JP3973058B2 - 透明電極膜用アライメントマーク - Google Patents
透明電極膜用アライメントマーク Download PDFInfo
- Publication number
- JP3973058B2 JP3973058B2 JP32082097A JP32082097A JP3973058B2 JP 3973058 B2 JP3973058 B2 JP 3973058B2 JP 32082097 A JP32082097 A JP 32082097A JP 32082097 A JP32082097 A JP 32082097A JP 3973058 B2 JP3973058 B2 JP 3973058B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent electrode
- electrode film
- alignment
- shielding layer
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明電極膜用アライメントマークに関し、特に、液晶表示装置用等のカラーフィルター上に形成された透明電極膜パターンがブラックマトリックスに対して許容値以内にアライメントされているか否か、また、透明電極膜パターンのボケ量が許容値以内にあるか否かを簡便に検出できるアライメントマークに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、液晶表示装置用のカラーフィルターは、例えば、透明基板上に真空成膜法、フォトリソグラフィー法等を用いて所定形状のブラックマトリックス遮光層を形成し、次に、ブラックマトリックス遮光層の上から、1色目の着色用感材を塗布した後、その上にフォトマスクを配置して露光した後、現像を行い1色目の着色パターンを形成し、同様にして2色目以降の着色パターンを形成し、次に、カラーパターンの上に保護膜層を形成し、さらに、保護膜層の上に真空成膜法により透明電極膜パターンを形成する工程により製造している。
【0003】
図7を参照にして、この製造工程の1例を説明する。図7(A)に示すように、ガラス等の透明矩形基板21上に真空成膜法を用いてクロムを成膜した後、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを配置して露光、現像、クロムエッチング、フォトレジスト剥離を行い、ストライプ状パターンあるいは格子状パターン等からなるブラックマトリックス遮光層22を形成する。次いで、図7(B)に示すように、ブラックマトリックス遮光層22の上から、1色目、例えばレッドの水溶性着色層形成用感材を塗布した後、その上にフォトマスクを配置して露光した後、現像を行いレッドパターン層23を形成し、2色目以降は、図7(C)、(D)に示すように、例えばグリーン、ブルーの着色層形成用感材を順に塗布した後、その上にフォトマスクを配置して露光した後、現像を行いグリーンパターン層24、ブルーパターン層25を順に形成する。次に、図7(E)に示すように、物理化学的保護、表面の整面化、平坦化を目的として、カラーパターンの上に透明な保護膜層26を形成する。そして、図7(F)に示すように、保護膜層26の上に真空成膜法により酸化インジウム錫(ITO)からなる透明電極膜パターン27を形成することにより、カラーフィルターを製造している。
【0004】
上記工程の中、透明電極膜パターン27を形成する工程では、スパッター法が量産化の点で有利であり、従来、自動化ラインにおいては、ITO膜を成膜しようとする基板のカラーパターン領域以外を覆う金属製マスクを、保護膜層26まで形成したガラス製基板の端面に対して機械的に位置決めして治具内の所定位置に固定し、スパッター装置内に収納してスパッターを行っている(例えば、特開平6−88205号)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような製造工程を経て製造されたカラーフィルターのITO膜パターンのブラックマトリックスに対する位置精度の確認は、成膜された実際のITO膜パターン領域を個々に顕微鏡により拡大測定し、設計値との差を算出して行っていた。そのため、ITO膜パターンの位置ズレの検出・判定は煩雑で時間のかかる作業であり、かつ、測定者の判断によるため一義的な判定が困難であった。
【0006】
また、ITO膜パターンの成膜は上記したように金属製マスクを使用したスパッター法によるため、金属製マスクの基板からの浮きによってITO膜パターンにボケが発生する。このボケ量の検出・判定は測定者の感覚によっているため、同様に一義的な判別は困難であった。
【0007】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、例えばカラーフィルター上に形成された透明電極膜パターンが遮光パターンに対して許容値以内にアライメントされているか否か、また、透明電極膜パターンのボケ量が許容値以内にあるか否かを簡便に検出できるアライメントマークを提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の透明電極膜用アライメントマークは、遮光層パターン上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状態を確認するために、前記遮光層パターン及び前記透明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライメント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マークが設けられていることを特徴とするものである。
【0009】
この場合、aを透明電極膜パターンに許容される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも1次元方向において、アライメント用遮光層マークは、中心に幅が2a以上のsである遮光層パターンと、その両側に間隔aを置いて幅がaの遮光層パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マークは、幅がs+2aの透明電極膜パターンからなることが望ましい。
【0010】
また、少なくとも直交する2つの方向において、アライメント用遮光層マークは、中心に幅が2a以上のsである遮光層パターンと、その両側に間隔aを置いて幅がaの遮光層パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マークは、幅がs+2aの透明電極膜パターンからなることが望ましい。
【0011】
より具体的には、アライメント用遮光層マークは、中心に直径が2a以上のsである円板状遮光層パターンと、その周囲に外周の一辺の長さがs+4aで線幅がaの中抜けの正方形遮光層パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マークは、直径がs+2aの円板状透明電極膜パターンからなることが望ましい。
【0012】
なお、本発明による透明電極膜用アライメントマークは、例えば液晶表示装置用のカラーフィルターに用いることができる。
【0013】
本発明においては、遮光層パターン及び透明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライメント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マークが設けられているので、遮光層パターン上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状態を簡便に確認することが可能である。そして、aを透明電極膜パターンに許容される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも1次元方向において、アライメント用遮光層マークが、中心に幅が2a以上のsである遮光層パターンと、その両側に間隔aを置いて幅がaの遮光層パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マークが、幅がs+2aの透明電極膜パターンからなるようにすることにより、例えば液晶表示装置用等のカラーフィルター上に形成された透明電極膜パターンがブラックマトリックス遮光層パターンに対して許容値以内にアライメントされているか否かが測定者の感覚によらないで一義的に簡便に検出・判定できる。また、透明電極膜パターンのボケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・判定できる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の透明電極膜用アライメントマークを実施例に基づいて説明する。
図1にカラーフィルターを2面付けで製造する場合の模式的平面図を示す。図中、符号1はガラス等の透明矩形基板を示し、その上に2面のストライプ状パターンあるいは格子状パターン等からなるブラックマトリックス遮光層パターン2が、図7(A)の場合と同様に、真空成膜法を用いてクロムを成膜した後、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを配置して露光、現像、クロムエッチング、フォトレジスト剥離を行うことにより形成されている。そして、そのブラックマトリックス遮光層パターン2上には、図7(B)〜(E)と同様にして、図示していないR、G、B3色のカラーパターン層と保護膜層が形成されている。そして、その上に、図中破線で示したITO透明電極膜パターン4がカラーパターン領域以外を覆う金属製マスクを介して、スパッタリングにより形成されている。
【0015】
ここで、本発明に基づいて、遮光層パターン2をフォトリソグラフィックに形成するとき、遮光層パターン2の欄外の所定位置(図の場合は、基板1の四隅)に同時にアライメント用遮光層マーク3を形成する。そして、透明電極膜パターン4を形成するとき、アライメント用遮光層マーク3に対応する位置に、アライメント用透明電極膜マーク5を形成する。このアライメント用遮光層マーク3を形成するためには、ブラックマトリックス作製用のフォトリソグラフィーマスクの四隅に後記する形状のパターンを同時に形成しておき、ブラックマトリックス遮光層パターン2と同じ製版プロセスで作製すればよい。また、アライメント用透明電極膜マーク5は、透明電極膜パターン4を成膜する際に使用するスパッタリング用金属製マスクの四隅に後記する形状に対応する開口パターンを同時に形成しておき、透明電極膜パターン4と同じスパッタリングプロセスで作製すればよい。
【0016】
ここで、アライメント用遮光層マーク3とアライメント用透明電極膜マーク5は、例えばそれぞれ図2(A)、(B)に示したようなパターンとする。すなわち、アライメント用遮光層マーク3は、正方形で線幅aの黒枠31の中に、枠31の内辺から上下左右方向に間隔aだけ離れて設けられた直径sの黒円32とからなる。一方、アライメント用透明電極膜マーク5は、スパッタリングで形成する際にボケの発生がない場合に、直径s+2aの円形の透明電極膜51として形成される。ここで、±aは透明電極膜パターン4に許容される位置ズレ量であり、s≧2aに設定されている。
【0017】
このアライメント用遮光層マーク3とアライメント用透明電極膜マーク5からなる実施例のアライメントマークの作用を説明すると、図3(A)に示すように、両マーク3、5が完全にアライメントされていると、アライメント用透明電極膜マーク5の円形の透明電極膜51は、アライメント用遮光層マーク3の中心の黒円32の上に完全に乗り、外側の正方形の黒枠31に内接する。透明電極膜51がクロムからなる黒枠31又は黒円32上に乗っていると、透明電極膜51の厚さに依存した色の干渉色が発生するので、図3(A)の状態にあることは目視により容易に確認できる。なお、ブラックマトリックス遮光層パターン2及びアライメント用遮光層マーク3がクロムでなく樹脂ブラックを用いて形成される場合は、上記の干渉色の代わりに界面反射により、透明電極膜51の黒枠31又は黒円32上に乗っている領域が白く見えるので、同様に図3(A)の状態にあることは目視により容易に確認できる。
【0018】
次に、アライメント用透明電極膜マーク5がアライメント用遮光層マーク3に対して、許容位置ズレ量内で位置ズレを起こしていると、図3(B)の状態になる。この状態は、円形の透明電極膜51が、黒円32全面上に乗り、かつ、黒枠31上に一部乗っているが黒枠31の外にはみ出していない状態であり、図3(A)と同様に、この状態にあることは目視により容易に確認できる。
【0019】
ところが、アライメント用透明電極膜マーク5がアライメント用遮光層マーク3に対して、許容位置ズレ量より大きく位置ズレを起こしていると、図3(C)の状態になる。この状態は、円形の透明電極膜51が、黒円32上に完全には乗っておらず、かつ、黒枠31外にはみ出している状態であり、図3(A)と同様に、この状態にあることも目視により容易に確認できる。
【0020】
さて、以上はアライメント用透明電極膜マーク5がボケていないで、直径s+2aの円形の透明電極膜51として形成される場合であったが、アライメント用透明電極膜マーク5がボケて、直径がs+2aより大きい円形の透明電極膜51として形成された場合の作用を説明する。この場合、両マーク3、5が完全にアライメントされていると、図4(A)に示すように、円形の透明電極膜51は黒円32の上に完全に乗り、かつ、外側の正方形の黒枠31に一部が乗っている。この状態においてボケ量を測定できる。しかも、円形の透明電極膜51が黒枠31外にはみ出していないので、ボケ量は許容値内であると判定できる。
【0021】
これに対して、図4(B)の状態になると、円形の透明電極膜51は黒円32全面上に乗り、かつ、黒枠31外にはみ出している。この状態においてもボケ量を測定することは容易にできる。しかも、円形の透明電極膜51が黒円32上に完全には乗っているにも係わらず、そのはみ出し方向と直角な方向(左右方向)において透明電極膜51が黒枠31外にはみ出していないので、位置ズレ量、ボケ量共に許容値内であると判定できる。なお、この場合、ボケの発生がないとするなら、本来透明電極膜51は一点鎖線の範囲にあることになるから、図3(C)の基準に従えば位置ズレ量は許容量より大きいと判定することもできる。
【0022】
また、図4(C)の状態になると、透明電極膜51は黒円32上に完全には乗っておらず、かつ、黒枠31外にはみ出しているから、位置ズレ量が許容量より大きいことが容易に判定できる。
【0023】
以上のように、この実施例によると、円形の透明電極膜51が黒円32上に完全には乗っておらず、かつ、黒枠31外にはみ出している状態であるか否かを判別することにより、液晶表示装置用等のカラーフィルター上に形成された透明電極膜パターン4がブラックマトリックス遮光層パターン2に対して許容値以内にアライメントされているか否かが測定者の感覚によらないで一義的に簡便に検出・判定できる。また、円形の透明電極膜51の黒枠31に対する大きさの判定から、ボケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・判定できる。
【0024】
次に、アライメント用遮光層マーク3及びアライメント用透明電極膜マーク5の変形例を図5、図6に示す。図5(A)の例は、アライメント用遮光層マーク3は、外周の一辺の長さがs+4aで線幅がaの正方形の黒枠31の中に、枠31の内辺から上下左右方向に間隔aだけ離れて設けられた一辺の長さがsの黒正方形32とからなり、アライメント用透明電極膜マーク5は、一辺の長さがs+2aの正方形透明電極膜51からなる。図2の形状の組み合わせと図5の形状の組み合わせを比較した場合、図2の方が見やすい。その理由は、黒枠31の内周あるいは外周と透明電極膜51の外周が接するとき、円弧と直線が接する方が直線と直線が接する場合より見分けやすいからである(図5(C)も参照)。
【0025】
図5(B)の例は、アライメント用遮光層マーク3は、外周が直径s+4aで線幅がaの円環の黒枠31の中に、それと同心に直径sの黒円板32が配置されたものであり、アライメント用透明電極膜マーク5は、直径がs+2aの円板状の透明電極膜51からなる。この例は、直交する2方向だけでなくあらゆる方向に対してアライメント状態を確認できるようにしたものである。
【0026】
図5(C)の例は、アライメント用遮光層マーク3は、外周に内接する円の直径がs+4aで線幅がaの中抜けの正六角形の黒枠31の中に、それと同心に直径sの黒円板32が配置されたものであり、アライメント用透明電極膜マーク5は、直径がs+2aの円板状の透明電極膜51からなる。この例は、図2の例が直交する2方向に対してアライメント状態を確認するものであったのに対し、さらにそれらの間の角度を含む4方向に対してアライメント状態を確認できるようにしたものである。
【0027】
図6の例は、直交する2方向に対してそれぞれ別の1次元方向のアライメント用遮光層マーク3X、3Y、アライメント用透明電極膜マーク5X、5Yを設けてそれぞれの方向のアライメント状態を別々に確認するようにしたもので、アライメント用透明電極膜マーク3X、3Yは、中心に幅がsの黒ストライプ32と、その両側に間隔aを置いて幅がaの黒ストライプ31、31とからなり、アライメント用透明電極膜マーク5X、5Yは、幅がs+2aのストライプ状透明電極膜51からなっている。
【0028】
以上、本発明の透明電極膜用アライメントマークをいくつかの実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能である。
【0029】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の透明電極膜用アライメントマークによると、遮光層パターン及び透明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライメント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マークが設けられているので、遮光層パターン上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状態を簡便に確認することが可能である。そして、aを透明電極膜パターンに許容される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも1次元方向において、アライメント用遮光層マークが、中心に幅が2a以上のsである遮光層パターンと、その両側に間隔aを置いて幅がaの遮光層パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マークが、幅がs+2aの透明電極膜パターンからなるようにすることにより、例えば液晶表示装置用等のカラーフィルター上に形成された透明電極膜パターンがブラックマトリックス遮光層パターンに対して許容値以内にアライメントされているか否かが測定者の感覚によらないで一義的に簡便に検出・判定できる。また、透明電極膜パターンのボケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・判定できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】カラーフィルターを2面付けで製造する場合の模式的平面図である。
【図2】本発明の1実施例の透明電極膜用アライメントマークを示す平面図である。
【図3】図2の透明電極膜用アライメントマークの作用を説明するための図である。
【図4】ボケがある場合の図2の透明電極膜用アライメントマークの作用を説明するための図である。
【図5】本発明のいくつかの変形例のを示す平面図である。
【図6】本発明の別の変形例のを示す平面図である。
【図7】液晶表示装置用のカラーフィルターの製造工程の1例を説明するための図である。
【符号の説明】
1…透明矩形基板
2…ブラックマトリックス遮光層パターン
3、3X、3Y…アライメント用遮光層マーク
4…ITO透明電極膜パターン
5、5X、5Y…アライメント用透明電極膜マーク
31…アライメント用遮光層マークの外側パターン
32…アライメント用遮光層マークの内側パターン
51…アライメント用透明電極膜マークのパターン
Claims (5)
- 遮光層パターン上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状態を確認するために、前記遮光層パターン及び前記透明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライメント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マークが設けられていることを特徴とする透明電極膜用アライメントマーク。
- aを前記透明電極膜パターンに許容される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも1次元方向において、前記アライメント用遮光層マークは、中心に幅が2a以上のsである遮光層パターンと、その両側に間隔aを置いて幅がaの遮光層パターンとからなり、前記アライメント用透明電極膜マークは、幅がs+2aの透明電極膜パターンからなることを特徴とする請求項1記載の透明電極膜用アライメントマーク。
- 少なくとも直交する2つの方向において、前記アライメント用遮光層マークは、中心に幅が2a以上のsである遮光層パターンと、その両側に間隔aを置いて幅がaの遮光層パターンとからなり、前記アライメント用透明電極膜マークは、幅がs+2aの透明電極膜パターンからなることを特徴とする請求項2記載の透明電極膜用アライメントマーク。
- 前記アライメント用遮光層マークは、中心に直径が2a以上のsである円板状遮光層パターンと、その周囲に外周の一辺の長さがs+4aで線幅がaの中抜けの正方形遮光層パターンとからなり、前記アライメント用透明電極膜マークは、直径がs+2aの円板状透明電極膜パターンからなることを特徴とする請求項3記載の透明電極膜用アライメントマーク。
- 液晶表示装置用のカラーフィルターに用いられることを特徴とする請求項1から4の何れか1項記載の透明電極膜用アライメントマーク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32082097A JP3973058B2 (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 透明電極膜用アライメントマーク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32082097A JP3973058B2 (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 透明電極膜用アライメントマーク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11153805A JPH11153805A (ja) | 1999-06-08 |
JP3973058B2 true JP3973058B2 (ja) | 2007-09-05 |
Family
ID=18125607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32082097A Expired - Lifetime JP3973058B2 (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 透明電極膜用アライメントマーク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3973058B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001311815A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Shin Sti Technology Kk | カラーフィルターの検査方法 |
JP4493374B2 (ja) * | 2004-03-09 | 2010-06-30 | 三菱電機株式会社 | カラーフィルタ基板の製造方法およびカラーフィルタ基板の検査方法並びに液晶表示装置の製造方法 |
JP4721651B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2011-07-13 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 表示装置 |
JP2009157187A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Citizen Finetech Miyota Co Ltd | 透過型液晶パネル及び液晶表示装置ならびに投射型表示装置 |
JP5026470B2 (ja) * | 2009-05-27 | 2012-09-12 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 |
JP5829499B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2015-12-09 | 株式会社Screenホールディングス | アライメント方法およびパターン形成方法 |
KR101414830B1 (ko) | 2011-11-30 | 2014-07-03 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 얼라이먼트 방법, 전사 방법 및 전사장치 |
CN103268028B (zh) * | 2013-05-20 | 2015-06-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 自动调节灰度的检出系及方法 |
CN105093636B (zh) * | 2015-09-21 | 2018-11-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板 |
CN111258105A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 上海仪电显示材料有限公司 | 彩色滤光基板及测试方法 |
CN109767994B (zh) * | 2018-12-12 | 2021-05-25 | 信利半导体有限公司 | Oled基板及其图案偏移检测方法、装置 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP32082097A patent/JP3973058B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11153805A (ja) | 1999-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3973058B2 (ja) | 透明電極膜用アライメントマーク | |
US10001589B2 (en) | Mask assembly, color filter substrate and method of manufacturing the same | |
WO2019105098A1 (zh) | 对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法 | |
US5008166A (en) | Method for manufacturing a color filter | |
KR100598258B1 (ko) | 위상 시프트 마스크 및 제조 방법 | |
KR20100036190A (ko) | 포토마스크의 제조 방법 및 패턴 전사 방법 | |
JP4011668B2 (ja) | ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法 | |
JPH0845823A (ja) | 露光装置およびその方法 | |
JPH10115702A (ja) | 色ズレ量確認マーク付きカラーフィルター | |
KR101343292B1 (ko) | 포토마스크용 기판, 포토마스크 및 패턴 전사 방법 | |
JP2000238447A (ja) | 印刷凹版、印刷凹版の製造方法及び記憶媒体 | |
KR101805953B1 (ko) | 포토마스크용 기판 세트, 포토마스크 세트 및 패턴 전사 방법 | |
JP2002098823A (ja) | カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測定方法及びカラーフィルター | |
JP2001033617A (ja) | カラーフィルタの製造方法およびそれに用いる露光方法 | |
JP2001159755A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JPH0756320A (ja) | フォトマスクおよびフォトマスク群 | |
JP2001311815A (ja) | カラーフィルターの検査方法 | |
TWI401529B (zh) | 光罩上的對位標尺及應用對位標尺的遮蔽件位置確認方法 | |
JPH05273740A (ja) | ディストーション検査マスク | |
JP4591919B2 (ja) | 液晶パネル用対向基板の製造方法 | |
JP3159475B2 (ja) | カラーフィルタの欠陥部検査方法 | |
JP3982720B2 (ja) | フォトマスク | |
JPH08234014A (ja) | カラーフィルタの製造方法及びそれに用いるカラーフィルタ基板 | |
JP4398112B2 (ja) | 液晶表示装置用基板 | |
JP2003287873A (ja) | フォトマスク、基準基板および露光機ならびにカラーフィルターの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100622 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110622 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110622 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120622 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120622 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130622 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140622 Year of fee payment: 7 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |