JP4115210B2 - 静電型アクチュエータ、液滴吐出ヘッド及びその製造方法、インクカートリッジ、マイクロポンプ、光学デバイス、画像形成装置、液滴を吐出する装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は静電型アクチュエータ、液滴吐出ヘッド及びその製造方法、インクカートリッジ、マイクロポンプ、光学デバイス、画像形成装置、液滴を吐出する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】
特開平６−７１８８２号公報
【特許文献２】
特開２００１−１８３８３号公報
【特許文献３】
特開平１１−３１４３６３号公報
【０００３】
プリンタ、ファクシミリ、複写装置等の画像記録装置或いは画像形成装置として用いるインクジェット記録装置において使用する液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドは、インク滴を吐出する単一又は複数のノズル孔と、このノズル孔が連通する吐出室（加圧室、インク室、液室、加圧液室、圧力室、インク流路等とも称される。）と、吐出室内のインクを加圧する圧力を発生する圧力発生手段とを備えて、圧力発生手段で発生した圧力で吐出室内インクを加圧することによってノズル孔からインク滴を吐出させる。
【０００４】
なお、液滴吐出ヘッドとしては、例えば液体レジストを液滴として吐出する液滴吐出ヘッド、ＤＮＡの試料を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドなどもあるが、以下ではインクジェットヘッドを中心に説明する。また、液滴吐出ヘッドのアクチュエータを構成するマイクロアクチュエータは、例えばマイクロポンプ、マイクロ光変調デバイスなどの光学デバイス、マイクロスイッチ（マイクロリレー）、マルチ光学レンズのアクチュエータ（光スイッチ）、マイクロ流量計、圧力センサなどにも適用することができる。
【０００５】
ところで、液滴吐出ヘッドとしては、圧力発生手段として圧電素子などの電気機械変換素子を用いて吐出室の壁面を形成している振動板を変形変位させることでインク滴を吐出させるピエゾ型のもの、吐出室内に配設した発熱抵抗体などの電気熱変換素子を用いてインクの膜沸騰でバブルを発生させてインク滴を吐出させるサーマル型のもの、吐出室の壁面を形成する振動板を静電力で変形させることでインク滴を吐出させる静電型のものなどがある。
【０００６】
近年、環境問題から鉛フリーであるバブル型、静電型が注目を集め、鉛フリーに加え、低消費電力の観点からも環境に影響が少ない、静電型のものが複数提案されている。
【０００７】
この静電型インクジェットヘッドとしては、例えば、【特許文献１】に記載されているように、一対の電極対がエアギャップを介して設けられており、片方の電極が振動板として働き、振動板の対向する電極と反対側にインクが充填されるインク室が形成され、電極間（振動板−電極間）に電圧を印加することによって電極間に静電引力が働き、電極（振動板）が変形し、電圧を除去すると振動板が弾性力によってもとの状態に戻り、その力を用いてインク滴を吐出するものがある。
【０００８】
また、【特許文献２】には振動板と電極との微小なギャップを犠牲層エッチングにより形成し、その上に液室基板を接合することでヘッドを構成することが記
載されている。また、【特許文献３】には、ギャップにインクが流入可能な片もち梁又は両もち梁構造の振動板を形成し、高誘電率インクをギャップ内に満たすことで低電圧駆動を可能にしたものが記載されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、振動板と対向する電極とを備えた静電型アクチュエータを含む静電型インクジェットヘッドにあっては、低電圧化のためには電極間のエアギャップを非常に小さくしなければならない。
【００１０】
しかしながら、上記【特許文献１】に記載のヘッドでは、エッチングによる凹部形成と陽極接合による振動板基板との接合によりエアギャップを作成しており、そのような微小なギャップを精度良く、バラツキ少なく形成することが非常に困難であり、歩留まりが上がらないといった課題がある。
【００１１】
そこで、上記【特許文献２】に記載のヘッドでは、ギャップを精度良く形成する方法として犠牲層エッチングによるギャップ形成法を用いているが、犠牲層エッチング用ホールを振動板面に形成しているため、振動板の信頼性が低下する。また、犠牲層エッチング後に絶縁膜でエッチングホールを封鎖する方法を用いているので、ホールを封止する為の絶縁膜を厚く形成する必要があり、振動板剛性が大きくなり駆動電圧が上昇し、且つ振動板剛性がつばらつく要因となるという課題がある。さらに、アクチュエータ基板表面にギャップ形成分の凹凸があり、液室基板を接合するときに高いアライメント精度が要求され、接合面積が小さくなり、接合時の接触による破壊などの作業ミスを招きやすく、信頼性の低下や歩留まりの低下を招きやすいという課題がある。
【００１２】
また、上記【特許文献３】に記載のヘッドでは、犠牲層エッチングによりギャップを形成しているが、振動板が片もち梁又は両もち梁構造でありギャップと液室が連通した構造になっている。この場合、犠牲層エッチング用のホールを形成する必要が無く、インクがギャップ内に侵入可能なため、高誘電率インクを用いることで実効ギャップを小さくでき低電圧駆動が可能である。しかしながら、ギャップ内のインクに電圧がかかるため、インク成分が凝集を起こす問題が発生しやすく、またギャップ内インクのコンダクタンスにより高速駆動ができないという課題がある。
【００１３】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、特性バラツキが少なく高い信頼性が得られる静電型アクチュエータ、この静電型アクチュエータを備えることで液滴吐出特性のバラツキが少なく高い信頼性が得られる液滴吐出ヘッド及びインクカートリッジ、動作特性バラツキが少なく高い信頼性が得られるマイクロポンプ及び光学デバイス、液滴吐出特性のバラツキが少なく高い信頼性が得られる液滴吐出ヘッドの製造方法、この液滴吐出ヘッドを搭載した画像形成装置、液滴を吐出する装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明に係る静電型アクチュエータは、隣接するギャップ間にはギャップの高さと同じ高さの隔壁部を有し、ギャップと隔壁部とに渡って形成された振動板には、ギャップに連通する開口部を有し、開口部が封止されている構成とした。
【００１５】
ここで、隔壁部の表面と振動板のギャップに面する表面には同一材料の被覆層が形成されている構成とできる。この場合、被覆層は隔壁部と振動板の界面にも形成されている構成とできる。また、ベース基板がシリコン基板から形成されている構成とできる。さらに、隔壁部が導電性材料からなり、基準電位に接続される構成とできる。
【００１６】
また、隣接する電極間が複数の分離溝によって分離されている構成とできる。この場合、分離溝が絶縁膜により埋め込まれていることが好ましい。
【００１８】
