JP4098283B2 - スパッタリング装置 - Google Patents
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Description
請求項2記載の発明は、成膜室内に鉛直に配置されたターゲットを有するスパッタリング装置であって、前記成膜室内に配置され、前記成膜室内に水平に搬入された基板を乗せる基板保持板と、前記基板保持板上に乗せられた基板をクランプする基板クランプ機構と、前記基板保持板を起立させる回転機構とを有し、前記基板保持板と基板が同じ大きさであり、前記基板よりも小さい矩形形状の窓部が形成されたマスク回転枠を有し、前記保持板回転枠が前記基板保持板と共に起立される際に、前記マスク回転枠と前記基板保持板に密着された基板とが重ねられ、前記基板の成膜領域の周辺部分が前記マスク回転枠で遮蔽され、前記マスク回転枠は支持腕に取り付けられ、前記支持腕を回転させて垂直にも水平にも可能なように構成され、水平な状態では前記支持腕から取り外せるように構成されたことを特徴とするスパッタリング装置である。
請求項3記載の発明は、成膜室内に鉛直に配置されたターゲットを有するスパッタリング装置であって、前記成膜室内に配置され、前記成膜室内に水平に搬入された基板を乗せる基板保持板と、前記基板保持板上に乗せられた基板をクランプする基板クランプ機構と、前記基板保持板を起立させる回転機構と、シャフトと、前記シャフトに取り付けられた保持板回転枠とを有し、前記シャフトの回転によって前記保持板回転枠が回転するように構成されたスパッタリング装置であって、前記基板保持板は矩形形状に形成され、前記保持板回転枠の内側にはめ込まれていると共に、前記基板保持板にはヒーターが設けられ、前記基板保持板と基板が同じ大きさであり、前記基板よりも小さい矩形形状の窓部が形成されたマスク回転枠を有し、前記保持板回転枠が前記基板保持板と共に起立される際に、前記マスク回転枠と前記基板保持板に密着された基板とが重ねられ、前記基板の成膜領域の周辺部分が前記マスク回転枠で遮蔽され、前記マスク回転枠は支持腕に取り付けられ、前記支持腕を回転させて垂直にも水平にも可能なように構成され、水平な状態では前記支持腕から取り外せるように構成されたことを特徴とするスパッタリング装置である。
請求項4記載の発明は、前記基板保持板には、前記基板保持板上に配置された水平な基板を持ち上げる複数本の棒が挿通され、前記マスク回転枠は、水平な状態で前記棒によって持ち上げられ、前記シャフトから取り外せるように構成されたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のスパッタリング装置である。
請求項5記載の発明は、前記基板は、550×650mm2以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載のスパッタリング装置である。
請求項6記載の発明は、前記基板を搬送する基板搬送ロボットと、前記基板搬送ロボットが配置された基板搬送室とを有し、前記成膜室が前記基板搬送室に接続された請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載のスパッタリング装置である。
請求項7記載の発明は、複数の前記成膜室が前記基板搬送室の周囲に接続されたことを特徴とする請求項6記載のスパッタリング装置である。
請求項8記載の発明は、基板の搬出入を行うL/UL室と基板の脱ガスを行う予備加熱室が前記基板搬送室の周囲に配置されていることを特徴とする請求項6又は請求項7のいずれか1項に記載のスパッタリング装置である。
請求項9記載の発明は、前記基板搬送室とその周囲に配置された各室との間には開閉可能な仕切板が設けられており、前記基板搬送室とその周囲の各室とは、それぞれが独立に高真空状態を維持できるように構成されていることを特徴とする請求項7又は請求項8のいずれか1項記載のスパッタリング装置である。
基板交換が効率的に行えるので、処理時間が短縮する。装置が大型化しないのでコストアップすることはない。
すると、前記ハンド32は空の状態となるので、そのハンド32を前記基板保持板3上から抜き出す(同図(f):ハンドアウト動作(1))。
このとき、前記成膜終了基板52を、前記ハンド32の高さよりも高くなるまで持ち上げておき、前記空のハンド32を前記成膜終了基板52の下に挿入する(同図(h):ハンドイン動作(2))。
そして、空になったハンド32先端には、前記カセット昇降機構によって未処理の基板が乗せられ、その未処理の基板は前記予備加熱室43で加熱・脱ガス処理が終了した未成膜基板と交換され、未成膜基板として前記ハンド32上に乗せられて、まもなく成膜が終了する成膜室42の前面で図3のように待機され、前記成膜室42において、引き続き図4(a)から図6(n)の一連の交換作業が行われる。このような一連の基板交換動作は、成膜すべき基板がなくなるまで繰り返される。
なお、上記実施の形態は、支持棒8を4本、ピンを8本設けたが、本数はそれに限定されるものではなく、基板を安定に支持できる本数であればよい。
7……ピン 8……支持棒 9、10……爪部
31……基板搬送ロボット 32……ハンド 42……成膜室
Claims (9)
- 成膜室内に鉛直に配置されたターゲットを有するスパッタリング装置であって、
前記成膜室内に配置され、前記成膜室内に水平に搬入された基板を乗せる基板保持板と、
前記基板保持板上に乗せられた基板をクランプする基板クランプ機構と、
前記基板保持板を起立させる回転機構とを有し、
シャフトと、前記シャフトに取り付けられた保持板回転枠とを有し、前記シャフトの回転によって前記保持板回転枠が回転するように構成されたスパッタリング装置であって、
前記基板保持板は矩形形状に形成され、前記保持板回転枠の内側にはめ込まれていると共に、
前記基板保持板にはヒーターが設けられ、
前記基板よりも小さい矩形形状の窓部が形成されたマスク回転枠を有し、
前記保持板回転枠が前記基板保持板と共に起立される際に、前記マスク回転枠と前記基板保持板に密着された基板とが重ねられ、前記基板の成膜領域の周辺部分が前記マスク回転枠で遮蔽され、
前記マスク回転枠は支持腕に取り付けられ、前記支持腕を回転させて垂直にも水平にも可能なように構成され、水平な状態では前記支持腕から取り外せるように構成されたことを特徴とするスパッタリング装置。 - 成膜室内に鉛直に配置されたターゲットを有するスパッタリング装置であって、
前記成膜室内に配置され、前記成膜室内に水平に搬入された基板を乗せる基板保持板と、
前記基板保持板上に乗せられた基板をクランプする基板クランプ機構と、
前記基板保持板を起立させる回転機構とを有し、
前記基板保持板と基板が同じ大きさであり、
前記基板よりも小さい矩形形状の窓部が形成されたマスク回転枠を有し、
前記保持板回転枠が前記基板保持板と共に起立される際に、前記マスク回転枠と前記基板保持板に密着された基板とが重ねられ、前記基板の成膜領域の周辺部分が前記マスク回転枠で遮蔽され、
前記マスク回転枠は支持腕に取り付けられ、前記支持腕を回転させて垂直にも水平にも可能なように構成され、水平な状態では前記支持腕から取り外せるように構成されたことを特徴とするスパッタリング装置。 - 成膜室内に鉛直に配置されたターゲットを有するスパッタリング装置であって、
前記成膜室内に配置され、前記成膜室内に水平に搬入された基板を乗せる基板保持板と、
前記基板保持板上に乗せられた基板をクランプする基板クランプ機構と、
前記基板保持板を起立させる回転機構と、
シャフトと、
前記シャフトに取り付けられた保持板回転枠とを有し、前記シャフトの回転によって前記保持板回転枠が回転するように構成されたスパッタリング装置であって、
前記基板保持板は矩形形状に形成され、前記保持板回転枠の内側にはめ込まれていると共に、
前記基板保持板にはヒーターが設けられ、
前記基板保持板と基板が同じ大きさであり、
前記基板よりも小さい矩形形状の窓部が形成されたマスク回転枠を有し、
前記保持板回転枠が前記基板保持板と共に起立される際に、前記マスク回転枠と前記基板保持板に密着された基板とが重ねられ、前記基板の成膜領域の周辺部分が前記マスク回転枠で遮蔽され、
前記マスク回転枠は支持腕に取り付けられ、前記支持腕を回転させて垂直にも水平にも可能なように構成され、水平な状態では前記支持腕から取り外せるように構成されたことを特徴とするスパッタリング装置。 - 前記基板保持板には、前記基板保持板上に配置された水平な基板を持ち上げる複数本の棒が挿通され、
前記マスク回転枠は、水平な状態で前記棒によって持ち上げられ、前記シャフトから取り外せるように構成されたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のスパッタリング装置。 - 前記基板は、550×650mm2以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
- 前記基板を搬送する基板搬送ロボットと、
前記基板搬送ロボットが配置された基板搬送室とを有し、
前記成膜室が前記基板搬送室に接続された請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載のスパッタリング装置。 - 複数の前記成膜室が前記基板搬送室の周囲に接続されたことを特徴とする請求項6記載のスパッタリング装置。
- 基板の搬出入を行うL/UL室と基板の脱ガスを行う予備加熱室が前記基板搬送室の周囲に配置されていることを特徴とする請求項6又は請求項7のいずれか1項に記載のスパッタリング装置。
- 前記基板搬送室とその周囲に配置された各室との間には開閉可能な仕切板が設けられており、前記基板搬送室とその周囲の各室とは、それぞれが独立に高真空状態を維持できるように構成されていることを特徴とする請求項7又は請求項8のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
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