JP4114656B2 - レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - Google Patents

Description

本発明は、レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。

近年、リア型プロジェクタ（背面投射型プロジェクションテレビ）は、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
このようなリア型プロジェクタでは、画像のコントラストを高めるために、映像光の強度の低下を抑えつつ、外光反射を抑えることが求められる。
このような目的を達成するために、レンチキュラレンズ（レンチキュラレンズシート）の光の出射側に、観察面側（光の出射側）に着色処理が施された透光性前面板を配置したスクリーン（背面投写式スクリーン）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、このようなスクリーンにおいては、外光の反射（映り込み）を十分に防止するのが困難である。また、外光の反射（映り込み）を十分に防止するために、着色処理により形成される着色層の厚さを大きくしたり、着色層中の着色剤含有率を高くすると、光の透過率が著しく低下するという問題があった。すなわち、特許文献１で提案されているような構成では、画像のコントラストを十分に高めるのが困難であった。

特開２００１−２０９１３０号公報（第４頁左欄第１６〜２１行目）

本発明の目的は、コントラストに優れた画像を得ること（特に、優れた透過率で（最大輝度が高く）、かつ、コントラストに優れた画像を得ること）が可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板は、光を入射させて用いるレンズ基板であって、
レンズ部を有する基板本体を備えており、
前記基板本体は、レンズ基板の光が入射する面であるレンズ面側に設けられた着色部と、前記着色部よりも光が出射する側に設けられた着色されていない非着色部とを有するものであり、
前記着色部は、その厚さ方向に、着色剤の含有率が異なる複数の層を有する積層体であることを特徴とする。

これにより、コントラストに優れた画像を得ること（特に、優れた透過率で（最大輝度が高く）、かつ、コントラストに優れた画像を得ること）が可能なレンズ基板を提供することができる。特に、レンズ基板に入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を十分に高く、かつ、レンズ基板に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響を確実に防止することができるレンズ基板を提供することができる。

本発明のレンズ基板では、前記着色部は、第１の領域と、
前記第１の領域よりも着色剤の含有率が高く、かつ、前記第１の領域よりも光の入射側に設けられた第２の領域とを有するものであることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を十分に高いものとしつつ、レンズ基板に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

本発明のレンズ基板では、前記第１の領域の厚さをＤ_１［μｍ］、前記第２の領域の厚さをＤ_２［μｍ］としたとき、０．１≦Ｄ_１／Ｄ_２≦８０の関係を満足することが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）をさらに効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

本発明のレンズ基板では、前記着色部は、着色剤の含有率が異なる複数の層の積層体であることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）をさらに効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

本発明のレンズ基板は、マイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、特に優れたコントラストの画像を得ることが可能なレンズ基板を提供することができる。
本発明のレンズ基板は、主としてアクリル系樹脂で構成されたものであることが好ましい。
アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、レンズ基板の構成材料に適しているが、従来の着色方法では、着色が困難であったが、本発明では、このような難着色性（特に、難染色性）のアクリル系樹脂で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色部を形成することができる。したがって、レンズ基板が主としてアクリル系樹脂で構成されたものであることにより、各種特性が特に優れ、かつ、信頼性にも優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板では、前記着色部の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法は、本発明のレンズ基板を製造する方法であって、
レンズ基板に対して、ベンジルアルコールを含む処理液による処理を施す処理液付与工程と、
前記処理液による処理が施された基板本体に対し、着色剤を付与する工程とを有することを特徴とする。

これにより、コントラストに優れた画像を得ること（特に、優れた透過率で（最大輝度が高く）、かつ、コントラストに優れた画像を得ること）が可能なレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。特に、レンズ基板に入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率が十分に高く、かつ、レンズ基板に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響を確実に防止することができるレンズ基板を提供することができる。また、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。また、容易かつ確実に、基板本体に第１の領域と第２の領域とを形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記処理液中における前記ベンジルアルコールの含有率は、０．１〜５．０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記処理液は、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物を含むものであることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記処理液中における、前記ベンゾフェノン系化合物および前記ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、０．０１〜３．０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記処理液中における、前記ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、前記ベンゾフェノン系化合物および前記ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足することが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより確実に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部を形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記処理液付与工程として、所定の割合のベンジルアルコールを含有する第１の処理液を用いて行う第１の処理液付与工程と、
前記第１の処理液よりもベンジルアルコールの含有率が低い第２の処理液を用いて行う第２の処理液付与工程とを有することが好ましい。
これにより、所望の厚さ、着色剤含有率の第１の領域および第２の領域を、容易かつ確実に形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記第１の処理液中におけるベンジルアルコールの含有率をＣ_１［ｇ／Ｌ］、前記第２の処理液中におけるベンジルアルコールの含有率をＣ_２［ｇ／Ｌ］としたとき、１．１≦Ｃ_１／Ｃ_２≦５．００の関係を満足することが好ましい。
これにより、所望の厚さ、着色剤含有率の第１の領域および第２の領域を、容易かつ確実に形成することができる。

本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を得ることが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を得ることが可能なリア型プロジェクタを提供することができる。

以下、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。また、本明細書で参照する各図は、着色部２２（第１の領域２２１、第２の領域２２２）、易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）等、構成の一部を強調して示したものであり、実際の寸法を反映するものではない。

マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、複数個のマイクロレンズ２１を備えた基板本体２に対し、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。そして、この着色部２２は、第１の領域２２１と、第１の領域よりも光の入射側（レンズ基板１の外表面側）に設けられ、第１の領域よりも着色剤の含有率の高い第２の領域２２２とを有している。着色部２２（第１の領域２２１と第２の領域２２２とを有する着色部２２）の機能については、後に詳述する。

また、必要に応じて基板本体２の中には、光源からの入射光を拡散させるために、拡散材として、例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマー等が含まれていてもよい。なお、拡散材は樹脂の全体（基板本体２全体）に含まれるものであってもよいし、一部にのみ含まれるものであってもよい。
また、必要に応じて遮光層としてブラックマトリックス３を備えても良い。図１においては出射側に備えている様子を示している。

基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料（通常、光の屈折率が空気よりも大きい）で構成され、均一な屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料（光の屈折率が空気よりも大きい材料）としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができるが、中でも、透明性の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましいが、その中でも特にアクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、レンズ基板（基板本体）の構成材料に適しているものの、従来の着色方法では、着色が困難であった。これに対し、本発明では、このような難着色性（特に、難染色性）のアクリル系樹脂で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色部を形成することができる。したがって、本発明において、主としてアクリル系樹脂で構成された基板本体を用いることにより、各種特性が特に優れ、かつ、信頼性にも優れたレンズ基板（マイクロレンズ基板）を提供することができる。また、アクリル系樹脂は、一般的に、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。

アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

マイクロレンズ２１の直径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の直径が前記範囲内の値であると、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。なお、マイクロレンズ基板１においては、隣接するマイクロレンズ２１−マイクロレンズ２１間のピッチは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。

