JP4093457B2 - 感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法、さらに詳しくは、液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品の保護膜や層間絶縁膜の形成に好適な感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法に関する。
【従来技術】
【0002】
従来より液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品の劣化や損傷を防止するための保護膜や、層状に配置される配線の間を絶縁するために設ける層間絶縁膜の形成に感光性樹脂組成物が用いられてきた。中でも液晶表示素子の場合、例えばTFT型液晶表示素子にあってはガラス基板上に偏光板を設け、ITO等の透明導電回路層及び薄膜トランジスタ(TFT)を形成し、層間絶縁膜で被覆して背面板とする一方、ガラス板上に偏光板を設け、必要に応じてブラックマトリックス層及びカラーフィルター層のパターンを形成し、さらに透明導電回路層、層間絶縁膜を順次形成して上面板とし、この背面板と上面板とをスペーサを介して対向させて両板間に液晶を封入して製造されるが、そこで使用される感光性樹脂組成物としては透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れた被膜が形成できることが要求される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記感光性樹脂組成物として、例えば特開平5−165214号公報には(A)(a)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(b)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物および(c)他のラジカル重合性化合物の共重合体であるアルカリ水溶液に可溶な樹脂および(B)感放射線性酸生成化合物を含有する感放射性樹脂組成物が、また、特開平10−153854号公報にはアルカリ可溶性アクリル系高分子バインダー、キノンジアジド基含有化合物、架橋剤及び光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物などが提案されている。しかし、前記特開平5−165214号公報に記載の感放射線性樹脂組成物は、透明性、平坦性、耐熱性がよく、かつ不要な部分を露光・現像によって容易に除去できるが、樹脂成分が不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基を有するラジカル重合性化合物と他のラジカル重合性化合物との三元共重合体であることから塗布液の調合が難しく、均一な塗布膜、特に大型の基板上に均一な塗布膜を形成することが困難な上に、保存安定性も悪く保存中に変質する欠点があった。また、特開平10−153854号公報に記載の感光性樹脂組成物は透明性、平坦性、現像性に優れているものの耐熱性が十分とはいえず最近の保護膜や層間絶縁膜に要求される耐熱性を満足できるものではなかった。
【0004】
こうした現状に鑑み、本発明者等は鋭意研究を続けた結果、不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の二元共重合体が特定の化合物を含む有機溶媒中で重合することでゲル化を起こすことなく得られ、この二元共重合体と不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とそれ以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体とを樹脂成分として含有することで、保護膜や層間絶縁膜に要求される透明性、耐熱性及び平坦性が確保できる上に、現像性、塗布性に優れ、均一な被膜、特に大型の基板への均一な被膜の形成が容易で、しかも保存安定性がよく作業性にも優れた感光性樹脂組成物が得られることを見出して、本発明を完成したものである。すなわち、
【0005】
本発明は、透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れた被膜が形成でき、かつ塗布性、保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【0006】
また、本発明は、上記感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成する本発明は、(a)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合体、(b)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とそれ以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(c)キノンジアジド基含有化合物及び(d)有機溶媒を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法に係る。
【0008】
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、上述のとおり(a)成分〜(d)成分を含有する感光性樹脂組成物であるが、前記(a)成分の不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物としては、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸などが挙げられる。また、不飽和カルボン酸無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸などを挙げられる。
【0009】
また、(a)成分のエポキシ基含有重合性不飽和化合物としては、脂肪族エポキシ基含有重合性不飽和化合物や脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物が挙げられるが、好ましくは耐熱性に優れた塗布膜を形成できる脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物がよい。前記脂肪族エポキシ基含有重合性不飽和化合物としては具体例には、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、N−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3,5−ジメチルベンジル]アクリルアミド、N−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3,5−ジメチルフェニルプロピル]アクリルアミドなどが挙げられ、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、具体的に下記化(2)〜化(32)で表わされる化合物が挙げられる。
【0010】
【化2】
【0011】
【化3】
【0012】
【化4】
【0013】
【化5】
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】
【化8】
【0017】
【化9】
【0018】
【化10】
【0019】
【化11】
【0020】
【化12】
【0021】
【化13】
【0022】
【化14】
【0023】
【化15】
【0024】
【化16】
【0025】
【化17】
【0026】
【化18】
【0027】
【化19】
【0028】
【化20】
【0029】
【化21】
【0030】
【化22】
【0031】
【化23】
【0032】
【化24】
【0033】
【化25】
【0034】
【化26】
【0035】
【化27】
【0036】
【化28】
【0037】
【化29】
【0038】
【化30】
【0039】
【化31】
【0040】
【化32】
(式中、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4は炭素数1〜8の2価の炭化水素基を示し、R5は炭素数1〜20の2価の炭化水素基を示し、R3、R4及びR5は同一又は異なってもよく、wは0〜10の数を示す。)
【0041】
上記(a)成分中のエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合割合は、全成分の5〜90モル、好ましくは10〜80モル%の範囲がよい。前記範囲を逸脱すると、耐熱性の低下や、耐溶解性の低下が生じて好ましくない。
【0042】
この(a)成分は、一般式化33
【0043】
【化33】
【0044】
上記化33で表される化合物としては、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3−メトキシ−1−ブチルアルコール、3−エトキシ−1−ブチルアルコール、3−プロポキシ−1−ブチルアルコール、3−メトキシ−1−メチルプロピルアルコール、3−エトキシ−1−メチルプロピルアルコール、3−プロポキシ−1−メチルプロピルアルコール、2−メトキシ−1−エチルエチルアルコール、2−エトキシ−1−エチルエチルアルコール、2−プロポキシ−1−エチルエチルアルコール、5−メトキシペンチルアルコール、5−エトキシペンチルアルコール、5−プロポキシペンチルアルコール、4−メトキシ−1−メチルブチルアルコール、4−エトキシ−1−メチルブチルアルコール、4−プロポキシ−1−メチルブチルアルコール、3−メトキシ−1−エチルプロピルアルコール、3−エトキシ−1−エチルプロピルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、メチルエチレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。また、重合溶媒の他の有機溶媒としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールノモメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブルエーテルアセテート、2−メトキシブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、4−メトキシブチルアセテート、2−メチル−3−メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン、酢酸−n−ブチル、酢酸アミルな、乳酸エチル、乳酸−n−ブチルなどを例示することができ、これらは、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0045】
使用する重合触媒としては通常のラジカル重合開始剤が挙げられ、例えば2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)などのアゾ化合物及び過酸化水素などがよい。過酸化水素をラジカル重合開始材として使用する場合、還元剤を組合せたレドックス型の重合開始剤であってもよい。
【0046】
本発明の感光性樹脂組成物の(b)成分を形成するエポキシ基含有重合性不飽和化合物以外のモノオレフィン系不飽和化合物としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、N−ブチルアクリレート、N−ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、トリシクロ[5,2,1.02.6]デカニルアクリレート、トリシクロ[5,2,1.02.6]デカニルメタクリレート、スチレン、α−スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリルニトリル、メタアクリロニトリルなどが挙げられ、これらの単独又は2種類以上を組合せて使用できるが、機械的特性やアルカリ水溶液に対する溶解性のコントロールの容易さから2種以上の組合せがよい。(b)成分中のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合割合は、全成分の20〜95モル%、好ましくは30〜90モル%の範囲がよい。前記範囲を逸脱すると、アルカリ可溶性が不十分になったり、或は大きくなり過ぎ良好なパターンを形成できない。
【0047】
本発明の(c)成分としては、感光性成分として使用できる化合物であれば特に限定されないが、例えばナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸等のナフトキノン−1,2−ジアジドスルホニルハライドと、フェノール性ヒドロキシ化合物とのエステル化物等が好ましく用いられる。具体的には、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4 ’−テトラドロキシ−3’−メトキベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、テトラヒドキシベンゾフェノンとナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;2,3,4,2’,4’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’,4’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、ペンタヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、ヘキサヒドロキシベンゾフェノンと、ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;2,2’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、ジヒドロキシジフェニルメタンとナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(2’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(2’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,6−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,6−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(2’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(2’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,6−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,6−ジヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、ジフェニルヒドロキシエタンとナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−1−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ジヒドロキシフェニル)−2−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−2 −(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−(2−ヒドロキシフェニル)−1−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−フェニル−1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−フェニル−1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−2−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−フェニル−1−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−フェニル−1−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−フェニル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−フェニル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2−フェニル−2−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2−フェニル−2−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−3−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−3−(2’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−3−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(2−ヒドロキシフェニル)−3−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−3−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−(4−ヒドロキシフェニル)−3−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−3−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−3−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−フェニル−3−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−フェニル−3−(2,6−ジヒドロキシフェニル)プロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等の、ジヒドロキシフェニルプロパンとナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物;2,2’,2”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,2”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2, 4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,2”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,2”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,4”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2, 