JP4063784B2 - イオン発生素子、イオン発生装置 - Google Patents
イオン発生素子、イオン発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4063784B2 JP4063784B2 JP2004074600A JP2004074600A JP4063784B2 JP 4063784 B2 JP4063784 B2 JP 4063784B2 JP 2004074600 A JP2004074600 A JP 2004074600A JP 2004074600 A JP2004074600 A JP 2004074600A JP 4063784 B2 JP4063784 B2 JP 4063784B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- transformer
- ion
- voltage
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01T—SPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
- H01T23/00—Apparatus for generating ions to be introduced into non-enclosed gases, e.g. into the atmosphere
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/91—Bacteria; Microorganisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/34—Constructional details or accessories or operation thereof
- B03C3/38—Particle charging or ionising stations, e.g. using electric discharge, radioactive radiation or flames
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/34—Constructional details or accessories or operation thereof
- B03C3/40—Electrode constructions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electrostatic Separation (AREA)
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Pens And Brushes (AREA)
- Disintegrating Or Milling (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Description
H+(H2O)m+H+(H2O)m'+O2 -(H2O)n+O2 -(H2O)n'→2・OH+O2+(m+m'+n+n')H2O … (2)
H+(H2O)m+H+(H2O)m'+O2 -(H2O)n+O2 -(H2O)n'→H2O2+O2+(m+m'+n+n')H2O … (3)
以上のメカニズムにより、上記正負イオンの放出により、浮遊菌等の不活化効果を得ることができる。
0b 誘導電極
1、1a、1b イオン発生素子
2 ファン
3 イオンカウンタ
10 イオン発生素子
11 誘電体
11a 上部誘電体
11b 下部誘電体
12、13 第1、第2放電部
12a、13a 放電電極
12b、13b 誘導電極
12c、13c 放電電極接点
12d、13d 誘導電極接点
12e、13e 接続端子
12f、13f 接続端子
12g、13g 接続経路
12h、13h 接続経路
12j、13j 放電部位
12k、13k 導電部位
14 コーティング層
20 電圧印加回路
201 交流電源
202 スイッチングトランス
202a、202b、202c 第1、第2、第3コイル
203 切換リレー
203a、203b 選択端子
203c 共通端子
204、205 抵抗
206、207、208、209、210 ダイオード
211 コンデンサ
212 無ゲート2端子サイリスタ(サイダック)
213、217、218 フライホイールダイオード
214 リレー
215、216 トランス
215a、216a 1次巻線
215b、216b 2次巻線
Claims (8)
- 1つの基材上に取り付け、または印刷されるプラスイオンを発生する第1の放電部と、マイナスイオンを発生する第2の放電部と、を少なくとも1つずつ有し、第1、第2の放電部は、前記基材である誘電体の表面に設けられた第1、第2の放電電極と、前記誘電体の内部に埋設された第1、第2の誘導電極と、を各々一対として各個に形成され、第1、第2の放電部はともに、前記基材の同一平面上であって、その対角線上に分離独立して配置されていることを特徴とするイオン発生素子。
- 請求項1に記載のイオン発生素子であり、第1の放電部は、放電を生じる第1放電部位と、該第1放電部位の周囲もしくは一部を囲う第1の放電部位と同電圧の第1導電部位を持ち、マイナスイオンを発生する第2の放電部は、放電を生じる第2放電部位と、該第2放電部位の周囲もしくは一部を囲う第2放電部位と同電圧の第2導電部位を持ち、第1、第2の放電部はともに、前記基材の同一平面上であって、第1導電部位と第2導電部位が対向するように分離独立して配置され、または前記基材の対角線上に分離独立して配置されていることを特徴とするイオン発生素子。
- 請求項1または請求項2に記載のイオン素子と、該イオン発生素子に接続された電圧印加回路と、を有し、
前記電圧印加回路は、駆動側の1次巻線と第1の放電部に交流インパルス電圧を印加する第1の2次巻線と第2の放電部に交流インパルス電圧を印加する第2の2次巻線とから成る第1のトランスを有し、第1のトランスの第1、第2の2次巻線は前記1次巻線の両側にそれぞれ配置されていることを特徴とするイオン発生装置。 - 請求項1または請求項2に記載のイオン素子と、該イオン発生素子に接続された電圧印加回路と、を有し、
前記電圧印加回路は、駆動側の1次巻線と第1の放電部に交流インパルス電圧を印加する2次巻線とから成る第2のトランスと、駆動側の1次巻線と第2の放電部に交流インパルス電圧を印加する2次巻線とから成る第3のトランスとを有し、第2のトランスの2次巻線、第2のトランスの1次巻線、第3のトランスの1次巻線、第3のトランスの2次巻線の順に配置されていることを特徴とするイオン発生装置。 - 第2のトランスの1次巻線と第3のトランスの1次巻線とが並列に接続されていることを特徴とする請求項4に記載のイオン発生装置。
- 第2のトランスの1次巻線と第3のトランスの1次巻線とが直列に接続されていることを特徴とする請求項4に記載のイオン発生装置。
- 第2のトランスの1次巻線と第3のトランスの1次巻線とにそれぞれフライホイールダイオードが接続されていることを特徴とする請求項6に記載のイオン発生装置。
- 請求項1または請求項2に記載のイオン発生素子と、該イオン発生素子に接続された電圧印加回路と、を有し、
前記電圧印加回路は、第1の放電部に接続されるトランスの第1の2次巻線と、第1の放電部に接続されるトランスの第2の2次巻線の巻き始めと巻き終わりの極性が逆であり、
第1の放電部および第2の放電部と基準電位との間に接続されるダイオードの向きは互いに逆向きとし、
第1の放電部に交流インパルス電圧をプラスにバイアスした電圧波形を印加することでプラスイオンを発生させ、
第2の放電部に前記交流インパルス電圧をマイナスにバイアスした電圧波形を印加することでマイナスイオンを発生させることを特徴とするイオン発生装置。
Priority Applications (22)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004074600A JP4063784B2 (ja) | 2003-05-15 | 2004-03-16 | イオン発生素子、イオン発生装置 |
EP09010645.1A EP2127754B1 (en) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ion generating apparatus |
US10/555,406 US7639472B2 (en) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ion generating element, ion generating apparatus, and electric appliance |
PT04732031T PT1625890E (pt) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Elemento gerador de iões, gerador de iões e dispositivo eléctrico |
CA002523983A CA2523983C (en) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ion generating element, ion generator, and electric device |
KR1020057021671A KR100746794B1 (ko) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | 이온 발생 소자, 이온 발생 장치, 전기 기기 |
EP04732031A EP1625890B1 (en) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ion generating element, ion generator, and electric device |
EP09010644.4A EP2127753B1 (en) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ion generating element, and ion generating apparatus equipped with same |
CN 200910160487 CN101621182B (zh) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | 离子发生元件、离子发生装置、电气设备 |
PCT/JP2004/006588 WO2004102755A2 (ja) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | イオン発生素子、イオン発生装置、電気機器 |
AU2004239985A AU2004239985B2 (en) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ion generating element, ion generator, and electric device |
CN 200910160486 CN101621181B (zh) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | 离子发生元件、离子发生装置、电气设备 |
CN200480013304.6A CN1791467B (zh) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | 离子发生元件、离子发生装置、电气设备 |
AT04732031T ATE514488T1 (de) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Ionengeneratorelement, ionengenerator und elektrische vorrichtung |
MYPI20041801A MY138556A (en) | 2003-05-15 | 2004-05-14 | Ion generating element, ion generating apparatus, and electric appliance |
TW093113716A TWI238435B (en) | 2003-05-15 | 2004-05-14 | Ion generating element, ion generating apparatus, and electric appliance |
EGNA2005000708 EG23968A (en) | 2003-05-15 | 2005-11-09 | Ion generating element, ion generating apparatus, and electric appliance |
HK06113894.4A HK1093033A1 (en) | 2003-05-15 | 2006-12-18 | Ion generating element, ion generator, and electric device |
MYPI20085170A MY147526A (en) | 2003-05-15 | 2008-12-19 | Ion generating element, and ion generating apparatus equipped with same |
MYPI20085169A MY164420A (en) | 2003-05-15 | 2008-12-19 | Ion generating apparatus |
