JP4023476B2 - スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を持った方位計 - Google Patents

スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を持った方位計 Download PDF

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Description

本発明はスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を用いた方位計、特にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子にバイアス磁界を印加しながら方位を測定する方位計に関するものである。
本出願人は異方性磁気抵抗効果素子と平面コイルとを組み合わせた方位計を既に出願しており、特許文献1として公開されている。特許文献1の方位計は図14に分解斜視図で示すように、ほぼ方形をした平面コイル1と、平面コイルに平行で近接した平面に8個の磁気抵抗効果素子61,62,71,72,81,82,91,92を持っている。2個の磁気抵抗効果素子(例えば、61,72)が平面コイルの各辺(例えば、11)とそれら磁気抵抗効果素子の長手方向とほぼ45°で交差しており、それら2個の磁気抵抗効果素子の長手方向は互いに直角となっている。そして平面コイルの対向している2辺(例えば、11と12)のそれぞれと交差しており、互いに長手方向が直角となっている2個の磁気抵抗効果素子(例えば、61と62、71と72)によって磁気抵抗効果素子対6,7,8,9を形成している。磁気抵抗効果素子対(例えば、6)の一方の端部同士が接続されていて、磁気抵抗効果素子対(例えば、6)の他の端部間に測定用電圧Vccが印加される。平面コイルによって磁気抵抗効果素子対にバイアス磁界を印加している間に、磁気抵抗効果素子対6,7,8,9の接続されている端部から磁気抵抗効果素子対の中点電位を取り出し、平面コイル1の対向している2辺11と12と交差している2組の磁気抵抗効果素子対6と7の中点電位差Vxを求める。平面コイル1の対向している他の2辺13と14と交差している他の2組の磁気抵抗効果素子対8、9についても同様に中点電位差Vyを求める。次に平面コイル1によって磁気抵抗効果素子対6,7,8,9に反対方向のバイアス磁界を印加している間に、同様に平面コイル1の対向している2辺11と12と交差している2組の磁気抵抗効果素子対6、7の中点電位差Vxを求め、平面コイル1の対向している他の2辺13と14と交差している他の2組の磁気抵抗効果素子対8、9についても同様に中点電位差Vyを求める。そして、平面コイルの一方の対向している2辺11,12と交差している2組の磁気抵抗効果素子対6,7について、先に印加したバイアス磁界をかけているときに求めた中点電位差Vxと、反対方向バイアス磁界をかけているときに求めた中点電位差Vxとの差電圧を求め、平面コイルの他の対向している2辺13,14と交差している2組の磁気抵抗効果素子対8,9について、先に印加したバイアス磁界をかけているときに求めた中点電位差Vyと、反対方向バイアス磁界をかけているときに求めた中点電位差Vyとの差電圧を求める。そしてこれら2個の差電圧の比から外部磁界(例えば、地磁気)の方向を求めるようになっている。
磁気抵抗効果素子は、電流の流す方向と直角方向に印加した磁界の強さに応じて電流に対する抵抗が変化し、電流と直角な磁界が強くなるに従って抵抗が小さくなる。方位計として用いる場合、各磁気抵抗効果素子の抵抗変化率がほぼ同一であることが望ましく、そのために上で説明した方位計の各磁気抵抗効果素子は長手方向に結晶磁気異方性を付けている。
特開2002−310659
特許文献1に示されている方位計では図14に示すように、4個の磁気抵抗効果素子61,71,81,91と4個の磁気抵抗効果素子62,72,82,92とはそれらの長手方向が互いに垂直となっている。これら8個の磁気抵抗効果素子にそれぞれの長手方向に結晶磁気異方性を付けるには、同じ方向の4個の磁気抵抗効果素子61,71,81,91をそれらの長手方向に磁界を印加しながら形成し、その後でそれらと垂直な4個の磁気抵抗効果素子62,72,82,92をそれらの長手方向に磁界を印加しながら形成する必要があった。
また、磁気抵抗効果素子の幅方向にかかる外部磁界(地磁気等)を検出するので、幅方向寸法を小さくするとその反磁界の影響が大きくなって地磁気のように弱い磁界の測定には感度が悪くなるものであった。そこである程度の幅寸法を持った磁気抵抗効果素子にせざるを得なかったが、幅寸法を大きくすると磁気抵抗効果素子の抵抗が小さくなるので、測定用電圧を磁気抵抗効果素子対にかけたときの消費電力が大きくなっていた。そこで磁気抵抗効果素子の抵抗を上げるには磁気抵抗効果素子を長くすることになるが、磁気抵抗効果素子幅を広く、長さを長くすると磁気抵抗効果素子面積が大きくなるので、方位計を大きくする必要があった。
そこで、本発明では上記欠点を改善するために、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を用いた方位計を提供するものである。
本発明の方位計は、少なくとも部分的に互いに平行となっている対辺対を2組有し、その2組の対辺対は互いに垂直となっている平面コイルと、対辺対各組に2組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対とを有している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子は、平面コイル面の同じ側にあって、平面コイル面に平行で近接した平面内に設けられている。1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対はスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子2個からなる。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子それぞれは、強磁性体からなる固定層と強磁性体からなるフリー層とをそれらの間に非磁性層を挟んで積層し、更に反強磁性体からなる反強磁性層を固定層に隣接して積層して磁気的結合をさせた積層薄膜であり、積層薄膜の長手方向寸法に比してその幅方向寸法が十分に小さな形状をしている。各1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子と他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子とはそれらの長手方向が互いに直交し、前記一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層はその長手方向に磁化されているとともに、前記他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層は前記一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層の磁化と同じ向きに磁化されている。各1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対にある2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向が1組の対辺対の各1辺のみあるいは同じ1辺のみと実質的に45度で交差している。各1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の各一方の端部同士が接続されているとともに、他方の端部間に測定用電圧が印加されるようになっており、前記一方の端部から中点電位を取り出すようになっている。
1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向が対辺対の1辺のみと交差していることができる。あるいは、1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向が1組の対辺対の各1辺のみと交差していることができる。
本発明の方位計において、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子のフリー層の磁化が長手方向に飽和する大きさの直流磁界をスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に印加するのに十分な直流電流を平面コイルに供給し、そして
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に前記直流磁界よりも小さな所定の直流磁界を印加する直流電流を平面コイルに供給する電源を更に有していることが好ましい。
本発明の方位計において、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に前記所定の直流磁界を印加している間に、1組の対辺対と交差している2組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の中点電位の差を取り出し、他の1組の対辺対と交差している2組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の中点電位の差を取り出し、これら2個の中点電位の差に基づいて外部磁界の方位を求める演算器を更に有していることが好ましい。
本発明のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を用いた方位計は、方位計のすべての固定層を同じ方向に磁化しているので異方性化するのが容易であり、製造工程が単純になって製造が容易である。
また、フリー層の磁化の方向をコイルによるバイアス磁界で制御しているので、永久磁石を用いる必要がなく測定すべき弱い磁界を乱すおそれがない。
更に、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子は、異方性磁気抵抗効果素子や等方性巨大磁気抵抗効果素子と比べて、抵抗が高く素子を小型化することができ低消費電力とすることができる。
更に、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子は、異方性磁気抵抗効果素子や等方性巨大磁気抵抗効果素子と比べて、小型化しても感度の低下が少ないので、小型化することができる。
このような利点を本発明の方位計は持っていて、しかも外部磁界の印加された方向を測定することができる。
また、地磁気以外の磁界発生源より発せられる磁界方向とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の感軸方向とがなす角を測定する、角度センサーとしても用いることができる。
実施例1
本発明の実施例1の方位計を分解斜視図で図1に、またその回路図を図2に示している。図1、図2で1は平行四辺形状(ここでは正方形)をした平面コイルで数十回巻かれている。平面コイル1は、平行な対辺11と12とからなる対辺対と、平行な対辺13と14とからなる対辺対とを持っていて、これら対辺対は互いに垂直となっている。この実施例では、平面コイルが正方形となっているので、これら対辺対の2個の対辺は平行となっている。しかし、本発明ではこれらの対辺が少なくとも部分的に互いに平行となっていればよい。これらのコイル辺がスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子と交わっているところが平行となっていれば、コイル辺から生じる磁界の向きが互いに逆で同じ方向となる。平面コイル1に直流電流を供給する電源10が平面コイル1の端子に接続されている。この平面コイル面の同じ側に、この図では下側に、この平面コイル面に平行で近接した平面内にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2,3,4,5が4組設けられている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2,3,4,5それぞれは2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21と22,31と32,41と42,51と52からなっている。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の長手方向は平面コイル1の1辺11のみと実質的に45度で交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2の他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の長手方向は平面コイル1の同じ辺11のみと実質的に45度で交差している。これらスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21と22の一方の端部(この実施例では平面コイル1の内側にある端部)同士は接続されている。他のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3,4,5についても、各一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31,41,51の長手方向と各他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32,42,52の長手方向は平面コイル1の各辺12,13,14それぞれのみと、実質的に45度で交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31と32の一方の端部(この実施例では平面コイル1の内側にある端部)同士、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41と42の一方の端部(この実施例では平面コイル1の内側にある端部)同士、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51と52の一方の端部(この実施例では平面コイル1の内側にある端部)同士がそれぞれ接続されている。そして、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2,3,4,5それぞれの他方の端部間に測定用電圧Vccが印加されている。測定用電圧Vccは電源10′から供給することができる。また、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の接続している端部から出力を取り出し、取り出した出力を測定すべき磁界の方向(角度θ)に変換する演算器20が接続されている。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子それぞれは、後で詳しく説明するように、強磁性体からなる固定層と強磁性体からなるフリー層とをそれらの間にCu層などの非磁性層を挟んで積層し、反強磁性体からなる反強磁性層を固定層に隣接して磁気的結合をさせた積層薄膜である。固定層の磁化は固定層に隣接して設けられた反強磁性層によって一方向に固定されている。フリー層の磁化は外部磁界が印加されていない状態では、固定層の磁化と同じ方向に向いているが、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子積層薄膜の形状によって生じる形状異方性および外部磁界によってその磁化の方向が決まる。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子積層薄膜の幅方向寸法がその長手方向寸法に比して十分に小さくなっていて、その長手方向が形状異方性による磁化容易軸となっているので、フリー層の磁化は外部磁界が印加されていない状態で長手方向を向いている。
各組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子と他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子とはそれらの長手方向が互いに直交している。図2に示す実施例1の各スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対において、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21と22とはそれらの長手方向が互いに直交し、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31と32とはそれらの長手方向が互いに直交し、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41と42とはそれらの長手方向が互いに直交し、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51と52とはそれらの長手方向が互いに直交している。
図2に破線矢印30で示しているのが、各スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の反強磁性層の磁化の方向となっている。その方向に各スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層の磁化が固定されている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の固定層はその長手方向に磁化されていて、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の固定層はその幅方向に磁化されている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の固定層はその長手方向に磁化されていて、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の固定層はその幅方向に磁化されている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の固定層はその長手方向に磁化されていて、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の固定層はその幅方向に磁化されている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の固定層はその長手方向に磁化されていて、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の固定層はその幅方向に磁化されている。すなわち、1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層はその長手方向に磁化されていて、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層はその一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層の磁化と同じ向きに磁化されているということができる。
この方位計は基板上に、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を形成し、さらに平面コイルを形成している。基板の厚さは0.625mmである。基板上に成膜したスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子や平面コイルなどの薄膜の部分の厚さは、10〜20μmである。基板の縦横寸法は1.6mm×1.75mmである。
図1と図2から理解できるように、平面コイル1に直流電流を流したとき、平面コイル面に平行な面には、コイルの内側から外へ、あるいは外から内側へ向いた直流磁界が生じるので、図1の下半分に矢印で示しているように、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対に直流磁界が印加されることになる。図2で平面コイル1に時計廻りの電流Ibが流れるとスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21,22にはx方向の磁界が、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31,32には−x方向の磁界が、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41,42にはy方向の磁界が、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51,52には−y方向の磁界が印加される。平面コイル1にそれとは反対方向の電流−Ibが流されると各スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子には先ほどと反対方向の磁界が印加される。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子が形成されている平面は、平面コイルによる磁界がスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に十分にかかる程度に、平面コイルからの位置に設けられている。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子それぞれは、強磁性体からなる固定層と強磁性体からなるフリー層とをそれらの間に非磁性層を挟んで積層し、固定層上には隣接して反強磁性層を積層した積層薄膜であり、その長手方向寸法に対して薄膜の幅方向寸法が十分に小さい。例えば、Si基板上に85nm厚のAl膜と5nm厚のTa膜とを下地膜として、その上に5.0nm厚のNiFe合金膜及び1.0nm厚のCoFe合金からなる強磁性体層、2.3nm厚のCu層(非磁性層)、2.5nm厚のCoFe合金からなる強磁性体層、その上に20nm厚のMnPt合金からなる反強磁性層とを積層したスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を用いることができる。図3にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の一部を切り取って斜視図で示している。201は下地層であり5nm厚のTa膜で、その上にNiFe合金膜及びCoFe合金のフリー層211とCuの非磁性層221とが積層されている。その上にCoFe合金の強磁性体固定層231と反強磁性層241が積層されている。
強磁性体からなる固定層231内の磁化が反強磁性層241によって矢印232で示している方向に向いているとする。外部から磁界が印加されていない状態でフリー層211の磁化が矢印212で示す方向になっており、非磁性層221を挟んで隣り合っているフリー層211の磁化212と固定層231の磁化232とは平行となっている。そのように隣り合っている強磁性体層内の磁化が互いに平行となっているときには、それら強磁性体層に挟まれた非磁性層221を流れる電流に対する電気抵抗が最も小さい。外部磁界が加わってフリー層211内の磁化が回転して、非磁性層221を挟む両側の強磁性体層の磁化が同じ方向からずれてくると、電流に対する電気抵抗が大きくなる。
図4に非磁性層を流れる電流に対する電気抵抗を縦軸にとってグラフに示している。横軸は固定層の磁化と反対方向にかかる外部磁界強度である。外部磁界が印加されていない状態あるいは外部磁界の印加方向が固定層の磁化と同じ向きの時には、図4のグラフのaの位置となって抵抗が最も小さい。外部磁界が固定層の磁化と反対向きにかかってくると、フリー層の磁化が回転して、固定層の磁化と垂直となってくるので、抵抗は図4のグラフのbとなる。固定層の磁化と反対向きにかかった外部磁界が強くなって、フリー層の磁化が固定層の磁化と反平行となると抵抗が最も大きくなって図4のグラフのcとなる。更に外部磁界が強くなって固定層の磁化の向きも外部磁界の向きとなると、固定層の磁化とフリー層の磁化とが平行となるので、抵抗が低くなって図4のグラフのdとなる。次に外部磁界強度が減じると、抵抗はd→c→b→aと変化するが、固定層の磁化の回転には大きなヒステリシスがあるので、磁化が増すときに辿ったループよりも遅れたループを辿る。本発明の方位計で測定する外部磁界はそれほど強くないので、aとcとの間のbの領域を使って磁界の方向を測定する。
図2に示す実施例1の方位計に外部磁界40がx軸から角度θの方向に印加されたときの、各スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の抵抗を説明する。平面コイル1に予め時計廻りに大きな直流電流を流して、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子が外方向に飽和する大きさの磁界を印加して、すべてのスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子のフリー層の磁化がスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向に沿って平面コイルの内側から外側に向かうようにしておく。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子それぞれは長手方向の寸法に比して幅方向寸法が十分に小さいので形状磁気異方性が強く外部磁界を弱くするとフリー層の磁化は長手方向に揃う。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21ではその固定層の磁化は、破線矢印30の向きに反強磁性層で固定されているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の長手方向で外向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが平行となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗は図4のaの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21にx軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでaからbの方向に少し上がった値となる。バイアス直流電流Ibは図4のグラフで抵抗の値がaとcとの中間の適当な値となるように選択する。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22ではその固定層の磁化は、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の幅方向で外向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが垂直となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗は図4のbの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22にx軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでbからaの方向に少し下がった値となる。
図5にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗R21およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗R22に対するx軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。また図6にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗R21およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗R22に対するy軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。図5と図6でスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗R21をバイアス磁界を印加しているときの抵抗Rb1として示し、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗R22をバイアス磁界を印加しているときの抵抗Rb2として示す。強さHeの外部磁界40がx軸から角度θを持ってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22とに印加したときに、外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗R21は増すので抵抗R21はRb1から図5に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗R21は減じるので抵抗R21はRb1から図6に示すように変化する。外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗R22は減じるので抵抗R22はRb2から図5に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗R22は減じるので抵抗R22はRb2から図6に示すように変化する。
以上の結果を纏めると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21の抵抗R21とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22の抵抗R22とはそれぞれ次の式で示される。
R21=Rb1+β・He・cosθ−β・He・sinθ………(1)
R22=Rb2−β・He・cosθ−β・He・sinθ………(2)
なお、βはグラフの勾配(dR/dH)である。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32ではその固定層の磁化は、破線矢印30の向きに反強磁性層で固定されているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の長手方向で内向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが反平行となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗は図4のcの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32に−x軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでcからbの方向に少し下がった値となる。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31ではその固定層の磁化は、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の幅方向で内向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが垂直となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗は図4のbの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31に−x軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでbからcの方向に少し上がった値となる。
図7にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗R31およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗R32に対するx軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。また図8にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗R31およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗R32に対するy軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。図7と図8でスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗R31をバイアス磁界を印加しているときの抵抗Rb3として示し、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗R32をバイアス磁界を印加しているときの抵抗Rb4として示す。強さHeの外部磁界40がx軸から角度θを持ってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32とに印加したときに、外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗R31は減じるので抵抗R31はRb3から図7に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗R31は減じるので抵抗R31はRb3から図8に示すように変化する。外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗R32は増すので抵抗R32はRb4から図7に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗R32は減じるので抵抗R32はRb4から図8に示すように変化する。
以上の結果を纏めると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31の抵抗R31とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32の抵抗R32とはそれぞれ次の式で示される。
R31=Rb3−β・He・cosθ−β・He・sinθ………(3)
R32=Rb4+β・He・cosθ−β・He・sinθ………(4)
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41ではその固定層の磁化は、破線矢印30の向きに反強磁性層で固定されているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の長手方向で外向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが平行となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の抵抗は図4のaの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41にy軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでaからbの方向に少し上がった値となる。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42ではその固定層の磁化は、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の幅方向で外向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが垂直となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の抵抗は図4のbの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42にy軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでbからaの方向に少し下がった値となる。
図9にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の抵抗R41およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の抵抗R42に対するx軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。また図10にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の抵抗R41およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の抵抗R42に対するy軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。図9と図10でスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41にバイアス磁界を印加しているときの抵抗はRb1となり、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42にバイアス磁界を印加しているときの抵抗はRb2となる。強さHeの外部磁界40がx軸から角度θを持ってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42とに印加したときに、外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の抵抗R41は減じるので抵抗R41はRb1から図9に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の抵抗R41は増すので抵抗R41はRb1から図10に示すように変化する。外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の抵抗R42は減じるので抵抗R42はRb2から図9に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の抵抗R42は減じるので抵抗R42はRb2から図10に示すように変化する。
以上の結果を纏めると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41の抵抗R41とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42の抵抗R42とはそれぞれ次の式で示される。
R41=Rb1−β・He・cosθ+β・He・sinθ………(5)
R42=Rb2−β・He・cosθ−β・He・sinθ………(6)
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52ではその固定層の磁化は、破線矢印30の向きに反強磁性層で固定されているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の長手方向で内向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが反平行となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の抵抗は図4のcの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52に−y軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでcからbの方向に少し下がった値となる。
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51ではその固定層の磁化は、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の幅方向で内向きとなっている。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51のフリー層は予め平面コイルの外向きの磁界をかけて長手方向で外向きに磁化を向けている。固定層の磁化とフリー層の磁化とが垂直となっているので、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の抵抗は図4のbの位置にある。平面コイル1に時計廻りで適当な大きさのバイアス直流電流Ibを流していると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51に−y軸方向の直流磁界がかかるのでフリー層の磁化がその直流磁界の方向に傾くので、その抵抗が図4のグラフでbからcの方向に少し上がった値となる。
図11にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の抵抗R51およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の抵抗R52に対するx軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。また図12にスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の抵抗R51およびスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の抵抗R52に対するy軸方向の外部磁界強度の関係をグラフに示している。図11と図12でスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51にバイアス磁界を印加しているときの抵抗はRb3となり、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52にバイアス磁界を印加しているときの抵抗はRb4となる。強さHeの外部磁界40がx軸から角度θを持ってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52とに印加したときに、外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の抵抗R51は減じるので抵抗R51はRb3から図11に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の抵抗R51は減じるので抵抗R51はRb3から図12に示すように変化する。外部磁界40のx成分(He・cosθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の抵抗R52は減じるので抵抗R52はRb4から図11に示すように変化し、外部磁界40のy成分(He・sinθ)によってスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の抵抗R52は増すので抵抗R52はRb4から図12に示すように変化する。
以上の結果を纏めると、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51の抵抗R51とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52の抵抗R52とはそれぞれ次の式で示される。
R51=Rb3−β・He・cosθ−β・He・sinθ………(7)
R52=Rb4−β・He・cosθ+β・He・sinθ………(8)
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3との中点電位Vx2,Vx3は、式(1)〜(4)を用いて、それぞれ次の式で示される。
Vx2=Vcc・R22/(R21+R22)
≒Vcc・(Rb2−β・He・cosθ−β・He・sinθ)/(Rb1+Rb2)
Vx3=Vcc・R32/(R31+R32)
≒Vcc・(Rb4+β・He・cosθ−β・He・sinθ)/(Rb3+Rb4)
平面コイル1に時計廻りにバイアス電流Ibを流しているときの、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3との中点電位の差をVx(+)とすると、Vx(+)は次式となる。
Vx(+)=Vx2−Vx3
=Vcc・{(Rb2・(Rb3+Rb4)−Rb4・(Rb1+Rb2))/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))−β・He・cosθ・(Rb1+Rb2+Rb3+Rb4)/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))}
上式でVcc・(Rb2・(Rb3+Rb4)−Rb4・(Rb1+Rb2))/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))は、外部磁界の方向、大きさによって変化しない。そこでこれを定数Cと置くと、中点電位の差Vx(+)は次のように書き替えることができる。
V′x(+)=Vx(+)−C
=−Vcc・β・He・cosθ・(Rb1+Rb2+Rb3+Rb4)/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))……(9)
スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5との中点電位Vy4,Vy5は、式(5)〜(8)を用いて、それぞれ次の式で示される。
Vy4=Vcc・R42/(R41+R42)
≒Vcc・(Rb2−β・He・cosθ−β・He・sinθ)/(Rb1+Rb2)
Vy5=Vcc・R52/(R51+R52)
≒Vcc・(Rb4−β・He・cosθ+β・He・sinθ)/(Rb3+Rb4)
平面コイル1に時計廻りにバイアス電流Ibを流しているときの、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4とスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5との中点電位の差をVy(+)とすると、Vy(+)は次式となる。
Vy(+)=Vy4−Vy5
=Vcc・{(Rb2・(Rb3+Rb4)−Rb4・(Rb1+Rb2))/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))+β・He・sinθ・(Rb1+Rb2+Rb3+Rb4)/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))}
上式でVcc・(Rb2・(Rb3+Rb4)−Rb4・(Rb1+Rb2))/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))は、外部磁界の方向、大きさによって変化しない。そこでこれを定数Cと置くと、中点電位の差Vy(+)は次のように書き替えることができる。
V′y(+)=Vy(+)−C
=Vcc・β・He・cosθ・(Rb1+Rb2+Rb3+Rb4)/((Rb1+Rb2)・(Rb3+Rb4))……(10)
式(9)と(10)から外部磁界の加わる角度θは、
θ=−tan−1(V′y(+)/V′x(+))
となるので、実施例1の方位計によって外部磁界の加わる角度θを求めることができる。
実施例2
本発明の実施例2の方位計を回路図で図13に示す。この実施例においては、各スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向が1組の対辺対の一方の辺のみと実質的に45度で交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向がその対辺対の他方の辺のみと実質的に45度で交差している。すなわち、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対2の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子21が平面コイル1の1辺11と交差し、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子22がその対辺12と交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対3の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子31が平面コイル1の1辺12と交差し、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子32がその対辺11と交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対4の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子41が平面コイル1の1辺13と交差し、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子42がその対辺14と交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対5の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子51が平面コイル1の1辺14と交差し、他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子52がその対辺13と交差している。スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層の磁化の向き、スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子同士の接続は実施例1と同様となっている。この方位計においても実施例1と同様に外部磁界の角度を測定することができる。
本発明の実施例1と2から明らかなように、本発明の方位計はいずれも外部からかけた磁界の方向を測定することができる。この方位計はすべてのスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層の磁化を同じ方向に向けているので、1つのプロセス内で同時にそれらスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を作ることができる。またスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗はほぼ16Ω□で、等方性巨大磁気抵抗効果素子の抵抗3.1Ω□、異方性磁気抵抗効果素子の抵抗6.8Ω□と比べて、極めて大きく、方位測定時の消費電力を小さくすることができる。
本発明の実施例1の方位計を示す分解斜視図である。 本発明の実施例1の方位計を示す回路図である。 本発明に用いているスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の一部を切断して示す説明斜視図である。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の電気抵抗と外部磁界との関係を示すグラフである。 本発明の実施例2の方位計を示す回路図である。 特許文献1に示された方位計を説明するための分解斜視図である。
符号の説明
1 平面コイル
10、10′ 電源
11,12,13,14 (平面コイルの)辺
2,3,4,5 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対
20 演算器
21,22,31,32,41,42,51,52,200 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子
30 固定層の磁化方向
40 外部磁界
201 下地層
211 フリー層
212、232 磁化
221 非磁性層
231 固定層
241 反強磁性層
6,7,8,9 磁気抵抗効果素子対
61,62,71,72,81,82,91,92 磁気抵抗効果素子

Claims (3)

  1. 少なくとも部分的に互いに平行となっている対辺対を2組有し、その2組の対辺対は互いに垂直となっている平面コイルと、
    その平面コイル面の同じ側にあって、平面コイル面に平行で近接した平面内に設けられているとともに、対辺対各組について2組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対とを有しており、
    1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対はスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子2個からなり、
    スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子それぞれは、強磁性体からなる固定層と強磁性体からなるフリー層とをそれらの間に非磁性層を挟んで積層し、更に反強磁性体からなる反強磁性層を固定層に隣接して積層して磁気的結合をさせた積層薄膜であり、積層薄膜の長手方向寸法に比してその幅方向寸法が十分に小さな形状をしており、
    当該各1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子と他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子とはそれらの長手方向が互いに直交し、前記一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層はその長手方向に磁化されているとともに、前記他方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層は前記一方のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の固定層の磁化と同じ向きに磁化されており、
    当該各1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の長手方向が1組の対辺対の各1辺のみあるいは同じ1辺のみと実質的に45度で交差していて、
    当該各1組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の2個のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子の各一方の端部同士が接続されているとともに、他方の端部間に測定用電圧が印加されるようになっており、前記一方の端部から中点電位を取り出すようになっていることを特徴とする方位計。
  2. スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子のフリー層の磁化が長手方向に飽和する大きさの直流磁界をスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に印加するのに十分な直流電流を平面コイルに供給し、そして
    スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に前記直流磁界よりも小さな所定の直流磁界を印加する直流電流を平面コイルに供給する電源を更に有している請求項1記載の方位計。
  3. スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子に前記所定の直流磁界を印加している間に、1組の対辺対と交差している2組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の中点電位の差を取り出し、他の1組の対辺対と交差している2組のスピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子対の中点電位の差を取り出し、これら2個の中点電位の差に基づいて外部磁界の方位を求める演算器を更に有している請求項2記載の方位計。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4023476B2 (ja) 2004-07-14 2007-12-19 日立金属株式会社 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を持った方位計
US7990139B2 (en) * 2006-05-17 2011-08-02 Hitachi Metals, Ltd. Two-axis geo-magnetic field sensor with elimination of eefect of external offset magnetic fields
JP2008249556A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Tdk Corp 磁気センサ
JP5500785B2 (ja) * 2008-05-14 2014-05-21 新科實業有限公司 磁気センサ
IT1403434B1 (it) * 2010-12-27 2013-10-17 St Microelectronics Srl Sensore di campo magnetico avente elementi magnetoresistivi anisotropi, con disposizione perfezionata di relativi elementi di magnetizzazione
IT1403433B1 (it) 2010-12-27 2013-10-17 St Microelectronics Srl Sensore magnetoresistivo con capacita' parassita ridotta, e metodo
CN202230192U (zh) * 2011-03-03 2012-05-23 江苏多维科技有限公司 推挽桥式磁电阻传感器
CN202119391U (zh) * 2011-03-03 2012-01-18 江苏多维科技有限公司 一种独立封装的磁电阻角度传感器
KR101090967B1 (ko) * 2011-04-29 2011-12-08 주식회사 다우엑실리콘 전자 나침반 및 전자 나침반의 제조 방법
TWI449067B (zh) * 2011-06-01 2014-08-11 Voltafield Technology Corp 自旋閥磁阻感測器
US8860159B2 (en) 2011-10-20 2014-10-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Spintronic electronic device and circuits
JP5786884B2 (ja) 2012-04-23 2015-09-30 株式会社デンソー 磁気センサ
JP6588371B2 (ja) * 2016-03-30 2019-10-09 アルプスアルパイン株式会社 磁界検出装置およびその調整方法
CN106645797B (zh) * 2016-10-26 2023-09-12 东南大学 一种基于间隙改变的隧道磁阻效应加速度计装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06174471A (ja) * 1992-12-10 1994-06-24 Casio Comput Co Ltd 電子式方位計
EP0855599A3 (de) * 1997-01-24 2001-05-02 Siemens Aktiengesellschaft Elektronischer Kompass
EP0905523B1 (de) * 1997-09-24 2004-11-10 Infineon Technologies AG Sensoreinrichtung zur Richtungserfassung eines äu eren Magnetfeldes mittels eines magnetoresistiven Sensorelementes
DE69925573T2 (de) 1999-05-12 2006-04-27 Asulab S.A. Magnetischer F?hler hergestellt auf einem halbleitenden Substrat
JP4543350B2 (ja) * 1999-12-03 2010-09-15 日立金属株式会社 回転角度センサー及び回転角度センサーユニット
JP3498737B2 (ja) * 2001-01-24 2004-02-16 ヤマハ株式会社 磁気センサの製造方法
JP3573100B2 (ja) 2001-02-06 2004-10-06 日立金属株式会社 方位計及び方位の測定方法
JP3528813B2 (ja) 2001-04-26 2004-05-24 日立金属株式会社 方位計及び方位の測定方法
JP3496655B2 (ja) 2001-05-09 2004-02-16 日立金属株式会社 方位計
JP4244561B2 (ja) * 2001-07-10 2009-03-25 ヤマハ株式会社 方位測定機能を有する携帯型電子装置
JP3729116B2 (ja) 2001-10-15 2005-12-21 日立金属株式会社 方位計
RU2331900C1 (ru) * 2002-11-29 2008-08-20 Ямаха Корпорейшн Магнитный датчик и способ компенсации зависящей от температуры характеристики магнитного датчика
JP4023476B2 (ja) 2004-07-14 2007-12-19 日立金属株式会社 スピンバルブ型巨大磁気抵抗効果素子を持った方位計

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