2’,4”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4, 4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,2”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2, 2’,2”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,4”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、4−[1, 1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(o−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(o−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(p −ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンのジアジド−5−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−{4−[1,1−ジメチル−1−(p−ヒドロキシフェニル)メチル]フェニル}−1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1 −[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−2,2−ビス(o−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−[4−(o−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル、1−[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、1−[4−(p−ヒドロキシフェニルメチル)フェニル]−2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル等が挙げられる。これらは、単独でも又は2種以上を組合せて用いてもよい。
【0048】
本発明の(d)成分は、前記一般式化33の化合物を少なくとも含む有機溶媒で、前述の重合溶媒と同じ化合物及び他の有機溶媒が挙げられる。このように(d)成分は、重合溶媒と同じものが使用されるされることから、感光性樹脂組成物には(d)成分がそのまま含有されることになるが、この(d)成分の含有量が10〜70重量%の範囲から外れた場合には、一般式化33の化合物又は他の有機溶媒を追加し前記範囲に調整するのがよい。これにより本発明の感光性樹脂組成物は、優れた塗布性を発揮し大型の基板であっても均一な被膜が形成できる。
【0049】
本発明の感光性樹脂組成物中の(a)成分は、(a)〜(d)成分の総和100重量部に対し5〜90重量部、 好ましくは20〜60重量部、(b)成分は、(a)〜(d)成分の総和100重量部に対し5〜90重量部、 好ましくは20〜60重量部、(c)成分は、(a)〜(d)成分の総和100重量部に対し5〜60重量部、好ましくは10〜50重量、(d)成分は、(a)〜(d)成分の総和100重量部に対し4000重量部以下、好ましくは3000重量部以下の範囲で含有するのがよい。(a)成分の含有量が5重量部未満では、耐熱性に劣り、90重量部を超えると塗布性、平坦性が劣り好ましくない。また、(b)成分の含有量が5重量部未満では機械的特性に劣り、90重量部を超えると耐熱性に劣り好ましくない。さらに、(c)成分の含有量が5重量部未満では現像不良を起こし、60重量部を超えると透明性、絶縁性及び平坦性が悪くなり好ましくない。
【0050】
上記に加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、分散剤、消泡剤、密着促進剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることができる。
【0051】
可塑剤としては、具体的にジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ポリエチレングリコール、グリセリン、酒石酸ジブチルなどが挙げられる。
【0052】
消泡剤としては、ポリエチレングリコール(分子量400〜800)などのアルキレングリコール系、シリコーン系、高級アルコール系の消泡剤などが挙げられる。
【0053】
また、密着促進剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランなどのシラン系カップリング剤やチタン系カップリング剤などが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて用いることができる。
【0054】
次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法として、基板上に、(a)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合体、(b)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とそれ以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(c)キノンジアジド基含有化合物及び(d)有機溶媒を含有する感光性樹脂組成物をスピンナー、ロールコーター、スプレー等を用いて塗布して感光性樹脂組成物層を設け、その上に所定のマスクパターンを載置し、該マスクを介して活性光線を照射し、露光し、現像処理して画像パターンに形成したのち、加熱硬化する方法などが挙げられる。前記基板としては、例えば液晶表示素子の製造においては、必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルター層を設けた偏光板や透明導電回路層を設けたガラス板などが挙げられる。また、前記活性光線を放射する光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、エキシマレーザー発生装置などが挙げられる。現像処理に用いる現像液としては、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミンなどの第1級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミンなどの第2級アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミンなどの第3級アミン、モロホリン、ピペラジン、ピリジンなどの環状アミン、エチレンジアミン、へキサメチレンジアミンなどのポリアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホニウムヒドロキシド類、コリン、ケイ酸塩含有緩衝液などが挙げられる。さらに、加熱硬化温度としては、150℃〜250℃の範囲が採られる。
【0055】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施例について述べるがこれによって本発明はなんら限定されるものではない。
【0056】
【実施例】
(共重合体の合成)
合成例1(共重合体P1の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸メチル18重量部、スチレン60重量部、メタクリル酸22重量部、重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル7重量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30重量部を混合溶解した溶液を該滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を80℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を2時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(P1)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw8,000)を得た。
【0057】
合成例2(共重合体P2の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、3−メトキアシブチルアセテート200重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸メチル7重量部、スチレン70重量部、メタクリル酸23重量部、重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル6重量部及び3−メトキアシブチルアセテート30重量部を混合溶解した溶液を該滴下ロートに入れた。次いで、該フラスコ内液温を90℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を2時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(P2)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw11,000)を得た。
【0058】
合成例3(共重合体P3の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸メチル18重量部、スチレン32重量部、α−メチルスチレン30重量部、メタクリル酸20重量部、重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル7重量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30重量部を混合溶解した溶液を該滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を80℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を2時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(P3)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw10,000)を得た。
【0059】
合成例4(共重合体P4の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸8重量部、イソボルニルメタクリレート60重量部、アクリル酸22重量部、ベンジルメタクリレート10重量部及び重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル6重量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30重量部を混合溶解した溶液を該滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を80℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を2時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(P4)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw12,000)を得た。
【0060】
合成例5(共重合体P5の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、3−メトキシブチルアセテート200重量部を入れ、攪拌を行った。また、イソボルニルメタクリレート35重量部、トリシクロ[5,2,1.02.6]デカニルアクリレート35重量部、メタクリル酸26重量部、メタクリル酸メチル4重量部、重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル6重量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を85℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を2時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(P5)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw15,000)を得た。
【0061】
合成例6(共重合体Q1の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル100重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸20重量部、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルメタクリレート80重量部、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)11重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート15重量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテル15重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を70℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を3時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(Q1)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw10,000)を得た。
【0062】
合成例7(共重合体Q2の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、3−メトキシブチルアセテート100重量部、3−メトキシ−1−ブチルアルコール100重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸28重量部、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルメタクリレート72重量部、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)12重量部、3−メトキシブチルアセテート15重量部及び3−メトキシ−1−ブチルアルコール15重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を70℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を3時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(Q2)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw12,000)を得た。
【0063】
合成例8(共重合体Q3の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、3−メトキシブチルアセテート60重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル140重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸18重量部、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルメタクリレート82重量部、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)13重量部、3−メトキシブチルアセテート15重量部及び3−メトキシ−1−ブチルアルコール15重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を70℃に保ち、該フラスコ内に滴下ロートから混合溶液を3時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(Q3)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw7,000)を得た。
【0064】
合成例9(共重合体Q4の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル100重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸22重量部、グリシジルメタクリレート78重量部、重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル8重量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内液温を70℃に保ち、フラスコ内に滴下ロートから混合液を2時間かけて攪拌下、滴下を行った。更に、攪拌下、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(Q4)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw12,000)を得た。
【0065】
比較合成例1(共重合体R1の合成)
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸メチル13重量部、スチレン25重量部、メタクリル酸22重量部、グリシジルメタクリレート40重量部及び重合開始剤2,2’−アゾビスイソブチロニトリル8重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、フラスコ内に滴下ロートから反応液を2時間かけて攪拌下、滴下しながら、70℃まで加熱し、4時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体(R1)(濃度30%、ポリスチレン換算重量平均分子量Mw35,000)を得た。
【0066】
実施例1
合成例1で得られた共重合体(P1)(30%濃度)40重量部、合成例6で得られた共重合体(Q1)40重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル6重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0067】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚3μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、3分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.4重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0068】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ92.8%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0069】
また、耐熱性を調べるため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃、1時間加熱処理して膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0070】
さらに、上記感光性樹脂組成物の保存安定性を調べるため、該感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月間保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温で1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0071】
実施例2
合成例2で得られた共重合体(P2)(30%濃度)40重量部、合成例6で得られた共重合体(Q1)40重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル6重量部、3−メトキシブチルアセテート40重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0072】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚3μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、3分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.5重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0073】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ92.2%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0074】
また、耐熱性を調べるため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃、1時間加熱処理して膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0075】
さらに、上記感光性樹脂組成物の保存安定性を調べるため、該感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月間保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温で1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0076】
実施例3
合成例3で得られた共重合体(P3)(30%濃度)40重量部、合成例7で得られた共重合体(Q2)40重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル6重量部、3−メトキシブチルアセテート40重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。
【0077】
上記感光性樹脂組成物をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚2.5μmとなるようにスピンナーで塗布した後、90℃、3分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.5重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0078】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ93.8%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0079】
また、耐熱性を測定するため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃で1時間加熱処理し膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0080】
さらに、保存安定性を調べるため、上記感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0081】
実施例4
合成例4で得られた共重合体(P4)(30%濃度)35重量部、合成例7で得られた共重合体(Q2)45重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル6.4重量部、3−メトキシブチルアセテート40重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0082】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚2μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、3分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.4重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0083】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で200℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ94.1%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0084】
また、耐熱性を測定するため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃で1時間加熱処理し膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0085】
さらに、保存安定性を調べるため、上記感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0086】
実施例5
合成例5で得られた共重合体(P5)(30%濃度)45重量部、合成例8で得られた共重合体(Q3)35重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル3重量部、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル2.2重量部、3−メトキシブチルアセテート50重量部を3−メトキシ−1−ブチルアルコール20重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0087】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚2μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、2分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.4重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0088】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ94.4%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0089】
また、耐熱性を測定するため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃で1時間加熱処理し膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0090】
さらに、保存安定性を調べるため、上記感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0091】
実施例6
合成例5で得られた共重合体(P5)(30%濃度)30重量部、合成例7で得られた共重合体(Q2)50重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル3重量部、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル3重量部、3−メトキシブチルアセテート50重量部及び3−メトキシ−1−ブチルアルコール20重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0092】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚2μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、2分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.3重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去した後、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0093】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ94.5%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0094】
