JP4049145B2 - 電子部品の実装方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明を図に示す参考例について説明する。図1は本発明の参考例に係る電子部品の実装構造を示す概略断面図である。図1においては、電子部品としてのICチップ10を2個、配線基板としての積層基板20にフリップチップ実装した状態を示している。
本発明の実施形態に係る電子部品の実装方法における注入工程を、図4に示す。上記参考例では、樹脂の注入工程にて、ICチップ10と積層基板20との対向間における樹脂41の粘性を、それ以外の部位における樹脂41の粘性よりも低くすることで、ICチップ10の外周側への樹脂41の拡がりを抑制するものであった。
なお、アンダーフィル材となる樹脂41としては、上記したエポキシ樹脂にフィラーとしてのシリカを含有させたもの以外にも、主剤として、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等を用い、主剤に混ぜるフィラーとして、シリカやアルミナ等を用いることができ、これら主剤およびフィラーを適宜選択すればよい。
20 積層基板
41 樹脂
Claims (6)
- 電子部品(10)を配線基板(20)上に搭載し接続した後、前記電子部品の外周から前記電子部品と前記配線基板との間に、樹脂(41)を注入して充填するようにした電子部品の実装方法において、前記電子部品を前記配線基板よりも下側に位置させた状態で前記樹脂の注入を行うことを特徴とする電子部品の実装方法。
- 前記樹脂(41)の注入を行う際に、前記配線基板(20)を傾けることを特徴とする請求項1に記載の電子部品の実装方法。
- 前記樹脂(41)の注入を行う際に、前記電子部品(10)を冷却し且つ前記配線基板(20)を加熱することを特徴とする請求項1または2に記載の電子部品の実装方法。
- 前記電子部品(10)における前記樹脂(41)は充填される面には、予め絶縁層(10a)が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1つに記載の電子部品の実装方法。
- 前記絶縁層(10a)はポリイミドから構成されおり、前記配線基板(20)はセラミックから構成されていることを特徴とする請求項4に記載の電子部品の実装方法。
- 前記樹脂(41)にはフィラー(41a)が混合されていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1つに記載の電子部品の実装方法。
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