また、隔壁部がポリシリコン又はアモルファスシリコンである構成とできる。また、電極はポリシリコン、化合物シリサイド、金属、又は高融点金属で形成されている構成とできる。また、振動板の少なくとも一部はポリシリコン又は化合物シリサイドで形成されている構成とできる。また、振動板の少なくとも一部は、金属、高融点金属、ＩＴＯ膜、ネサ膜（ＳｎＯ_２）又はＺｎＯで形成されている構成とできる。
【００１９】
本発明に係る液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出するノズルが連通する加圧液室内の液体を加圧するための本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板と、加圧液室を形成する流路形成部材とを備えている構成としたものである。
【００２０】
ここで、流路形成部材が前記静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板の振動板に形成された開口部を封止している構成とできる。
【００２１】
本発明に係るインクカートリッジは、本発明に係る液滴吐出ヘッドとこの液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクタンクを一体化したものである。
【００２２】
本発明に係る画像形成装置及び液滴を吐出する装置は、本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えている構成としたものである。
【００２３】
本発明に係るマイクロポンプは、流路の液体を加圧する本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板と流路を形成する流路形成部材とを備えているものである。
【００２４】
本発明に係る光学デバイスは、光を反射するミラーを変形させるための本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板を備えているものである。
【００２５】
本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、ベース基板に複数の電極を形成する工程と、複数の電極を形成したベース基板上に、電極表面を含めて犠牲層を形成する工程と、犠牲層を、電極間を含まず電極上に形成された第１犠牲層と、電極間を含んで形成された第２犠牲層とに分割溝で分割する工程と、耐エッチング性を有する材料を分割溝内と第１及び第２犠牲層上に形成する工程と、第１犠牲層に到達する開口を耐エッチング材料に開口する工程と、第１犠牲層を開口よりエッチング除去する工程とを含む構成とした。
本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、ベース基板に形成した電極部材を複数の電極に分離溝で分離する工程と、電極部材上に絶縁膜を形成し、分離溝を絶縁膜で埋め込んで、電極部材上の絶縁膜表面と分離溝部分の絶縁膜と平坦化する工程と、絶縁膜上に犠牲層を形成する工程と、犠牲層上に耐エッチング性を有する膜を含む振動板部材を形成する工程と、振動板部材に犠牲層へと通じる開口を形成した後、開口から犠牲層をエッチング除去する工程とを含む構成とした。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。図１は本発明の液滴吐出ヘッドの第１実施形態に係るインクジェットヘッドの分解斜視図で、一部断面図で示している。図２は同ヘッドの振動板短手方向に沿う断面説明図、図３は同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面説明図である。
【００２７】
このインクジェットヘッドは、インク液滴を基板の面部に設けたノズル孔から吐出させるサイドシュータタイプのものであり、２枚の第１、第２基板１、２を重ねて接合した積層構造となっており、第１基板１と第２基板２とを接合することで、インク滴を吐出する複数のノズル孔４が連通する吐出室６、各吐出室６に流体抵抗部７を介してインクを供給する共通液室（共通インク室）８などの流路を形成している。なお、基板の端部に設けたノズル孔からインク滴を吐出させるエッジシュータタイプとすることもできる。
【００２８】
第１基板１は、本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板１１上に吐出室６、共通液室８等の流路を形成する流路形成部材１２を接合したものである。
【００２９】
アクチュエータ基板１１は、単結晶シリコン基板からなるベース基板２１に、変形可能な振動板２２と、この振動板２２にギャップ２３を置いて対向する電極２４とを有している。ベース基板２１をシリコン基板で形成することにより、高温プロセスが使用できプロセス設計が容易となるとともに、電気的、機械的に優れた膜を選択でき信頼性の高いヘッド（アクチュエータ）を低コストで作製できる。
【００３０】
ここで、電極２４はベース基板２５上に形成した絶縁膜２１ａ上に形成され、各チャンネル毎に分離溝２６で分離し、この分離溝２６は電極２４の表面（振動板２２側表面）に形成した絶縁膜２７で埋め込んでいる。電極２４を溝２６で分離し、且つ絶縁膜２７で埋め込むことによって、後工程において表面に段差の少ない略平坦な状態での作り込みが可能となり、後工程のプロセス設計が容易となる。
【００３１】
電極２４の材料（電極部材）としては、ポリシリコンや化合物シリサイドを用いることができ、これらの材料は安定した品質で成膜及び加工が可能であり、また高温プロセスにも耐え得る構造にできるため、他のプロセスにおいて温度に対する制約が少なくなり、絶縁膜２７として例えば信頼性の高い絶縁膜（ＨＴＯ膜）を積層することができるようになって、プロセスの選択幅を広げることができ、低コスト化、高信頼性化を図れる。
【００３２】
また、電極２４の材料（電極部材）として、金属又は高融点金属を使用することができ、これにより、大幅な低抵抗化を図れ、駆動電圧の低電圧化を図れるとともに、何れの材料も安定した品質で成膜及び加工が可能であるので、、低コスト化、高信頼性化を図れる。
【００３３】
ギャップ２３は、後述するように振動板２２と電極２４との間に形成される犠牲層をエッチング除去して形成したもので、このギャップ形成に用いた犠牲層のうち少なくとも複数のギャップ２３、２３間の犠牲層２８ａは隔壁部を形成するために残存させている。
【００３４】
このように、ギャップ２３を犠牲層エッチングで形成することにより、犠牲層の厚さでギャップ間隔（ギャップ長）を精度規定することができるのでバラツキが低減し、ギャップ内への異物などの侵入を防ぐことができて歩留まりが向上する。また、ギャップ間隔（ギャップスペーサー）として犠牲層２８ａを残しているので、ギャップ段差を作らずにアクチュエータ基板１１の表面をより平坦に作り込むことができ、例えば耐インク接液膜の成膜や流路形成部材１２の接合工程などの後工程のプロセス設計が容易となり、低コスト化、信頼性の向上を図れる。
【００３５】