また、耐熱性を測定するため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃で1時間加熱処理し膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0095】
さらに、保存安定性を調べるため、上記感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0096】
実施例7
合成例1で得られた共重合体(P1)(30%濃度)40重量部、合成例9で得られた共重合体(Q4)40重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル6重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0097】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚3μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、3分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.4重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得た。
【0098】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ93.6%%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0099】
また、耐熱性を調べるため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃、1時間加熱処理して膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0100】
さらに、上記感光性樹脂組成物の保存安定性を調べるため、該感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月間保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温で1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0101】
比較実施例1
比較合成例1で得られた共重合体(R1)(30%濃度)80重量部、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル6.4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。次いで、ポアサイズ0.1μmのフィルターにてろ過を行って、感光性樹脂組成物とした。
【0102】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板1737(コーニング社製:0.7mm厚×150mm径)上に、膜厚3μmとなるようにスピンナーで塗布後、90℃、3分間ホットプレート上で乾燥させ、10μmライン・パターン/10μmスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーMPA−600FA(キャノン社製)を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.4重量%水溶液中にて、1分間浸漬し現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不要部分を除去し、10μmライン/10μmスペースのパターンを得たが、一部分に残渣が認められた。
【0103】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光後、クリーンオーブン中で220℃、30分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜付き基板を分光光度計UV−2500PC(島津製作所社製)を使用し、波長400nm〜800nmの最低透過率を測定したところ90.1%であった。また、パターンくずれは起こさなかった。
【0104】
また、耐熱性を測定するため、上記塗布膜をクリーンオーブン中200℃で30分間加熱硬化させた後、再び230℃で1時間加熱処理し膜厚測定を行った。200℃、30分間加熱硬化後の膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。230℃、1時間加熱後の膜厚減少率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。
【0105】
さらに、保存安定性を調べるため、上記感光性樹脂組成物を室温で1ヶ月保存した後、粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温1ヶ月保存した後の粘度上昇率が3%未満の場合を○、3%以上の場合を×とした。以上の結果を表1に示した。
【0106】
【表1】
【0107】
【発明の効果】
本発明の感光性樹脂組成物は、透明性、耐熱性、平坦性に優れた保護膜や層間絶縁膜が形成できる上に、塗布性に優れ、現像性にも優れることから大型の基板であっても均一な被膜が容易に形成でき、しかもその作業も保存安定性の良さから効率よくできる。
Claims (7)
- (a)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合体、(b)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物と前記エポキシ基含有重合性不飽和化合物以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(c)キノンジアジド基含有化合物及び(d)一般式化1
- エポキシ基含有重合性不飽和化合物が脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- (d)成分が(e)成分を10〜70重量%含むことを特徴とする請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物。
- (e)成分が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3−メトキシ−1−ブチルアルコール、3−エトキシ−1−ブチルアルコール、3−プロポキシ−1−ブチルアルコール、3−メトキシ−1−メチルプロピルアルコール、3−エトキシ−1−メチルプロピルアルコール、3−プロポキシ−1−メチルプロピルアルコール、2−メトキシ−1−エチルエチルアルコール、2−エトキシ−1−エチルエチルアルコール、2−プロポキシ−1−エチルエチルアルコール、5−メトキシペンチルアルコール、5−エトキシペンチルアルコール、5−プロポキシペンチルアルコール、4−メトキシ−1−メチルブチルアルコール、4−エトキシ−1−メチルブチルアルコール、4−プロポキシ−1−メチルブチルアルコール、3−メトキシ−1−エチルプロピルアルコール、3−エトキシ−1−エチルプロピルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、メチルエチレングリコールモノメチルエーテル又はメチルエチレングリコールモノエチルエーテルのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1記載の感光性樹脂組成物。
- エポキシ基含有重合性不飽和化合物以外のモノオレフィン系不飽和化合物が、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、N−ブチルアクリレート、N−ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、トリシクロ[5,2,1.02.6]デカニルアクリレート、トリシクロ[5,2,1.02.6]デカニルメタクリレート、スチレン、α−スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリルニトリル又はメタアクリロニトリルから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1記載の感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法において、感光性樹脂組成物中の(e)成分の含有量を(d)成分の10〜70重量%に調整したのち、基板上に塗布し、マスクパターンを介して選択的露光し、現像して画像パターンを形成し、次いで加熱して画像パターンを架橋硬化することを特徴とするパターンの形成方法。
- 基板がガラス板上に偏光発生材料、さらに透明導電回路層及び/又は薄膜トランジスタを形成したガラス基板であることを特徴とする請求項6記載のパターンの形成方法。
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