JP4083666B2 - 多孔質シリカの球状微小粒子をベースにしたサンタン加圧装置 - Google Patents
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-
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- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
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- A—HUMAN NECESSITIES
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Description
(a)紫外線を遮蔽可能な光保護系と;
(b)多孔質シリカの球状微小粒子と;
を少なくとも含有してなることを特徴とする、皮膚及び/又は毛髪を紫外線から保護することを意図した少なくとも一の組成物を収容した容器と、(B)前記組成物を加圧下に置くことができる手段とを少なくとも具備する加圧装置(pressurizing device)に関する。
また、皮膚をサンタン状態にする320nmと400nmの間の波長を有するUV-A線が皮膚に損傷を誘発するおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている皮膚の場合にしかりである。UV-A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV-A線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。よって、UV-A線も遮蔽することが望ましい。
これらの抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許容可能な担体)の形態であり、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の親油性及び/又は親水性の一般的な有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなるもので、これらの遮蔽剤(及びそれらの量)は、所望の日光防御指数に従って選択され、日光防御指数(SPF)は、UV遮蔽剤を用いない場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な紫外線の線量に対する、UV遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な紫外線の線量の比率を数学的に表したものである。
従って、高い防御指数を有する抗日光製品の必要性がますます増加している。高い防御指数は高濃度でより多くの遮蔽剤を導入することで達成することができる。しかし、これは、多量の遮蔽剤を添加すると、抗日光処方物のコストと皮膚刺激の危険性をかなり増加させるために、必ずしも行われるものではない。
従来の抗日光ミルク及びクリームとは異なり、高い防御指数を有するスプレー形態の抗日光組成物を得ることは、特に困難である。
この発見が本発明の基礎を形成する。
(a)紫外線を遮蔽可能な光保護系;
(b)多孔質シリカの球状微小粒子;
を含有してなることを特徴とする装置が提供される。
本発明において、紫外線を遮蔽可能な光保護系という表現は、一般的に、UV-A及び/又はUV-B線の吸収及び/又は反射及び/又は拡散というそれ自体既知のメカニズムにより、この又はこれらの化合物が塗布された表面(皮膚、毛髪)に前記光線が接触することを防止し、又は少なくとも制限することを可能にするあらゆる化合物又は化合物のあらゆる組合せを示すものと理解される。換言すれば、これらの化合物は、紫外線を吸収する光防御有機遮蔽剤又は紫外線を拡散及び/又は反射させる無機(ナノ)顔料、及びそれらの混合物でありうる。
本発明において、「噴霧性組成物(vaporizable composition)」なる表現は、適切な装置で加圧下にて微細粒子を生成可能なあらゆる組成物を一般的に示すものと理解される。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
それらは、50〜1000m2/g、特に150〜800m2/gの範囲の比表面積を有することが好ましい。
またそれらは、0.5〜5ml/g、特に1〜2ml/gの範囲の比細孔容積を有することが好ましい。
多孔質シリカのマイクロビーズの具体例としては、次の市販品:
ミヨシ社(Myoshi)のシリカビーズSB150
旭硝子(Asahi Glass)のサンスフェア(Sunsphere)H-51
サンジン社(Sunjin)のサンシル(Sunsil)130
イケダ・コーポレーション(Ikeda Corporation)のスフェリカ(Spherica)P-1500
フジ・シリシア社(Fuji Silysia)のシロスフェア(Sylosphere)
を使用することができる。
有機遮蔽剤は、特にアントラニラート類;ケイ皮酸誘導体;ジベンゾイルメタン誘導体;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;トリアジン誘導体、例えば米国特許第4367390号、欧州特許出願第863145号、欧州特許出願第517104号、欧州特許出願第570838号、欧州特許出願第796851号、欧州特許出願第775698号、欧州特許出願第878469号、欧州特許出願第933376号、欧州特許出願第507691号、欧州特許出願第507692号、欧州特許出願第790243号、及び欧州特許出願第944624号に記載されているもの;ベンゾフェノン誘導体;β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン類;欧州特許第669323号及び米国特許第2463264号に記載されているようなビス-ベンゾアゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;米国特許第5237071号、米国特許第5166355号、英国特許出願第2303549号、独国特許出願第19726184号及び欧州特許出願第893119号に記載されているような、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;欧州特許出願第0832642号、欧州特許出願第1027883号、欧州特許出願第1300137号及び独国特許出願第10162844号に記載されているようなベンゾオキサゾール誘導体;遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開第93/04665号に記載されているもの;α-アルキルスチレンから誘導された二量体、例えば独国特許出願第19855649号に記載されているもの;4,4-ジアリールブタジエン類、例えば欧州特許出願第0967200号、独国特許出願第19746654号、独国特許出願第19755649号、欧州特許出願公開第1008586号、欧州特許出願第1133980号及び欧州特許出願第133981号に記載されているもの、及びそれらの混合物から選択される。
パラ-アミノ安息香酸誘導体:
PABA、
エチルPABA、
エチル-ジヒドロキシプロピルPABA、
特にISP社から「エスカロール(ESCALOL)507」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASF社から「ユビヌル(UVINUL)P25」の名称で販売されているPEG-25-PABA。
ロナ(Rona)/EMインダストリーズから「ユーソレックス(Eusolex)HMS」の名称で販売されているホモサラート(homosalate)、
ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and REIMER)から「ネオ・ヘリオパン(NEO HELIOPAN)OS」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
シェア社(SCHER)から「ディプサル(DIPSAL)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンTS」の名称で販売されているTEAサリチラート。
ジベンゾイルメタン誘導体:
特に、ホフマン・ラ・ロシュ社(HOFFMANN LA ROCHE)から「パルソール(PARSOL)1789」の商品名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、
イソプロピルジベンゾイルメタン。
特にホフマン・ラ・ロシュ社から「パルソールMCX」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸イソプロピル、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンE1000」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
シノキサート、
DEAメトキシシンナマート、
メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
グリセリルエチルヘキサノアートジメトキシシンナマート。
特にBASF社から「ユビヌルN539」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
特にBASF社から「ユビヌルN35」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
ベンゾフェノン誘導体:
BASF社から「ユビヌル400」の商品名で販売されているベンゾフェノン-1、
BASF社から「ユビヌルD50」の商品名で販売されているベンゾフェノン-2、
BASF社から「ユビヌルM40」の商品名で販売されているベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン、
BASF社から「ユビヌルMS40」の商品名で販売されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ノーケイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)11」の商品名で販売されているベンゾフェノン-6、
アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)から「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)UV-24」の商品名で販売されているベンゾフェノン-8、
BASF社から「ユビヌルDS-49」の商品名で販売されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
n-ヘキシル-2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾアート。
シメックス社(CHIMEX)から「メギゾリル(MEXORYL)SD」の名称で製造されている3-ベンジリデンショウノウ、
メルク社(MERCK)から「ユーソレックス6300」の名称で販売されている4-メチルベンジリデンショウノウ、
シメックス社から「メギゾリルSL」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
シメックス社から「メギゾリルSO」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
シメックス社から「メギゾリルSX」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
シメックス社から「メギゾリルSW」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
ベンゾイミダゾール誘導体:
特にメルク社から「ユーソレックス232」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンAP」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社(CIBA SPECIALTY CHEMICALS)から「チノソーブ(TINOSORB)S」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
特にBASF社から「ユビヌルT150」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
シグマ3V社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(UVASORB)HEB」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン。
ベンゾトリアゾール誘導体:
ロ−ディア・シミー社(RHODIA CHIMIE)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から「チノソーブM」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル(FAIRMOUNT CHEMICAL)から「ミキシム(MIXXIM)BB/100」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール。
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンMA」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデン-ジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体:
ホフマン・ラ・ロシュ社から「パルソールSLX」の商品名で販売されている製品ポリシリコーン-15のようなベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
4,4-ジアリールブタジエン誘導体:
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
ベンゾオキサゾール誘導体:
シグマ3V社からユバソーブK2Aの商品名で販売されている2,4-ビス-[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)-イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物。
サリチル酸エチルヘキシル、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンショウノウ、
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
2,4,6-トリス(ジイソブチル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン、
アニソトリアジン、
エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス-[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)-イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物、
から選択される。
エアゾールとして包装される本発明の組成物は、一般的に従来からの噴霧剤、例えばフッ化水素化化合物ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、n-ブタン、プロパン又はトリクロロフルオロメタンを含有する。それらは、組成物の全重量に対して15〜50重量%の範囲の量で存在する。
自己サンタン剤は、例えばイサチン、アロキサン、ニンヒドリン、グリセルアルデヒド、メソ酒石酸アルデヒド、グルタルアルデヒド、エリトルロース、仏国特許出願第2466492号及び国際公開第97/35842号に記載されているようなピラゾリン-4,5-ジオン誘導体、ジヒドロキシアセトン(DHA)、欧州特許出願第903342号に記載されているような4,4-ジヒドロキシピラゾリン-5-オン誘導体等のモノ-又はポリカルボニル化合物から一般的に選択される。好ましくはDHAが使用される。
DHAは遊離の形態及び/又はカプセル化された形態、例えば特に、国際公開第97/25970号に記載されているリポソーム等の脂質小胞体にカプセル化された形態で使用されてもよい。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
もちろん、当業者であれば、本発明の組合せ[光保護系+多孔質シリカのマイクロビーズ]に本質的に付随する有利な特性が、考えられる添加により損なわれないか、実質的に損なわれないように留意して、上述した付加的な化合物又は化合物類及び/又はその量を選択するであろう。
本発明の組成物は、特に、単純又は複合エマルション(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)の形態、例えばクリーム又はミルクの形態、特にローションの形態で提供される。
特に本発明の組成物は、水中油型又は油中水型エマルションの形態で提供される。
エマルションである場合、その水相は、公知の方法[バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国特許第2416008号]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
以下全ての実施例において、量は組成物の全重量に対する重量%で表される。
実施例1
ノンエアゾール又はエアゾールスプレーとして包装可能で、微細粒子の形態で噴霧可能な本発明の抗日光組成物Aを調製した。
ついで、組成物A及びBのそれぞれに対して、それに付随する日光防御指数(SPF)を測定した。これは、B.L. DIFFEYらによりJ. Soc. Cosmet. Chem. 40-127-133(1989)に記載されているインビトロ法を使用して決定した;この方法は、290〜400nmの範囲の波長において、単色光防御ファクターを測定し、それから、与えられた数式によって日光防御指数を算出することからなる。測定は、トランスポア(Transpore)(登録商標)ストリップに2mg/cm2の製品を広げ、ラブスフェア社(Labsphere)の装置UV-1000Sを用い、1nmのステップで実施した。
Claims (22)
- 皮膚及び/又は毛髪を紫外線から保護するための、少なくとも一の組成物を分配する装置において、
該装置が、(A)前記少なくとも一の組成物を収容した容器と、(B)前記組成物を加圧下に置くことができる手段とを少なくとも具備し、前記組成物が、水中油型エマルションであり、化粧品的に許容可能な水性担体中に、少なくとも:
(a)紫外線を遮蔽可能な光保護系と;
(b) 3〜15μmの範囲の平均粒子径を有し、かつ、0.5〜5ml/gの範囲の比細孔容積を有する多孔質シリカの球状微小粒子と;
を含有してなることを特徴とする装置。 - 多孔質シリカの球状微小粒子が、0.5〜20μmの範囲の平均粒子径を有する、請求項1に記載の装置。
- 多孔質シリカの球状微小粒子が、50〜1000m2/gの範囲の比表面積を有する、請求項1又は2に記載の装置。
- 多孔質シリカの球状微小粒子が、組成物の全重量に対して0.1〜10重量%の範囲の濃度で組成物に存在している、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の装置。
- 光保護系が、一又は複数の有機遮蔽剤及び/又は一又は複数の無機(ナノ)顔料からなる、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の装置。
- 有機遮蔽剤が、アントラニラート類;ケイ皮酸誘導体;ジベンゾイルメタン誘導体;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;トリアジン誘導体;ベンゾフェノン誘導体;β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン類;ビスベンゾアゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;ベンゾオキサゾール誘導体;遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類;α-アルキルスチレンから誘導された二量体;4,4-ジアリールブタジエン誘導体、及びそれらの混合物から選択される、請求項5に記載の装置。
- 有機遮蔽剤が:
サリチル酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンショウノウ、
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
2,4,6-トリス(ジイソブチル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン、
アニソトリアジン、
エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチル-プロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス-[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)-イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物、
から選択される、請求項6に記載の装置。 - 顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の金属酸化物から選択される、請求項5に記載の装置。
- 無機紫外線遮蔽剤が、被覆又は非被覆の、チタン、鉄、亜鉛、ジルコニウム又はセリウムの酸化物から選択される、請求項8に記載の装置。
- 光保護系が、組成物の全重量に対して0.1重量%〜30重量%の範囲の量で存在している、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の装置。
- 組成物が、少なくとも一の噴霧剤をさらに含有していることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の装置。
- 噴霧剤が、組成物の全重量に対して15〜50重量%の範囲の量で存在している、請求項11に記載の装置。
- 組成物が、少なくとも一の自己サンタン剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項1ないし12のいずれか1項に記載の装置。
- 自己サンタン剤がモノ-又はポリカルボニル化合物から選択される、請求項13に記載の装置。
- 自己サンタン剤が、イサチン、アロキサン、ニンヒドリン、グリセルアルデヒド、メソ酒石酸アルデヒド、グルタルアルデヒド、エリトルロース、ピラゾリン-4,5-ジオン誘導体、ジヒドロキシアセトン(DHA)、4,4-ジヒドロキシピラゾリン-5-オン誘導体から選択される、請求項14に記載の装置。
- 自己サンタン剤がジヒドロキシアセトンである、請求項13ないし15のいずれか1項に記載の装置。
- 自己サンタン剤が、組成物の全重量に対して0.1〜10重量%の範囲の割合で存在している、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の装置。
- 組成物が、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、緩和剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、消泡剤、保湿剤、香料、防腐剤、ポリマー、フィラー、金属イオン封鎖剤、抗菌剤及び/又は臭気吸収剤、アルカリ性化又は酸性化剤、界面活性剤、乳化剤、抗フリーラジカル剤、酸化防止剤、ビタミンE及びCのビタミン類、α-ヒドロキシ酸から選択される少なくとも一の化粧品用アジュバントをさらに含有している、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の装置。
- 組成物が、イソフタル酸又はスルホイソフタル酸の少なくとも一のポリマーをさらに含有している、請求項1ないし18のいずれか1項に記載の装置。
- イソフタル酸又はスルホイソフタル酸の前記ポリマーが、フタラート/スルホイソフタラート/グリコールのコポリマーである、請求項19に記載の装置。
- ノンエアゾールポンプであることを特徴とする、請求項1ないし20のいずれか1項に記載の装置。
- エアゾール容器又はエアゾールポンプであることを特徴とする、請求項1ないし20のいずれか1項に記載の装置。
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