US12/557,321 US7916445B2 (en) | 2003-05-15 | 2009-09-10 | Ion generating apparatus |
US12/557,299 US7961451B2 (en) | 2003-05-15 | 2009-09-10 | Ion generating element, and ion generating apparatus equipped with same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003137098 | 2003-05-15 | ||
JP2004074600A JP4063784B2 (ja) | 2003-05-15 | 2004-03-16 | イオン発生素子、イオン発生装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007219586A Division JP4218903B2 (ja) | 2003-05-15 | 2007-08-27 | イオン発生素子、イオン発生装置、電気機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004363088A JP2004363088A (ja) | 2004-12-24 |
JP4063784B2 true JP4063784B2 (ja) | 2008-03-19 |
Family
ID=33455475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004074600A Expired - Fee Related JP4063784B2 (ja) | 2003-05-15 | 2004-03-16 | イオン発生素子、イオン発生装置 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7639472B2 (ja) |
EP (3) | EP2127754B1 (ja) |
JP (1) | JP4063784B2 (ja) |
KR (1) | KR100746794B1 (ja) |
AT (1) | ATE514488T1 (ja) |
AU (1) | AU2004239985B2 (ja) |
CA (1) | CA2523983C (ja) |
EG (1) | EG23968A (ja) |
HK (1) | HK1093033A1 (ja) |
MY (3) | MY138556A (ja) |
PT (1) | PT1625890E (ja) |
TW (1) | TWI238435B (ja) |
WO (1) | WO2004102755A2 (ja) |
Families Citing this family (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101621181B (zh) * | 2003-05-15 | 2012-09-12 | 夏普株式会社 | 离子发生元件、离子发生装置、电气设备 |
JP4063784B2 (ja) * | 2003-05-15 | 2008-03-19 | シャープ株式会社 | イオン発生素子、イオン発生装置 |
KR100737447B1 (ko) * | 2004-07-27 | 2007-07-10 | 삼성전자주식회사 | 살균방법, 살균장치, 이온발생장치 및 이들을 이용한 전기기기 및 공기정화장치 |
JP2006192013A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 空気清浄装置 |
JP4691691B2 (ja) * | 2005-01-13 | 2011-06-01 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 微細電極イオン発生素子を有する除電装置 |
KR100805225B1 (ko) | 2005-02-04 | 2008-02-21 | 삼성전자주식회사 | 살균장치 및 이온발생장치 |
WO2006106594A1 (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-12 | Shimizu Corporation | 空気イオン搬送装置および空気イオン搬送システム |
KR100624732B1 (ko) * | 2005-04-11 | 2006-09-20 | 엘지전자 주식회사 | 연면 방전형 공기정화장치 |
TWI404106B (zh) * | 2005-06-03 | 2013-08-01 | Axcelis Tech Inc | 離子植入系統、用於減少離子植入系統中的污染之裝置以及用於控制離子植入系統中的污染之方法 |
JP4721804B2 (ja) * | 2005-08-01 | 2011-07-13 | シャープ株式会社 | イオン発生装置及びこれを備えた電気機器 |
JP4855019B2 (ja) * | 2005-08-30 | 2012-01-18 | フィーサ株式会社 | 人体静電気除去方法 |
JP4917781B2 (ja) * | 2005-09-14 | 2012-04-18 | フィーサ株式会社 | 微細電極イオン発生体並びにこれを用いたイオン発生器及び除電器 |
EP1790360B1 (en) * | 2005-11-28 | 2014-01-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Sterilizing method |
EP1790361A1 (en) * | 2005-11-29 | 2007-05-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ion generator |
JP4653650B2 (ja) * | 2005-12-05 | 2011-03-16 | シャープ株式会社 | イオン発生素子、イオン発生装置及び電気機器 |
JP2007229060A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Sharp Corp | イオン発生装置 |
JP4762759B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2011-08-31 | シャープ株式会社 | インパルス状電圧発生回路、イオン発生装置、及び電気機器 |
JP2007234437A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Trinc:Kk | プラズマ放電式除電器 |
WO2007102191A1 (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | 微細電極イオン発生素子を有する除電装置 |
