JP4031263B2 - 半導体レーザ装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体レーザ装置の製造方法に係り、特に分布帰還型半導体レーザの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
回折格子を光導波路リッジ内部に形成した従来の光導波路リッジを備えた分布帰還型半導体レーザ(以下、DFBレーザという)においては、半導体レーザ装置の製造方法の工程の一部である回折格子を形成する際に、リッジ幅より広めの回折格子形状の開口を有するSiO2膜のマスクパターンとこのマスクパターンの上層に形成されたリッジ幅と同じ幅を有し光導波路方向に延長された開口を備えたレジストパターンとを用いて、リッジ幅と同じ幅になる回折格子層のエッチングを行っていた。
【0003】
従来の回折格子の製造方法について説明する。
図33、図35、及び図39は、例えば特願2000−352450号に記載された従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの平面図で、図34は図33の34−34断面における半導体レーザの断面図、図36は図35の36−36断面における半導体レーザの断面図、図37は図35の37−37断面における半導体レーザの断面図、図38は図35の38−38断面における半導体レーザの断面図、そして図40は図39の40−40断面における半導体レーザの断面図である。
【0004】
まず、n型InP基板(以下“n型”を“n−”と、また“p型”を“p−”と表記する)上にn−InPクラッド層、n−AlInAsクラッド層、n−AlGaInAs光閉じ込め層、AlGaInAs量子井戸層、p−AlGaInAs光閉じ込め層、p−AlInAsクラッド層、p−InP層、p−InGaAsP層、及びp−InP層を積層成長させる。次いでSiO2絶縁膜を形成し、その上にレジスト膜を形成する。
次いで、約2000Åのピッチp10で、幅10μmでEB露光を行って(露光部はピッチp10の1/2で1000Å)現像し、レジストパターンを形成し、このレジストパターンを用いてSiO2絶縁膜をエッチングし、SiO2絶縁膜パターンを形成し、ついでレジストパターンを除去する。この工程の結果が図33及び図34である。
【0005】
図33および図34において122はSiO2絶縁膜パターン、122aはSiO2絶縁膜開口で、SiO2絶縁膜開口122aの長さa10はEBの露光幅10μmに相当し、SiO2絶縁膜開口122aの幅w10はEB露光のピッチp10の1/2、つまり1000Åに相当する。
図34において、101はn−InP基板、102はn−InPクラッド層、103はn−AlInAsクラッド層、104はn−AlGaInAs光閉じ込め層、105はAlGaInAs量子井戸層、106はp−AlGaInAs光閉じ込め層、107はp−AlInAsクラッド層、108はp−InP層、110はp−InGaAsP層、そして121はp−InP層である。
【0006】
図35、図36及び図37を参照して、次にSiO2絶縁膜パターン122上にレジストを塗布し、SiO2絶縁膜開口122aの並びに沿うレジストパターン開口124aを有するレジストパターン124を、写真製版工程により形成する。この工程の結果が図35、図36、図37及び図38である。
図35において、レジストパターン開口124aの幅(w20)は1.8μmでこの幅は後に形成する光導波路リッジの幅と同じになっている。
図37はp−InP層121がSiO2絶縁膜パターン122に覆われた部分の断面を、図38はp−InP層121がSiO2絶縁膜パターン122に覆われておらずレジストパターン開口124aの幅の寸法w20にて、表面に露呈した部分の断面を示している。
【0007】
次にSiO2絶縁膜パターン122とレジストパターン124とをマスクとし、エッチング媒体としてメタンガスと水素プラズマとを用いたドライエッチングにより、SiO2絶縁膜パターン122とレジストパターン124との無い部分つまり、図38にて断面で表面に露呈した部分の、p−InP層121とp−InGaAsP層110とがエッチングされ、p−InP層108を露呈させる。
ついで、SiO2絶縁膜パターン122とレジストパターン124とを除去する。この工程の結果が図39、及び図40である。
この後、p−InP層を埋込成長させることにより、p−InGaAs/p−InP層からなる回折格子層が形成される。
【0008】
この従来の回折格子の製造方法において、SiO2絶縁膜パターン122とレジストパターン124とをマスクとし、エッチング媒体としてメタンガスと水素プラズマとを用いたドライエッチングにおいて、エッチング媒体であるメタンガスと水素プラズマが有機物であるレジストと反応してエッチングレートを決めるメタンガスと水素プラズマの濃度が変化し、場合によってはレジストパターン開口124aの幅w20に沿った方向のエッチングの深さが均一にならないということが発生することがあった。
【0009】
図41は従来の回折格子のSiO2絶縁膜開口122aの幅w10に沿った方向の深さ分布を示す模式図、図42はレジストパターン開口124aの幅w20に沿った方向の深さ分布を示す模式図である。
図42から判るように、レジストに近い側の溝深さはエッチングレートが遅くなったために浅くなっている。またレジストの表面状態により、レジストとメタン及び水素プラズマとの反応が変化するためにエッチングレートのレジストの表面状態による依存性が発生し、ロット毎にエッチングレートが異なるということがあった。このために、リッジ導波路の幅方向において均一な厚さを有する回折格子の形成がし難く、半導体レーザのレーザ特性にばらつきが生じ、延いては半導体レーザ装置の歩留まりが低下するという問題点があった。
【0010】
この発明は上記の問題点を解消するためになされたもので、第1の目的は、均一な厚みの回折格子を有しレーザ特性の揃った半導体レーザを容易に製造することができる半導体レーザの製造方法を提供することである。
なお、公知技術として、特開平6−291408号公報がある。この公報には、回折格子を形成するパターン形成膜の材料として、レジスト、酸化膜あるいは窒化膜が使用されることが記載されている。
【0011】
また、特開昭62−165392号公報には、λ/4シフト型回折格子を形成するときに周期性が反転した各領域のエッチングをSiO2酸化膜のパターニング層とアルミニウム膜のパターニング層を使用して個別にエッチングする製造方法が記載されている。
【0012】
さらに、特開昭62−139503号公報には、特定の領域に回折格子を形成するために、特定の領域を窓とした第1のフォトレジストのマスクパターンと第1のフォトレジストと反応しない回折格子形成用の第2のフォトレジストのマスクパターンとを重ねて形成し、これら2種類のマスクパターンをマスクとしてエッチングし回折格子を形成する方法が記載されている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体レーザ装置の製造方法は、第1導電型の半導体基板上に、第1導電型の第1クラッド層、活性層、第2導電型の第1の第2クラッド層、第2導電型であって第2クラッド層と屈折率の異なる半導体層、及び第2導電型の第2の第2クラッド層を順次積層する第1の工程と、第3の第2クラッド層の表面上に第1の絶縁膜を形成し、この第1の絶縁膜により光導波路方向と交差する方向に所定の長さを有して延在する帯状の形状を有し光導波路方向に所定の間隔で複数並列した第1の開口部を有する第1の絶縁膜パターンを形成する第2の工程と、第1の絶縁膜パターンを介して半導体基板上に第2の絶縁膜を形成した後、第2の絶縁膜により光導波路方向に延在した帯状の形状を有しその幅が第1の開口部の光導波路方向と交差する方向の長さより狭い幅の第2の開口部を有する第2の絶縁膜パターンを、第1の絶縁膜パターンを残して形成する第3の工程と、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンをマスクとして第3の第2クラッド層および半導体層をエッチングし半導体層を貫通する第3の開口部を形成する第4の工程と、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンを除去し、第2導電型の第3の第2クラッド層により第3の開口部を介して第2の第2クラッド層および半導体層を埋込む第5の工程と、を含むもので、第1の開口部を有するマスクパターンと第2の開口を有するマスクパターンとをともに絶縁膜とすることにより、エッチングの際にマスクパターン材料とエッチング媒体との反応が起こりにくくし、マスクパターン材料とエッチング媒体との反応に基づくエッチングレートの不安定な変動を抑制することができる。
【0014】
さらに、第1の工程において、活性層を量子井戸構造とするとともに、第1クラッド層と活性層との間に第1導電型の第1光閉じ込め層を、活性層と第1の第2クラッド層との間に第2導電型の第2光閉じ込め層をそれぞれさらに形成するもので、量子井戸構造の半導体レーザの製造方法において第1の開口部を有するマスクパターンと第2の開口を有するマスクパターンとをともに絶縁膜とすることにより、エッチングの際にマスクパターン材料とエッチング媒体との反応が起こりにくくし、マスクパターン材料とエッチング媒体との反応に基づくエッチングレートの不安定な変動を抑制することができる。
【0015】
またさらに、第3の工程において、所定のエッチング媒体に対して第1の絶縁膜のエッチングレートが第2の絶縁膜のエッチングレートより小さくなるようにするもので、第1の絶縁膜パターンを残し第2の開口部の形成を行うための第2の絶縁膜のエッチングの制御を行いやすくすることができる。
【0016】
さらに、第1の絶縁膜をSiO2膜、第2の絶縁膜をSiN膜としたもので、扱いやすい材料で、第1の絶縁膜パターンを残し第2の開口部の形成を行うための第2の絶縁膜のエッチングの制御を行いやすくすることができる。
【0017】
またさらに、第4の工程において、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンをマスクとして、メタンガスと水素プラズマとをエッチング媒体としたドライエッチングによりエッチングするもので、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンがエッチング媒体との反応を起こしにくいので、エッチング媒体の濃度が安定し、ドライエッチングの際のエッチングレートを安定させることができる。
【0018】
またさらに、第3の第2クラッド層上に第3の絶縁膜を形成し、この第3の絶縁膜により第3の開口部の直上において第3の開口部と対向し第3の開口部の光導波路方向と交差する方向の長さに対応した幅を有して光導波路方向に延在した帯状の部分を残しこの帯状の部分の両側に所定の幅の第4の開口を有する第3の絶縁膜パターンを形成し、この第3の絶縁膜パターンをマスクとして、第1の第2クラッド層を除去し第1の第2クラッド層の下層表面を露呈させるエッチング工程をさらに含むもので、リッジ光導波路型の半導体レーザにおいて、第1の開口部を有するマスクパターンと第2の開口を有するマスクパターンとをともに絶縁膜とすることにより、エッチングの際にマスクパターン材料とエッチング媒体との反応が起こりにくくし、マスクパターン材料とエッチング媒体との反応に基づくエッチングレートの不安定な変動を抑制することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
図1は、この発明の一つの実施の形態に係る半導体レーザの一部破断斜視図である。図2は図1の2−2断面における半導体レーザの断面図である。
【0020】
図1および図2において、80はこの実施の形態に係るリッジ導波路を備えたDFBレーザである。82は光導波路リッジで半導体レーザ80の中央部にレーザ光の出射方向に延在している。
1は半導体基板としてのn−InP基板、2はn−InP基板1の上に配設された第1クラッド層としてのn−InPの第1nクラッド層で厚さは1μm、キャリア濃度はN=1×1018cm−3、3はn−第1クラッド層2の上に配設されたn−AlInAsクラッド層で厚さは0.1μm、キャリア濃度はN=1×1018cm−3、4はn−AlInAsクラッド層3の上に配設された第1導電型の第1光閉じ込め層としてのn−AlGaInAsのn−光閉じ込め層で厚さは0.1μm、キャリア濃度はN=1×1018cm−3、5は活性層としてのAlGaInAsの量子井戸層で、この実施の形態では量子井戸構造の活性層を用いているが、バルクの活性層でもよい。
【0021】
6は量子井戸層5の上に配設された第2導電型の第2光閉じ込め層としてのp−AlGaInAsのp−光閉じ込め層で厚さは0.1μm、キャリア濃度はN=1×1018cm−3、7はp−光閉じ込め層6の上に配設されたp−AlInAsクラッド層で厚さは0.1μm、キャリア濃度はN=1、×1018cm−3である。
【0022】
8は光導波路リッジ82の最下層の第2導電型の第1の第2クラッド層としてのp−InPの第1p−クラッド層で厚さは0.1μm、キャリア濃度はN=1×1018cm−3、9はp−第1InP層8上に配設されたp−InGaAsP層9aとp−InP層9bとで構成される回折格子層(以下、p−InGaAsP層9aとp−InP層9bとの構成をp−InGaAsP/p−InPと表記する)で、回折格子層9は光導波方向にピッチp1=2000Åの周期構造を有し、p−InGaAsP層9aとp−InP層9bはともにp1/2、つまり1000Åで交互に配設されている。p−InGaAsP層9aの厚みは0.06μm、キャリア濃度は1×1018cm−3である。
【0023】
10は回折格子層9の上に配設された第2導電型の第2の第2クラッド層としてのp−InPからなる第2p−クラッド層、11は第2p−クラッド層10の上に配設された第2導電型の第3の第2クラッド層としてのp−InPからなる第3p−クラッド層で、第2p−クラッド層10と第3p−クラッド層11とで厚さが1.5μm、キャリア濃度は1×1018cm−3、12はp−InGaAsのコンタクト層で、厚さが0.1μm、キャリア濃度は1×1019cm−3である。光導波路リッジ82は第1p−クラッド層8、回折格子層9、第2p−クラッド層10、第3p−クラッド層11及びコンタクト層12により構成され、光導波路リッジ82の幅は1.8μmである。
【0024】
13は半導体レーザ表面を覆うSiO2絶縁膜で、光導波路リッジ82の頂部に光導波路方向に延長された電流経路となる開口部13aを有している。14はTi層とAu層で構成された半導体レーザ80のp型電極、15はn−InP基板1の裏面上に配設されたAu層、Ge層、Ni層及びAu層で構成された半導体レーザ80のn型電極である。
【0025】
次に半導体レーザ80の製造方法について説明する。
図3,図4、図6、図7、図9、図11、図13、図14、図16,図17、図19、図20、図22、図23、図24、図27、図28、図29、図30、図31、及び図32はこの発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの断面図、図5、図8、及び図21はこの発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの平面図、図10、図12、図15、及び図18はこの発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの一部透過平面図である。これらの平面図または一部透過平面図における斜線は断面を示すためではなく、各層を明確にするために画いたものである。
【0026】
また、図6は図5の6−6断面における、図9は図8の9−9断面における、図11は図10の11−11断面における、図13は図12の13−13断面における、図14は図12の14−14断面における、図16は図15の16−16断面における、図17は図15の17−17断面における、図19は図18の19−19断面における、図20は図18の20−20断面における、図22は図21の22−22断面における、図23は図21の23−23断面における、図24は図21の24−24断面における断面図である。
【0027】
また、図3,図4、図6、図7、図9、図11、及び図24は光導波路に沿う方向の断面における断面図、図13、図14、図16,図17、図19、図20、図22、図23、図27、図28、図29、図30、図31、及び図32は光導波路に直交する断面における断面図である。
【0028】
図3に示すように、n−InP基板1となるn−InP基板31上に、n−第1クラッド層2としてのn−InP層32、n−AlInAsクラッド層3としてのn−AlInAs層33、n−光閉じ込め層4としてのn−AlGaInAs34、量子井戸層5としてのAlGaInAs量子井戸層35、p−光閉じ込め層6としてのp−AlGaInAs層36、p−AlInAsクラッド層7としてのp−AlInAs層37、第1p−クラッド層8としてのp−InP層38、p−InGaAsP/p−InPの回折格子層9の一方を構成するp−InGaAsP層39、および第2p−クラッド層10としてのp−InP層40を、例えばMOCVD法により順次積層成長させる。このウエハに写真製版の位置合わせ用にマーカー(図示せず)をエッチングにより形成しておく。
【0029】
次に図4に示すように、例えばプラズマCVDにより、p−InP層40の表面にSiO2絶縁膜41を形成し、このSiO2絶縁膜41表面にレジスト膜42を塗布する。
次に図5及び図6に示すように、レジスト膜42において長さa1=10μm、幅w1=1000Åの矩形状領域を、光導波路方向にピッチp1=2000Åで周期的にEB露光を行い現像し、レジスト膜開口42bを有するレジストパターン42aを形成する。
回折格子層9の幅は1.8μmで、レジスト膜開口42bの長さa1=10μmは回折格子層9の幅より大幅に長くなっているが、これを最初から短く形成するとパターンむらが発生して、正確なパターニングができないためである。
【0030】
次に図7に示すように、レジストパターン42aをマスクとして、エッチング媒体としてCHF3とO2ガスとを用い、ドライエッチングを行い、SiO2絶縁膜41を完全に除去し、p−InP層40を露呈させる。
次に図8および図9に示すようにレジストパターン42aを除去する。これによりSiO2絶縁膜開口41bを有するSiO2絶縁膜パターン41aを形成する。次に図10および図11に示すように、SiO2絶縁膜パターン41aを介して全面に、例えばプラズマCVDによりSiN絶縁膜43を形成する。図10においてSiN絶縁膜43は透過層で示し斜線を施している。
【0031】
次に図12に示すように、SiN絶縁膜43の表面上にレジスト膜を塗布し、最初に形成したマーカーを基準にしてステッパーによる写真製版工程により、SiO2絶縁膜開口41bの配列の直上において光導波路方向の沿って、リッジ光導波路82と同じ幅のレジスト膜開口44bを有するレジストパターン44を形成する。レジスト膜開口44bの開口幅w2は約1.8μmである。
図13はSiO2絶縁膜開口41bがある部分の断面図であり、図14はSiO2絶縁膜開口41bが無い部分の断面図である。また図12の光導波路方向に沿った断面であるA−A断面では図11と同じ図になる。
【0032】
次に、図15、図16及び図17に示すように、レジストパターン44をマスクとして、エッチング媒体としてCHF3とO2との混合ガスを用いて、SiN絶縁膜43の下層のSiO2絶縁膜パターン41aを残しながら、SiN絶縁膜43のドライエッチングを行い完全に除去し、SiN絶縁膜開口43bを有するSiN絶縁膜パターン43aを形成する。SiN絶縁膜開口43bの開口幅はw2である。
CHF3とO2との混合ガスを用いた場合には、SiN絶縁膜43のエッチングレートはSiO2絶縁膜パターン41aのエッチングレートに比べて3倍程度速いので、エッチング時間によるエッチングの制御が容易になり、安定したドライエッチングが可能となる。
【0033】
図16はSiO2絶縁膜開口41bがある部分の断面図であり、図17はSiO2絶縁膜開口41bが無い部分の断面図である。図15においてはSiN絶縁膜パターン43aとレジストパターン44とを透過層として画きそれぞれの斜線を重ねて画いている。また図15の光導波路方向に沿った断面であるB−B断面では図9と同じ図になる。
次に、図18、図19、及び図20に示すように、レジストパターン44を除去する。図19はSiO2絶縁膜開口41bがある部分の断面図であり、図20はSiO2絶縁膜開口41bが無い部分の断面図である。図18においてはSiN絶縁膜パターン43aを透過層として画き、斜線を施している。
【0034】
次に、図21、図22、図23、及び図24に示すように、SiN絶縁膜パターン43aとSiO2絶縁膜パターン41aとをマスクとして、エッチング媒体としてメタンガスと水素プラズマとを用いて、p−InP層40とp−InGaAsP層39とをエッチングして除去し、この結果形成された開口45を介してp−InP層38を露呈させる。この後SiN絶縁膜パターン43aとSiO2絶縁膜パターン41aとを除去する。
図22は開口45のある部分の断面図で、図23は開口45の無い部分の断面図である。
【0035】
形成された開口45は光導波方向の幅がw1つまり1000Åで、光導波方向と直交する方向の長さがw2つまり1.8μmの矩形状であり、光導波方向に1000Å間隔で、つまりピッチp1=2000Åで、並列している。
p−InP層40とp−InGaAsP層39とをエッチングするこの工程において、この実施の形態ではSiN絶縁膜パターン43aを使用しているが、従来技術ではレジストパターンを使用していた。このためエッチング媒体として使用しているメタンガスと水素プラズマとがレジストパターンと反応して、エッチング媒体の濃度が不安定になり、エッチングレートに影響を及ぼしていたが、SiN絶縁膜パターン43aを使用することにより、エッチング媒体として使用しているメタンガスと水素プラズマとがSiN絶縁膜パターン43aと反応し難いために、エッチングに際してエッチング媒体の濃度が安定し、エッチングレートが変動しにくくなった。このため各ロット毎の開口45の深さが均一に形成され、光導波方向と直交する方向の回折格子層9の厚みが均一に形成されるようになった。
【0036】
なおこの実施の形態1では、SiN絶縁膜パターン43aとSiO2絶縁膜パターン41aとをマスクとして用いているが、SiN絶縁膜パターン43aに替えてSiO2絶縁膜パターンを用いても構わない。
図25及び図26はこの発明の一実施の形態に係る半導体レーザの回折格子層の開口の深さを示す模式図である。
従来の製造方法によって形成された回折格子層の開口の深さ形状を示す図41及び図42と比較して、この実施の形態に係る製造方法により形成された開口45においては、光導波方向と直交する方向の深さが均一に形成されていることが判る。
【0037】
次に図27に示すように、開口45を介して、p−InP層38の表面上に第3p−クラッド層11としてのp−InP層46を埋込成長させる。この埋込成長により、p−InGaAsP/p−InPの回折格子層9が形成されたことになる。さらにp−InP層46の上にコンタクト層12としてのp−InGaAs層47を形成する。
次に図28に示すように、p−InGaAs層47の表面上にSiO2絶縁膜を形成し、開口45の真上に光導波方向と直交する方向の長さがw2つまり1.8μmの幅で光導波方向に延在した帯状の部分を残して、この両側に光導波路リッジ82を形成するための開口48bを有するSiO2絶縁膜パターン48を形成する。
次に、図29に示すように、SiO2絶縁膜パターン48をマスクとしてドライエッチングにより、p−InGaAs層47を完全に除去し、p−InP層46の途中までエッチングする。
【0038】
次に、図30に示すように、SiO2絶縁膜パターン48をマスクとしてウエットエッチングによりp−InP層46、p−InP層40を完全に除去し、p−InGaAsP層39で止める。
このエッチングのエッチング液としては、例えば塩酸とリン酸の混合液(混合比は塩酸対リン酸が1:2)を用いる。この塩酸とリン酸の混合液を用いればInP層とInGaAsP層のエッチングの選択比が大きく、つまりInP層のエッチングレートが速く、InGaAsP層のエッチングレートが遅いので、InGaAsP層47で止めることができる。また塩酸とリン酸の混合液は下部方向にのみエッチングが進み、横方向にはほとんどエッチングされないので、垂直なリッジを形成することができる。
さらにSiO2絶縁膜パターン48をマスクとして、ドライエッチングによりp−InGaAsP層39を完全に除去し、p−InP層38の途中までエッチングする。
【0039】
次に図31に示すように、SiO2絶縁膜パターン48をマスクとして、ウエットエッチングにより、p−InP層38を完全に除去し、p−AlInAs層37に少し入り込む程度で止める。
このエッチングのエッチング液としては、例えば塩酸とリン酸の混合液(混合比は塩酸対リン酸が1:2)を用いる。AlInAs層のエッチングレートはInP層に比べて少し遅くなるので、エッチングレートを考慮し、エッチング時間を設定することにより、p−AlInAs層37に少し入り込む程度で止めることができる。
【0040】
先の開口45が光導波方向と直交する方向の長さをw2つまり1.8μmとし、後に形成するリッジ幅と同じにする理由は、p−InP層38を除去するエッチングの際にp−InP層とp−AlInAs層との間にあまりエッチングレートの差がないことに起因している。
すなわち、ウエットエッチングによりp−InP層46、p−InP層40を完全に除去し、p−InGaAsP層39で止める工程において、エッチングの制御はエッチング時間により行うため少しオーバーエッチ気味にエッチング時間を設定する。
【0041】
このためにp−InGaAsP/p−InPの回折格子層9が後に形成するリッジ幅より広い幅で形成されていると、p−InGaAsP層39がある部分ではエッチングが停止するがp−InGaAsP層39が無い部分ではさらにエッチングが進む。
この後、p−InGaAsP層39をドライエッチングにより除去したとしてもp−InGaAsP層39のあったところと無かったところでは、p−InP層38の厚みが異なり、p−InP層とp−AlInAs層との間にあまりエッチングレートの差がないことから、p−InP層38をエッチングするときに設定されたエッチング時間において、このp−InP層38の厚みの差によって、p−AlInAs層37に深くエッチングされる部分が発生する。そうするとレーザ特性にばらつきが生じやすくなるために回折格子層9の幅とリッジ幅とを同じに形成しておくのである。
【0042】
次に図32に示すように、SiO2絶縁膜パターン48を除去し、改めてウエハ全面にSiO2絶縁膜49を形成し、光導波路リッジ82の頂部に電流経路としての開口49aを形成する。
さらに、SiO2絶縁膜49上にTi層とAu層で構成された半導体レーザ80のp型電極及びn−InP基板31を所定の厚さに研磨しこのn−InP基板31の裏面上に配設されたAu層、Ge層、Ni層及びAu層で構成されたn型電極を形成し、図1及び図2に示された半導体レーザ80として完成する。
【0043】
以上述べたようにこの実施の形態に係る半導体レーザの製造方法においては、p−InGaAsP/p−InPの回折格子層9の形成に際して、光導波路リッジと同じ幅の開口45を形成するドライエッチングにおいて、エッチング媒体としてメタンガスと水素プラズマとを用いてSiN絶縁膜パターン43aとSiO2絶縁膜パターン41aとをマスクとして、p−InP層40とp−InGaAsP層39とをエッチングして除去している。
このためマスクパターンとエッチング媒体との反応を防止することができ、マスクパターンとエッチング媒体との反応に基づきエッチング媒体の濃度が変動するという不具合を防止することができ、エッチングの際のエッチングレートが不安定に変動することを防止することができる。
【0044】
従って、p−InP層40とp−InGaAsP層39とに形成された開口45の深さを均一にすることができ、回折格子層の厚みを均一にすることができる。延いては、安定した光学特性を有する回折格子を形成することができ、レーザ特性の安定した光導波路リッジを備えたDFBレーザを形成することができる。このためレーザ特性の揃った半導体レーザ装置を安価に提供することができる。
【0045】
【発明の効果】
この発明に係る半導体レーザ装置の製造方法は以上に説明したような工程を備えているので、以下のような効果を有する。
この発明に係る半導体レーザ装置の製造方法においては、第1導電型の半導体基板上に、第1導電型の第1クラッド層、活性層、第2導電型の第1の第2クラッド層、第2導電型であって第2クラッド層と屈折率の異なる半導体層、及び第2導電型の第2の第2クラッド層を順次積層する第1の工程と、第3の第2クラッド層の表面上に第1の絶縁膜を形成し、この第1の絶縁膜により光導波路方向と交差する方向に所定の長さを有して延在する帯状の形状を有し光導波路方向に所定の間隔で複数並列した第1の開口部を有する第1の絶縁膜パターンを形成する第2の工程と、第1の絶縁膜パターンを介して半導体基板上に第2の絶縁膜を形成した後、第2の絶縁膜により光導波路方向に延在した帯状の形状を有しその幅が第1の開口部の光導波路方向と交差する方向の長さより狭い幅の第2の開口部を有する第2の絶縁膜パターンを、第1の絶縁膜パターンを残して形成する第3の工程と、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンをマスクとして第3の第2クラッド層および半導体層をエッチングし半導体層を貫通する第3の開口部を形成する第4の工程と、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンを除去し、第2導電型の第3の第2クラッド層により第3の開口部を介して第2の第2クラッド層および半導体層を埋込む第5の工程と、を含むもので、第1の開口部を有するマスクパターンと第2の開口を有するマスクパターンとをともに絶縁膜とすることにより、エッチングの際にマスクパターン材料とエッチング媒体との反応が起こりにくくし、マスクパターン材料とエッチング媒体との反応に基づくエッチングレートの不安定な変動を抑制することができる。
従って、回折格子層の厚みを均一にすることができるので、安定した光学特性を有する回折格子を形成することができ、レーザ特性の安定したDFBレーザを形成することができる。延いてはレーザ特性の揃ったDFBレーザ装置を安価に提供することができる。
【0046】
さらに、第1の工程において、活性層を量子井戸構造とするとともに、第1クラッド層と活性層との間に第1導電型の第1光閉じ込め層を、活性層と第1の第2クラッド層との間に第2導電型の第2光閉じ込め層をそれぞれさらに形成するもので、活性層が量子井戸構造の半導体レーザの製造方法において、第1の開口部を有するマスクパターンと第2の開口を有するマスクパターンとをともに絶縁膜とすることにより、エッチングの際にマスクパターン材料とエッチング媒体との反応が起こりにくくし、マスクパターン材料とエッチング媒体との反応に基づくエッチングレートの不安定な変動を抑制することができる。
従って、活性層が量子井戸構造の半導体レーザにおいて回折格子層の厚みを均一にすることができるので、安定した光学特性を有する回折格子を形成することができ、レーザ特性の安定したDFBレーザを形成することができる。延いてはレーザ特性の揃ったDFBレーザ装置を安価に提供することができる。
【0047】
またさらに、第3の工程において、所定のエッチング媒体に対して第1の絶縁膜のエッチングレートが第2の絶縁膜のエッチングレートより小さくなるようにするもので、第1の絶縁膜パターンを残し第2の開口部の形成を行うための第2の絶縁膜のエッチングの制御を行いやすくすることができる。このため回折格子の製造工程を簡易に行うことができる。延いてはDFBレーザ装置の歩留まりを高めることができる。
【0048】
さらに、第1の絶縁膜をSiO2膜、第2の絶縁膜をSiN膜としたもので、扱いやすい材料で、第1の絶縁膜パターンを残し第2の開口部の形成を行うための第2の絶縁膜のエッチングの制御を行いやすくすることができる。このため回折格子の製造工程をさらに簡易に行うことができる。延いてはDFBレーザ装置を安価に、歩留まりを高めることができる。
【0049】
またさらに、第4の工程において、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンをマスクとして、メタンガスと水素プラズマとをエッチング媒体としたドライエッチングによりエッチングするもので、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンがエッチング媒体との反応を起こしにくいので、エッチング媒体の濃度が安定し、ドライエッチングの際のエッチングレートを安定させることができる。従って、良好な特性を有する回折格子を安定的に効率よく形成することができ、延いてはレーザ特性の揃ったDFBレーザ装置を安価に提供することができる。
【0050】
またさらに、第3の第2クラッド層上に第3の絶縁膜を形成し、この第3の絶縁膜により第3の開口部の直上において第3の開口部と対向し第3の開口部の光導波路方向と交差する方向の長さに対応した幅を有して光導波路方向に延在した帯状の部分を残しこの帯状の部分の両側に所定の幅の第4の開口を有する第3の絶縁膜パターンを形成し、この第3の絶縁膜パターンをマスクとして、第1の第2クラッド層を除去し第1の第2クラッド層の下層表面を露呈させるエッチング工程をさらに含むもので、リッジ光導波路型の半導体レーザにおいて、第1の開口部を有するマスクパターンと第2の開口を有するマスクパターンとをともに絶縁膜とすることにより、エッチングの際にマスクパターン材料とエッチング媒体との反応が起こりにくくし、マスクパターン材料とエッチング媒体との反応に基づくエッチングレートの不安定な変動を抑制することができる。
従って、光導波路リッジを備えたDFBレーザにおいて回折格子層の厚みを均一にすることができるので、安定した光学特性を有する回折格子を形成することができ、レーザ特性の安定した光導波路リッジを備えたDFBレーザを形成することができる。延いてはレーザ特性の揃ったリッジ導波路型DFBレーザ装置を安価に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一つの実施の形態に係る半導体レーザの一部破断斜視図である。
【図2】 図1の2−2断面における半導体レーザの断面図である。
【図3】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図4】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図5】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの平面図である。
【図6】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図7】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図8】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの平面図である。
【図9】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図10】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの一部透過平面図である。
【図11】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図12】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの一部透過平面図である。
【図13】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図14】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図15】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの一部透過平面図である。
【図16】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図17】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図18】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの一部透過平面図である。
【図19】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図20】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図21】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一工程における半導体レーザの平面図である。
【図22】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図23】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図24】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図25】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの回折格子層の開口の深さを示す模式図である。
【図26】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの回折格子層の開口の深さを示す模式図である。
【図27】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図28】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図29】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図30】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図31】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図32】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一工程における半導体レーザの断面図である。
【図33】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの平面図である。
【図34】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの断面図である。
【図35】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの平面図である。
【図36】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの断面図である。
【図37】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの断面図である。
【図38】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの断面図である。
【図39】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの平面図である。
【図40】 従来の半導体レーザの製造方法の一工程を示す半導体レーザの断面図である。
【図41】 従来の半導体レーザの回折格子層の開口の深さを示す模式図である。
【図42】 従来の半導体レーザの回折格子層の開口の深さを示す模式図である。
【符号の説明】
31 n−InP基板、 32 n−InP層、 35 AlGaInAs量子井戸層、 38 p−InP層、 39 p−InGaAsP層、 40 p−InP層、 41 SiO2絶縁膜41、 41b SiO2絶縁膜開口、 41a SiO2絶縁膜パターン、 43 SiN絶縁膜、 43b SiN絶縁膜開口、 43a SiN絶縁膜パターン、 45 開口、46 p−InP層、 34 n−AlGaInAs層、 36 p−AlGaInAs層、 48b 開口、 48 SiO2絶縁膜パターン。
Claims (6)
- 第1導電型の半導体基板上に、第1導電型の第1クラッド層、活性層、第2導電型の第1の第2クラッド層、第2導電型であって第2クラッド層と屈折率の異なる半導体層、及び第2導電型の第2の第2クラッド層を順次積層する第1の工程と、
第3の第2クラッド層の表面上に第1の絶縁膜を形成し、この第1の絶縁膜により光導波路方向と交差する方向に所定の長さを有して延在する帯状の形状を有し光導波路方向に所定の間隔で複数並列した第1の開口部を有する第1の絶縁膜パターンを形成する第2の工程と、
第1の絶縁膜パターンを介して半導体基板上に第2の絶縁膜を形成した後、第2の絶縁膜により光導波路方向に延在した帯状の形状を有しその幅が第1の開口部の光導波路方向と交差する方向の長さより狭い幅の第2の開口部を有する第2の絶縁膜パターンを、第1の絶縁膜パターンを残して形成する第3の工程と、
第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンをマスクとして第3の第2クラッド層および半導体層をエッチングし半導体層を貫通する第3の開口部を形成する第4の工程と、
第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンを除去し、第2導電型の第3の第2クラッド層により第3の開口部を介して第2の第2クラッド層および半導体層を埋込む第5の工程と、
を含む半導体レーザ装置の製造方法。 - 第1の工程において、活性層を量子井戸構造とするとともに、第1クラッド層と活性層との間に第1導電型の第1光閉じ込め層を、活性層と第1の第2クラッド層との間に第2導電型の第2光閉じ込め層をそれぞれさらに形成することを特徴とした請求項1記載の半導体レーザ装置の製造方法。
- 第3の工程において、所定のエッチング媒体に対して第1の絶縁膜のエッチングレートが第2の絶縁膜のエッチングレートより小さくなることを特徴とした請求項1または2記載の半導体レーザ装置の製造方法。
- 第1の絶縁膜をSiO2膜、第2の絶縁膜をSiN膜としたことを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
- 第4の工程において、第2の絶縁膜パターン及び第1の絶縁膜パターンをマスクとして、メタンガスと水素プラズマとをエッチング媒体としたドライエッチングによりエッチングすることを特徴とした請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
- 第3の第2クラッド層上に第3の絶縁膜を形成し、この第3の絶縁膜により第3の開口部の直上において第3の開口部と対向し第3の開口部の光導波路方向と交差する方向の長さに対応した幅を有して光導波路方向に延在した帯状の部分を残しこの帯状の部分の両側に所定の幅の第4の開口を有する第3の絶縁膜パターンを形成し、この第3の絶縁膜パターンをマスクとして、第1の第2クラッド層を除去し第1の第2クラッド層の下層表面を露呈させるエッチング工程をさらに含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
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