供給管にポンプを設けて、前記液回収容器で回収された処理液をポンピングして前記処理液供給部に供給するように循環使用する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板の液処理装置。
前記処理液供給部は前記処理槽に付設され、前記液供給管が接続された一時貯留部と、この一時貯留部から前記基板の幅方向のほぼ全長に及ぶように流出させる流入口部とからなり、この流入口部は前記基板と整流板との間からこれら基板及び整流板の傾斜方向と同じ方向に向けて傾斜させる構成としたことを特徴とする請求項２記載の基板の液処理装置。
前記搬送手段は前記基板を前記処理液供給部から供給される処理液の流れ方向に搬送する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板の液処理装置。
前記搬送手段は前記基板を前記処理液供給部から供給される処理液の流れと概略直交する方向に搬送する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板の液処理装置。
前記整流板はその傾斜角を調整可能に設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板の液処理装置。
前記整流板には前記基板の処理度合いを検出する検出手段を装着する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板の液処理装置。
前記基板の液処理は、この基板のエッチングを行なうものであり、前記検出手段はそのエンドポイントディテクタであることを特徴とする請求項７記載の基板の液処理装置。
基板を搬送する間に、所定の処理液を溜めた処理槽を通過させることによって、この基板に対して液処理を行なう方法において、
前記処理槽内に整流板を傾けた状態で配設して、この整流板の傾き方向の上部側から下部側に向けて処理液を流すようになし、
前記基板は、前記整流板の傾斜方向と同じ方向に傾斜させるようにして前記処理槽内を通過させることによって、この基板と整流板との間に処理液が層流状態で流れるようにした
ことを特徴とする基板の液処理方法。
基板を搬送する間に、エッチング液を溜めた処理槽を通過させる間に、この基板に対してエッチング処理を行なう方法において、
前記処理槽内に整流板を傾けた状態で配設して、この整流板の傾き方向の上部側から下部側に向けてエッチング液を流すようになし、
前記基板は、前記処理槽内で、前記整流板の傾斜方向と同じ方向に傾斜させて搬送することによって、この基板と整流板との間に処理液が層流状態で流れる間に、前記基板をエッチングするようになし、
この基板のエッチング状態を前記整流板に設けたエンドポイントディテクタにより検出して、この検出信号に基づいて前記基板の前記処理槽内での搬送速度を調整する
ことを特徴とする基板の液処理方法。
請求項９または請求項１０のいずれか１項に記載の基板の液処理方法を用いて基板を製造することを特徴とする基板の製造方法。