ここで、犠牲層としては、ポリシリコン又はアモルファスシリコンを使用することが好ましい。これらの材料は、エッチングによる除去が可能であり、また犠牲層の上下に耐エッチング選択性の高いシリコン酸化膜を成膜することでバラツキの少ない製造プロセスとすることができ、低コストに大量生産が可能となる。
【００３６】
振動板２２は耐エッチング性を有する絶縁膜２２ｃ、共通電極となる電極膜２２ａ、絶縁膜２２ｂを順次積層した積層膜から構成している。なお、絶縁膜２２ｃの一部はギャップ間隔壁部に犠牲層２８を残存するための保護膜を兼ねている。この犠牲層２８の壁面の絶縁膜２２ｃは、製造プロセスにおいて犠牲層２８に形成する分離溝を埋め込んだものである。また、振動板２２には犠牲層エッチングでギャップ２３を形成するために犠牲層をエッチングするための開口部２９が形成されている。
【００３７】
振動板２２の一部を構成する電極膜２２ａの材料としては、ポリシリコンや化合物シリサイドを用いることができ、これらの材料は安定した品質で成膜及び加工が可能であり、また高温プロセスにも耐え得る構造にできるため、他のプロセスにおいて温度に対する制約が少なくなり、絶縁膜２２ｃとして例えば信頼性の高い絶縁膜（ＨＴＯ膜）を積層することができるようになって、プロセスの選択幅を広げることができ、低コスト化、高信頼性化を図れる。
【００３８】
また、振動板２２の一部を構成する電極膜２２ａの材料として、金属又は高融点金属を使用することができ、これにより、大幅な低抵抗化を図れ、駆動電圧の低電圧化を図れるとともに、何れの材料も安定した品質で成膜及び加工が可能であるので、、低コスト化、高信頼性化を図れる。
【００３９】
或いは、振動板２２の一部を構成する電極膜２２ａの材料として、ＩＴＯ膜、ネサ膜（ＳｎＯ_２）又はＺｎＯを使用することができ、これにより、ギャップ２３内の検査が容易になり、製造途中で異常を検出できるため、低コスト化を図れ、信頼性の向上を図れる。
【００４０】
また、電極２４には電極引出し部２４ａを一体形成して引出し、駆動ＩＣなどと接続するＦＰＣなどの接続手段との接続部となる電極パッド部３１を形成している。
【００４１】
以上のようにして構成されるアクチュエータ基板１１は振動板２２側表面が略平坦に形成される。このように、アクチュエータ基板１１の振動板２２側表面が略平坦に形成されていることで、耐インク接液膜の成膜や流路形成部材の接合、形成工程が容易になるので、特性バラツキが少なく且つ信頼性の高い静電型アクチュエータを低コストで作製することができる。
【００４２】
この場合、アクチュエータ基板１１の表面段差は少なくとも０．５μｍを越えないことが好ましい。この範囲内であれば、振動板２２の液室側表面に例えば膜厚が１μm程度のインクに対して耐腐食性を有する耐インク接液膜をスピンコート法により均一に成膜することができ、また、流路形成部材の接合工程等においても段差の影響を受けること無く信頼性良く接合することができて、信頼性の高いヘッドを低コストで得られるようになる。
【００４３】
流路形成部材１２は、略平坦面であるアクチュエータ基板１１の振動板２２側表面に接合して吐出室６等に対応する部分をエッチング除去して形成したものである。
【００４４】
この第１基板１の流路形成部材１２上面に接合される第２基板２には、厚さ５０ミクロンのニッケル基板を用い、基板２の面部に、吐出室６と連通するようにそれぞれノズル孔４、共通液室８と吐出室６を連通させる流体抵抗となる溝７を設け、また共通液室８と連通するようにインク供給口９を設けている。
【００４５】
このように構成したインクジェットヘッドの動作を説明する。吐出室６がインクにより満たされた状態で個別電極２４に発振回路（駆動回路）から４０Ｖのパルス電位を印加すると、個別電極２４の表面がプラス電位に帯電し、振動板２２との間に静電力が作用して、振動板２２が個別電極２４側に撓むことになる。これにより、吐出室６内の圧力が低下して、共通液室８から流体抵抗部７を介して吐出室６内にインクが流入する。
【００４６】
その後、個別電極２４へのパルス電圧を０Ｖにすると静電気力により下方へ撓んだ振動板２２が自身の剛性により元に戻る。その結果、吐出室６内の圧力が急激に上昇し、ノズル孔４より図２に示すようにインク液滴３５を記録紙３６に向けて吐出する。これを繰り返すことによりインク滴を連続的に吐出することができる。
【００４７】
ここで、電極である振動板２２と個別電極２４との間に働く力Ｆは、次の（１）式に示すように電極間距離ｄの２乗に反比例して大きくなる。低電圧で駆動するためには個別電極２４と振動板２２のギャップ２３の間隔（ギャップ長）を狭く形成することが重要となる。
【００４８】
【数１】

【００４９】
なお、（１）式において、Ｆ：電極間に働く力、ε：誘電率、Ｓ：電極の対向する面の面積、ｄ：電極間距離、Ｖ：印加電圧である。
【００５０】
そこで、前述したように犠牲層エッチングでギャップ２３を形成することにより、高精度に微小なギャップを形成することができる。
【００５１】
次に、このインクジェットヘッドの製造方法の第１実施形態について図４ないし図６を参照して説明する。なお、図４及び図５は同製造方法の説明に供する断面説明図、図６は同じく平面説明図である。
ここでは、ベース基板に電極材料、犠牲層、振動板材料を成膜して行くことでアクチュエータ基板を製作する。
【００５２】
先ず、図４（ａ）に示すように、面方位（１００）のシリコン基板４１に絶縁膜となる熱酸化膜４５を例えばウエット酸化法により約１．０μｍの厚みに成膜する。その後、熱酸化膜４５上に個別電極となるポリシリコン４４を０．４μｍの厚みに成膜し、このポリシリコン４４に低抵抗化のために燐をドープする。そして、図６にも示すように、リソエッチ法により電極分離溝４６を形成した後、絶縁膜としての高温酸化膜（ＨＴＯ膜）４７を０．２５μｍ厚みに成膜する。このとき、電極分離溝４６はＨＴＯ膜４７で埋め込まれて電極となるポリシリコ４４表面を含めて平坦になる。なお、個別電極となるポリシリコン４４には図５に示すように電極パッド部５１も形成する。
【００５３】
次いで、同図（ｂ）に示すように、ＨＴＯ膜４３上に犠牲層となるポリシリコン４８を０．５μｍ厚みに成膜した後、図６にも示すように、リソエッチ法により分離溝５０を形成し、犠牲層となるポリシリコン４８を、電極間を含まず電極上に形成された第１犠牲層と、電極間を含んで形成された第２犠牲層とに分割溝５０で分割する。さらに、耐エッチング性を有する材料を分割溝５０内と第１及び第２犠牲層上に形成するため、絶縁膜としての高温酸化膜（ＨＴＯ膜）４２ｃを０．１μｍ厚みに成膜する。このとき、分離溝５０の幅は、ＨＴＯ膜４２ｃなどの振動板材料で埋め込まれる溝幅にすることが好ましく、振動板材料の厚みにもよるが２．０μｍ以下にすることが好ましい。ここでは、分離溝５０の幅を０．５μｍとし、ＨＴＯ膜４２ｃで埋め込まれるようにしている。これにより、耐エッチング性を有する材料を分割溝内と第１及び第２犠牲層上に形成する。
【００５４】
このように、犠牲層４８を溝５０で分離し、且つ絶縁膜４２ｃで埋め込むことにより、後工程において表面に段差の少ない略平坦な状態での作り込みが可能となり、アクチュエータ基板の表面の略平坦化を図れ、後工程のプロセス設計が容易となる。
【００５５】
さらに、同図（ｃ）に示すように、共通電極となるリンドープポリシリコン４２ａを０．２μｍ厚みに、次いで振動板保護膜となる酸化膜４２ｂを０．３μｍ厚みに成膜する。その後、リソエッチ法により犠牲層除去孔４９を後に液室間隔壁となる領域に形成するために、犠牲層除去孔４９よりオーバーサイズしたパターンをリソエッチ法により形成し、酸化膜４２ｂａ、ポリシリコン４２ａの順にエッチングを行なう。その後、酸化を行なって除去孔４９の側面に露出したポリシリコン４２ａ表面に酸化膜４２ａ１を形成する。
【００５６】
その後、図５（ａ）及び図６に示すように、リソエッチ法により除去孔４９のパターニングを行ない酸化膜（ＨＴＯ膜）４２ｃをエッチング除去し、ＳＦ_６を用いた等方性のドライエッチングにより犠牲層４８を除去してギャップ４３を形成する。なお、ＫＯＨやＴＭＡＨなどのアルカリエッチング液を用いたウェットエッチングでも良いし、ＸＦ_２ガスを用いた常圧ドライエッチングでも良い。
【００５７】
ここで犠牲層（ポリシリコン）４８の周りを被覆層としての酸化膜４７、４２ｃで囲んだ構造としているため、酸化膜に対して選択性の高い犠牲層エッチング条件で犠牲層４８を除去でき、ギャップ２３を精度よく形成することができる。また、分離溝５０で分離されたギャップ２３、２３間の犠牲層４８ａをギャップスペーサとして残存させることで、基板表面を略平坦に作り込むことができる。
【００５８】
なお、犠牲層除去孔４９の大きさによりエッチングガス（又は液）導入部のコンダクタンスが決定されるため、これが小さいと犠牲層除去時にガス（又は液）供給律速でエッチング速度が決定され、エッチング速度が遅くなるため、反応律速となる様に除去孔４９部のコンダクタンスを大きくする必要がある。このためには、除去孔４９の断面積がギャップ長の２乗よりもさらに大きくしておくことが好ましい。また、除去孔４９の配置間隔はギャップ部分の犠牲層を均等にエッチングできる様、ギャップの短辺長よりも小さいピッチで配置しておくことが好ましい。
【００５９】
その後、同図（ｂ）に示すように、上述のようにして得られたアクチュエータ基板１１に、液室（吐出室）６、共通液室８となる貫通部を形成した流路形成部材１２を接着剤で貼り合わせる。このとき、アクチュエータ基板１１表面は略平坦に形成されているので、容易に接着が可能である。また、流路形成部材１２で前記犠牲層除去孔４９を塞ぐことでギャップ２３を完全に封止することができる。
【００６０】
そして、図では省略したが、最後にノズル板２を流路形成部材１２表面に貼り合わせることで静電型液滴吐出ヘッドが完成する。
【００６１】
なお、ここでは、犠牲層４８にポリシリコンを用いたが、犠牲層として他の材料を使用することもできる。犠牲層にシリコン酸化膜を使用する場合は保護膜としてポリシリコンを用いる。犠牲層酸化膜をウエットエッチ法、ＨＦベーパー法、ケミカルドライエッチング法などにより除去後、保護膜としてポリシリコン表面を酸化することで絶縁層を形成する。
【００６２】
また、犠牲層にレジストを用いてＯ₂プラズマや剥離液で除去する方法や犠牲層に高分子材料を用いて有機系剥離液で除去する方法、犠牲層にアルミを用いてＫＯＨなどの薬液で除去する方法、犠牲層にＴｉＮ用いてＮＨ₃ＯＨとＨ₂Ｏ₂混合液などの薬液で除去する方法等、種々の組み合わせで上述したと同様のプロセスを組み立てることができる。
【００６３】
また、電極材料にはポリシリコン以外にも、前述したように、金属とシリコンの化合物である化合物シリサイドや高融点金属を用いることもできる。さらに、絶縁膜にＣＶＤ酸化膜、ポリシリコンに低温ポリシリコンを持ちいれば、アルミのような金属材料やＩＴＯ膜、ネサ膜（ＳｎＯ₂）等を電極材料として用いることもできる。
【００６４】
さらに、振動板表面にｐＨ値の高いアルカリ性インクに対する保護膜としてインクに対して耐腐食性を有する耐インク接液膜を成膜する場合において、アクチュエータ基板１１表面が略平坦であるのでスピンコート法により均一な接液膜を成膜することができる。
【００６５】
また、アクチュエータ基板１１表面が略平坦であるので、スピンコート法により塗布された感光性ポリイミドやＤＦＲで液室（吐出室）を形成することもできる。
【００６６】
このように、上記製造フローにより作製した静電型アクチュエータを含む液滴吐出ヘッドは、犠牲層膜厚によりギャップ間隔を規定するため、精度良く、且つバラツキの少ないギャップ形成が可能であり、特性（吐出特性）のバラツキが少なく、信頼性が向上し、高品質画像を記録することができるようになる。また、直接接合や陽極接合などが必要なく、2枚の基板で液滴吐出ヘッドを構成することができ、低コスト化を図れ、更に大半を半導体プロセスで作成できることから、歩留まり良く安定したヘッドを得ることができる。
【００６７】
また、アクチュエータ基板１１のベース基板にシリコン基板を用いることで、上記でも説明したような高温プロセスが使用できプロセス設計が容易となる。なお、高温プロセスとは、熱酸化、ＨＴＯやドープドポリシリコンを形成する熱ＣＶＤ、上質な窒化膜を形成するＬＰ−ＣＶＤ 等のプロセスを指す。加えて、電気的、機械的に優れた膜を選択でき信頼性の高い液滴吐出ヘッドが低コストで得られる。
【００６８】
次に、本発明の第２実施形態に係る液滴吐出ヘッドを構成する静電型アクチュエータについて図７及び図８を参照して説明する。なお、図７は同アクチュエータの振動板短手方向に沿う断面説明図、図８は同アクチュエータの１チャンネル分の平面説明図であり、同図（ａ）は電極分離溝を説明するための説明図、（ｂ）は犠牲層分離溝を説明するための説明図である。また、ここでは、前述した図４ないし図６の説明で用いた符号を用いて説明する。
【００６９】
このアクチュエータでは、図７及び図８（ａ）に示すように、電極４４、４４間に２本の分離溝４６、４６を形成している。したがって、分離溝４６、４６間には電極材料（電極部材）４４ａが残存する。また、２つの分離溝４６、４６間は、図８（ａ）に示すように、複数箇所に設けた架橋部４６ａで架橋している。
【００７０】
このように、電極間の分離溝を複数にすることによって、分離溝を狭くした場合でも、異物やパターン欠陥に起因するパターニング不良によって電極同士がショートする可能性を低減することができ、歩留まりが向上し、低コストで信頼性の高いヘッドが得られる。更に、複数の分離溝を架橋する架橋部を設ける、つまり、分離溝間に残存する電極材料を更に分割することによって、一層確実に電極同士がショートする可能性を低減することができる。
【００７１】
また、このアクチュエータでは、図７及び図８（ｂ）に示すように、ギャップ４３、４３間に犠牲層４８を分離するための３本の分離溝５０を形成している。したがって、分離溝５０、５０、５０間には犠牲層（犠牲層材料）４８ａ、４６ａが残存する。また、３つの分離溝５０、５０、５０間は、図８（ｂ）に示すように、複数箇所に設けた架橋部５０ａで架橋している。
【００７２】
このように、犠牲層の分離溝を３本以上にすることによって、異物やパターン欠陥に起因するパターニング不良によって、ギャップ相互間で連通する可能性を低減することができ、歩留まりが向上し、低コストで信頼性の高いヘッドが得られる。更に、３本以上の分離溝相互間を架橋する架橋部を設ける、つまり、分離溝間に残存する犠牲層を更に分割することによって、一層確実にギャップ間が連通する可能性を低減することができる。
【００７３】
次に、本発明の第３実施形態に係る液滴吐出ヘッドを構成する静電型アクチュエータについて図９を参照して説明する。
この実施形態は、電極２４の引出し部２４ａ上に犠牲層２８ｂを残存させたものであり、この犠牲層２８ｂは各ギャップ２３、２３間に残存する犠牲層２８ａ（図２参照）と一体である。このように、電極２４の引出し部２４ａ上にも犠牲層を残存させることによってアクチュエータ基板１１の表面をより平坦に作り込むことができる。
【００７４】
また、この実施形態では、犠牲層２８ａ、２８ｂとして、例えばポリシリコンにＰやＡｓ等の不純物をドープして導電性材料とし、振動板２２を貫通する接続部材６１を用いて各チャンネル間で犠牲層２８ｂを電気的に接続し、犠牲層２８ａ、２８ｂを基準電位に接続するようにしている。このように、少なくともギャップ２３、２３間に残存する犠牲層２８ａを電気的に基準電位に接続することによって、ギャップ間の容量を低下させることができ、安定したアクチュエータの高速駆動が可能になる。
【００７５】
この場合、基準電位は、グランド電位、振動板電位、電極電位、振動板及び電極電位の中間の電位等、駆動方法により最適な電位が異なるため、駆動方法に応じて最適な電位にすることが好ましい。
【００７６】
なお、図１０に示すように、電極２４の引出し部２４ａ上に部分的に犠牲層２８ｂを残存させることもできる。このようにすれば、アクチュエータ間の容量を少なくできアクチュエータの高速駆動が可能となり、また電極引出し部２４ａの強度を維持することができる。この場合、上述したように各ギャップ２３、２３間に残存する犠牲層２８ａ（図２参照）については基準電位に接続するようにすることで、よりアクチュエータ間の容量を少なくできアクチュエータの高速駆動が可能となる。
【００７７】
次に、本発明に係る液滴吐出ヘッドのインクカートリッジ一体型ヘッドについて図１１を参照して説明する。
このインクカートリッジ一体型ヘッド１００は、ノズル孔１０１等を有する上記各実施形態のいずれかのインクジェットヘッド１０２と、このインクジェットヘッド１０１に対してインクを供給するインクタンク１０３とを一体化したものである。
【００７８】
このように本発明に係る液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクタンクを一体化することにより、滴吐出特性のバラツキが少なく、信頼性の高い液滴吐出ヘッドを一体化したインクカートリッジ（インクタンク一体型ヘッド）が低コストで得られる。
【００７９】
次に、本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドを搭載した本発明に係る液滴を吐出する装置を含む、画像形成装置としてのインクジェット記録装置の機構の一例について図１２及び図１３を参照して説明する。なお、図１２は同記録装置の斜視説明図、図１３は同記録装置の機構部の側面説明図である。
【００８０】
このインクジェット記録装置は、記録装置本体１１１の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ、キャリッジに搭載した本発明に係るインクジェットヘッドからなる記録ヘッド、記録ヘッドへインクを供給するインクカートリッジ等で構成される印字機構部１１２等を収納し、装置本体１１１の下方部には前方側から多数枚の用紙１１３を積載可能な給紙カセット（或いは給紙トレイでもよい。）１１４を抜き差し自在に装着することができ、また、用紙１１３を手差しで給紙するための手差しトレイ１１５を開倒することができ、給紙カセット１１４或いは手差しトレイ１１５から給送される用紙１１３を取り込み、印字機構部１１２によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ１１６に排紙する。
【００８１】
印字機構部１１２は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド１２１と従ガイドロッド１２２とでキャリッジ１２３を主走査方向（図１２で紙面垂直方向）に摺動自在に保持し、このキャリッジ１２３にはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク滴を吐出する本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドからなるヘッド１２４を複数のインク吐出口を主走査方向と交叉する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着している。またキャリッジ１２３にはヘッド１２４に各色のインクを供給するための各インクカートリッジ１２５を交換可能に装着している。なお、本発明に係るインクカートリッジを搭載する構成とすることもできる。
【００８２】
インクカートリッジ１２５は上方に大気と連通する大気口、下方にはインクジェットヘッドへインクを供給する供給口を、内部にはインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体の毛管力によりインクジェットヘッドへ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。
【００８３】
また、記録ヘッドとしてここでは各色のヘッド１２４を用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する１個のヘッドでもよい。
【００８４】
ここで、キャリッジ１２３は後方側（用紙搬送方向下流側）を主ガイドロッド１２１に摺動自在に嵌装し、前方側（用紙搬送方向上流側）を従ガイドロッド１２２に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ１２３を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ１２７で回転駆動される駆動プーリ１２８と従動プーリ１２９との間にタイミングベルト１３０を張装し、このタイミングベルト１３０をキャリッジ１２３に固定しており、主走査モーター１２７の正逆回転によりキャリッジ１２３が往復駆動される。
【００８５】
一方、給紙カセット１１４にセットした用紙１１３をヘッド１２４の下方側に搬送するために、給紙カセット１１４から用紙１１３を分離給装する給紙ローラ１３１及びフリクションパッド１３２と、用紙１１３を案内するガイド部材１３３と、給紙された用紙１１３を反転させて搬送する搬送ローラ１３４と、この搬送ローラ１３４の周面に押し付けられる搬送コロ１３５及び搬送ローラ１３４からの用紙１１３の送り出し角度を規定する先端コロ１３６とを設けている。搬送ローラ１３４は副走査モータ１３７によってギヤ列を介して回転駆動される。
【００８６】
そして、キャリッジ１２３の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ１３４から送り出された用紙１１３を記録ヘッド１２４の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材１３９を設けている。この印写受け部材１３９の用紙搬送方向下流側には、用紙１１３を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ１４１、拍車１４２を設け、さらに用紙１１３を排紙トレイ１１６に送り出す排紙ローラ１４３及び拍車１４４と、排紙経路を形成するガイド部材１４５，１４６とを配設している。
【００８７】
記録時には、キャリッジ１２３を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド１２４を駆動することにより、停止している用紙１１３にインクを吐出して１行分を記録し、用紙１１３を所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号または、用紙１１３の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙１１３を排紙する。
【００８８】
また、キャリッジ１２３の移動方向右端側の記録領域を外れた位置には、ヘッド１２４の吐出不良を回復するための回復装置１４７を配置している。回復装置１４７はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有している。キャリッジ１２３は印字待機中にはこの回復装置１４７側に移動されてキャッピング手段でヘッド１２４をキャッピングされ、吐出口部を湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出することにより、全ての吐出口のインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を維持する。
【００８９】
吐出不良が発生した場合等には、キャッピング手段でヘッド１２４の吐出口（ノズル）を密封し、チューブを通して吸引手段で吐出口からインクとともに気泡等を吸い出し、吐出口面に付着したインクやゴミ等はクリーニング手段により除去され吐出不良が回復される。また、吸引されたインクは、本体下部に設置された廃インク溜（不図示）に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体に吸収保持される。
【００９０】
このように、このインクジェット記録装置においては本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドを搭載しているので、インク滴の吐出特性のバラツキが少なく、高い画像品質の画像を記録できる記録装置が得られる。
【００９１】
次に、本発明に係る静電型アクチュエータを備えたマイクロデバイスとしてのマイクロポンプについて図１４を参照して説明する。なお、同図は同マイクロポンプの要部断面説明図である。
このマイクロポンプは、流路基板２０１と本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板２０２とを有している。流路基板２０１には流体が流れる流路２０３を形成している。アクチュエータ基板２０２は、ベース基板２２１上に設けた、流路２０１の壁面を形成する変形可能な振動板（可動板）２２２と、この振動板２２２の変形可能部２２２ａに所定のギャップ２２３を置いて対向する電極２２４とを含み、表面が略平坦面に形成されている。なお、アクチュエータ基板２０２の詳細な説明は省略するが、前記インクジェットヘッドの実施形態で説明したと同様である。
【００９２】
このマイクロポンプの動作原理を説明すると、前述したインクジェットヘッドの場合と同様に、電極２２４に対して選択的にパルス電位を与えることによって振動板２２２との間で静電吸引力が生じるので、振動板２２２の変形可能部２２２ａが電極２２４側に変形する。ここで、振動板２２２の変形可能部２２２ａを図中右側から順次駆動することによって流路２０１内の流体は、矢印方向へ流れが生じ、流体の輸送が可能となる。
【００９３】
この場合、本発明に係る静電型アクチュエータを備えることで、特性バラツキが少なく、安定した液体輸送を可能な小型で低消費電力のマイクロポンプを得られる。なお、ここでは振動板の変形可能部が複数ある例を示したが、変形可能部は１つでも良い。また、輸送効率を上げるために、変形可能部間に１又は複数の弁、例えば逆止弁などを設けることもできる。
【００９４】
次に、本発明に係る静電型アクチュエータを備えた光学デバイスの一例について図１５を参照して説明する。なお、同図は同デバイスの概略構成図である。
この光学デバイスは、表面が光を反射可能でかつ変形可能なミラー３０１を含むアクチュエータ基板３０２を有している。ミラー３０１の表面は反射率を増加させるため誘電体多層膜や金属膜を形成すると良い。
【００９５】
アクチュエータ基板３０２は、ベース基板３２１上に設けた、変形可能なミラー３０１（ヘッドの振動板に相当する。）と、このミラー３０１の変形可能部３０１に所定のギャップ３２３を介して対向する電極３２４とを含み、ミラー３０１の表面が略平坦に形成されている。このアクチュエータ基板３０２についても、振動板がミラー面を有する構成となっている点が前記インクジェットヘッドの実施形態で説明したものと異なるだけであるので、詳細な説明を省略する。
【００９６】
この光学デバイスの原理を説明すると、前述したインクジェットヘッドの場合と同様に、電極３２４に対して選択的にパルス電位を与えることによって、電極３２４と対向するミラー３０１の変形可能部３０１ａ間で静電吸引力が生じるので、ミラー３０１の変形可能部３０１が凹状に変形して凹面ミラーとなる。したがって、光源３１０からの光がレンズ３１１を介してミラー３０１に照射した場合、ミラー３０１を駆動しないときには、光は入射角と同じ角度で反射するが、ミラー３０１を駆動した場合は駆動された変形可能部３０１が凹面ミラーとなるので反射光は発散光となる。これにより光変調デバイスが実現できる。
【００９７】
そして、本発明に係る静電型アクチュエータを備えることで、特性バラツキの少ない小型で低消費電力の光学デバイスを得ることができる。
【００９８】
そこで、この光学デバイスを応用した例を図１６をも参照して説明する。この例は、上述した光学デバイスを２次元に配列し、各ミラー３０１の変形可能部３０１ａを独立して駆動するようにしたものである。なお、ここでは、４×４の配列を示しているが、これ以上配列することも可能である。
【００９９】
したがって、前述した図１５と同様に、光源３１０からの光はレンズ３１１を介してミラー３０１に照射され、ミラー３０１を駆動していないところに入射した光は、投影用レンズ３１２へ入射する。一方、電極３２４に電圧を印加してミラー３０１の変形可能部３０１ａを変形させている部分は凹面ミラーとなるので光は発散し投影用レンズ３１２にほとんど入射しない。この投影用レンズ３１２に入射した光はスクリーン（図示しない）などに投影され、スクリーンに画像を表示することができる。
【０１００】
なお、上記実施形態においては、液滴吐出ヘッドとしてインクジェットヘッドに適用した例で説明したが、インクジェットヘッド以外の液滴吐出ヘッドとして、例えば、液体レジストを液滴として吐出する液滴吐出ヘッド、ＤＮＡの試料を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドなどの他の液滴吐出ヘッドにも適用できる。また、静電型アクチュエータを備えるマイクロデバイスとして、マイクロポンプ、光学デバイス（光変調デバイス）、マイクロスイッチ（マイクロリレー）、マルチ光学レンズのアクチュエータ（光スイッチ）、マイクロ流量計、圧力センサなどにも適用することができる。また、前述したようにプリンタ、ファクシミリ、複写装置等の画像形成装置及び液滴を吐出する装置にも本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えることができる。
【０１０１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る静電型アクチュエータによれば、隣接するギャップ間にはギャップの高さと同じ高さの隔壁部を有し、ギャップと隔壁部とに渡って形成された振動板には、ギャップに連通する開口部を有し、開口部が封止されている構成としたので、特性バラツキが少なく、低コスト化を図れ、信頼性を向上できる。
【０１０２】
本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、液滴を吐出するノズルが連通する加圧液室内の液体を加圧するための本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板と、加圧液室を形成する流路形成部材とを備えている構成としたので、滴吐出特性のバラツキが少なく、低コスト化を図れ、信頼性が向上する。
【０１０３】
本発明に係るインクカートリッジによれば、本発明に係る液滴吐出ヘッドとこの液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクタンクを一体化したので、滴吐出特性のバラツキが少なく、低コスト化を図れ、信頼性が向上する。
【０１０４】
本発明に係る画像形成装置によれば、本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えているので、高画質記録が可能になる。また、本発明に係る液滴を吐出する装置によれば、本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えているので、バラツキの少ない液滴吐出を行うことができる。
【０１０５】
本発明に係るマイクロポンプによれば、流路の液体を加圧する本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板と流路を形成する流路形成部材とを備えているので、小型で低消費電力のマイクロポンプが得られる。
【０１０６】
本発明に係る光学デバイスによれば、光を反射するミラーを変形させるための本発明に係る静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板を備えているので、小型で低消費電力の光学デバイスが得られる。
【０１０７】
本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、ベース基板に複数の電極を形成する工程と、複数の電極を形成したベース基板上に、電極表面を含めて犠牲層を形成する工程と、犠牲層を、電極間を含まず電極上に形成された第１犠牲層と、電極間を含んで形成された第２犠牲層とに分割溝で分割する工程と、耐エッチング性を有する材料を分割溝内と第１及び第２犠牲層上に形成する工程と、第１犠牲層に到達する開口を耐エッチング材料に開口する工程と、第１犠牲層を開口よりエッチング除去する工程とを含む構成としたので、振動板側の表面が略平坦であるヘッドを容易に得ることができる。
本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、ベース基板に形成した電極部材を複数の電極に分離溝で分離する工程と、電極部材上に絶縁膜を形成し、分離溝を絶縁膜で埋め込んで、電極部材上の絶縁膜表面と分離溝部分の絶縁膜とを平坦化する工程と、絶縁膜上に犠牲層を形成する工程と、犠牲層上に耐エッチング性を有する膜を含む振動板部材を形成する工程と、振動板部材に犠牲層へと通じる開口を形成した後、開口から犠牲層をエッチング除去する工程とを含む構成としたので、振動板側の表面が略平坦であるヘッドを容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出ヘッドの第１実施形態に係るインクジェットヘッドの分解斜視説明図
【図２】同ヘッドの振動板短手方向に沿う断面説明図
【図３】同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面説明図
【図４】本発明の液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドの製造方法の実施形態の説明に供する断面説明図
【図５】図４に続く工程を説明する断面説明図
【図６】同工程の説明に供する平面説明図
【図７】本発明に係る液滴吐出ヘッドの第２実施形態を構成する静電型アクチュエータの断面説明図
【図８】同アクチュエータの平面説明図
【図９】本発明に係る液滴吐出ヘッドの第３実施形態のインクジェットヘッドを説明する振動板長手方向に沿う断面説明図
【図１０】同実施形態の他の例を説明する断面説明図
【図１１】本発明に係るインクカートリッジの説明に供する斜視説明図
【図１２】本発明に係るインクジェット記録装置の一例を説明する斜視説明図
【図１３】同記録装置の機構部の説明図
【図１４】本発明にマイクロポンプの一例を説明する説明図
【図１５】本発明に係る光学デバイスの一例を説明する説明図
【図１６】同光学デバイスを用いた光変調デバイスの一例を説明する斜視説明図
【符号の説明】
１…第１基板、２…第２基板（ノズル板）、４…ノズル孔、６…吐出室、７…流体抵抗部、８…共通液室、１１…アクチュエータ基板、１２…流路形成部材、２１…ベース基板、２２…振動板、２３…ギャップ、２４…電極、１００…インクカートリッジ、１２４…記録ヘッド、２０１…流路基板、２０３…流路、２０２…アクチュエータ基板、２２２ａ…変形可能部、２４６…電極、３０１…ミラー、３０１ａ…変形可能部、３０２…アクチュエータ基板、３２４…電極。

Claims (22)

1. ベース基板に変形可能な振動板とこれに所定のギャップを置いて対向する電極とを備え、前記振動板を静電力で変形させる静電型アクチュエータにおいて、
   隣接する前記ギャップ間には前記ギャップの高さと同じ高さの隔壁部を有し、
   前記ギャップと前記隔壁部とに渡って形成された前記振動板には、前記ギャップに連通する開口部を有し、
   前記開口部が封止されている
   ことを特徴とする静電型アクチュエータ。
2. 請求項１に記載の静電型アクチュエータにおいて、前記隔壁部の表面と前記振動板の前記ギャップに面する表面には同一材料の被覆層が形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
3. 請求項２に記載の静電型アクチュエータにおいて、前記被覆層は前記隔壁部と前記振動板の界面にも形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
4. 請求項１ないし３のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記ベース基板がシリコン基板から形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記隔壁部が導電性材料からなり、基準電位に接続されることを特徴とする静電型アクチュエータ。
6. 請求項１ないし５のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、隣接する前記電極間が複数の分離溝によって分離されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
7. 請求項６に記載の静電型アクチュエータにおいて、前記分離溝が絶縁膜により埋め込まれていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
8. 請求項１ないし７のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記隔壁部がポリシリコン又はアモルファスシリコンであることを特徴とする静電型アクチュエータ。
9. 請求項１ないし８のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記電極がポリシリコン又は化合物シリサイドで形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
10. 請求項１ないし８のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記電極が金属又は高融点金属で形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
11. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記振動板の少なくとも一部がポリシリコン又は化合物シリサイドで形成されていることを静電型アクチュエータ。
12. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記振動板の少なくとも一部が金属又は高融点金属で形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
13. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の静電型アクチュエータにおいて、前記振動板の少なくとも一部がＩＴＯ膜、ネサ膜（ＳｎＯ_２）又はＺｎＯで形成されていることを特徴とする静電型アクチュエータ。
14. 液滴を吐出するノズルが連通する加圧液室内の液体を静電型アクチュエータで加圧して前記液滴を吐出させる液滴吐出ヘッドにおいて、請求項１ないし１３のいずれかに記載の静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板と前記加圧液室を形成する流路形成部材とを備えていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
15. 請求項１４に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記流路形成部材が前記静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板の振動板に形成された開口部を封止していることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
16. インク滴を吐出する液滴吐出ヘッドとこの液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクタンクを一体化したインクカートリッジにおいて、前記液滴吐出ヘッドが請求項１４又は１５に記載の液滴吐出ヘッドであることを特徴とするインクカートリッジ。
17. 液滴吐出ヘッドを備えた画像形成装置において、前記請求項１４又は１５に記載の液滴吐出ヘッドを備えていることを特徴とする画像形成装置。
18. 液滴吐出ヘッドから液滴を吐出する装置において、前記請求項１４又は１５に記載の液滴吐出ヘッドを備えていることを特徴とする液滴を吐出する装置。
19. 流路の液体を静電型アクチュエータで加圧して前記液体を輸送するマイクロポンプにおいて、請求項１ないし１３のいずれかに記載の静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板と前記流路を形成する流路形成部材とを備えていることを特徴とするマイクロポンプ。
20. 光を反射するミラーを静電型アクチュエータで変形させて前記光の反射方向を変化させる光学デバイスにおいて、請求項１ないし１３のいずれかに記載の静電型アクチュエータを構成するアクチュエータ基板を備えていることを備えていることを特徴とする光学デバイス。
21. 液滴吐出ヘッドを製造する製造方法であって、
    ベース基板に複数の電極を形成する工程と、
    前記複数の電極を形成した前記ベース基板上に、前記電極表面を含めて犠牲層を形成する工程と、
    前記犠牲層を、前記電極間を含まず前記電極上に形成された第１犠牲層と、前記電極間を含んで形成された第２犠牲層とに分割溝で分割する工程と、
    耐エッチング性を有する材料を前記分割溝内と前記第１及び第２犠牲層上に形成する工程と、
    前記第１犠牲層に到達する開口を前記耐エッチング材料に開口する工程と、
    前記第１犠牲層を前記開口よりエッチング除去する工程と
    を含むことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
22. 液滴吐出ヘッドを製造する製造方法であって、
    ベース基板に形成した電極部材を複数の電極に分離溝で分離する工程と、
    前記電極部材上に絶縁膜を形成し、前記分離溝を前記絶縁膜で埋め込んで、前記電極部材上の絶縁膜表面と前記分離溝部分の絶縁膜とを平坦化する工程と、
    前記絶縁膜上に犠牲層を形成する工程と、
    前記犠牲層上に耐エッチング性を有する膜を含む振動板部材を形成する工程と、
    前記振動板部材に前記犠牲層へと通じる開口を形成した後、前記開口から前記犠牲層をエッチング除去する工程と
    を含むことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。

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