JP4088787B2 - ディスク製造方法 - Google Patents
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- 石英原盤に塗布されたフォトレジストの所定の領域を露光ビームで照射して感光させる工程を含むディスク製造方法であって、
前記感光後のフォトレジストを現像して除去した後に当該石英原盤をエッチングする際のエッチング対象密度が大きい領域では前記露光ビームの立ち上がり及び立ち下がり時間を短くし、エッチング対象密度が小さい領域では前記露光ビームの立ち上がり及び立ち下がり時間を長くする、
ことを特徴とするディスク製造方法。 - 前記エッチングは反応性イオンエッチングであることを特徴とする請求項1記載のディスク製造方法。
- 前記フォトレジストを感光させて生成するパターンはサンプルサーボフォーマットのマーク・グル一ブ配置のディスクを作成するためのパターンであることを特徴とする請求項1記載のディスク製造方法。
- 前記感光後のフォトレジストを現像して除去する工程と、
前記現像後の石英原盤をエッチングする工程と、
前記エッチング後の石英原盤からスタンパーを生成する工程と、
前記スタンパーからディスク基板を複製する工程と、
前記複製されたディスク基板に記録膜を成膜する工程と、
を具備することを特徴とする請求項1記載のディスク製造方法。 - 前記露光ビームはレーザービームであることを特徴とする請求項1記載のディスク製造方法。
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