JP4014861B2 - 化合物半導体デバイス及びその作製方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、分布帰還型半導体レーザ素子(以下、DFBレーザと言う)と、電界吸収による変調方式を利用した光変調器(以下、EA光変調器と言う)とを突き合わせ(以下、バットジョイントと言う)結合方式により結合、集積化した化合物半導体デバイスに関し、更に詳細には、結合損失が低減され、光吸収が少ない層構造を備え、かつ良好なデバイス特性を示す化合物半導体デバイス、及びその作製方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光変調器と、光変調器の光源として単一縦モードの半導体レーザ素子とをモノリシックに集積した、光変調器−半導体レーザ素子集積の半導体光素子が開発され、実用化されつつある。
このような集積半導体光素子の一つとして、光変調器には電界による吸収係数の変化を利用する電界吸収型光変調器(以下、EA光変調器と言う)を、EA光変調器の光源には分布帰還型半導体レーザ素子(以下、DFBレーザと言う)を備えた半導体光素子が注目されている。
【0003】
ここで、図5、及び図6(a)から(c)を参照して、従来のEA光変調器−DFBレーザ・集積半導体光素子(以下、EA−DFBレーザと言う)80の構成を説明する。図5は従来のEA−DFBレーザの平面図で、図6(a)は図5の線II−IIに沿った断面図であり、図6(b)は図5の線III−IIIに沿った断面図であり、図6(c)は線IV−IVに沿った断面図である。
従来のEA−DFBレーザ80は、半絶縁性埋め込み層で多重量子井戸構造を含むヘテロ接合構造を埋め込んだ、GaInAsP系SI−BH(Semi-Insulating Buried Heterostructure)型のDFBレーザ80A及びEA光変調器80Bから構成された半導体光素子であって、図6(a)に示すように、DFBレーザ80AとEA光変調器80Bとを一つのn−InP基板上12に導波方向に同軸状でモノリシックに集積させたものである。
【0004】
DFBレーザ80Aは、図6(a)に示すように、EA光変調器80Bと共通のn−InP基板12のDFBレーザ領域上に、膜厚100nmのn−InP下部クラッド層14、バンドギャップ波長λgが1.55μmでGaInAsPからなる井戸数5のSCH−MQW16、膜厚100nmのp−InP上部クラッド層18、バンドギャップ波長λgが1.2μmのGaInAsPからなる膜厚10nmの回折格子形成層20をエッチングして形成された回折格子20aと、p−InPキャップ層22を含む膜厚200nmのp−InP上部クラッド層24と、並びにそれぞれEA光変調器80Bと共通の、膜厚2000nmのp−InP上部クラッド層32及び、膜厚300nmのp−GaInAsコンタクト層38との積層構造を有する。
【0005】
上述の積層構造の下部クラッド層14の上部、SCH−MQW16、上部クラッド層18、回折格子20a、p−InPキャップ層22を含む上部クラッド層24、上部クラッド層32、及びコンタクト層34は、図6(b)に示すように、メサ構造46として形成されている。更に、メサ構造46の両側は、EA光変調器80Bと共通の半絶縁性のFeドープInP層(以下、Fe−InP層と言う)36で埋め込まれている。
SiN膜からなる共通のパッシベーション膜44が、コンタクト層34上の窓50を除いてメサ構造46の両側のFe−InP層36上に成膜されている。
コンタクト層34上には窓50を介してp側電極38が、また、共通のn−InP基板12の裏面には共通のn側電極42が形成されている。
【0006】
EA光変調器80Bは、図6(a)に示すように、DFBレーザ80Aと共通のn−InP基板12のEA光変調器領域上に、膜厚50nmのn−InPバッファー層26、バンドギャップ波長λgが1.50μmのGaInAsPからなる井戸数9のSCH−MQW28、膜厚150nmのp−InP上部クラッド層30、並びにそれぞれDFBレーザ80Aと共通の、膜厚2000nmのp−InP上部クラッド層32及び膜厚300nmのp−GaInAsコンタクト層34との積層構造を有する。
【0007】
上述の積層構造のn−InPバッファー層26の上部、SCH−MQW28、上部クラッド層30、上部クラッド層32、及びコンタクト層34は、導波方向に沿ってメサ構造48として形成されている。更に、メサ構造48の両側はDFBレーザ80Aと共通の半絶縁性のFe−InP層36で埋め込まれている。
SiN膜からなる共通のパッシベーション膜44が、コンタクト層34上の窓52を除いてメサ構造48の両側のFe−InP層36上に成膜されている。
コンタクト層34上には窓を介してp側電極40が、また、共通のn−InP基板12の裏面には共通のn側電極40が形成されている。
【0008】
各層のキャリア濃度は、それぞれ、下部クラッド層14で5×1017cm-3、上部クラッド層24で5×1017cm-3、バッファー層26で5×1017cm-3、上部クラッド層30で5×1017cm-3、上部クラッド層32で1×1018cm-3、コンタクト層38で1×1019cm-3である。
【0009】
上述の従来のEA−DFBレーザ80の作製方法を説明する。図7(a)から(d)は、それぞれ、EA−DFBレーザを作製する際の各工程を示す断面図であり、図8(a)、(b)は、それぞれ、EA−DFBレーザを作製する際のマスクパターンを示す平面図である。
先ず、DFBレーザ領域とEA光変調器領域を有するn−InP基板12上の全面に、GaInAsP系DFBレーザ構造を導波層まで形成する。
即ち、n−InP基板12上全面に、例えばMOCVD法によってn−InP下部クラッド層14、SCH−MQW16、p−InP上部クラッド層18、回折格子形成層20、及びp−InPキャップ層22をエピタキシャル成長させる。
次いで、図7(a)に示すように、キャップ層22及び回折格子形成層20をエッチングして回折格子20aを形成し、続いてp−InP上部クラッド層24をエピタキシャル成長させて、回折格子20aを埋め込むと共に回折格子20a上にクラッド層24を有する積層構造体を形成する。
【0010】
次いで、図7(b)に示すように、DFBレーザ領域の積層構造体を覆う、図8(a)に示すSiNのバットジョイントマスク60を形成し、マスクから露出しているEA光変調器領域に形成された積層構造体をエッチングしてn−InP基板12を露出させる。
続いて、図7(c)に示すように、GaInAsP系EA光変調器構造を露出させたEA光変調器領域のn−InP基板12上に選択成長させる。つまり、n−InP基板12上に、例えばMOCVD法によって、n−InPバッファー層26、SCH−MQW28、p−InP上部クラッド層30をエピタキシャル成長させて、積層構造体を形成する。
【0011】
次に、DFBレーザ領域のバットジョイントマスク60を除去した後、図7(d)に示すように、基板全面にp−InP上部クラッド層32及びp−GaInAsコンタクト層34をエピタキシャル成長させる。
次いで、図8(b)に示す幅2μmのストライプ状の、SiNのストライプマスク64をそれぞれDFBレーザ領域の積層構造体及びEA光変調器領域の積層構造体上に連続して形成し、続いてそれらをマスクにしてドライエッチングを行う。
これにより、DFBレーザ領域には、下部クラッド層14の上部、SCH−MQW16、上部クラッド層18、回折格子20a、p−InPキャップ層22を含む上部クラッド層24、上部クラッド層32、及びコンタクト層34からなるメサ構造46を形成する。
一方、EA光変調器領域には、n−InPバッファー層26の上部、SCH−MQW28、p−InP上部クラッド層30、上部クラッド層32、及びコンタクト層34からなるメサ構造48を形成する。
【0012】
次いで、ストライプマスク64を、DFBレーザ領域及びEA光変調器領域のそれぞれで、選択成長マスクとして使用し、半絶縁性のFe−InP電流ブロッキング層36を埋め込み成長させ、形成したメサ構造46、48の両側を埋め込む。
更に、パッシベーション膜44、p側電極38、40及びn側電極40等を形成することにより、EA−DFBレーザ80を作製することができる。
従来例
上述の従来の作製方法で、本従来例の試料を作製したところ、EA−DFBレーザのデバイス特性として、しきい値電流12mA、3Vバイアス時における消光比15dB、またFFP(ファーフィールドパターン)のノイズが有る、という結果であった。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した作製方法に従って作製された従来のEA−DFBレーザには、以下のような問題があった。
第一の問題として、DFBレーザからEA光変調器に入射した光は、図6(a)中に模式的に示すように、結合面でのモードフィールド72aと72bとの相違により、結合損失が大きくなるという問題があった。
ここで、モードフィールドとは、素子の内部を伝播する光の分布形状を言う。結合損失とは、異なるエリア間での光の結合時の損失を言い、モードフィールドの違いに大きく起因する。
更に、本作製方法ではバットジョイント法を用いているため、マスクによる側面成長により、実際は、図9(a)に模式的に示すように、EA光変調器では、結合部附近の膜厚が大きくなる。これにより、結合面でのモードフィールド74aと74bとの相違が更に大きくなるため、結合損失は予想以上に大きくなっていた。
図9(a)に従来のEA−DFBレーザ80で、側面成長を考慮に入れた実際の層構造、及びモードフィールドを示す。
【0014】
結合面での結合損失を抑制するために、従来、モードフィールドが一致するように、DFBレーザ及びEA光変調器のそれぞれの層構造を構成することが試みられている。しかし、この手法では、EA−DFBレーザとしてのデバイスの特性を最適化した構造とは異なる場合が多く、例えば、発振しきい値の増大や消光比の低下のようなデバイス特性を悪化させるという問題があった。
【0015】
第二の問題として、図9(b)に示すように、EA光変調器中でのバンドギャップ波長は、結合面に近づくにつれ、側面成長の無い領域(平坦領域)に比べて長くなるため、光吸収が生じるという問題があった。
即ち、EA光変調器中でのバンドギャップ波長は、側面成長の無い領域(平坦領域)では1500nmであるが、結合面に近づくにつれ少しづつ長くなり、結合面では1550nm程度までになっている。
図9(b)に従来のEA−DFBレーザ80のリッジストライプに沿ったバンドギャップ波長のグラフ示す。
【0016】
更には、これらの結合損失や光吸収は、レーザ光出力が低減したり、消光比が劣化したり、出射光にノイズ多くなるなどの、デバイス特性が悪化する問題を引き起こしていた。
そこで、本発明の目的は、結合損失が低減され、光吸収が少ない層構造を備え、かつ良好なデバイス特性を示す化合物半導体デバイス、及びその作製方法を提供することである。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、結合部付近での結合損失を抑制するために、バットジョイント成長時のマスクの形状を変えることにより、EA光変調器の結合部付近の膜厚を変化させることを着想し、実験により確認し、本発明を発明するに到った。
即ち、EA光変調器の結合部付近の膜厚を、従来より小さくし、かつDFBレーザの膜厚に近づける構造を形成すれば、結合面でのモードフィールドの相違は小さくなる。
そのためには、バットジョイント成長時に、従来の図8(a)のマスクに代えて、図4(a)に示すようなマスクを用いる。図4(a)に示すマスクは、DFBレーザ領域上のバットジョイントマスク60と、EA光変調器領域上の選択領域成長マスク62からなり、バットジョイントマスク60と選択領域成長マスク62とは、所定の間隔だけ離して配置する。
図4(a)に示すようなマスクを用いることにより、図1に示すように、結合部付近での側面成長による膜厚の増大を狭い領域にとどめ、また、結合面から離れるに従い、膜厚は一旦薄くなり、その後徐々に増大する形状となる。
上記形状をとることにより、図1中に模式的に示すように、結合面でのモードフィールド70と70bとの相違が小さくなり、結合損失は低減する。
【0018】
また、上記の構造は以下の理由で、光吸収を少なくさせる効果がある。
即ち、EA光変調器中のバンドギャップ波長は、前述のようにバットジョイントマスク60のみの場合は、図2(b)の(i)に示すように、接合面に近づくにつれて、波長が長くなる効果がある。また、選択領域成長マスクの場合、図2(b)の(ii)に示すように、選択成長領域マスクの領域から離れるにつれて、波長が短くなる効果がある。
上記のパターンマスクを用いてEA−DFBを形成することにより、この(i)及び(ii)の両方の効果を組み合わせ、図2(b)の(iii)に示すように、結合面に近づくにつれてバンドギャップ波長が少しづつ短くなるような構成をとることができる。
【0019】
そこで、上記目的を達成するために、上記の知見に基づいて、本発明に係る化合物半導体デバイス(以下、第1の発明と言う)は、共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスにおいて、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に突き合わせ結合させた第2の化合物半導体光素子の活性層の膜厚が、結合面から離れるに従い減少し一旦最小になり、次いで結合面から離隔するにつれて逓増し所定の膜厚に達していることを特徴としている。
【0020】
本発明に係る別の化合物半導体デバイス(以下、第2の発明と言う)は、共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスにおいて、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に突き合わせ結合させた第2の化合物半導体光素子の活性層のバンドギャップ波長は、結合面で最小になり、結合面から離隔するにつれて漸増し所定のバンドギャップに達していることを特徴としている。
【0021】
また、本発明に係る化合物半導体デバイスの作製方法は、共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスの作製方法において、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に第2の化合物半導体光素子の層構造を突き合わせ結合させる際、
第1の化合物半導体光素子の積層構造を覆う第1のマスクを形成する工程と、
第1のマスクを使って第2の化合物半導体光素子形成領域上の第1の化合物半導体光素子の積層構造をエッチングする工程と、
第1のマスクから所定寸法離隔して、選択領域成長マスクを第2の化合物半導体光素子形成領域上に形成し、第2の化合物半導体光素子の積層構造を成長させる工程と
を有し、選択領域成長マスクとして、相互に離隔して前記結合面に直交する方向に延在する2個のマスクを形成する。
【0022】
上記の工程の順序は必須ではなく、本発明に係る化合物半導体デバイスの別の作製方法は、共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスの作製方法において、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に第2の化合物半導体光素子の層構造を突き合わせ結合させる際、
第1の化合物半導体光素子の積層構造を覆う第1のマスクと、第1のマスクから所定寸法離隔して、選択領域成長マスクを第2の化合物半導体光素子形成領域上に形成する工程と、
第1のマスクと選択領域成長マスクを使って第2の化合物半導体光素子形成領域上の第1の化合物半導体光素子の積層構造をエッチングする工程と、
第2の化合物半導体光素子の積層構造を成長させる工程と
を有し、選択領域成長マスクとして、相互に離隔して前記結合面に直交する方向に延在する2個のマスクを形成する。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下に、添付図面を参照し、実施形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に説明する。
実施形態例
本実施形態例は、本発明に係る化合物半導体デバイスの実施形態例であり、本実施形態例で説明する化合物半導体デバイスはEA−DFBレーザである。図1は本実施形態例に係るEA−DFBレーザの層構造、及びモードフィールドを示す断面図で、図2(a)は本実施形態例に係るEA−DFBレーザの平面図である。図1の断面図は、図2(a)のI−Iに沿った断面を示す。
本実施形態例のEA−DFBレーザは、EA光変調器の構成が従来技術で説明したEA−DFBレーザと異なることを除いて、従来技術のEA−DFBレーザ80と同じ構成をしている。
本実施形態例のEA−DFBレーザ10は、図1に示すように、半絶縁性埋め込み層で多重量子井戸構造を含むヘテロ接合構造を埋め込んだ、GaInAsP系SI−BH型のDFBレーザ10A及びEA光変調器10Bから構成された半導体光素子であって、DFBレーザ10AとEA光変調器10Bとを一つのn−InP基板上12に導波方向に同軸状でモノリシックに集積させたものである。
【0024】
DFBレーザ10Aは、図1に示すように、EA光変調器10Bと共通のn−InP基板12のDFBレーザ領域上に、膜厚100nmのn−InP下部クラッド層14、バンドギャップ波長λgが1.55μmでGaInAsPからなる井戸数5のSCH−MQW16、膜厚100nmのp−InP上部クラッド層18、バンドギャップ波長λgが1.2μmのGaInAsPからなる膜厚10nmの回折格子形成層20をエッチングして形成された回折格子20aと、p−InPキャップ層22を含む膜厚200nmのp−InP上部クラッド層24と、並びにそれぞれEA光変調器10Bと共通の、膜厚2000nmのp−InP上部クラッド層32及び、膜厚300nmのp−GaInAsコンタクト層34との積層構造を有する。
【0025】
上述の積層構造の下部クラッド層14の上部、SCH−MQW16、上部クラッド層18、回折格子20a、p−InPキャップ層22を含む上部クラッド層24、上部クラッド層32、及びコンタクト層34は、図6(b)に示すように、メサ構造46として形成されている。更に、メサ構造46の両側は、EA光変調器10Bと共通の半絶縁性のFeドープInP層(以下、Fe−InP層と言う)36で埋め込まれている。
SiN膜からなる共通のパッシベーション膜44が、コンタクト層34上の窓50を除いてメサ構造46の両側のFe−InP層36上に成膜されている。
コンタクト層34上には窓50を介してp側電極38が、また、共通のn−InP基板12の裏面には共通のn側電極42が形成されている。
【0026】
EA光変調器10Bは、図1に示すように、DFBレーザ10Aと共通のn−InP基板12のEA光変調器領域上に、膜厚50nmのn−InPバッファー層26、バンドギャップ波長λgが1.52μmのGaInAsPからなる井戸数9のSCH−MQW28、膜厚150nmのp−InP上部クラッド層30、並びにそれぞれDFBレーザ10Aと共通の、膜厚2000nmのp−InP上部クラッド層32及び膜厚300nmのp−GaInAsコンタクト層34との積層構造を有する。
【0027】
上述の積層構造のn−InPバッファー層26の上部、SCH−MQW28、上部クラッド層30、上部クラッド層32、及びコンタクト層34は、導波方向に沿ってメサ構造48として形成されている。更に、メサ構造48の両側は、DFBレーザ10Aと共通の半絶縁性のFe−InP層36で埋め込まれている。
SiN膜からなる共通のパッシベーション膜44が、コンタクト層34上の窓52を除いてメサ構造48の両側のFe−InP層36上に成膜されている。
コンタクト層34上には窓を介してp側電極40が、また、共通のn−InP基板12の裏面には共通のn側電極40が形成されている。
【0028】
各層のキャリア濃度は、それぞれ、下部クラッド層14で5×1017cm-3、上部クラッド層24で5×1017cm-3、バッファー層26で5×1017cm-3、上部クラッド層30で5×1017cm-3、上部クラッド層32で1×1018cm-3、コンタクト層38で1×1019cm-3である。
【0029】
上述の実施形態例のEA−DFBレーザ10の作製方法を説明する。本実施形態例のEA−DFBレーザ10は、バットジョイント成長時のマスクパターンが、従来のEA−DFBレーザ80のバットジョイント成長時のマスクパターンと異なることを除いて、同じ作製方法で作製することができる。
図3(a)から(d)に、実施形態例の作製方法でEA−DFBレーザを作製する際の各工程の断面図を、図4に、本実施形態例の作製方法でEA−DFBレーザを作製する際のパットジョイント作製時のマスクパターンの平面図を示す。
先ず、DFBレーザ領域とEA光変調器領域を有するn−InP基板12上の全面に、GaInAsP系DFBレーザ構造を導波層まで形成する。
即ち、n−InP基板12上全面に、例えばMOCVD法によってn−InP下部クラッド層14、SCH−MQW16、p−InP上部クラッド層18、回折格子形成層20、及びp−InPキャップ層22をエピタキシャル成長させる。
次いで、図3(a)に示すように、キャップ層22及び回折格子形成層20をエッチングして回折格子20aを形成し、続いてp−InP上部クラッド層24をエピタキシャル成長させて、回折格子20aを埋め込むと共に回折格子20a上にクラッド層24を有する積層構造体を形成する。
【0030】
次いで、図3(b)に示すように、DFBレーザ領域の積層構造体を覆う、図4に示すSiNのバットジョイントマスク60を形成し、マスクから露出しているEA光変調器領域66に形成された積層構造体をエッチングしてn−InP基板12を露出させる。
続いて、露出させたn−InP基板12上に、図4に示すSiNの選択領域成長マスク62を形成する。
そして、バットジョイントマスク60及び選択領域成長マスク62を選択成長マスクとして、GaInAsP系EA光変調器構造をn−InP基板12上の露出させた領域に選択成長させる。
つまり、図3(c)に示すように、n−InP基板12上の露出させた領域に、例えばMOCVD法によって、n−InPバッファー層26、SCH−MQW28、p−InP上部クラッド層30をエピタキシャル成長させて、積層構造体を形成する。
【0031】
次に、図3(d)に示すように、バットジョイントマスク60を除去した後、選択領域成長マスク62の領域を除く基板全面にp−InP上部クラッド層32及びp−GaInAsコンタクト層34をエピタキシャル成長させる。
次いで、図8(b)に示す幅2μmのストライプ状の、SiNのストライプマスク64を、上記の選択領域成長マスク62を構成する2つのマスクの中央付近に、かつそれぞれDFBレーザ領域の積層構造体及びEA光変調器領域の積層構造体上に連続して形成し、続いてそれらをマスクにしてドライエッチングを行う。
これにより、DFBレーザ領域には、下部クラッド層14の上部、SCH−MQW16、上部クラッド層18、回折格子20a、p−InPキャップ層22を含む上部クラッド層24、上部クラッド層32、及びコンタクト層34からなるメサ構造46を形成する。
一方、EA光変調器領域には、n−InPバッファー層26の上部、SCH−MQW28、p−InP上部クラッド層30、上部クラッド層32、及びコンタクト層34からなるメサ構造48を形成する。
【0032】
次いで、選択領域成長マスク62を除去した後、SiNのストライプマスク64を、DFBレーザ領域及びEA光変調器領域のそれぞれで、選択成長マスクとして使用し、半絶縁性のFe−InP電流ブロッキング層36を埋め込み成長させ、形成したメサ構造46、48の両側を埋め込む。
更に、パッシベーション膜44、p側電極38、40及びn側電極40等を形成することにより、結合損失が低減され、かつ光吸収が少ない構成を備えたEA−DFBレーザ10を作製することができる。
【0033】
尚、本実施形態例では本発明に係る化合物半導体デバイスの例として、EA−DFBレーザを挙げたが、本発明は本実施形態例に限られるものではない。
例えば、レーザダイオード、フォトダイオード、導波路、半導体光アンプ等を集積した他の集積デバイスでも、本発明を用いることにより、結合損失が低減された構成を形成することができる。
また、デバイス構造についても、本実施形態例ではSI−BHの例を示したが、SI−PBH(Semi-Insulating Planar Buried Heterostructure)、p/n埋込、リッジ構造等、また、それらを組み合せたデバイスでも、本発明の考え方により、結合部の特性を向上させることができる。
更に、材料についても、本実施形態例ではGaInAsPを用いたが、例えばAlGaAs系、AlGaInAs系等や、それらを組み合せた場合にも、本発明を適用することができる。
【0034】
具体例
上述の本実施形態例の具体例として、バットジョイントマスク60及び選択領域成長マスク62の寸法、及び各マスク間の間隔として、図4(a)で、LDFBを300μm、LEA1を30μm、LEA2を300μm、WEA1を10μm、WDFBを30μm、WEA2を10μmとした。
【0035】
上述の寸法で、本具体例の試料を作製したところ、EA−DFBレーザのデバイス特性として、しきい値電流10mA、3Vバイアス時における消光比21dBが得られ、またFFP(ファーフィールドパターン)のノイズは無かった。
上記結果から、本実施形態例のEA−DFBレーザは、従来例のEA−DFBレーザと比べてのデバイス特性が向上したと評価できる。
【0036】
尚、上記バットジョイントマスク60を形成する工程で、選択領域成長マスク62をバットジョイントマスク60と同時に形成し、以下同様の工程を経ることにより、同様の効果を奏する構造が得られる。
即ち、図3(a)に示す積層構造体に、図4に示すバットジョイントマスク60と選択領域成長マスク62を形成し、マスクから露出しているEA光変調器領域66のみをエッチングして、図3(b)に示すように、n−InP基板12を露出させる。
続いて、バットジョイントマスク60及び選択領域成長マスク62を選択成長マスクとして、図3(c)に示すように、GaInAsP系EA光変調器構造をn−InP基板12上の露出させた領域66に選択成長させる。
【0037】
【発明の効果】
本発明によれば、バットジョイント成長時に、バットジョイントマスクとは別に、選択領域成長マスクを組み合せて使用することにより、結合損失が低減され、光吸収が少ない層構造を備え、かつ良好なデバイス特性を示す化合物半導体デバイスを実現している。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態例に係るEA−DFBレーザの層構造、及びモードフィールドを示す断面図である。
【図2】図2(a)は、実施形態例に係るEA−DFBレーザの平面図であり、図2(b)は、実施形態例のEA−DFBレーザの各位置でのバンドギャップ波長を示すグラフである。
【図3】図3(a)から(d)は実施形態例の作製方法でEA−DFBレーザを作製する際の各工程の断面図である。
【図4】図4は実施形態例の作製方法でEA−DFBレーザを作製する際のパットジョイント作製時のマスクパターンを示す平面図である。
【図5】従来のEA−DFBレーザの平面図である。
【図6】図6(a)は、図5で線II−IIに沿った断面図であり、図6(b)は、図5で線III−IIIに沿った断面図であり、図6(c)は、図5で線IV−IVに沿った断面図である。
【図7】図7(a)から(d)は従来の作製方法でEA−DFBレーザを作製する際の各工程の断面図である。
【図8】図8(a)及び(b)は従来の作製方法でEA−DFBレーザを作製する際のマスクパターンを示す平面図である。
【図9】図9(a)は従来のEA−DFBレーザで、側面成長を考慮に入れた実際の、層構造、及びモードフィールドを示す断面図であり、図9(b)は従来のEA−DFBレーザの各位置でのバンドギャップ波長を示すグラフである。
【符号の説明】
10 実施形態例のEA−DFBレーザ
10A DFBレーザ
10B EA光変調器
12 n−InP基板
14 n−InP下部クラッド層
16 λgが1.55μmのGaInAsPからなるSCH−MQW
18 p−InP上部クラッド層
20 回折格子形成層
20a 回折格子
22 p−InPキャップ層
24 p−InP上部クラッド層
26 n−InP下部クラッド層
28 λgが1.50μmのGaInAsPからなるSCH−MQW
30 p−InP上部クラッド層
32 p−InP上部クラッド層
34 p−GaInAsコンタクト層
36 Fe−InP電流ブロッキング層
38 DFBレーザ領域のp側電極
40 EA光変調器領域のp側電極
42 n側電極
44 SiNパッシベーション膜
46 DFBレーザ領域のメサ構造
48 EA光変調器領域のメサ構造
50 DFBレーザ領域の窓
52 EA光変調器領域の窓
60 バットジョイントマスク
62 選択領域成長マスク
64 ストライプマスク
66 マスクから露出しているEA光変調器領域
70a、70b、70c、72a、72b、74a、74b、74c モードフィールド
80 従来のEA−DFBレーザ
80A DFBレーザ領域
80B EA光変調器領域
Claims (4)
- 共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスにおいて、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に突き合わせ結合させた第2の化合物半導体光素子の活性層の膜厚が、結合面から離れるに従い減少し一旦最小になり、次いで結合面から離隔するにつれて漸増し所定の膜厚に達していることを特徴とする化合物半導体デバイス。 - 共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスにおいて、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に突き合わせ結合させた第2の化合物半導体光素子の活性層のバンドギャップ波長は、結合面で最小になり、結合面から離隔するにつれて逓増し所定のバンドギャップ波長に達していることを特徴とする化合物半導体デバイス。 - 共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスの作製方法において、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に第2の化合物半導体光素子の層構造を突き合わせ結合させる際、
第1の化合物半導体光素子の積層構造を覆う第1のマスクを形成する工程と、
第1のマスクを使って第2の化合物半導体光素子形成領域上の第1の化合物半導体光素子の積層構造をエッチングする工程と、
第1のマスクから所定寸法離隔して、選択領域成長マスクを第2の化合物半導体光素子形成領域上に形成し、第2の化合物半導体光素子の積層構造を成長させる工程と
を有し、選択領域成長マスクとして、相互に離隔して前記結合面に直交する方向に延在する2個のマスクを形成することを特徴とする化合物半導体デバイスの作製方法。 - 共通の基板上に、相互に構成の異なる少なくとも2個の化合物半導体光素子を突き合わせ結合方式により結合、集積してなる化合物半導体デバイスの作製方法において、
基板上に形成されている第1の化合物半導体光素子の結合面に第2の化合物半導体光素子の層構造を突き合わせ結合させる際、
第1の化合物半導体光素子の積層構造を覆う第1のマスクと、第1のマスクから所定寸法離隔して、選択領域成長マスクを第2の化合物半導体光素子形成領域上に形成する工程と、
第1のマスクと選択領域成長マスクを使って第2の化合物半導体光素子形成領域上の第1の化合物半導体光素子の積層構造をエッチングする工程と、
第2の化合物半導体光素子の積層構造を成長させる工程と
を有し、選択領域成長マスクとして、相互に離隔して前記結合面に直交する方向に延在する2個のマスクを形成することを特徴とする化合物半導体デバイスの作製方法。
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