また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。

また、マイクロレンズ２１の配列方式は、特に限定されず、周期的な配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよいが、図２に示すようなランダムな配列であるのが好ましい。マイクロレンズ２１をランダムに配列することにより、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉をより効果的に防止することができ、モアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能になる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーン１０を得ることができる。なお、本明細書中において「光学的にランダム」とは、モアレ等の光学的干渉の発生が十分に防止・抑制される程度に、マイクロレンズの配置が不規則で、乱れていることを意味する。

また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、出射側の基板面の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、出射側の基板面近傍で焦点ｆを結ぶ。
またこのとき、焦点ｆの近傍を開口するようにブラックマトリックス３を形成することにより、光の利用効率をさらに優れたものとすることができる。

また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ（レンズ部）２１が占める面積（投影面積）の割合は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましい。マイクロレンズ２１が占める面積の割合が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。

また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。このような着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部２２を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。これに対し、レンズ基板の光の出射側（すなわち、マイクロレンズの光の出射側）に着色部を設けた場合は、このような効果が十分に発揮されないことを、本発明者は見出した。すなわち、レンズ基板の光の出射側に同じ着色濃度で着色部を設けた場合、光の入射側からの光の透過率（すなわち、画像形成用の光）を著しく低下させるとともに、光の外光の反射を十分に防止することができない。これは、着色部がレンズ面にある場合と、着色部がレンズ面と反対の面（フラットな面）にある場合とで、それぞれの面における着色部の表面積（着色体積）の差により、外光の着色層内部での、反射・屈折による外光の減衰に差が生じるためであると考えられる。

また、特に、本発明では、着色部が、着色剤の含有率の異なる複数の領域（第１の領域と第２の領域）を有している点に特徴を有する。これにより、光の入射側から入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を十分に高いものとしつつ、レンズ基板に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響を確実に防止することができる。その結果、優れた透過率で、かつ、コントラストに優れた画像を得ることができる。
このように、本発明は、レンズ基板の光の入射側に、着色剤の濃度の異なる複数の領域を有する着色部を設けることにより、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光が、出射側に反射するのを効果的に防止することができることを見出した点に特徴を有する。

上述したように、着色部は、着色剤の含有率の異なる複数の領域を有するものであればいかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色部２２は、層状の第１の領域（第１の層）２２１と、第１の領域２２１より光の入射側に設けられ、第１の領域２２１よりも着色剤の含有率の高い層状の第２の領域（第２の層）２２２とを有している。すなわち、第１の領域２２１における着色剤の含有率をＸ_１［ｗｔ％］、第２の領域２２２における着色剤の含有率をＸ_２［ｗｔ％］としたとき、Ｘ_１＜Ｘ_２の関係を満足している。このように、着色剤の含有率の高い領域（第２の領域）が、着色剤の含有率の低い（ただし、零を除く）領域より光の入射側に設けられることにより、前述したような効果は特に顕著なものとして現れる。

また、本実施形態では、第１の領域２２１、第２の領域２２２が、層状に設けられている。このように、着色部２２が着色剤の含有率が異なる複数の層の積層体であると、光の入射側から入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

第１の層２２１は、着色剤を含むものであればよい。
また、第１の層２２１の厚さ（平均厚さ）は、第１の領域２２１、第２の領域２２２における着色剤の含有率、第２の領域２２２の厚さ等により異なるが、１〜１０μｍであるのが好ましく、２〜８μｍであるのがより好ましい。第１の領域２２１の厚さが前記範囲内の値であると、光の入射側から入射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

また、第２の層２２２の厚さ（平均厚さ）は、第１の領域２２１、第２の領域２２２における着色剤の含有率、第１の領域２２１の厚さ等により異なるが、０．０５〜８μｍであるのが好ましく、０．１〜５μｍであるのがより好ましい。第２の領域２２２の厚さが前記範囲内の値であると、光の入射側から入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

また、第１の領域２２１における着色剤の含有率をＸ_１［ｗｔ％］、第２の領域２２２における着色剤の含有率をＸ_２［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ_１／Ｘ_２≦０．９５の関係を満足するのが好ましく、０．０２≦Ｘ_１／Ｘ_２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．０３≦Ｘ_１／Ｘ_２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の入射側から入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

また、第１の領域２２１の厚さをＤ_１［μｍ］、第２の領域２２２の厚さをＤ_２［μｍ］としたとき、０．１≦Ｄ_１／Ｄ_２≦８０の関係を満足するのが好ましく、０．２≦Ｄ_１／Ｄ_２≦６０の関係を満足するのがより好ましく、０．２≦Ｄ_１／Ｄ_２≦５０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の入射側から入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。

着色部２２の厚さは、特に限定されないが、１〜１０μｍであるのが好ましく、２〜８μｍであるのがより好ましく、３〜６μｍであるのがさらに好ましい。着色部２２の厚さが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部２２の厚さが前記下限値未満であると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。また、着色部２２の厚さが前記上限値を超えると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。

着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。

着色部２２は、いかなる方法で形成されたものであってもよいが、本実施形態では、後に詳述するように、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたもの、より詳しくは、組成に特徴を有する処理液による処理を基板本体２に対して施した後に、着色液を付与することにより、着色剤が基板本体２（マイクロレンズ２１）の内部に含浸して形成されたものである。これにより、基板本体上に着色層を積層（外付け）した場合に比べて、着色層の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
また、着色部２２は、基板本体２に、後に詳述する処理液および着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのをより確実に防止することができる。

また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。

また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられていてもよい。この場合、ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、さらにコントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有しているのが望ましい。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。

開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、９〜５００μｍであるのが好ましく、９〜４５０μｍであるのがより好ましく、２０〜９０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．０１〜５μｍであるのが好ましく、０．０１〜３μｍであるのがより好ましく、０．０３〜１μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、ブラックマトリックス３の（開口部３１以外の領域）が占める面積（投影面積）の割合は、１〜７０％であるのが好ましく、１〜５０％であるのがより好ましい。ブラックマトリックス３が占める面積の割合が前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。

次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。

以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、ブラックマトリックス（遮光層）３の開口部３１を通過する。
このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。

次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示すマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６〜図８は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図６〜図８中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
また、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板の製造においては、実際には基板上に多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。

まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ用凹部付き基板の構成およびその製造方法について説明する。
図４に示すように、マイクロレンズ用凹部付き基板６は、ランダムに配された複数個の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１を有している。

そして、このようなマイクロレンズ用凹部付き基板６を用いることにより、前述したような、マイクロレンズ２１がランダムに配されたマイクロレンズ基板１を得ることができる。
本明細書中において「光学的にランダム」とは、モアレ等の光学的干渉の発生が十分に防止・抑制される程度に、マイクロレンズの配置が不規則で、乱れていることを意味する。

次に、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ用凹部付き基板６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。

基板７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。

＜Ａ１＞図５（ａ）に示すように、用意した基板７の表面に、マスク８を形成する（マスク形成工程）。また、これとともに、基板７の裏面（マスク８を形成する面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する。もちろん、マスク８および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
マスク８は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク８は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
かかる観点からは、このマスク８を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。また、マスク８を、Ｃｒ／Ａｕや酸化Ｃｒ／Ｃｒのように異なる材料からなる複数の層の積層構造としてもよい。

マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）から構成する場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンから構成する場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。

マスク８が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されるものである場合、後述する初期孔形成工程において初期孔８１を容易に形成することができるとともに、後述するエッチング工程においては基板７をより確実に保護することができる。また、マスク８が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されたものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモンを用いることができる。一水素二フッ化アンモンは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。

マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、後述する初期孔形成工程において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の構成材料等によっては、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク８と同様の材料で構成されている。このため、裏面保護膜８９は、マスク８の形成と同時に、マスク８と同様に設けることができる。

＜Ａ２＞次に、図５（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１をランダムに形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１は、いかなる方法で形成されるものであってもよいが、物理的方法またはレーザ光の照射により形成されるのが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。

初期孔８１を形成する物理的方法としては、例えば、ショットブラスト、サンドブラスト等のブラスト処理、エッチング、プレス、ドットプリンタ、タッピング、ラビング等の方法が挙げられる。ブラスト処理により初期孔８１を形成する場合、比較的大きい面積（マイクロレンズ２１を形成すべき領域の面積）の基板７でも、より短時間で効率良く、初期孔８１を形成することができる。

また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ_４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ_２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、形成される初期孔８１の大きさや、隣接する初期孔８１同士の間隔等を容易かつ精確に制御することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。

形成された初期孔８１は、マスク８の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。また、形成された初期孔８１は、後述する工程＜Ａ３＞でエッチングを施した際に、基板７の表面の平らな面がなくなり、ほぼ隙間なく凹部６１が形成される程度に、小さい孔がある程度の間隔で配されているのが好ましい。
具体的には、例えば、形成された初期孔８１の平面視での形状は、略円形であり、その平均径（直径）は、２〜１０μｍであるのが好ましい。また、初期孔８１は、マスク８上に１，０００〜１，０００，０００個／ｃｍ^２の割合で形成されているのが好ましく、１０，０００〜５００，０００個／ｃｍ^２の割合で形成されているのがより好ましい。なお、初期孔８１の形状は、略円形に限定されないことは言うまでもない。

また、マスク８に初期孔８１を形成するとき、図５（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基板７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
また、形成されたマスク８に対して物理的方法またはレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク８を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。

このように、物理的な方法またはレーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）をランダムに形成することができる。また、物理的な方法またはレーザ光の照射によれば、大きな基板に対する処理も容易に行うことができる。

＜Ａ３＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１をランダムに形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。

初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１がランダムなものであるため、形成される凹部６１は、基板７の表面にランダムに配置されたものとなる。

また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基板７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸（フッ化水素）を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。

マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、フッ化アンモン溶液（一水素二フッ化アンモニウム溶液）が特に好適である。フッ化アンモン溶液（４ｗｔ％以下）は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、フッ化アンモン溶液を用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板６を提供することができる。

＜Ａ４＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去する。
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１がランダムに形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板６が得られる。

基板７上にランダムな凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（物理的方法またはレーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、物理的な方法またはレーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板６を提供することができる。

また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質の大型マイクロレンズ用凹部付き基板（マイクロレンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
さらに、工程＜Ａ４＞でマスク８を除去した後、基板７上に新しいマスクを形成し、マスク形成−初期孔形成−ウェットエッチング−マスク除去の一連の工程を繰り返して行ってもよい。これにより、凹部６１が緻密に形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板６を得ることができる。

次に、上述したマイクロレンズ用凹部付き基板６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、マイクロレンズ用凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の樹脂２３（例えば、軟化状態の樹脂２３、未重合（未硬化）の樹脂２３）を付与する。本実施形態では、本工程において、マイクロレンズ用凹部付き基板６の凹部６１が形成されていない領域に、スペーサー９を配しておき、樹脂２３を平板１１で押圧する構成になっている。これにより、形成されるマイクロレンズ基板１の厚さをより確実に制御することができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板１での、マイクロレンズ２１の焦点の位置を、より確実に制御することができる。

本実施形態のように、スペーサー９を用いる場合、スペーサー９の形状は特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサー９がこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
なお、樹脂２３の付与、平板１１での押圧に先立ち、マイクロレンズ用凹部付き基板６の凹部６１が形成されている側の面や、平板１１の樹脂２３を押圧する側の面に離型剤を塗布しておいてもよい。これにより、後述する工程において、マイクロレンズ用凹部付き基板６や平板１１から、基板本体２を容易かつ確実に分離（剥離）することができる。

＜Ｂ２＞次に、樹脂２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、その後、平板１１を取り除く（図６（ｂ）参照）。これにより、凹部６１に充填された樹脂で構成され、凸レンズとして機能するマイクロレンズ２１を備えた基板本体２が得られる。
樹脂２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。

なおここで、必要に応じて樹脂２３の中には、光源からの入射光を拡散させるために、拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は樹脂２３全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。拡散材の量は特に限定するものではないが、視野角特性の観点から、Ｈａｚｅ（くもり度：Ｔｄ／Ｔｔ、Ｔｄ：拡散光線透過率、Ｔｔ：全光線透過率）が、例えば３０〜９９％になるようにすることが望ましい。

＜Ｂ３＞ここで、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス３を形成する場合のプロセスを説明する。
まず、図６（ｃ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー３２を付与する。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。

＜Ｂ４＞次に、図７（ｄ）に示すように、基板本体２に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂは各マイクロレンズ２１を通過することによって集光する。これにより、マイクロレンズ２１の焦点ｆ近傍の（集光された光が入射した部位の）フォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２のみが感光する。

その後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、感光した焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図７（ｅ）に示すように、マイクロレンズ２１の光軸Ｌに対応する部分に開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
また、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
なお、ブラックマトリックス３は必ずしも形成しておく必要はなく、形成しない場合は、上記＜Ｂ３＞、＜Ｂ４＞の工程は省略することができる。

＜Ｂ５＞次に、基板本体２を、マイクロレンズ用凹部付き基板６から取り外す（図８（ｆ）参照）。このように、マイクロレンズ用凹部付き基板６を取り外すことにより、マイクロレンズ用凹部付き基板６を、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高めることができる。

＜Ｂ６＞その後、マイクロレンズ用凹部付き基板６から取り外された基板本体２に対してベンジルアルコールを含む処理液（第１の処理液）を用いた第一の処理を施すことにより、基板本体２の他の部位に比べて着色されやすい易着色部（第１の易着色部２５）を形成する（図７（ｇ）、図８（ｈ）参照）。
その後、後述する着色処理を行うことにより、第１の易着色部２５に第一の着色処理を行う。なお、前述の第１の処理液中には、ベンジルアルコール以外に他の添加物が含まれていても良く、着色剤が含まれていてもよい。

次に、以上のようにして、第１の易着色部２５に第一の着色処理を施した基板本体２に対して、ベンジルアルコールを含む処理液（第２の処理液）を用いた第二の処理を施すことにより、基板本体２の他の部位に比べて着色されやすい易着色部（第２の易着色部２６）を形成する（図７（ｇ）、図８（ｈ）参照）。
その後、後述する着色処理を行うことにより、第２の易着色部２６に第二の着色処理を行う。なお、前述の第１の処理液中には、ベンジルアルコール以外に他の添加物が含まれていてもよく、着色剤が含まれていてもよい。なお、その他の添加物、および着色処理については後述する。

このように、後述する着色液付与工程（第一の着色処理および第二の着色処理）に先立ち、基板本体に対して、ベンジルアルコールを含む処理液を用いた処理（第１の処理液付与工程、および、第２の処理液付与工程）をそれぞれ施すことにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。

すなわち、ベンジルアルコールを含む処理液を用いることにより、処理液中のベンジルアルコールが基板本体中に深く侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、後述する着色液付与工程において、着色液中の着色剤が、容易に深く入りこむことにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色され、また容易に脱離しない。言い換えるならば、後述する着色液付与工程において、着色液中の着色剤が、容易に深く入りこめるように、事前に基材に空間を準備するための工程が、本処理である。

また、上記のような処理液を用いることにより、均一な厚さの着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、樹脂の重合の不均一に伴う欠陥があっても、事前に処理する液に含まれるベンジルアルコールが樹脂の分子の結合そのものを緩めることができるため、均一な濃度で（透過率のムラなく）着色部を形成することができる。

また、基板本体に対して、着色液を付与するのに先立ち、上記のような処理液を付与することにより、以下のような効果も得られる。すなわち、上述のような二段階の処理を行う場合、第１の処理液でのベンジルアルコールの濃度設定を自由に設定することにより、後の着色工程でより濃い濃度で深く着色を行いたい場合には、第１の処理液のベンジルアルコールの濃度設定を上げることにより、また後の着色工程で薄い濃度で浅く着色を行いたい場合には、第１の処理液のベンジルアルコールの濃度設定を下げることにより、第二の工程である着色工程での、着色層の深さと濃度のコントロールをより精度良く、均一に、かつ容易に行うことができる。これに対し、従来のように一工程で直接着色する場合には、着色するための空間の確保と着色の工程が、ほぼ同時に進行するため、このような微妙な着色層のコントロールが困難である。また、第二の着色工程でも着色剤にベンジルアルコールを併用することにより、より一層着色層の濃度コントロールを簡便にすることができる。すなわち、第１の処理液のベンジルアルコールは、次の着色工程での着色剤の入りこむ空間（着色座席）を確保することは先に述べたが、この処理を十分に行うことで（濃度と処理時間の制御）着色剤の入りこむ空間を事前に十分に確保しておいた上で、第二の着色工程においても、ベンジルアルコールの作用により、着色剤が前記空間への入り込みを促進し、これを加速することができる。これにより、より効率的に、短時間で着色工程を行うことができる。さらには、第１の処理液のベンジルアルコールの濃度と第二の着色工程のベンジルアルコールの濃度設定を変えることにより、着色剤の基材への拡散の速度をコントロールすることができ、結果的に、大面積でも均一な着色を可能とすることができる。

また、第１の処理液および第２の処理液の処理液の組成を自由に変更することにより、第一の着色処理および第二の着色処理での各着色領域（第１の易着色部２５および第２の易着色部２６）の厚さ、濃度を自由にコントロールし、これにより、光の入射側から入射し、反対の側に出射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができるようなスクリーンを作製することができる。

処理液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を処理液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピングが好ましい。これにより、容易かつ確実に易着色部２５（特に、均一な濃度の易着色部２５）を形成することができる。

処理液を付与する工程は、処理液および／または基板本体２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、大面積でも均一にベンジルアルコールの着色座席の確保を促進させ、さらには着色速度を上げ、効率良く易着色部２５を形成することができる。
また、処理液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、処理液の基板本体内部への侵入を促進することができ、結果として、易着色部２５を短時間で効率良く形成することができる。

処理液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、それぞれの易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成することができる。

また、処理液中には、前述のとおり、ベンジルアルコール以外の添加物成分が含まれていてもよい。例えば、処理液中には、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていてもよい。これにより、上述したような効果がより顕著なものとして発揮される。例えば、基板本体の着色をさらに容易かつ確実に行うことができ、特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとが相補的に作用し合い、その結果として、これらを併用することによる顕著な効果（相乗的な効果）が発揮されるものであると考えられる。

このメカニズムをさらに詳しく述べると、まず第一に、処理液中のベンジルアルコールが基板樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する。第二にベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が、この空間に侵入し深く拡散する。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物が、ベンジルアルコールと同様に、基板樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する働きがあり、このためベンジルアルコールにより確保された空間を利用して、さらに深く、広く、その空間を広げる作用があることによる。なお後の着色工程で用いる着色剤にはこの働きがない。このようにして確保された空間に対して、次の着色工程において、着色剤が前記空間に入りこみ、保持され着色が完了する。このようにして、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、着色剤が基材中に、効率良く、さらに深く、高速度で拡散でき、均一に着色することが可能となったのである。

なお、ここで、アクリル系樹脂に対して、ベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物は特に前述の着色座席を確保する働きが強い。このために着色剤をより効率的に基板本体に取りこむことが可能となる。
また、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物を、ベンジルアルコールと併用することにより、処理液の付与条件がより温和なものであっても、より確実に易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成することができる。その結果、易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止することができる。

ベンゾフェノン系化合物としては、下記式（Ｉ）またはこれに対応する他の限界構造式で示されるようなベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（Ｉ）で示されるベンゾフェノン骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。

このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、上記式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（II）、式（III）として示す。

また、上記のようなベンゾフェノン系化合物は、融点、沸点が比較的低く、また、水やエタノール等の低分子量アルコール等に対する溶解性（相溶性）も比較的高いので、ベンゾフェノン系化合物を用いた場合、上述したような、所望の厚さの易着色部２５（着色部２２）をより確実に形成することができ、レンズ基板の製造の歩留りを向上させることができる等の効果を顕著なものとして発揮させることができる。

また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記式（IV）またはこれに対応する他の限界構造式で表されるようなベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（IV）で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。

このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、上記式（IV）で表されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（Ｖ）、式（VI）として示す。

また、処理液が、上記のようなベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を２種以上含むものである場合（特に、１種以上のベンゾフェノン系化合物と、１種以上のベンゾトリアゾール系化合物とを含むものである場合）、これらの化合物同士が相補的に作用し合うとともに、これらの化合物がベンジルアルコールと相補的に作用し合うことにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。

処理液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、処理液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成することができる。

また、処理液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、処理液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に、また高速に好適な易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）を形成することができる。
また、処理液中には、例えば、着色剤が含まれていてもよい。これにより、易着色部の厚さを容易に認識することができる。

特に、本実施形態では、上記のような処理液を用いた処理を複数回繰り返し行うことにより、着色のされやすさの異なる複数の易着色部を形成する。すなわち、第１の処理液を基板本体２に付与することにより、基板本体２の他の部位（ただし、第２の易着色部２６を除く）に比べて着色されやすい第１の易着色部２５を形成する工程（図５（ｇ）参照）と、その後、第１の易着色部２５を必要な濃度に着色する工程と、第２の処理液を第１の易着色部２５が形成された基板本体２に付与することにより、基板本体２の他の部位（第１の易着色部２５を含む）に比べて着色されやすい第２の易着色部２６を形成する工程（第１の領域２５の一部を第２の領域２６にする工程）（図５（ｈ）参照）と、その後、第１の易着色部２５を必要な濃度に着色する工程とを有している。これにより、所望の厚さ、着色剤含有率（着色濃度）の異なる、第１の領域２２１および第２の領域２２２を、容易かつ確実に形成することができる。ここで、これらの工程を経て形成される第１の易着色部２５は、第１の領域２２１に対応するものであり、第２の易着色部２６は、第２の領域２２２に対応するものである。

第１の処理液を基板本体２に付与する工程（第１の処理液付与工程）で用いる第１の処理液、第２の処理液を基板本体２に付与する工程（第２の処理液付与工程）で用いる第２の処理液は、いずれも、前述したような条件を満足するものであるのが好ましいが、特に、第１の処理液は、以下のような条件を満足するものであるのが好ましい。
すなわち、第１の処理液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．１〜８．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．３〜７．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．５〜６．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、第１の易着色部２５を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な第１の易着色部２５を形成することができる。

また、第１の処理液が、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物を含むものである場合、第１の処理液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．０１〜８．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０３〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０５〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、第１の易着色部２５を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な第１の易着色部２５を形成することができる。

また、第２の処理液は、以下のような条件を満足するものであるのが好ましい。
すなわち、第２の処理液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０５〜５．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．１〜４．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．２〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、第２の易着色部２６を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な第２の易着色部２６を形成することができる。

また、第２の処理液が、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物を含むものである場合、第２の処理液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．０１〜８．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０３〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０５〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、第２の易着色部２６を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な第２の易着色部２６を形成することができる。

また、第１の処理液中におけるベンジルアルコールの含有率をＣ_１［ｇ／Ｌ］、第２の処理液中におけるベンジルアルコールの含有率をＣ_２［ｇ／Ｌ］としたとき、１．１≦Ｃ_１／Ｃ_２≦５．００の関係を満足するのが好ましく、１．２≦Ｃ_１／Ｃ_２≦４．０の関係を満足するのがより好ましく、１．３≦Ｃ_１／Ｃ_２≦３．０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、所望の厚さ、着色剤含有率の第１の領域２２１および第２の領域２２２を、さらに容易かつ確実に形成することができる。

上記のような第１の易着色部２５、第２の易着色部２６の厚さは、各工程において用いる処理液（第１の処理液、第２の処理液）の組成や、各工程の処理時間、処理温度等の条件を調整することにより、容易かつ確実に制御することができる。
また、処理液の付与後（第１の処理液の付与後、第２の処理液の付与後）には、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の減圧等の処理を施してもよいし、連続的に着色処理を行ってもよい。

＜Ｂ７＞次に、第１の易着色部２５を形成したのち、あるいは第２の易着色部２６を形成した後、基板本体２に対して着色液を付与することにより、着色部２２を形成する工程について述べる。この着色工程を経て、マイクロレンズ基板１を得る（図８（ｉ）参照）。
上述したように、着色液の付与（第一の着色工程）に先立ち、基板本体２には、易着色部２５が形成されている。このため、本工程（着色液付与工程）では、易着色部（第１の易着色部２５）が選択的に着色される。
同様に、第二の着色工程に先立ち、基板本体２には、第２の易着色部２６が形成されている。このため、本工程（着色液付与工程）では、易着色部（第２の易着色部２６）が選択的に着色される。

特に、本実施形態では、上述してきたように易着色部が、それぞれに着色されやすさの異なる領域（第１の易着色部２５および第２の易着色部２６）を有しているため、本工程で、第１の領域２２１と第２の領域２２２とを、それぞれに最適な厚さと着色濃度で着色部を形成することができる。すなわち、本実施形態の方法によれば、第１の領域２２１と第２の領域２２２とを最適な厚さと着色濃度とすることができ、特性の優れたマイクロレンズ基板を作製することができる。

着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター、捺染等の各種塗布法や、易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）が形成された基板本体２（以下、単に「基板本体２」ともいう）を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特第１の領域と第２の領域とを有する着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、浸染に用いることができる染料が溶液中に十二分に存在しているために、先に述べたとおり、ベンジルアルコールとベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の相互作用により、染料が入りこむための着色座席を、効率よくまた広く深い範囲で確保することができるために、染料による着色が容易に、且つ、大面積においても均一に行うことができるためである。

着色液を付与する工程は、着色液および／または基板本体２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、大面積でも均一にベンジルアルコールの着色座席の確保を促進させ、さらには着色速度を上げ、効率良く着色部２２を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体２内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。

なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の濃度を濃くしたい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。

以下、本工程で用いる着色液についてより詳細に説明する。
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を着色座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。

また、着色液は、少なくとも、着色剤を含むものであればよいが、さらにベンジルアルコールおよび界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤およびベンゾフェノン系化合物、あるいはベンゾトリアゾール系化合物を、ベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
また、着色液中には、例えば、前述したようなベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物等が含まれていてもよい。これにより、基板本体の着色性の更なる向上を図ることができる。
以上、説明したように、本実施形態の製造方法では、ベンジルアルコールを含む処理液で基板を処理したのち、着色工程を行うことで、着色が困難なアクリル系樹脂を基板に用いた場合でも、容易に、且つ、大面積でも均一な着色を、高速度で実現することが可能となり、特に着色層の濃度のコントロールを均一にまた容易にすることができる。

以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図９は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れた画像を得ることができる。さらに、本実施形態では、上記のような構成を有しているので、視野角特性、光利用効率等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、マイクロレンズ２１がランダム（光学的にランダム）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が極めて発生し難い。

以上、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。

また、前述した実施形態では、着色部が、着色剤の含有率の異なる２つの層を有するものとして説明したが、例えば、着色部は、３層以上の層の積層体であってもよい。また、着色部は、第１の領域と第２の領域とが、それぞれ層状に設けられたものとして説明したが、例えば、着色部は、その厚さ方向に、着色剤の含有率が傾斜的に変化するものであってもよい。

また、前述した実施形態では、ベンジルアルコールの含有率の異なる処理液を用いることにより、着色されやすさの異なる複数の領域を形成するものとして説明したが、例えば、ベンジルアルコールの含有率が同じであっても、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾールの含有率が異なる処理液を用いたり、第１の処理液付与工程と第２の処理液付与工程とで処理液の付与条件（例えば、処理温度、処理圧力等）を異なるものとすること等により、上記と同様な効果を得ることができる。

また、前述した実施形態では、着色部は、第１の領域に比べて着色剤の含有率が高い第２の領域が、第１の領域よりも光の入射側に設けられるものとして説明したが、第１の領域と第１の領域との配置は逆であってもよい。すなわち、着色部は、光の入射側に比較的着色剤の含有率の低い領域を有し、かつ、当該領域よりも光の出射側に着色剤の含有率のより高い領域を有するものであってもよい。このような着色部は、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、一旦、前述した実施形態のように、基板本体に対して処理液による処理を１回行う。その後、着色液を付与することにより光の入射面側に、着色剤の含有率が均一な着色部を形成する。その後、着色剤を脱離することができ、かつ、レンズ基板に対し実質的に悪影響を与えない溶剤を、均一な着色部が形成されたレンズ基板に付与する。これにより、着色部中に含まれる着色剤が、着色部の表面付近から優先的に脱離、除去される。これにより、光の入射側（レンズ基板の表面側）に比較的着色剤の含有率の低い領域を有し、かつ、当該領域よりも光の出射側（レンズ基板の内部側）に着色剤の含有率のより高い領域を有するレンズ基板を得ることができる。

また、本発明のレンズ基板は、その厚さ方向に着色剤の含有率の異なる複数の領域を有するものであればいかなるものであってもよく、前述したような方法で着色部が形成されたものに限定されるものではない。例えば、本発明のレンズ基板において、着色部は、上記のような処理液中に比較的少量の（低含有率の）着色剤を含む液体を用いた処理を行い、その後、比較的多量の（高含有率の）着色剤を含む着色液を用いることにより形成されたものであってもよい。また、例えば、着色剤を含む流動性のある樹脂材料を光の入射側の表面に付与し、積層により基板本体上に着色部を形成してもよい。

また、前述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基板７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。

また、前述した実施形態では、易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）、着色部２２を形成する前に、必要に応じてブラックマトリックス３を形成するものとして説明したが、必要に応じて易着色部（第１の易着色部２５、第２の易着色部２６）、着色部２２の形成後にブラックマトリックス３を形成してもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板が有するレンズ（レンズ部）が凸レンズであるものとして説明したが、レンズ基板が有するレンズ（レンズ部）は、例えば、凹レンズであってもよい。

また、前述した実施形態では、着色部がレンズ基板の光の入射側の全面に設けられているものとして説明したが、着色部は、光の入射面側の一部のみに設けられるものであってもよい。
また、前述した実施形態では、平面視したときの形状が略円形のマイクロレンズがランダムに配置されたものとして説明したが、マイクロレンズの形状、配置はこのようなものに限定されない。例えば、マイクロレンズは、格子状に配されたものであってもよいし、ハニカム状に形成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板（レンズ基板）とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。

また、前述した実施形態では、視野角上の観点から、より望ましい形状のレンズ部として、マイクロレンズを備えた構成について説明したが、レンズ基板を構成するレンズ部（レンズ）は、これに限定されず、例えば、レンチキュラレンズであってもよい。レンチキュラレンズを使用することにより、レンズ部の製造工程を簡略化することができ、また、透過型スクリーンの生産性を向上させることができる。レンズ部として、レンチキュラレンズを使用する場合、ブラックマトリックスの代わりにストライプ状の遮光層（ブラックストライプ）が形成される。このような構成においても、前記実施形態と同様の作用・効果が得られる。

また、前述した実施形態では、ブラックマトリックスを基板本体の表面に直接形成するものとして説明したが、ブラックマトリックスは、例えば、下地層（接着剤層）等を介して、基板本体に接合されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、ブラックマトリックス（遮光層）は、遮光性の材料を含むフォトポリマーを、マイクロレンズ基板（レンズ基板）の表面に付着させることにより形成するものとして説明したが、ブラックマトリックス（遮光層）の形成方法は、これに限定されず、例えば、染色、（化学的な）発色、変色等によるものであってもよい。

また、前述した実施形態では、既述のとおり、レンズ基板がブラックマトリックスを有する場合についても説明しているが、レンズ基板は、このようなブラックマトリックスを有していなくてもよいのは言うまでもない。
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適用されるものに限定されず、いかなる用途のものであってもよい。例えば、本発明のレンズ付き基板は、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材に適用されるものであってもよい。

［レンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ用の凹部を備えたマイクロレンズ用凹部付き基板を製造し、このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。

次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、照射時間６０×１０^−９秒という条件で行った。

これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は５μｍであり、初期孔の形成密度は４０，０００個／ｃｍ^２であった。
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．１μｍの凹部および変質層も形成した。

次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の凹部を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の曲率半径（３５μｍ）を有するものであった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は５時間とした。

次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部がランダムに形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が９７％であった。また、マイクロレンズ用凹部付き基板の任意の近接した２点間（凹部−凹部間）の距離を多数とり、それらから標準偏差を求めた。このようにして求められた標準偏差は、それらの平均の３２％であった。

次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、拡散材としてポリスチレンビーズを混練させた未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。この際、前記面のマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されていない領域に、略球形状のスペーサー（直径３０μｍ）を配しておいた。拡散材の量は、Ｈａｚｅ（くもり度：Ｔｄ／Ｔｔ、Ｔｄ：拡散光線透過率、Ｔｔ：全光線透過率）が７０％になるように調整した。

次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル系樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
その後、平板上から、加熱することにより、アクリル系樹脂を硬化させ、基板本体を得た。また、得られた基板本体の樹脂層の厚さは２ｍｍ、マイクロレンズの曲率半径は３５μｍ、マイクロレンズの直径は７０μｍであった。また、得られた基板本体を平面視したときに、マイクロレンズが形成されている有効領域において、マイクロレンズが占める面積（投影面積）の割合は９７％であった。

次に、平板を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。

次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
次に、マイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されている側の面とは反対側の面から、８０ｍＪ/ｃｍ^２の平行光としての紫外線を照射した。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ（ブラックマトリックスの厚さ方向の中心付近）近傍のフォトポリマーを選択的に露光した。

その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さは２μｍ、開口部の直径は４５μｍであった。

その後、基板本体を、マイクロレンズ用凹部付き基板から取り外した。
その後、基板本体に対して、ディッピングにより、ベンジルアルコールを含む第１の処理液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が処理液に接触し、かつ、ブラックマトリックスが形成された面側には処理液が接触しないようにした。また、第１の処理液を付与する際の基板本体および処理液の温度は、９０℃に調整した。第１の処理液としては、ベンジルアルコール：１５重量部、ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン（ベンゾフェノン系化合物）：３重量部、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（ベンゾトリアゾール系化合物）：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。
上記のような条件で、基板本体と処理液とを１５分間接触させた後、処理液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、水洗・乾燥することにより、第１の易着色部が形成された基板本体を得た。

次に、易着色部が形成された基板本体に対して、浸染により着色液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、かつ、ブラックマトリックスが形成された面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、９０℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：４重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。

上記のような条件で、基板本体と着色液とを１５分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板を得た。形成された着色部の濃度は、本基板と同一の構造の別の未処理の基板を用い、上記と全く同様の条件で、第１の処理液および着色処理を行い、このサンプルの分光透過率を測定したところ、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で６８％であった。

次に、第１の着色部が形成された基板本体に対して、ディッピングにより、ベンジルアルコールを含む第２の処理液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が処理液に接触し、かつ、ブラックマトリックスが形成された面側には処理液が接触しないようにした。また、第２の処理液を付与する際の基板本体および処理液の温度は、９０℃に調整した。第２の処理液としては、ベンジルアルコール：１０重量部、ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン（ベンゾフェノン系化合物）：３重量部、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（ベンゾトリアゾール系化合物）：２重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。
上記のような条件で、基板本体と処理液とを１０分間接触させた後、処理液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、易着色部（第１の易着色部、第２の易着色部）が形成された基板本体を得た。

次に、第２の易着色部が形成された基板本体に対して、浸染により着色液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、かつ、ブラックマトリックスが形成された面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、９０℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：１２重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。

上記のような条件で、基板本体と着色液とを１５分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板を得た。また、着色部は、マイクロレンズ基板の内部に着色剤の含有率が比較的低い第１の領域と、マイクロレンズ基板の表面側に着色剤の含有率が比較的高い第２の領域とを有するものであった。形成された着色部の濃度は、本基板と同一の構造の別の未処理の基板を用い、上記と全く同様の条件で、第２の処理液および着色処理のみを行い、このサンプルの分光透過率を測定したところ、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で５６％であった。また、着色部の厚さをエリプソメトリー（偏向解析）法で測定したところ、着色部を構成する第１の領域の厚さは、約５．３μｍであり、第２の領域の厚さは、０．９μｍであった。

このようにして得られたマイクロレンズ基板は、マイクロレンズ基板を平面視したときの、マイクロレンズが形成されている有効領域において、開口部が占める面積（投影面積）の割合は、５０％であった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。

（実施例２〜７）
処理液（第１の処理液、第２の処理液）および着色液（第１の着色液、第２の着色液）中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率、処理液（第１の処理液、第２の処理液）を付与する際の基板本体および処理液の温度、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、処理液、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の変更は、これらに対応するように純水を増減させることにより行った。
（実施例８）
基板本体に対して、ブラックマトリックスを形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（比較例１）
基板本体に対して、易着色部（第１の易着色部、第２の易着色部）、着色部（第１の領域、第２の領域）を形成しなかった以外は、前記実施例８と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（比較例２）
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。

次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、厚さ０．０３μｍのＣｒ膜を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ膜のマスクおよび裏面保護膜を形成した。
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の直線状の溝（孔）を、互いに平行になるように形成した。隣接する溝−溝間のピッチは、１４０μｍであった。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、照射時間６０×１０^−９秒という条件で行った。
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．１μｍの凹部および変質層も形成した。

次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に溝状の凹部を形成した。形成された凹部は、互いにほぼ同一の曲率半径（３５μｍ）を有するものであった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は５時間とした。

次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、レンチキュラレンズ用の多数の凹部（溝部）が形成されたウエハー状のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を得た。

次に、上記のようにして得られたレンチキュラレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。この際、前記面のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されていない領域に、略球形状のスペーサー（直径３０μｍ）を配しておいた。

次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル系樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
その後、加熱することにより、アクリル系樹脂を硬化させ、レンチキュラレンズ基板を得た。また、得られたレンチキュラレンズ基板の樹脂層の厚さは１ｍｍ、レンチキュラレンズの曲率半径は３５μｍであった。

次に、アクリル系樹脂の押圧に用いた平板、レンチキュラレンズ用凹部付き基板を取り外すことにより、レンチキュラレンズ基板を得た。
以上のようにして製造されたレンチキュラレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを得た。

（比較例３）
前記実施例１と同様にして、ブラックマトリックスが形成されていない基板本体を製造した。その後、基板本体がマイクロレンズ用凹部付き基板と密着した状態で、基板本体の光の出射側の面に、前記実施例１と同様にして易着色部（第１の易着色部、第２の易着色部）、着色部（第１の領域、第２の領域）を形成した。その後、マイクロレンズ用凹部付き基板を取り外すことにより、マイクロレンズ基板を得た。また、このようにして得られたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。

（比較例４）
第１の処理液による処理を行った後、第１の易着色部に着色液を付与する工程を行い、第２の処理液による処理および第２の易着色部に着色液を付与する工程を行わなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（比較例５）
第１の処理液による処理を行った後、第１の易着色部に着色液を付与する工程を行い、第２の処理液による処理および第２の易着色部に着色液を付与する工程を行わなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（比較例６）
以下に述べるように、光の入射側に着色長の含有率が均一な着色部を有する、レンチキュラレンズ基板を製造した。
まず、図１０に示すように、連続したフィルム状のアクリル系樹脂で構成されたベース部材Ｔ１５が巻かれたロールＴ５１と、ベース部材Ｔ１５の片面（入光側）に、溶剤で希釈した透明かつ非着色の未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（透明樹脂）Ｔ１２ＡをコーティングするコータＴ５２と、ベース部材Ｔ１５にコーティングされた透明樹脂Ｔ１２Ａを乾燥させる乾燥機Ｔ５３と、レンチキュラレンズ形状の型が形成された金型ロールＴ５４と、その金型ロールＴ５４に、着色された未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（着色樹脂）Ｔ１３を塗工するディスペンサＴ５５と、金型ロールＴ５４に着色樹脂Ｔ１３、透明樹脂Ｔ１２Ａを挟んで、ベース部材Ｔ１５をニップするニップロールＴ５６と、金型ロールＴ５４の型内の着色樹脂Ｔ１３、透明樹脂Ｔ１２ＡにＵＶを照射するＵＶランプＴ５７と、成形されたレンチキュラレンズ基板（レンチキュラレンズシート）Ｔ１０を金型ロールＴ５４から離型する離型ロールＴ５８などとを備えたレンチキュラレンズ基板製造装置Ｔ５０を用意した。
このレンチキュラレンズ基板製造装置Ｔ５０において、フィルム状のベース部材Ｔ１５に、コータＴ５２を用いて、高粘度の透明樹脂Ｔ１２Ａを、溶剤希釈してコートした（透明樹脂コート工程）後に、乾燥機Ｔ５３によって、温風乾燥して（溶剤乾燥工程）、流動性を抑えた、透明樹脂層を形成した。

次に、着色樹脂Ｔ１３を、金型ロールＴ５４に塗工して、その着色樹脂Ｔ１３が塗工された金型ロールＴ５４に、ニップロールＴ５６によって、透明樹脂Ｔ１２Ａがコートされたベース部材Ｔ１５を、着色樹脂Ｔ１３と透明樹脂Ｔ１２Ａが積層されるようにしてニップした。
その後に、ＵＶランプＴ５７によって、ベース部材Ｔ１５側から、紫外線を照射して（照射工程）、着色樹脂Ｔ１３と透明樹脂Ｔ１２Ａとを硬化させた。最後に、金型ロールＴ５４から、ベース部材Ｔ１５に着色樹脂Ｔ１３と透明樹脂Ｔ１２Ａからなるレンズ部Ｔ１２が形成されたレンチキュラレンズ基板Ｔ１０を剥離し、レンチキュラレンズ基板Ｔ１０を得た。

得られたレンチキュラレンズ基板Ｔ１０は、１．２ｍ×０．７ｍ角で、中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の直線状のレンチキュラレンズが、互いに平行になるように形成されたものであった。また、得られたレンチキュラレンズ基板の樹脂層の厚さは１ｍｍであった。また、着色部の濃度は、分光透過率に基づいたＹ値（Ｄ６５／２°視野）で５２％であった。また、隣接する溝−溝間（レンズ間）のピッチは、７０μｍであった。また、形成されたレンチキュラレンズは、互いにほぼ同一の曲率半径（３５μｍ）を有するものであった。

なお、ベース部材Ｔ１５、透明樹脂Ｔ１２Ａ、着色樹脂Ｔ１３を構成するアクリル系樹脂としては、ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂）を用いた。また、着色樹脂Ｔ１３としては、一般的にＴｉｎｔ材と呼ばれる顔料をベース部材に事前に練り込んである。また、樹脂中には拡散材が混入されているが、比較のため、他の水準と同様Ｈａｚｅ７０％とした。
以上のようにして製造されたレンチキュラレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを得た。

前記各実施例および各比較例についての、易着色部（第１の易着色部、第２の易着色部）の形成に用いた処理液（第１の処理液、第２の処理液）および着色液（第１の着色液、第二の着色液）の形成に用いた処理液の条件（第１の着色液、第２の着色液）の一部、処理液（第１の処理液、第２の処理液）および着色液（第１の着色液、第２の着色液）を付与する際の基板本体および処理液の温度、を表１および２にまとめて示す。

［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例で作製された透過型スクリーンについて、コントラストの評価を行った。コントラストは、暗室において４１０ｌｘの全白色が入射したときの白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ（ｃｄ／ｍ^２）と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ（ｃｄ／ｍ^２）との比、ＬＷ／ＬＢを求めた。明室は、外光照度１８５ｌｘ（明室）の部屋で測定した。輝度の測定にはトプコン製輝度計ＢＭ−７を用いた。
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図９に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。

［色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンの分光透過率を面内２０ポイント測定し、その分光透過率に基づくＹ値（Ｄ６５／２°視野）の最大値と最小値の差ΔＴ（Ｙ）％を色ムラと定義し、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ΔＴ（Ｙ）：３％未満。色ムラが全く認められない。
○：ΔＴ（Ｙ）：３〜５％。色ムラがほとんど認められない。
△：ΔＴ（Ｙ）：５〜１０％。色ムラがわずかに認められる。
×：ΔＴ（Ｙ）：１０％超。色ムラが顕著に認められる。

［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）ＭＰＣ３１００（島津製作所製）で、１度間隔で測定するという条件で行った。

［長期安定性の評価］
４５０ｌｘの光を照射するリア型プロジェクタの投写光学ユニットの光の出射部の直前に、作成した透過型スクリーンを設置し、加速度的に長期安定性を評価した。
光の照射開始から１０時間前後における、色調の差（変化量ΔＴ（Ｙ））を透過型スクリーンの劣化、ムラとし、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：劣化、ムラが全く認められない。変化量ΔＴ（Ｙ）３％未満。
○：劣化、ムラがほとんど認められない。変化量ΔＴ（Ｙ）３〜５％。
△：劣化、ムラがわずかに認められる。変化量ΔＴ（Ｙ）５〜１０％。
×：劣化、ムラが顕著に認められる。変化量ΔＴ（Ｙ）１０％超。
これらの結果を、着色部（第１の領域、第１の領域）の厚さとともに、表３にまとめて示す。

表３から明らかなように、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）では、透過率（Ｙ値）のばらつきが小さいのに対し、比較例６のレンズ基板（レンチキュラレンズ基板）では、透過率（Ｙ値）のばらつきが大きかった。
また、表２から明らかなように、本発明では、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性に優れ、長期安定性も問題ない。また、本発明では、色ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を長期間にわたって安定的に表示することができた。

これに対し、各比較例では、十分なコントラストが得られなかった。これは、着色部を有している場合であっても、着色部中における着色剤の含有率が均一なものである場合や、着色部が光の出射側に設けられている場合、外光の反射防止と、入射光（画像形成のために必要な光）についての十分な透過率の確保とを両立することができないためであると考えられる。また、透明樹脂の表面に硬化前の着色樹脂を積層することにより着色部を形成した比較例６では、コントラストが不十分であるばかりか、色ムラが顕著で低画質の画像しか表示することができなかった。これは、着色部の厚さのばらつきが大きいためであると考えられる。

本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板の平面図である。 図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。 マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図である。 図４に示すマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。 本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。 比較例でのレンチキュラレンズ基板の製造に用いた製造装置の構成を示す図である。

符号の説明

１…マイクロレンズ基板（レンズ基板） ２…基板本体 ２１…マイクロレンズ（レンズ部） ２２…着色部（外光吸収部） ２２１…第１の領域 ２２２…第２の領域 ２３…樹脂 ２５…第１の易着色部 ２６…第２の易着色部 ３…ブラックマトリックス（遮光層） ３１…開口部 ３２…フォトポリマー ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…マイクロレンズ用凹部付き基板 ６１…凹部 ７…基板 ７１…初期凹部 ８…マスク ８１…初期孔 ８９…裏面保護膜 ９…スペーサー １０…透過型スクリーン １１…平板 ３００…リア型プロジェクタ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体 Ｔ５０…レンチキュラレンズ基板製造装置 Ｔ１０…レンチキュラレンズ基板（レンチキュラレンズシート） Ｔ１２Ａ…透明かつ非着色の未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（透明樹脂） Ｔ１３…未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（着色樹脂） Ｔ１５…ベース部材 Ｔ５１…ロール Ｔ５２…コータ Ｔ５３…乾燥機 Ｔ５４…金型ロール Ｔ５５…ディスペンサ Ｔ５６…ニップロール Ｔ５７…ＵＶランプ Ｔ５８…離型ロール

Claims (6)

1. 光を入射させて用いるレンズ基板であって、
   レンズ部を有する基板本体を備えており、
   前記基板本体は、レンズ基板の光が入射する面であるレンズ面側に設けられた着色部と、前記着色部よりも光が出射する側に設けられた着色されていない非着色部とを有するものであり、
   前記着色部は、その厚さ方向に、着色剤の含有率が異なる複数の層を有する積層体であることを特徴とするレンズ基板。
2. レンズ基板は、マイクロレンズ基板である請求項１に記載のレンズ基板。
3. 請求項１または２に記載のレンズ基板を製造する方法であって、
   レンズ基板に対して、ベンジルアルコールを含む処理液による処理を施す処理液付与工程と、
   前記処理液による処理が施された基板本体に対し、着色剤を付与する工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
4. 前記処理液付与工程として、所定の割合のベンジルアルコールを含有する第１の処理液を用いて行う第１の処理液付与工程と、
   前記第１の処理液よりもベンジルアルコールの含有率が低い第２の処理液を用いて行う第２の処理液付与工程とを有する請求項３に記載のレンズ基板の製造方法。
5. 請求項１または２に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
6. 請求項５に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。

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