JP4071799B2 (ja) * | 2006-05-09 | 2008-04-02 | シャープ株式会社 | イオン発生素子、イオン発生装置および電気機器 |
JP4145939B2 (ja) * | 2006-07-06 | 2008-09-03 | シャープ株式会社 | イオン発生装置および電気機器 |
JP4844734B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2011-12-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ファン型除電器 |
KR100838408B1 (ko) * | 2006-11-22 | 2008-06-13 | 주식회사 유라코퍼레이션 | 플라즈마 반응기 |
JP4818093B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2011-11-16 | ミドリ安全株式会社 | 除電装置 |
JP5156993B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2013-03-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | イオン発生器及び除電器 |
JP5201338B2 (ja) * | 2008-07-08 | 2013-06-05 | Smc株式会社 | イオナイザ |
EP2322272B1 (en) * | 2008-07-17 | 2018-10-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Air current generating apparatus and methods for manufacturing the same |
JP4747328B2 (ja) | 2008-07-31 | 2011-08-17 | シャープ株式会社 | イオン発生装置および電気機器 |
JP4701435B2 (ja) * | 2008-08-11 | 2011-06-15 | シャープ株式会社 | イオン発生装置およびそれを用いた電気機器 |
US9682165B2 (en) | 2008-08-26 | 2017-06-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Fine particle diffusion device |
SG177227A1 (en) | 2008-08-26 | 2012-01-30 | Sharp Kk | Fine particle diffusion device |
JP4573900B2 (ja) * | 2008-08-26 | 2010-11-04 | シャープ株式会社 | 室内の清浄化方法 |
JP4551953B2 (ja) | 2008-08-28 | 2010-09-29 | シャープ株式会社 | イオン拡散装置 |
JP2010080431A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Jentorei:Kk | イオン発生方法、イオン発生電極及びイオン発生モジュール |
JP4610657B2 (ja) | 2009-03-25 | 2011-01-12 | シャープ株式会社 | イオン発生装置及びイオンの有無判定方法 |
JP4644744B2 (ja) * | 2009-04-21 | 2011-03-02 | シャープ株式会社 | イオン発生器及びそれを備えた空気調和機 |
DE102009038296A1 (de) | 2009-08-21 | 2011-03-31 | Behr Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Ansteuerung einer Ionisierungsvorrichtung |
CN102003723B (zh) * | 2009-08-29 | 2014-04-30 | 乐金电子(天津)电器有限公司 | 适用于微波炉的负离子发生回路 |
US8106367B2 (en) | 2009-12-30 | 2012-01-31 | Filt Air Ltd. | Method and ionizer for bipolar ion generation |
JP2011208835A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Toshiba Carrier Corp | 空気調和機 |
CN103109584A (zh) * | 2010-10-27 | 2013-05-15 | 京瓷株式会社 | 离子风发生体及离子风发生装置 |
JP5053450B1 (ja) * | 2011-06-20 | 2012-10-17 | シャープ株式会社 | イオン発生装置およびイオン発生方法 |
KR101904939B1 (ko) * | 2011-12-15 | 2018-10-08 | 엘지전자 주식회사 | 이온발생용 전극 구조체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 이온발생장치 |
JP5947119B2 (ja) * | 2012-06-14 | 2016-07-06 | シャープ株式会社 | 掃除装置 |
KR102076660B1 (ko) * | 2012-06-21 | 2020-02-12 | 엘지전자 주식회사 | 공기 조화기 및 그 제어방법 |
GB2512303B (en) * | 2013-03-25 | 2017-05-03 | Hong Kun-Liang | Car air purifier |
WO2014172410A1 (en) | 2013-04-18 | 2014-10-23 | American Dryer, Inc. | Sanitizer |
JP6203660B2 (ja) * | 2013-06-20 | 2017-09-27 | 株式会社Okiデータ・インフォテック | インクジェットプリンター |
JP6203659B2 (ja) | 2013-06-20 | 2017-09-27 | 株式会社Okiデータ・インフォテック | インクジェットプリンター |
KR102103361B1 (ko) * | 2013-11-07 | 2020-04-22 | 엘지전자 주식회사 | 이온발생장치 및 그 제조방법 |
US9950086B2 (en) | 2014-03-12 | 2018-04-24 | Dm Tec, Llc | Fixture sanitizer |
US9700643B2 (en) | 2014-05-16 | 2017-07-11 | Michael E. Robert | Sanitizer with an ion generator |
JP6396179B2 (ja) * | 2014-11-11 | 2018-09-26 | 東芝ライフスタイル株式会社 | 空気調和機の室内機 |
SG10201500012RA (en) | 2015-01-02 | 2016-08-30 | Naturion Pte Ltd | Device and method for injecting ions into a stream of air |
US10124083B2 (en) | 2015-06-18 | 2018-11-13 | Dm Tec, Llc | Sanitizer with an ion generator and ion electrode assembly |
US10980911B2 (en) | 2016-01-21 | 2021-04-20 | Global Plasma Solutions, Inc. | Flexible ion generator device |
KR101762804B1 (ko) * | 2016-02-15 | 2017-07-28 | 엘지전자 주식회사 | 차량의 공기조화 시스템 |
US11283245B2 (en) | 2016-08-08 | 2022-03-22 | Global Plasma Solutions, Inc. | Modular ion generator device |
US11695259B2 (en) | 2016-08-08 | 2023-07-04 | Global Plasma Solutions, Inc. | Modular ion generator device |
CN107051070A (zh) * | 2017-01-17 | 2017-08-18 | 杨发祥 | 一种可以消除雾霾的应用技术 |
CN109425046B (zh) * | 2017-07-19 | 2020-09-22 | 贾广 | 一种空气净化装置 |
EP3752209A4 (en) | 2018-02-12 | 2021-10-27 | Global Plasma Solutions, Inc | SELF-CLEANING ION GENERATOR DEVICE |
US10938188B2 (en) * | 2018-04-02 | 2021-03-02 | Igistec Co., Ltd. | Ion wind generating device |
CN108717927B (zh) * | 2018-05-23 | 2024-03-19 | 宁波盘福生物科技有限公司 | 多通道辉光放电潘宁离子源装置 |
US11581709B2 (en) | 2019-06-07 | 2023-02-14 | Global Plasma Solutions, Inc. | Self-cleaning ion generator device |
US11563310B2 (en) | 2021-04-29 | 2023-01-24 | John Walsh | Bipolar ionizer with feedback control |
US11173226B1 (en) | 2021-04-29 | 2021-11-16 | Robert J. Mowris | Balanced bipolar ionizer based on unbalanced high-voltage output |
Family Cites Families (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3072978A (en) * | 1959-03-17 | 1963-01-15 | Modern Aids Inc | Air purifier |
US3812559A (en) * | 1970-07-13 | 1974-05-28 | Stanford Research Inst | Methods of producing field ionizer and field emission cathode structures |
US4319302A (en) * | 1979-10-01 | 1982-03-09 | Consan Pacific Incorporated | Antistatic equipment employing positive and negative ion sources |
AU582590B2 (en) * | 1984-10-15 | 1989-04-06 | Nippon Paint Co., Ltd. | Activation apparatus |
JPS62240979A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Ricoh Co Ltd | 固体放電装置 |
US4689715A (en) * | 1986-07-10 | 1987-08-25 | Westward Electronics, Inc. | Static charge control device having laminar flow |
US4729057A (en) * | 1986-07-10 | 1988-03-01 | Westward Electronics, Inc. | Static charge control device with electrostatic focusing arrangement |
US4951172A (en) * | 1988-07-20 | 1990-08-21 | Ion Systems, Inc. | Method and apparatus for regulating air ionization |
EP0386318B1 (en) * | 1989-03-07 | 1994-07-20 | Takasago Thermal Engineering Co. Ltd. | Equipment for removing static electricity from charged articles existing in clean space |
US5047892A (en) * | 1989-03-07 | 1991-09-10 | Takasago Thermal Engineering Co., Ltd. | Apparatus for removing static electricity from charged articles existing in clean space |
JPH0490428A (ja) | 1990-08-02 | 1992-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | イオン発生装置を備えた空気調和機 |
US5055963A (en) * | 1990-08-15 | 1991-10-08 | Ion Systems, Inc. | Self-balancing bipolar air ionizer |
JP2651478B2 (ja) * | 1994-12-15 | 1997-09-10 | 春日電機株式会社 | 除電除塵方法及び除電除塵装置 |
JPH08171977A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Toto Ltd | コロナ放電器 |
JPH08217412A (ja) | 1995-02-16 | 1996-08-27 | Toto Ltd | コロナ放電器 |
JPH08240968A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 放電装置 |
JP2705720B2 (ja) * | 1995-03-16 | 1998-01-28 | 川崎重工業株式会社 | オゾナイザ用沿面放電ユニットおよびその製法 |
JP2681623B2 (ja) | 1995-04-26 | 1997-11-26 | 春日電機株式会社 | 一体型直流除電器 |
KR0164757B1 (ko) | 1995-06-13 | 1999-01-15 | 김광호 | 공조장치의 살균집진장치와 그 방법 |
JP2789187B2 (ja) | 1996-05-29 | 1998-08-20 | 春日電機株式会社 | 移動体の除電方法 |
JP4165910B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2008-10-15 | 有限会社電装研 | 沿面放電型放電素子 |
US6130815A (en) * | 1997-11-10 | 2000-10-10 | Ion Systems, Inc. | Apparatus and method for monitoring of air ionization |
US6252756B1 (en) * | 1998-09-18 | 2001-06-26 | Illinois Tool Works Inc. | Low voltage modular room ionization system |
JP2000311797A (ja) | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Totsuka Tadao | 静電気除去装置および静電気除去方法 |
JP3680121B2 (ja) * | 2000-05-18 | 2005-08-10 | シャープ株式会社 | 殺菌方法、イオン発生装置及び空気調節装置 |
KR100502121B1 (ko) * | 2000-05-18 | 2005-07-19 | 샤프 가부시키가이샤 | 살균 방법, 이온 발생 소자, 이온 발생 장치 및 공기 조절장치 |
JP2002216933A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-08-02 | Sharp Corp | イオン発生装置及びこれを用いた空気調節装置 |
KR200340512Y1 (ko) * | 2000-12-27 | 2004-02-05 | 샤프 가부시키가이샤 | 저장고 및 냉장고 |
JP4903942B2 (ja) * | 2001-03-15 | 2012-03-28 | 株式会社キーエンス | イオン発生装置 |
JP3460021B2 (ja) | 2001-04-20 | 2003-10-27 | シャープ株式会社 | イオン発生装置及びこれを搭載した空調機器 |
EG23455A (en) * | 2001-08-01 | 2005-09-28 | Sharp Kk | Ion generator and electric apparatus and their uses in an air condition. |
JP3438054B2 (ja) * | 2001-08-07 | 2003-08-18 | シャープ株式会社 | イオン発生素子 |
US7091481B2 (en) * | 2001-08-08 | 2006-08-15 | Sionex Corporation | Method and apparatus for plasma generation |
US7274015B2 (en) * | 2001-08-08 | 2007-09-25 | Sionex Corporation | Capacitive discharge plasma ion source |
JP2003100420A (ja) | 2001-09-20 | 2003-04-04 | Sharp Corp | イオン発生装置及びこれを備えた空気調節装置 |
US20030231459A1 (en) * | 2001-10-25 | 2003-12-18 | Robertson Reginald R. | Ion chip composite emitter |
US6850403B1 (en) * | 2001-11-30 | 2005-02-01 | Ion Systems, Inc. | Air ionizer and method |
JP4063784B2 (ja) * | 2003-05-15 | 2008-03-19 | シャープ株式会社 | イオン発生素子、イオン発生装置 |
US7728397B2 (en) * | 2006-05-05 | 2010-06-01 | Virgin Islands Microsystems, Inc. | Coupled nano-resonating energy emitting structures |
US7535014B2 (en) * | 2006-06-09 | 2009-05-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Integrally gated carbon nanotube field ionizer device and method of manufacture therefor |
JP2008240968A (ja) | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Ntn Corp | 動力伝達シャフト |
-
2004
- 2004-03-16 JP JP2004074600A patent/JP4063784B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-10 AU AU2004239985A patent/AU2004239985B2/en not_active Ceased
- 2004-05-10 US US10/555,406 patent/US7639472B2/en active Active
- 2004-05-10 EP EP09010645.1A patent/EP2127754B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-10 KR KR1020057021671A patent/KR100746794B1/ko active IP Right Grant
- 2004-05-10 EP EP04732031A patent/EP1625890B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-10 AT AT04732031T patent/ATE514488T1/de active
- 2004-05-10 CA CA002523983A patent/CA2523983C/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-10 EP EP09010644.4A patent/EP2127753B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-10 PT PT04732031T patent/PT1625890E/pt unknown
- 2004-05-10 WO PCT/JP2004/006588 patent/WO2004102755A2/ja active IP Right Grant
- 2004-05-14 TW TW093113716A patent/TWI238435B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-14 MY MYPI20041801A patent/MY138556A/en unknown
-
2005
- 2005-11-09 EG EGNA2005000708 patent/EG23968A/xx active
-
2006
- 2006-12-18 HK HK06113894.4A patent/HK1093033A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-12-19 MY MYPI20085170A patent/MY147526A/en unknown
- 2008-12-19 MY MYPI20085169A patent/MY164420A/en unknown
-
2009
- 2009-09-10 US US12/557,321 patent/US7916445B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-09-10 US US12/557,299 patent/US7961451B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1625890B1 (en) | 2011-06-29 |
US20100001205A1 (en) | 2010-01-07 |
CA2523983C (en) | 2009-04-07 |
US7639472B2 (en) | 2009-12-29 |
CA2523983A1 (en) | 2004-11-25 |
TW200426880A (en) | 2004-12-01 |
EP1625890A2 (en) | 2006-02-15 |
JP2004363088A (ja) | 2004-12-24 |
US20100020462A1 (en) | 2010-01-28 |
AU2004239985A1 (en) | 2004-11-25 |
MY138556A (en) | 2009-06-30 |
WO2004102755A2 (ja) | 2004-11-25 |
US7961451B2 (en) | 2011-06-14 |
KR20060016084A (ko) | 2006-02-21 |
HK1093033A1 (en) | 2007-02-23 |
EG23968A (en) | 2008-02-19 |
EP2127754A1 (en) | 2009-12-02 |
MY147526A (en) | 2012-12-31 |
ATE514488T1 (de) | 2011-07-15 |
EP2127753B1 (en) | 2018-01-17 |
TWI238435B (en) | 2005-08-21 |
AU2004239985B2 (en) | 2007-04-26 |
EP1625890A4 (en) | 2009-01-21 |
US7916445B2 (en) | 2011-03-29 |
EP2127753A1 (en) | 2009-12-02 |
KR100746794B1 (ko) | 2007-08-06 |
US20070109711A1 (en) | 2007-05-17 |
WO2004102755A3 (ja) | 2005-02-17 |
PT1625890E (pt) | 2011-09-01 |
MY164420A (en) | 2017-12-15 |
EP2127754B1 (en) | 2018-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4063784B2 (ja) | イオン発生素子、イオン発生装置 | |
JP5097304B2 (ja) | イオン発生素子、電気機器 | |
JP2007305606A5 (ja) | ||
JP4255418B2 (ja) | イオン発生装置及びこれを備えた電気機器 | |
JP4422014B2 (ja) | イオン発生装置 | |
JP2006164767A (ja) | イオン発生装置 | |
JP2006324142A (ja) | イオン発生装置及びこれを備えた電気機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070626 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070824 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20070920 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4063784 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110111 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120111 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130111 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130111 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |