JP4048684B2 - 熱現像感光材料とその製造方法 - Google Patents
熱現像感光材料とその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4048684B2 JP4048684B2 JP2000077904A JP2000077904A JP4048684B2 JP 4048684 B2 JP4048684 B2 JP 4048684B2 JP 2000077904 A JP2000077904 A JP 2000077904A JP 2000077904 A JP2000077904 A JP 2000077904A JP 4048684 B2 JP4048684 B2 JP 4048684B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photothermographic material
- coating
- layer
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 145
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 127
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 123
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 85
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 85
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 45
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims description 24
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims description 24
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 10
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 claims description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 2
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 126
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 35
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 25
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 18
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 17
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 13
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 12
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 12
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 11
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 11
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 8
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 8
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 8
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 8
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 8
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 8
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 8
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 7
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 7
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 4-methylphthalic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical group OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 4
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- JLHMJWHSBYZWJJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-thiazole 1-oxide Chemical compound O=S1C=CC=N1 JLHMJWHSBYZWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexyl]-4,6-dimethylphenol Chemical compound C=1C(C)=CC(C)=C(O)C=1C(CC(C)CC(C)(C)C)C1=CC(C)=CC(C)=C1O RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 3
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Chemical group C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NSBNSZAXNUGWDJ-UHFFFAOYSA-O monopyridin-1-ium tribromide Chemical compound Br[Br-]Br.C1=CC=[NH+]C=C1 NSBNSZAXNUGWDJ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000016751 Fringe-like Human genes 0.000 description 2
- 108050006300 Fringe-like Proteins 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical group O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000003897 fog Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001502 inorganic halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical group 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- STWZWUFRTQEEMW-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene;prop-2-enoic acid Chemical compound ClC(Cl)=C.OC(=O)C=C STWZWUFRTQEEMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCFUQMFYJCCZMU-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-2-[1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctylsulfonyl(propyl)amino]acetic acid Chemical compound CCCN(C(F)(F)C(O)=O)S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KCFUQMFYJCCZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMQSEJJRNHVCLS-UHFFFAOYSA-N 2-(4-nonyl-2-prop-1-enylphenoxy)oxirane Chemical compound C(=CC)C1=C(OC2CO2)C=CC(=C1)CCCCCCCCC PMQSEJJRNHVCLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJEZJMMMHHDWFQ-UHFFFAOYSA-N 2-(tribromomethylsulfonyl)quinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br)=CC=C21 RJEZJMMMHHDWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 2-butenoic acid Chemical group CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKJFOHZLXIAAT-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(SC)=NC2=C1 OCKJFOHZLXIAAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIHAPSVIGPAFF-UHFFFAOYSA-N Acrylamide-acrylic acid resin Chemical compound NC(=O)C=C.OC(=O)C=C RNIHAPSVIGPAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical class OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233855 Orchidaceae Species 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical group C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical class CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZBCVRCTAYKYHR-UHFFFAOYSA-N acetic acid;chloroethene Chemical group ClC=C.CC(O)=O LZBCVRCTAYKYHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006294 amino alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)[13C]1=[13CH][13CH]=[13CH][13CH]=[13CH]1 KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- PLOYJEGLPVCRAJ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC=C.OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 PLOYJEGLPVCRAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical group CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical group CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCWGIFCVCCHGTK-UHFFFAOYSA-N butane-2-sulfonamide Chemical compound CCC(C)S(N)(=O)=O FCWGIFCVCCHGTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- AAYHAFZXFMIUSN-UHFFFAOYSA-N cyclohexanesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)C1CCCCC1 AAYHAFZXFMIUSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000006312 cyclopentyl amino group Chemical group [H]N(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001887 cyclopentyloxy group Chemical group C1(CCCC1)O* 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000006263 dimethyl aminosulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000007515 enzymatic degradation Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonimidic acid Chemical group CCS(N)(=O)=O ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical group NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N hexanamide Chemical group CCCCCC(N)=O ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMSHYQAVCSUECE-UHFFFAOYSA-N hexane-1-sulfonamide Chemical group CCCCCCS(N)(=O)=O RMSHYQAVCSUECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N hypobromite Inorganic materials Br[O-] JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002731 mercury compounds Chemical class 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical group CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006261 methyl amino sulfonyl group Chemical group [H]N(C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004458 methylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003355 oxamoyl group Chemical group C(C(=O)N)(=O)* 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- AMLFJZRZIOZGPW-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-1-amine Chemical group CC=CN AMLFJZRZIOZGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical group CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006308 propyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical group O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRDYSYOERSZTHZ-UHFFFAOYSA-M selenocyanate Chemical compound [Se-]C#N CRDYSYOERSZTHZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002704 solution binder Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical group 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000013053 water resistant agent Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49845—Active additives, e.g. toners, stabilisers, sensitisers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49863—Inert additives, e.g. surfactants, binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C2200/00—Details
- G03C2200/50—Polyvinyl alcohol
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は熱現像感光材料とその製造方法及び製造に用いる塗布装置に関し、写真性能や保存安定性に優れ、且つ塗布ムラや塗布凝集物がなく、膜強度が高く傷の付きにくい熱現像感光材料を得るものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、医療や印刷の分野で環境保護や作業性の面から感光材料の湿式処理に伴う廃液のでない熱現像感光材料が強く望まれている。この技術として、例えば、米国特許第3,152,904号、同3,487,075号及びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバー写真材料(Dry Silver Photographic Materials)」(Handbook of Imaging Materials,Marcel Dekker,Inc.第48頁,1991)等に記載の方法がよく知られている。これらの感光材料は通常、80℃以上の温度で現像が行われるので、熱現像感光材料と呼ばれている。
【0003】
従来からこのタイプの熱現像感光材料の多くは溶剤塗布で製造されてきた。その理由は、現像剤と有機銀塩を混合して水系塗布した感光層は、水を媒介にして酸化還元反応が徐々に進んでしまい、カブリ性能が劣化してしまうためである。そのためカブリ防止剤の探索に力を入れてきたが、有効なものが見つかっていない。
【0004】
そこで水系塗布においては乾燥後に膜内に存在する水分量を低減するためにバインダーの改良や改質をしてきた。1つの方法は、例えば、特開平10−207001号、同10−221807号、同10−221806号、同11−119375号、同11−288068号明細書に記載の、水分含有量の少ない塗布膜を構成できる疎水性ラテックスの使用である。しかし、水分含有量の少ない塗布膜にするには、充分乾燥する必要があり、乾燥時間がかかるという欠点を有していた。乾燥温度を上げて乾燥を早めるとカブリの増大が大きく乾燥を高温で行うことも制限されていた。
【0005】
溶媒塗布においても、写真添加剤の溶解性のよい極性溶媒を使用するため、少なからず水分が持ち込まれ、水分の影響を受けていた。また、熱現像感光材料に使用するハロゲン化銀塩は、水系分散媒体中で形成されるため、少量の水分を含むものであり、水分の影響を少なからず受けるものであった。
【0006】
更に水分の影響を受けにくいバインダーは、アミノ基やカルボキシル基等の架橋性の基をもたないため、一般のアミノ基やカルボキシル基を架橋する系統の硬膜剤が使用できず、膜強度が弱く、傷が付きやすいという欠点を有している。膜強度を上げ、水分の影響を受けにくくする塗布膜を形成する技術が望まれていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は製造上の制約に起因する各種性能の劣化を補完して、写真特性に優れ、保存性において耐湿性に優れ、傷の付きにくい熱現像感光材料と、それを得ることができる製法及び装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、
1. 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、この有機銀塩の還元剤及びバインダーを含有する感光層を有し、該感光層及び感光層に隣接する層に、前記一般式(1)又は一般式(2)で示されるシラン化合物が添加されて形成された熱現像感光材料、前記シラン化合物の置換基の少なくとも1つが耐拡散性基又は吸着性基であること、前記一般式(3)で示されるバインダーを含有すること、少なくとも1個分子間でアセタール化された一般式(3)で示されるバインダーがアセタール化されたバインダーの0.1質量%〜80質量%を占めること、感光層又は感光層に隣接する層がモノマー単位としてスチレン、ブタジエン、メタクリル酸メチル及び塩化ビニリデンから選ばれる少なくとも1種を含むラテックスを含有すること、
により達成される。
【0009】
なお米国特許第4,828,971号、同5,891,610号にはポリ珪酸化合物を使用することが述べられているが、この化合物は、ポリアルコキシシランより加水分解性は低いが、乾燥後の膜がひび割れし易いなどの欠点がある。また熱現像感光材料の膜表面の改質として米国特許第3,489,567号、同3,885,965号明細書には、ポリシロキサン化合物を滑剤として添加することが開示されている。しかし、これらは滑りをよくするが、熱現像材料の表面の膜強度を上げて耐傷性を改良するものではない。更に米国特許第4,886,739号にシラン化合物が開示されているが、保護層と感光層の接着を改良するこが述べられ、本発明と異なる。いずれも本発明に係るシラン化合物と目的、効果および使用する化合物が異なるものである。
【0010】
本発明は、特定の構造のシラン化合物を使用することにより写真性能を向上させ、しかも膜強度を高めることができることを見出したものである。更に本発明に係る化合物を使用するに当たり、塗布の方式に改良を加えることにより、高速で均一な塗布が可能なことも見出したのである。
【0011】
以下、本発明について詳細に説明する。
熱現像感光材料のハロゲン化銀粒子を含む感光層中には、有機銀塩、還元剤、カブリ防止剤、プリントアウト防止剤、バインダー及びその架橋剤等が含まれている。
【0012】
本発明に係る一般式(1)又は一般式(2)で示されるシラン化合は架橋剤として機能する。
【0013】
これらの一般式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ置換されてもよい直鎖、分枝又は環状の炭素数1〜30のアルキル基(メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケニル基(プロペニル基、ブテニル基、ノネニル基等)、アルキニル基(アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニルアセチレン基等)、アリール基又はヘテロ環基(フェニル基、ナフチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジル基、フリル基、チオフェニル基、イミダゾール基、チアゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等)を表し、置換基としては電子吸引性の置換基又は電子供与性の置換基いずれをも有することができる。
【0014】
置換基の例としては、炭素数1〜25アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等から選択することができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。
【0015】
L1、L2、L3及びL4は2価の連結基を表し、アルキレン基(エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基等)、オキシアルキレン基(オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、オキシヘキサメチレン基又はこれらの複数の繰り返し単位からなる基等)、アミノアルキレン基(アミノエチレン基、アミノプロピレン基、アミノブチレン基、アミノヘキサメチレン基、これらの複数の繰り返し単位を有する基等)、カルボキシアルキレン基(カルボキシエチレン基、カルボキシプロピレン基、カルボキシブチレン基、チオエーテル基、オキシエーテル基、スルホンアミド基、カルバミド基等)を表す。
【0016】
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8から選ばれる置換基の少なくとも1つが耐拡散性基又は吸着性基であることが好ましく、特にR2が耐拡散性基又は吸着性基であることが好ましい。
【0017】
耐拡散性基は、バラスト基とも呼ばれ炭素数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散性は、バインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、耐拡散性の基を導入することにより、室温状態の分子内の移動距離が抑制され経時での反応を抑制できる。
【0018】
耐拡散性を評価する方法は、両端が開口しているキャピラリー内にバインダーを入れ架橋し、キャピラリーの1開口面に被検化合物を接触存在させて、一定温度、一定時間経過後、移動した量を赤外分光法、質量分析法、アイソトープ法、NMR法等により調べて行う。拡散の程度は温度や時間を変化させて調べることができ、拡散を1%〜1億倍まで遅くすることが分子量や固定化基の導入により可能であるが、拡散性を過度に抑えようとすると分子量の増大や固体化基の溶解性等の問題が生じるので、室温下での拡散が10%〜100万倍まで遅くなるような基の導入が適当である。
【0019】
吸着性基もハロゲン化銀に対しての吸着量を調べることにより評価できる。吸着量の測定は、被検物質をハロゲン化銀を含む溶液に添加し、ハロゲン化銀を濾別したあとの溶液の濃度を測定することによりハロゲン化銀に吸着した量を算出することができる。吸着量は、ハロゲン化銀溶液の銀イオン濃度、ハロゲン化銀の粒子形状、粒子径によって異なるが、ここでは有機銀に添加するハロゲン化銀の形状、粒子径、電位等の条件で測定するのが望ましい。好ましい例は、沃素を0.1〜10モル%含む平均粒子径10〜300nmの立方晶、八面体又は平板粒子の沃臭化銀をpAgが6〜8の条件で25℃±5℃、1時間〜48時間放置した後のハロゲン化銀粒子の吸着量を測定することである。沃素を含まない臭化銀粒子や塩化銀粒子で測定してもよい。ハロゲン化銀粒子の表面積の3%〜100%範囲で被覆すると算出された場合は吸着性と判定することができる。吸着性の試験は、色素、染料、安定化剤、カブリ抑制剤等を添加しないハロゲン化銀乳剤で調べることが好ましいが、実際の系に近い色素、安定化剤、カブリ抑制剤等の添加されたハロゲン化銀乳剤で測定してもよい。
【0020】
吸着性基は、硫黄や窒素原子を少なくとも1つ含む基やアルキレンオキサイド基やカルボキシル基のようなヘテロ原子のないハロゲン化銀吸着基でもよい。好ましい吸着性基としては窒素原子を含む1級〜3級のアミノ基やイミダゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、テトラゾール基等である。
【0021】
L1、L2、L3及びL4は2価の連結基を示し、例えば、−CH2 −基、−CF2−基、=CF−基、−O−基、−S−基、−NH−基、−OCO−基、−CONH−基、−SO2NH−基、ポリオキシアルキレン基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の組み合わせたもの等を表す。この様な化合物の具体的な例を以下に示すが、これにより本発明は限定されるものではない。
【0022】
【化3】
【0023】
【化4】
【0024】
【化5】
【0025】
【化6】
【0026】
これらの化合物は、アルコキシシラン化合物やハロゲン化珪素を出発原料として連結基と結合させる方法を用いて製造することができる。耐拡散性基と結合したシラン化合物は耐拡散性基とシラン基を有する化合物とを結合させることにより合成することができる。
【0027】
本発明に係る一般式(1)又は(2)で示される化合物を添加する方法は公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザー分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。更にガラスビーズやジルコニア微粒子メディアを使用するサンドミル分散、細管から溶液を高速に噴出させて硬い板状で砕いたり、2方向からの細管の液体を衝突させて分散させる方法いずれでもよい。微粒子分散は、水溶液中に平均粒子径1nm以上10μm以下の大きさが好ましく、粒子分布が狭いことが好ましい。水溶液中に分散するには、攪拌により泡が発生しにくいものがよい。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。
【0028】
本発明に係るシラン化合物は、ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤等の添加剤の存在する層に添加されてバインダーと反応するのが好ましいが、これら添加剤を含む層の隣接層に添加され、中間層や下塗り層でもよい。即ち感光層及び感光層に隣接する層に添加するが、本発明の化合物の添加量は好ましくは銀1モル当たり1×10-8〜1×10-1モル、特に1×10-5〜1×10-2モルである。銀のない感光層以外に添加する場合も単位面積に換算して添加量を決めることができる。添加量が多いと感度低下、コントラスト低下、最高濃度低下等を引き起こす場合があり、添加量が不足すると本発明の効果を充分得られないことがある。
【0029】
本発明係る塗布において、バインダーを溶解する有機溶媒を使用する溶媒塗布系とバインダーとしてラテックス或いはバインダーの水溶液を用いて水系塗布を行う2方式がある。
【0030】
溶媒塗布は有機溶媒の比率が40%〜100%で、特に70%以上が有機溶媒を占めるような塗布液を塗布する場合を指す。有機溶媒としては、ヘキサン、トルエン及びキシレン等の非極性溶媒系とアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロピルアルコール等の極性溶媒を使用する場合とがあるが、極性溶媒系は多種類の添加剤を多量に溶解できるため頻用される。
【0031】
水系塗布は、塗布液の調製において、塗布液組成の水分に対する有機溶媒の比率が0%〜40%を意味し、好ましくは20%以下、更に10%以下、最も好ましくは5%以下である塗布液を使用することを意味している。
【0032】
溶媒塗布を行う場合、バインダーとしてセルロース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、アクリレートポリマー誘導体、ポリイミド誘導体、ポリアミド誘導体、フェノール樹脂誘導体、ウレタン樹脂誘導体、ポリエステル誘導体等がある。特に好ましい誘導体はポリビニルアルコール誘導体あるいは酢酸ビニル誘導体である。好ましいビニルアルコール誘導体は、前記一般式(3)で示すことができる。
【0033】
一般式(3)においてR9及びR10で表される炭素数1〜12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等が挙げられ、アルケニル基としては、プロペニル基、ブテニル基、オクテニル基、ドデセニル基等、アルキニル基としては、アセチレン基、ビスアセチレン基等が、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基、ピリジン、ピペリジン、フラン、ピラン、チオフェン、ピロール、ピロリドン、イミダゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、テトラゾール、ピリミジン等のヘテロ環基が挙げられる。これらの基の置換基としては、前記一般式(1)及び一般式(2)のR1〜R8に置換される基を任意に選択することができる。
【0034】
一般式(3)で示されるポリマーの分子量は800〜800,000が好ましい。より好ましくは、1万〜40万である。分子量が小さいと膜強度が得にくいこと、分子量が大きいと溶解性が劣化することや粘度が大きすぎてしまうので添加剤等を添加した液との兼ね合いから適宜調節することが好ましい。また、d1の組成であるアセタール化部分は、分子内水酸基でなく分子間アセタール化したものを含むことができる。分子間アセタール化したポリビニルアルコール誘導体は、ポリビニルアルコールにアルデヒド類を加えてアセタール化するときに、ポリビニルアルコールまたはアルデヒド類を高い濃度で反応させることやアセタール化触媒の添加量を多くすることや触媒を反応の後期に追添加することや、反応温度を高めることや攪拌を強化することにより作製することができる。攪拌強度はレイノルズ数で1,000〜10,000の範囲にするのが好ましい。分子間アセタール化した割合は、総ポリマー分子の0.1%〜60%の範囲、好ましくは1%〜30%の範囲、より好ましくは3%〜20%の範囲である。この範囲は塗布液の粘度を調節し易いこと、作製した膜強度が弱くなく、弾性力があること等から好ましい。分子間アセタールの比率は、液体クロマトグラフィー(GPC)や粘度測定法等から求めることができる。分子間アセタールの作製や分析は特開平6−25213を参考にすることができる。分子間アセタールの構造は下記一般式(4)で示される。
【0035】
【化7】
【0036】
式中、R9、R10、d1、d2及びd3は一般式(3)のそれと同義であり、d4は、分子間アセタールを示す。
【0037】
水系塗布を行う場合、好ましいポリマーとしては水溶解性ポリマー又は水分散性疎水性ポリマー(ラテックス)を使用することができる。例えば、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸部ニル共重合体、スチレン−ブタジエン−アクリル酸共重合体等である。これらは、水性の塗布液を構成するが、塗布後乾燥し、塗膜を形成する段階で均一なポリマー膜を形成するものである。これらを使用する場合には従って、有機銀塩、ハロゲン化銀、還元剤等を水性の分散液として、これらのラテックスと混合し均一な分散液とした後、塗布することで熱現像感光層を形成する。乾燥により、ラテックスは粒子が融合し均一な膜を形成する。
【0038】
更にガラス転位点が−20℃〜80℃のポリマーが好ましく、特に−5℃〜60℃が好ましい。ガラス転位点が高いと熱現像する温度が高くなり、低いとカブリやすくなり、感度の低下や軟調化を招くからである。
【0039】
水分散ポリマーは、平均粒子径が1nmから数μmの範囲の微粒子にして分散されたものが好ましい。水分散疎水性ポリマーはラテックスとよばれ、水系塗布のバインダーとして広く使用されている中で耐水性を向上させるというラテックスが好ましい。バインダーとして耐水性を得る目的のラテックスの使用量は、塗布性を勘案して決められる耐湿性の観点から多いほど好ましい。全バインダー質量に対して50%〜100%、特に80%〜100%が好ましい。
【0040】
好ましいポリマーとして塩化ビニリデン系の他にスチレン系、ブタジエン系或いはアクリル系の水分散ラテックスの具体例を表1に示すが、ここでスチレンをSt、ブタジエンをBu、メチルアクリレートをMA、イソノニルアクリレートをINA、シクロヘキシルメタクリレートをCA、ヒドロキシエチルアクリレートをHEA、ヒドロキシエチルメタクリレートをHEMA、アクリル酸をAA、メタクリル酸をMAA、イタコン酸をIA、アクリルアミドをAAm、スチレンスルホン酸をSt−S、アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸アミドをAMPS、イソプレンスルホン酸をIP−S、2−プロペニル−4−ノニルフェノキシエチレンオキサイド(n=10)スルホン酸エステルをPF−S、メチルメタクリレートをMMA、エチルアクリレートをEAと略す。
【0041】
【表1】
【0042】
本発明においては、これらのポリマーバインダーとしては(ラテックスの場合は固形分量で)銀量に対して4分の1から10倍の量、銀の付き量が2.0g/m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2であることが好ましい。また、更に好ましくは銀の付き量の2分の1から7倍量、銀の付き量の2.0g/m2なら、1.0〜14g/m2である。銀付き量の4分の1以下では、銀色調が大幅に劣化し、使用に耐えない場合があるし、銀の付き量の10倍以上では、軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。
【0043】
熱現像感光材料のバインダーは、ハロゲン化銀、有機銀塩及び還元剤を始めとする熱現像感光材料の各成分の反応するサイトを与えるものであり、ハロゲン化銀の酸化還元反応が適正に進む必要がある。
【0044】
以下熱現像感光材料に用いられるその他の成分について説明する。
本発明に使用する有機銀塩の金属塩の有機酸としては、ステアリン酸、ベヘン酸、パルミチン酸などの脂肪酸類などが挙げられる。
【0045】
本発明の熱現像感光材料に使用される感光性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダブルジェット法などの写真技術の分野で公知の方法により、例えば、アンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法でも調製できる。この様に予め調製した後、本発明の他の成分と混合して本発明に用いる組成物中に導入することが出来る。この場合に感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるため、例えば感光性ハロゲン化銀を調整するときの保護ポリマーとして米国特許第3,706,564号、同第3,706,565号、同第3,713,833号、同第3,748,143号、英国特許第1,362,970号各明細書に記載されたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外のポリマーを用いる手段や、英国特許第1,354,186号明細書に記載されているような感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国特許第4,076,539号明細書に記載されているように感光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製することによって保護ポリマーの使用を省略する手段等の各手段を適用することが出来る。
【0046】
ハロゲン化銀は、高い感光性材料として機能するものであり、画像形成後の白濁を低く抑える為又、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが好ましい。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ましくは0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては特に制限はなく、立方体、八面体の謂ゆる正常晶や正常晶でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲン化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。
【0047】
ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び後述の有機銀塩の総量に対し50%以下好ましくは25%〜0.1%、更に好ましくは15%〜0.1%の間である。
【0048】
本発明の熱現像感光材料に使用される感光性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,454号明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際にハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成とほぼ同時に生成させることが出来る。
【0049】
更に他の方法としては、予め調製された有機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かかる試験によって有効であることが確かめられたハロゲン化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例については米国特許第4,009,039号、同第3,457,075号、同第4,003,749号、英国特許第1,498,956号各明細書及び特開昭53−27027号、同53−25420号各公報に詳説されるが一例として、例えばMXnで表される無機ハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び金属原子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、Mが金属原子の時はその原子価を表す。金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等がある。)、臭素水などのハロゲン分子を挙げられる。
【0050】
これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されてもよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃〜70℃、その反応時間は0.1秒〜72時間であり、その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この反応は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの使用量は有機銀塩1質量部当たり0.01〜100質量部、好ましくは0.1〜10質量部である。
【0051】
上記した各種の方法によって調製される感光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感する事が出来る。この化学増感の方法及び手順については、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許第1,518,850号各明細書、特開昭51−22430号、同51−78319号、同51−81124号各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分により有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際に、米国特許第3,980,482号明細書に記載されているように、増感を達成するために低分子量のアミド化合物を共存させてもよい。
【0052】
又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6族から11族に属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、Os、Fe等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させることが出来る。これらの金属イオンは金属塩をそのままハロゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの、金属錯体及び金属錯体イオンとしては、6配位錯体イオンが好ましい。
【0053】
配位子の具体例としては、ハロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。
【0054】
特に好ましい金属は、Rh、Ru、Re、Ir及びOsである。
これらの金属錯体又は錯体イオンは一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよい。
【0055】
これらの金属のイオン、金属錯体及び錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。過度の添加量は感度の低下や軟調、最高濃度の低下を引き起こすので好ましくない。これらの金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。
【0056】
これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。
【0057】
本発明においては、感光層側にマット剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対し、質量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
【0058】
また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の層の全バインダーに対し、質量比で0.5〜40%含有することが好ましい。
【0059】
マット剤の形状は、定形、不定形どちらでも良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられる。マット剤の粒径は球形換算した直径のことを示すものとして、平均粒径が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となるマット剤である。ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、
(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100
で表される値である。
【0060】
マット剤は任意の構成層中に含むことができるが、好ましくは支持体から見て最も外側の層である。
【0061】
マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。マット剤の添加量は、マット粒子の大きさによりヘイズの問題にならないレベルで適宜決定することができるが、0.01mg/m2〜1g/m2で使用するのがよい。
【0062】
本発明の熱現像感応材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀塩)、触媒活性量のハロゲン化銀、還元剤、及び必要に応じて銀の色調を抑制する色調剤を通常(有機バインダーマトリックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、露光後高温(例えば80℃〜140℃)に加熱されることで現像される。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給することなしで進行する。
【0063】
本発明の熱現像感光材料は支持体上に少なくとも一層の感光性層を有している。支持体の上に熱現像感光層のみを形成しても良いが、この上に少なくとも1層の非感光性層を形成することが好ましい。
【0064】
又、感光性層に通過する光の量又は波長分布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター染料層又は反対側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性層に染料又は顔料を含ませても良い。
【0065】
本発明の熱現像感光材料中にはカブリ防止剤が含まれて良い。有効なカブリ防止剤として例えば米国特許第3,589,903号などで知られている水銀化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀カブリ防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀カブリ防止剤としては例えば米国特許第4,546,075号及び同第4,452,885号及び特開昭59−57234号に開示されている様なカブリ防止剤が好ましい。
【0066】
好ましいカブリ防止剤の例としては特開平9−90550号段落番号〔0062〕〜〔0063〕に記載されている化合物である。さらに、その他の好適なカブリ防止剤は米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同第605,981号、同第631,176号に開示されている。
【0067】
本発明の熱現像感光材料には、例えば特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許第4,639,414号、同第4,740,455号、同第4,741,966号、同第4,751,175号、同第4,835,096号に記載された増感色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例えばResearch Disclosure17643IV−A項(1978年12月p.23)、同18431X項(1979年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。例えば特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号記載の化合物が好ましく用いられる。
【0068】
本発明では、熱現像感光材料中に、必要に応じて、増感剤、有機または無機の填料、界面活性剤、ステイン防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐水化剤、分散剤、安定化剤、可塑剤、被覆助剤、消泡剤、蛍光染料、高級脂肪酸の金属塩などを添加してもよい。
【0069】
感光層は複数層にしてもよく、又階調の調節のために感度を高感度層/低感度層又は低感度層/高感度層にしてもよい。各種の添加剤は感光性層、非感光性層、又はその他の形成層のいずれに添加してもよい。
【0070】
支持体としては、紙、合成紙、不織布、金属箔、プラスチックフィルムなどの支持体が使用可能であり、またこれらを組み合わせた複合シートを任意に用いてよい。
【0071】
塗布液は、以下のようにして得ることが出来る。本発明に係るシラン化合物をバインダーと共に分散した分散液と、有機銀塩と、ハロゲン化銀及び現像剤とをバインダーと共に分散した分散液と、更に必要な添加剤をバインダーと共に分散した分散液乃至溶解液を混合して塗布液が得られる。この塗布液を支持体上に塗布して、乾燥させると熱現像感光材料を得ることが出来る。別の方法として、スタチックミキサーを使用してシラン化合物を塗布液の直前で添加する瞬間混合添加法がある。この方法は塗布液中のバインダーと反応する時間が短いため、予め混合して塗布液を調製するよりも粘度や表面張力等の塗布液物性が変化しないこと、写真性能への影響が少ないので好ましい。添加位置から塗布機のダイスへ供給される系の配管の長さ、太さ、供給速度等で決まるが、0.001秒から10分の範囲が好ましく、より好ましくは2分以内である。温度は5℃〜50℃の塗布液の温度に合わせた温度が好ましいが、±15℃の範囲なら低くても高くてもよい。これ以上の差がある場合は、温度や粘度を安定に制御するのが難しくなるので避けた方が好ましい。
【0072】
使用する塗布の方式はスライドホッパー式、ワイヤーバー方式、ロールコーター方式、減圧押し出し方式等各種の方式を適宜選択できる。特に好ましい塗布方式は減圧押し出し方式で、図1又は図2に示す様な方式である。図1及び図2は、それぞれ5層同時減圧押し出し塗布機の側面図を示す。単層の減圧押し出しの装置は特開平11−207236号を参考にして作製することができるが、この方法を基本にダイス内に5種の液を重畳して吐出させるようにする。吐出する液が水平の場合を図1、垂直の場合を図2に示したが、吐出する角度は0°〜90°まで任意に設定することができ、例えば、45°±15°の吐出角度にすることもできる。供給の安定化を図るには、垂直に流下して落下する図2の方式が好ましい。本発明では特にムラのない均一塗布を高速で実施することができる。
【0073】
図1において、支持体1は支持体駆動ロール3に対して水平に入り、ダイス9から塗布液5種を供給されて2の方向に排出される。5種の塗布液は添加釜T1〜T5に供給され、押し出しポンプ8によりダイス内の塗布液供給安定化室4を通過し、ダイスの先端に至り、ここから吐出される。ダイス先端と支持体駆動ロール上の支持体の距離dはビード距離と呼ばれ、20μm〜600μm、好ましくは80μm〜300μmに保持される。ビード下部には隔壁5を有する減圧室6を設け、減圧にする真空ポンプ7により減圧に保持される。減圧度は大気圧より10hPa〜400hPa減圧、好ましくは30hPa〜300hPa減圧に設定される。
【0074】
減圧室6の隔壁5はビード部の減圧が均一になるように設けられ、図では塗布液の吐出方向と並行に設けているが、垂直でもよいし、複数の隔壁を使用する多段隔壁層を設けてもよい。ムラのない均一な塗布をするために、隔壁内に微細な貫通孔を設けることによりビード下部の減圧を均一にすることができる。隔壁の貫通孔の形状は、図4に示すように格子状、円形またはハニカム状等選択することができる。隔壁の貫通孔面積は、1%〜90%の範囲でするのが好ましい。1個の貫通孔の面積を円に換算しその円の直径を求め、全貫通孔の平均直径を算出することができる。平均直径は100オングストロームから1cm、好ましくは100nm〜1mm、より好ましくは5μm〜500μmである。隔壁とビード部の距離は任意に設定することができるが、100μm〜1m、好ましくは1mm〜60cm、より好ましくは5mm〜30cmの範囲である。貫通孔の大きさの分布は均一である必要はなく、複数の平均直径を持つものであってもよし、中央部と端部で異なってもよい。
【0075】
塗布液供給安定化室4は、塗布液の乱れを制御するもので単一でもよいし、複数個設けてもよい。側面形状は球、楕円体、紡錘体、直方体または立方体、これらの一部や組み合わせの断面形状等を任意に選択することができるが、楕円体または紡錘体の断面形状を有することが好ましい。重層塗布する塗布液の粘度は、0.01mPa・s〜1000Pa・sの範囲を選択することができるが0.1mPa・s〜100Pa・sが好ましい。各層の塗布液の粘度設定は、支持体に最も近い或いは最も遠い方に位置する層の粘度が1mPa・sから100mPa・sであり、3層以上の場合、最も高い層の粘度、特に感光層の粘度が100mpa・s以上、であることが好ましい。この粘度範囲を超えると塗布液の流動性が悪く、塗布できないことや均一性が得にくい。粘度の調節は高分子ポリマーである増粘剤で調節することができるが、使用するバインダーの分子量や分子量分布等ですると膜強度を弱めないで調節することができる。特に本発明では一般式(3)又は一般式(4)で示される化合物で調節することが好ましい。
【0076】
各種の添加剤が添加された塗布液は、予め調製されて塗布されるが、他の添加剤との反応や影響がある場合には、図3に示す様に別の添加釜T6〜T10を設けてポンプ15で送液し、塗布直前に混合させることができる。2液が混合したあとは、スタチックミキサー16を各ラインに設置して充分混合して塗布することができる。
【0077】
下塗り済み支持体又は被塗布支持体に塗布液が供給される前にコロナ放電処理やプラズマ処理をすることが好ましい。これらの処理の前後に除電処理をすることが好ましい。コロナ処理やプラズマ処理の前の除電処理は、コロナ処理やプラズマ処理を均一にすることや処理の効果を上げることができ、更にコロナ処理やプラズマ処理の後の除電処理は、被塗布支持体への塗布液の均一な供給をもたらす効果がある。
【0078】
コロナ処理やプラズマ処理の程度は、表面の接触角を測定することにより調節することができる。好ましい接触角は、水滴法を採用した場合、処理前後で2度から70度下がるように変化する範囲が好ましい。また、接触角でなく、膜付きのレベルにより調節することができる。調節する際のエネルギー値は0.1mW〜100kW/m2・分、より好ましくは10mW〜1kW/m2・分である。この範囲より小さいと塗布の均一性を得るのが難しく、大きいとかえってムラになるからである。プラズマ処理は火炎処理タイプのフレーム処理型が好ましく常圧プラズマ処理が簡便であるが、減圧室内で処理すると良い結果が得られる。使用する不活性ガスは、希ガスでアルゴン、ネオン、ヘリウム、窒素ガス等があるが、アルゴンガスが好ましい。混合する燃焼ガスは、都市ガス、天然ガス、プロパンガス、ブタンガス等を使用することができる。除電処理は、イオン風式、電極式、除電バー式、除電板、除電布等あるが、電極式が好ましい。帯電量は、静電気用帯電計で測定することができ、電圧または静電容量等で測定することができる。
【0079】
本発明の感光材料において、露光はレーザー走査露光により行うことが好ましいが、感光材料の露光面と走査レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザー走査露光機を用いることが好ましい。ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザー走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以下、最も好ましくは70度以上82度以下であることをいう。
【0080】
レーザー光が感光材料を走査する時の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これはスポット径が小さい方がレーザー入射角度の直角からのずらし角度を減らせる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は10μmである。この様なレーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係わる画質劣化を減じることができる。
【0081】
また、本発明における露光は縦マルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に比べて干渉縞様のムラの派生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳をかけるなどの方法が良い。尚、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。
【0082】
【実施例】
以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0083】
実施例1
下塗り済み写真用支持体の作製
光学濃度で0.170に青色着色した市販の2軸延伸熱固定済みの厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面にコロナ放電処理(8W/m2・分)を施し、一方の面に下記下塗り塗布液a−1を塗設し乾燥させて下塗りA−1とし、また反対側の面に下記下塗り塗布液b−1を塗設し乾燥させてバック層側下塗り層B−1とした。
【0084】
下塗り塗布液a−1
ブチルアクリレート(30質量%)
t−ブチルアクリレート(20質量%)
スチレン(25質量%)
2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2
下塗り塗布液b−1
ブチルアクリレート(40質量%)
スチレン(20質量%)
グリシジルアクリレート(40質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2
引き続き、下塗り層A−1及び下塗り層B−1の上表面に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下塗り層A−1の上には、下記下塗り上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μmになる様に下塗り上層A−2として、下塗り層B−1の上には下記下塗り上層塗布液b−2を塗設した。
【0085】
下塗り上層塗布液a−2
ゼラチン 0.4g/m2
シリカ粒子(平均粒径2μm) 0.01g/m2
下塗り上層塗布液b−2
スチレンブタジエン共重合ラテックス液(固形分20%)0.08g/m2
ポリエチレングリコール(重量平均分子量900) 0.036g/m2
シリカ粒子(平均粒子径3μm) 0.01g/m2
(感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製)
水900ml中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlとこれと当量の(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液370mlを、pAg7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加しNaOHでpHを5.0に調整して平均粒子サイズ0.06μm、粒子サイズの変動係数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
【0086】
(粉末有機銀塩Aの調製)
4720mlの純水にベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し十分に攪拌した。次に、濃硝酸6.9mlを加えた後55℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。該有機酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、上記感光性ハロゲン化銀乳剤A(銀0.038モルを含む)と純水450mlを添加し5分間攪拌した。次に1Mの硝酸銀溶液760.6mlを2分間かけて添加し、さらに20分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返し、所定の濃度まで水を加えて仕上げた。
【0087】
(感光層塗布液の調製)
上記で下塗りを施した支持体上に感光層側をA−2になるように以下の各層を順次形成し、試料を作製した。尚、乾燥は各々75℃、1分間で行った。
【0088】
感光層面側塗布
第1層:ハレーション防止層(AH)層
バインダー(PVB−1:重合度600) 1.2g/m2
シラン化合物(表1記載) 2.3×10-4モル/m2
ハレーション防止染料C1 2×10-5モル/m2
第2層:感光層
感光層の調製は
バインダー(PVB−1:重合度600) 5.6g/m2
シラン化合物(表1記載) 9.3×10-4モル/m2
増感色素A1 2.1×10-4モル/Ag1モル
ハレーション防止染料C1 1.1×10-5モル/m2
カブリ防止剤1:ピリジニウムヒドロブロミドパーブロミド0.3mg/m2
カブリ防止剤2:イソチアゾロン 1.2mg/m2
カブリ防止剤3:5−メチルベンゾトリアゾール 120mg/m2
現像剤(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
−3,5,5−トリメチルヘキサン) 3.3mmol/m2
からなる組成物をメチルエチルケトン溶液に添加し、塗布液を調製した。銀量として1.2g/m2なる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液をポリマーバインダーと混合した。
【0089】
第3層:中間層
メチルエチルケトン溶液に溶解した
バインダー(PVB−1:重合度600) 1.2g/m2
シラン化合物:表1記載 2.3×10-4モル/m2
4−メチルフタル酸 0.72g/m2
テトラクロロフタル酸 0.22g/m2
テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2
コロイダルシリカ 0.2g/m2
を塗布乾燥した。
【0090】
第4層:保護層
バインダー(セルロースアセテートブチレート) 1.2g/m2
シリカマット剤(平均粒子径3μm) 0.5g/m2
感光層と反対側(下塗りB−2)にバック層およびバック層の保護層を塗布した。
【0091】
バック層面塗布
第1層:バック層
バインダー(PVB−1:重合度600) 1.2g/m2
シラン化合物(感光層側と同種) 2.3×10-4モル/m2
染料C1 70mg/m2
第2層:バック層保護膜
セルロースアセテートブチレート 0.8g/m2
マット剤(PMMA:平均粒径3μm) 0.02g/m2
界面活性剤(N−プロピルパーフロロオクチルスルホンアミド酢酸)0.02g/m2
【0092】
【化8】
【0093】
写真性能の評価
露光および現像の条件は、熱現像感光材料を810nmの半導体レーザーを有するレーザー感光計で露光し、次いで熱ドラムを用いて120℃で8秒間熱現像処理した。その際、露光及び現像は25℃、相対湿度50%に調湿した部屋で行った。得られた画像の感度とカブリを自動濃度計により評価を行った。感度はカブリより0.3高い濃度を与える露光量の比の逆数で評価した。カブリの測定は、未露光の試料を熱現像し、濃度を測定した。コントラストは、濃度1.5を与える写真特性曲線上の接線の傾きから算出した。最高濃度の測定は、濃度1.5を与える露光量の10倍の露光量を与えた点の濃度を測定した。
【0094】
耐湿性の試験は、塗布乾燥された熱現像材料の試料を23℃、相対湿度50%の部屋に3日間保存した後、試料を2つに分け、一方を45℃、相対湿度80%の部屋に3日保存(高湿保存試料)し、一方はそのまま23℃、相対湿度50%の部屋に保存した(常湿試料)。保存された2つの試料を露光現像し、カブリの差およびコントラストの変化を求めた。カブリの差およびコントラストの差が少ない程耐湿性があることを示す。
【0095】
耐傷性の評価は、深さ3μmの凹凸のあるローラーで5kPaの加重を掛けながら試料を擦過して傷のレベルを目視評価した。傷のないレベルを5、傷が最も多いレベルを1とし、中程度で、実用的に問題ないレベルを3として評価した。尚、比較に使用した化合物は米国特許第4,886,739号に記載の実施例1に使用されるSi(OC2H5)4である。シラン化合物は第1層から第3層まで同一種で添加した。
【0096】
結果を表2に示す。
【0097】
【表2】
【0098】
本発明に係るシラン化合物を用いると、写真特性においてカブリが低く、感度、最高濃度およびコントラストが高く、保存性において耐湿性に優れ、傷の付きにくい熱現像感光材料を得ることが出来る。
【0099】
実施例2
実施例1と同様に熱現像感光材料を作製したが、ここでは、バインダーに使用した一般式(3)で示される化合物の組成を変化させて試料を作製した。組成の変化は、重合度600のポリ酢酸ビニルを鹸化度70から99%になるように鹸化し、鹸化度の異なるポリビニルアルコールを予め作製し、これにブチルアルデヒドを反応させてブチラール化した。アセタール化の条件は、鹸化されたポリビニルアルコールので30%水溶液(固形分換算)中に10%塩酸を加え、pH1.5、温度を86℃に設定し、アセタール化度に相当するブチルアルデヒドを10分に亘り添加し、6時間反応させ、析出した生成物を乾燥させ後、生成物をエタノールで洗浄精製した。アセタール化度(d1)は残っている水酸基価から求めた。性能評価は実施例1と同様に行った。結果を表3に示す。
【0100】
【表3】
【0101】
これにより、シラン化合物及びブチラールを使用すると保存性および耐傷性が向上することがわかる。
【0102】
実施例3
実施例2と同様に試料を作製したが、ここではバインダーに分子間アセタール化したものを使用した。分子間アセタール化は、鹸化されたポリビニルアルコールをアセトン水溶液(水:アセトン=1:1)に固形分濃度が76%になるように溶解し、pH1.5、温度を96℃に設定し、アセタール化度に相当するブチルアルデヒドを10分に亘り滴下して行った。
【0103】
分子間アセタール化の割合は、粘度法で分子量を算出して求めた。即ち分子間のアセタール化を無視できる固形分1%濃度の鹸化されたポリビニルアルコールのアセタール化を行い、予め粘度法で分子量を求め、固形分の高濃度ポリビニルアルコール中でのアセタール化の分子量の差から求めた。得られた試料の写真性能を実施例1と同様に評価した。また現像後のムラの評価を加えた。
【0104】
ムラの評価は、35cm×43cmの試料に光学濃度が1.0に仕上がるように810nmのレーザーで均一露光し、120℃で8秒熱現像し、シャーカステン上でムラを評価した。塗布性起因の全くムラのないレベルを5、実用的に問題のないレベルを3、ムラが多いレベルを1として評価した。現像起因(熱現像機))のムラは評価から除外した。
【0105】
得られた結果を表4に示す。
【0106】
【表4】
【0107】
シラン化合物及び分子間アセタール化ポリマーを用いると、保存性および耐傷性に優れた熱現像感光材料を得ることが出来る。また、現像後のムラのレベルが良化することがわかる。
【0108】
実施例4
実施例1と同様に試料を作製したが、ここでは感光層側の塗布は下塗り済み支持体を使用し、感光層側のバインダーにラテックス及びゼラチンを使用する水系塗布を行った。バインダーの比較には重度度500、鹸化度99%のポリビニルアルコール(PVA*)を使用した。感光層側の処方を下記に示す。試料において、同一試料内の各層のシラン化合物は同一種を使用した。第1層から第4層までの同時4層塗布を200m/分、乾燥時間を3分で行った。
【0109】
感光層側処方
第1層:ハレーション防止層(AH)層
バインダー:表5に記載のラテックス 1.2g/m2
シラン化合物:表5記載 2.3×10-4モル/m2
ハレーション防止染料:C2 2×10-5モル/m2
第2層:感光層
バインダー:表5に記載のラテックス 5.6g/m2
シラン化合物:表5記載 2.2×10-4モル/m2
増感色素A2 2mg/m2
カブリ防止剤1:ピリジニウムヒドロブロミドパーブロミド0.3mg/m2
カブリ防止剤2:イソチアゾロン 1.2mg/m2
カブリ防止剤3:2−トリブロモメチルスルホニルキノリン120mg/m2
現像剤:(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
−3,5,5−トリメチルヘキサン) 3.3mmol/m2
からなる組成物を水溶液に溶解又は固体分散した感光層塗布液を調製した。銀量として1.3g/m2になる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液を表1のラテックス(固形分濃度40%)と混合した。
【0110】
第3層:中間層
水溶液に溶解又は分散した
バインダー:表5に記載のラテックス 1.2g/m2
シラン化合物:表5記載 2.3×10-4モル/m2
4−メチルフタル酸 0.72g/m2
テトラクロロフタル酸 0.22g/m2
テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2
コロイダルシリカ 0.2g/m2
を上記付き量になる様に添加して塗布乾燥した。
【0111】
第4層:表面保護層
バイダンー:石灰処理イナートゼラチン 1.2g/m2
4−メチルフタル酸 0.72g/m2
テトラクロロフタル酸 0.22g/m2
テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2
シリカマット剤(平均粒径5μm) 0.5g/m2
ヘキサメチレンジイソシアナート 0.3g/m2
からなる組成物を、上記付き量になるように塗布乾燥した。
【0112】
【化9】
【0113】
性能評価は実施例1と同様に行った。結果を表5に示す。
【0114】
【表5】
【0115】
バインダーにラテックスを使用する水系塗布においても本発明に係る化合物を使用すると保存性および耐傷性に優れることがわかる。
【0116】
参考例5
実施例1の試料番号103と同様に試料を作製したが、ここでは図2の減圧押し出し塗布装置を使用して同時3層塗布した。感光層側の第1層の塗布液をT1、第2層の塗布液をT2、第3層の塗布液をT3にそれぞれ添加して塗布した。各層の塗布液の粘度と減圧室の減圧度(大気圧と減圧室の差(単位hPa))を変化させ、同時に減圧室の隔壁を設け、貫通孔の形状、平均直径、開口比率(隔壁の面積に対する貫通孔面積の割合(%)を変化させた(表6記載)。粘度(単位mPa・s)の調節は、塗布液の固形分濃度を変化させることとバインダーに分子間アセタール化を行ったもの(実施例3の試料番号304〜309までに使用したもの)を混合することにより調節した。ダイス内の塗布液供給安定化室は、側面形状が球形(円)を使用した。塗布速度は100m/分、乾燥時間3分間、乾燥温度40℃であった。作製した試料を35cm×43cmに切断し、現像後の塗布の均一性を評価した。方法は平均光学濃度が1.0になるように均一露光し、5mm間隔で濃度を測定し、濃度の標準偏差を求めた。塗布の均一性は、濃度の標準偏差を平均濃度で割り100を掛けた値を評価値とした。この値が小さい程塗布の均一性が得られていることを示す。塗布現像後の塗布性結果を表6に示す。
【0117】
【表6】
【0118】
塗布装置において、塗布液の粘度、減圧室の減圧度、貫通孔のある隔壁を使用すると塗布均一性が向上することがわかる。
【0119】
参考例6
参考例5の実験番号504と同様に塗布したが、ここでは各塗布液の添加釜T1〜T5からダイスまでの配管途中に図3の様に別の添加釜T6〜T10を設けて本発明に係るシラン化合物をポンプで送液させスタチックミキサーで乱流になる条件で混合を行った。塗布液を25℃に保温し、シラン化合物をメチルエチルケトンに固形分濃度が10%となるように溶解し25℃に保った。塗布が開始されると塗布速度に応じて添加釜T1〜T3から送液される塗布液は、シラン化合物と合流し、ダイスから押し出され下塗り支持体に塗布された。塗布を48時間継続して後、塗布した試料を濃度1.0に仕上がるように露光し凝集物や塗布の均一性を評価した。結果を表7に示す。
【0120】
【表7】
【0121】
塗布液の温度を5℃〜50℃として、シラン化合物を塗布液と10分以内に混合し塗布すると、凝集物がなく塗布均一性にすぐれていることがわかる。
【0122】
参考例7
参考例6の実験番号603と同様に塗布を行ったが、ここではダイス内の塗布液供給安定化室の形状を変化させて塗布を行った。安定化室の大きさは、塗布液の送液量の3倍量を保持できるように設定した。塗布均一性の評価は参考例5と同様に行った。結果を表8に示す。
【0123】
【表8】
【0124】
塗布液供給安定化室の形状を楕円体、紡錘体、立方体、直方体で塗布均一性において良い結果が得られることがわかる。
【0125】
参考例8
参考例7の実験番号702と同様に行ったが、ここでは図2における塗布液供給量制御手段、減圧室減圧制御手段、支持体駆動ロールの回転速度制御手段、放電処理手段を制御する中央制御機構を設けて塗布を行った。
【0126】
塗布速度を0m/分から100m/分に加速して塗布する初期設定において、通常は塗布速度100mに対応する液供給を行い、安定したところで被塗布支持体に塗布液を供給するところを初期の立ち上がりの段階からダイスから塗布液を供給して塗布することができた。放電処理の設定は、コロナ放電処理で8W/分・mの値、減圧は1hPa/mの割合、総合液供給は塗布面積300cm/分で行った。塗布液の供給、減圧度、放電処理、支持体駆動ロールを連動して中央制御すると塗布速度が一定になるまでの時間も塗布が可能になった。
【0127】
参考例9
参考例5の実験番号503と同様に実験を行ったが、ここでは被塗布支持体の下塗り支持体の代わりに、下塗り無しの支持体にマイクロ波プラズマ処理することと、プラズマ処理の前後に除電処理を実施した。使用した除電気は、a.送風式除電器(KD−410:春日電機(株)製)、b.ブラシ型除電器(アキレスノンスパーク社製)、c.高密度除電器(HDIS−400:春日電機(株)製)であった。プラズマ処理に使用した不活性ガスはアルゴンガスを使用し、アルゴンを400ml/分、酸素2ml/分、圧力400Pa、マイクロ波は2.45GHzで行った。塗布性の評価は参考例5の塗布性の評価と同様にした。結果を表9に示す。
【0128】
【表9】
【0129】
参考例10
実施例4と同様に試料を作製したが、ここでは感光層側の塗布を下塗りから表面保護層まで下記記載の処方に変更して、塗布方式は参考例5の同時3層を同時5層にして塗布を行った。塗布方式は図2に示す垂直流下式押し出し減圧塗布機で塗布した。塗布条件は塗布速度100m/分、乾燥時間2分40秒、乾燥温度40℃、シラン化合物は図3に示すように第3層および第4層に3秒以内に合流添加するように図3の添加釜T8およびT9に添加し供給した。減圧度、隔壁の条件は参考例5の番号504と同様にし、粘度の調整は、塗布液の固形分濃度(希釈度)と増粘剤(重量平均分子量56万のポリスチレンスルホン酸ナトリウム)で行った。)使用したシラン化合物、各層の粘度と塗布性と耐傷性を表10に示した。
【0130】
第1層(第1接着層)
塩化ビニリデンとイタコン酸の共重合(質量%=99.9:0.1)
ラテックス分子量25000、固形分濃度25% 0.45g/m2
第2層(AH層)
塩化ビニリデンとアクリル酸の共重合(質量%=92.5:7.5)
ラテックス 0.55g/m2
ハレーション防止染料:C2 2×10-5モル/m2
第3層(感光層)
増感色素A2 2mg/m2
ハレーション防止染料:C2 1×10-5モル/m2
カブリ防止剤1:ピリジニウムヒドロブロミドパーブロミド0.3mg/m2
カブリ防止剤2:イソチアゾロン 1.2mg/m2
カブリ防止剤3:2−メチルチオベンズイミダゾール 120mg/m2
シラン化合物:表10記載 2.2×10-4モル/m2
現像剤:(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
−3,5,5−トリメチルヘキサン) 3.3×10-3モル/m2
からなる組成物を水溶液に溶解又は固体分散した感光層塗布液を調製した。銀量として1.3g/m2なる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液を下記ラテックス(固形分濃度40%)と混合した。
【0131】
スチレン−ブタジエン共重合(質量%=60:40)ラテックス5.6g/m2
第4層:中間層
バインダー:塩化ビニリデンとイタコン酸共重合(質量%=99:1)
重量平均分子量26,000 1.2g/m2
シラン化合物:表10記載 2.3×10-4モル/m2
4−メチルフタル酸 0.72g/m2
テトラクロロフタル酸 0.22g/m2
テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2
コロイダルシリカ 0.2g/m2
からなる添加剤を上記付き量になるように添加して塗布乾燥した。
【0132】
第5層:表面保護層
石灰処理イナートゼラチン 1.2g/m2
4−メチルフタル酸 0.72g/m2
テトラクロロフタル酸 0.22g/m2
テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2
シリカマット剤(平均粒径5μm) 0.5g/m2
ヘキサメチレンジイソシアナート 0.3g/m2
パーフロロオクチルスルホンアミド酢酸ナトリウム塩 0.02g/m2
からなる組成物を、上記付き量になるように塗布乾燥した。
【0133】
【表10】
【0134】
本発明のシラン化合物を用いて、減圧押し出し塗布機による塗布において、重層塗布の粘度を支持体に最も近い第1層を100mPa・s以下に、感光層を100mPa・s以上にすることにより、耐傷性および塗布均一性が得られることがわかる。
【0135】
【発明の効果】
本発明によれば、写真特性に優れ、保存性において耐湿性に優れ、傷の付きにくい熱現像感光材料と、その製法及び装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】5層同時減圧押し出し塗布の1例を示すモデル図。
【図2】5層同時減圧押し出し塗布の他の例を示すモデル図。
【図3】図2の塗布において添加剤を別途添加する場合を示す図。
【図4】隔壁の貫通孔の形状を示す図。
【符号の説明】
1 被塗布支持体
3 支持体駆動ロール
4 塗布液供給安定化室
5 隔壁
6 減圧室
7 真空ポンプ
8 押し出しポンプ
9 ダイス
10 コロナ放電又はプラズマ処理手段
11 不活性ガス室
12 ガス入口
13 ガス出口
14 除電手段
15 ポンプ
16 スタチックミキサー
T1〜T10 添加釜
Claims (8)
- 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、この有機銀塩の還元剤及びバインダーを含有する感光層を有し、該感光層及び感光層に隣接する層に、下記一般式(1)又は一般式(2)で示されるシラン化合物が添加されて形成されたことを特徴とする熱現像感光材料。
- 前記耐拡散性基又は吸着性基が、炭素数6以上の脂肪族基または炭素数3以上のアルキル基が置換されたアリール基、ないし1〜3級のアミノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基またはテトラゾール基から選ばれる基であることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。
- 感光層又は感光層に隣接する層がモノマー単位としてスチレン、ブタジエン、メタクリル酸メチル及び塩化ビニリデンから選ばれる少なくとも1種を含むラテックスを含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の熱現像感光材料。
- 請求項1乃至5に記載の熱現像感光材料の塗布液群の少なくとも2層を同時重層塗布するにあたり、ビードへの減圧度を10hPa〜400hPaとし、塗布する支持体に最も近い或いは最も遠い塗布液の粘度を0.1mPa〜100mPa・sとすることを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
- 3層以上の同時重層塗布であり、最高粘度を有する塗布液の粘度が100mPa・s以上であることを特徴とする請求項6に記載の熱現像感光材料の製造方法。
- 前記一般式(1)又は一般式(2)で示されるシラン化合物を5℃〜50℃の塗布液に10分以内で混合することを特徴とする請求項6又は7に記載の熱現像感光材料の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000077904A JP4048684B2 (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | 熱現像感光材料とその製造方法 |
US09/817,333 US6461805B1 (en) | 2000-03-21 | 2001-03-16 | Photothermographic material |
EP01302616A EP1136877A3 (en) | 2000-03-21 | 2001-03-21 | Photothermographic material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000077904A JP4048684B2 (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | 熱現像感光材料とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001264930A JP2001264930A (ja) | 2001-09-28 |
JP4048684B2 true JP4048684B2 (ja) | 2008-02-20 |
Family
ID=18595388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000077904A Expired - Fee Related JP4048684B2 (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | 熱現像感光材料とその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6461805B1 (ja) |
EP (1) | EP1136877A3 (ja) |
JP (1) | JP4048684B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070099132A1 (en) * | 2000-09-18 | 2007-05-03 | Hajime Nakagawa | Photothermographic material |
JP2002090934A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像画像記録材料 |
US20060199115A1 (en) * | 2001-01-30 | 2006-09-07 | Hajime Nakagawa | Photothermographic material and image forming method |
US20050032204A1 (en) * | 2001-04-10 | 2005-02-10 | Bioprocessors Corp. | Microreactor architecture and methods |
JP4240850B2 (ja) * | 2001-06-26 | 2009-03-18 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 熱現像感光材料および画像記録方法 |
EP1278101B1 (en) * | 2001-07-17 | 2008-07-02 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Silver salt photothermographic imaging material, and image recording method and image forming method by the use thereof |
US6689548B2 (en) * | 2001-08-20 | 2004-02-10 | Konica Corporation | Silver salt photothermographic dry imaging material, an image recording method and an image forming method |
US6702195B2 (en) * | 2002-07-15 | 2004-03-09 | Xerox Corporation | Multi-layer slot coating die with selective ultrasonic assist |
JP2004070123A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 熱現像感光材料とこれを用いたロール状熱現像感光材料用包装体及びロール状熱現像感光材料用包装体の製造方法 |
JP4084645B2 (ja) * | 2002-12-03 | 2008-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 熱現像感光材料 |
US7381520B2 (en) * | 2002-12-03 | 2008-06-03 | Fujifilm Corporation | Photothermographic material |
US20050026273A1 (en) * | 2003-06-05 | 2005-02-03 | Zarur Andrey J. | Reactor with memory component |
US7348296B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-03-25 | Agfa Healthcare | Binders for use in the thermosensitive elements of substantially light-insensitive thermographic recording materials |
US20060046932A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-02 | Eastman Kodak Company | Thermally developable materials with backside conductive layer |
DE102004054568A1 (de) * | 2004-11-11 | 2006-05-24 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Hoch scherverdünnende Polyvinylacetale |
WO2007010777A1 (ja) | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 画像形成方法 |
US7504200B2 (en) | 2007-02-02 | 2009-03-17 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Photothermographic material |
US8198658B2 (en) * | 2007-06-13 | 2012-06-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Device and method for detecting biomolecules using adsorptive medium and field effect transistor |
KR102072088B1 (ko) | 2016-11-28 | 2020-02-03 | 주식회사 엘지화학 | 변성 공액디엔계 중합체 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4108665A (en) * | 1976-10-07 | 1978-08-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilizers for photothermographic constructions |
US4886739A (en) * | 1988-08-10 | 1989-12-12 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element and process |
DE69502323T2 (de) * | 1994-03-16 | 1998-12-24 | Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement mit klebender Zwischenschicht |
JPH08286366A (ja) * | 1995-04-18 | 1996-11-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料 |
US6020117A (en) * | 1998-09-30 | 2000-02-01 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element |
-
2000
- 2000-03-21 JP JP2000077904A patent/JP4048684B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-03-16 US US09/817,333 patent/US6461805B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-21 EP EP01302616A patent/EP1136877A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1136877A2 (en) | 2001-09-26 |
US6461805B1 (en) | 2002-10-08 |
JP2001264930A (ja) | 2001-09-28 |
US20020022203A1 (en) | 2002-02-21 |
EP1136877A3 (en) | 2003-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4048684B2 (ja) | 熱現像感光材料とその製造方法 | |
JP2003075955A (ja) | 銀色調を改良した光熱写真画像形成材料 | |
JP2003043625A (ja) | 耐傷性を改良した光熱写真画像形成材料 | |
JP4075500B2 (ja) | 熱現像感光材料 | |
JP2003021883A (ja) | 膜強度を改良した熱現像感光材料 | |
JP2004077791A (ja) | ドライイメージング材料 | |
JP2001255620A (ja) | プリントアウトを改良した熱現像感光材料 | |
JP4240828B2 (ja) | 熱現像材料 | |
JP2003043617A (ja) | 光熱写真画像形成材料 | |
JP2003066561A (ja) | 光カブリ耐性が改良された光熱写真画像形成材料 | |
JP4048665B2 (ja) | 熱現像材料、現像方法及び画像形成方法 | |
JP2003330145A (ja) | 熱現像写真材料 | |
JP2003057783A (ja) | 銀色調を改良した光熱写真画像形成材料 | |
JP2001083656A (ja) | プリントアウトを改良した熱現像感光材料 | |
JP2004029330A (ja) | ドライイメージング材料 | |
JP2001272751A (ja) | 熱現像材料及びその現像方法 | |
JP2003075957A (ja) | スケイル模様のない光熱写真画像形成材料 | |
JP2003121964A (ja) | 熱現像感光材料及びその処理方法 | |
JP2002122959A (ja) | 熱現像材料 | |
JP2002049121A (ja) | 熱現像写真感光材料及びそれを用いた画像形成方法 | |
JP2005134434A (ja) | 熱現像感光材料 | |
JP2001083654A (ja) | 銀色調を改良した熱現像感光材料 | |
JP2002169250A (ja) | 光熱写真画像形成材料 | |
JP2002196452A (ja) | 光熱写真画像形成材料 | |
JP2003057781A (ja) | 銀色調を改良した光熱写真画像形成材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060606 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070807 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071002 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071119 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |