JP4022832B2 - 反射型液晶表示素子およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施の形態に係る反射型液晶表示素子の全体構造を示している。この反射型液晶表示素子は、互いに対向配置された一対の透明電極基板30および画素電極基板40と、これらの基板間に注入された垂直配向液晶45とを備えている。
次に、図1に示した構成の反射型液晶表示素子を使用した液晶表示装置の例について説明する。ここでは、図7に示したように、反射型液晶表示素子をライトバルブとして使用した反射型液晶プロジェクタの例について説明する。
以下、比較例1,2について、まとめて説明する。比較例となる反射型液晶表示素子の試料を以下のように作製した。まず、透明電極が成膜されたガラス基板と反射型画素電極としてアルミニウム電極が形成されたシリコン駆動基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、配向膜として酸化珪素膜を、基板への蒸着角度50〜55°の範囲で斜め蒸着して形成した。配向膜の膜厚は50nmとした。液晶のプレティルト角は約2.5°になるように配向制御した。その後、配向膜が形成された各基板を対向配置して、その間に2μm径のガラスビーズを適当な数だけ散布して、張り合わせ、さらに、メルク社製の誘電異方性Δεが負の垂直液晶材料を注入し、これにより反射型液晶表示素子の試料を作製した。シリコン駆動基板上のアルミニウム電極の画素ピッチは9μm、画素間の溝幅は0.6μmとした。また、アルミニウム電極の上に、画素電極を保護するためのSiO2系のパッシベーション膜を、CVD(Chemical Vapor Deposition)成膜により45nmの厚さでオーバコートしたものに関しても同様な方法で作製した。
以下、実施例1,2について、まとめて説明する。基本的に、配向膜以外については、上記比較例と同じ方法・仕様で、反射型液晶表示素子の試料を作製した。すなわち、透明電極が成膜されたガラス基板と反射型画素電極としてアルミニウム電極が形成されたシリコン駆動基板とを洗浄後、配向膜を以下に述べる方法で蒸着形成し、その後、それら一対の基板間に、メルク社製の誘電異方性Δεが負の垂直液晶材料を注入した反射型液晶表示素子を作製した。シリコン駆動基板の仕様も上記比較例と同じにし、画素ピッチは9μmで、画素間の溝幅を、0.6μmとした。アルミニウム電極の上に、パッシベーション膜が設けられたものも同様に作製した。
Claims (9)
- 透明電極基板と、金属膜により形成された複数の反射型の画素電極を有する画素電極基板とが垂直配向液晶を介して互いに対向配置された反射型液晶表示素子であって、
前記画素電極基板と前記透明電極基板とのそれぞれの前記垂直配向液晶に接する面側に、少なくとも、
基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、
前記垂直蒸着膜の上に、基板面に対して斜め方向から蒸着形成された斜方蒸着配向膜と
が順に積層形成され、
前記画素電極基板側の前記垂直蒸着膜が前記画素電極の上面に対し前記画素電極間の溝部の底面が低く膜形成された状態において、前記斜方蒸着配向膜が蒸着形成されている
ことを特徴とする反射型液晶表示素子。 - 前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜は、酸化珪素による蒸着膜である
ことを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶表示素子。 - 前記画素電極基板は、複数の反射型の画素電極を有し、
前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部分全体に、酸化物もしくは窒化物による膜、またはそれらの積層膜がさらに積層形成され、その上に、前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜が積層形成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶表示素子。 - 反射型液晶表示素子を備え、この反射型液晶表示素子によって変調された光を用いて映像表示を行う液晶表示装置であって、
前記反射型液晶表示素子が、
金属膜により形成された複数の反射型の画素電極を有する画素電極基板と、
前記画素電極基板に対向するように配置された透明電極基板と、
前記画素電極基板と前記透明電極基板との間に注入された垂直配向液晶と
を備え、
前記画素電極基板と前記透明電極基板とのそれぞれの前記垂直配向液晶に接する面側に、少なくとも、
基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、
前記垂直蒸着膜の上に、基板面に対して斜め方向から蒸着形成された斜方蒸着配向膜と
が順に積層形成され、
前記画素電極基板側の前記垂直蒸着膜が前記画素電極の上面に対し前記画素電極間の溝部の底面が低く膜形成された状態において、前記斜方蒸着配向膜が蒸着形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 光源と、
前記光源から発せられ、前記反射型液晶表示素子によって変調された光をスクリーンに投射する投射手段と
を備え、
反射型液晶プロジェクタとして構成されている
ことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。 - 透明電極基板と、金属膜により形成された複数の反射型の画素電極を有する画素電極基板とが垂直配向液晶を介して互いに対向配置された反射型液晶表示素子を製造する方法であって、
前記画素電極基板の製造工程と前記透明電極基板の製造工程とのそれぞれについて、
前記垂直配向液晶に接する面側に、基板面に対して垂直方向から垂直蒸着膜を蒸着形成する工程と、
前記垂直蒸着膜を形成した後、前記垂直蒸着膜の上に、基板面に対して斜め方向から斜方蒸着配向膜を蒸着形成する工程と
を含み、
前記画素電極基板側の前記垂直蒸着膜を膜形成する工程において、前記画素電極の上面に対し前記画素電極間の溝部の底面が低くなるように前記垂直蒸着膜を膜形成し、前記画素電極基板側の前記斜方蒸着配向膜を蒸着形成する工程において、前記画素電極の上面に対し前記溝部の底面が低くなっている状態で前記斜方蒸着配向膜を蒸着形成する
ことを特徴とする反射型液晶表示素子の製造方法。 - 前記画素電極基板の製造工程と前記透明電極基板の製造工程とのそれぞれについて、
基板面の法線方向と蒸着源からの蒸着物質の入射方向とを一致させ、真空状態で前記垂直蒸着膜の形成を行い、その後、真空状態を維持した状態で、前記基板面の法線方向が前記蒸着物質の入射方向に対して所定の角度となるように前記各基板を傾けることで、前記基板面に対して斜め方向から前記斜方蒸着配向膜を蒸着形成する
ことを特徴とする請求項6に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。 - 前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜は、酸化珪素による蒸着膜である
ことを特徴とする請求項6に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。 - 前記画素電極基板は、複数の反射型の画素電極を有し、
前記画素電極基板の製造工程について、前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部分全体に、酸化物もしくは窒化物による膜、またはそれらの積層膜を積層形成する工程をさらに含み、
それにより形成された膜の上に、前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜を積層形成する
ことを特徴とする請求項6に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。
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