JP3967330B2 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法 - Google Patents
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Description
本発明の他の観点によれば、(a)レーザビームの入射する被加工面を有する加工対象物が保持されたステージを移動させる工程と、(b)前記ステージの移動中に、該ステージの位置または該ステージに保持された加工対象物の位置を検出し、検出された該ステージまたは該ステージに保持された加工対象物の位置の、目標位置からのずれ量を求めるとともに、この位置ずれに起因するレーザビーム入射位置のずれを補償するように、該ずれ量に基づいて、該加工対象物の被加工面上のビームスポットを変位させる工程とを含むレーザ加工方法が提供される。
2 折り返しミラー
3 ビーム入射位置変位手段
3A マスク
3B マスク移動機構
4 レンズ
5 基板
6 ステージ
7 基台
8、10 位置検出器
9 制御装置
11 微動ステージ
20 基準点
21 参照点
Claims (5)
- レーザビームを出射するレーザ光源と、
被加工面を有する加工対象物を保持し、該被加工面に平行な少なくとも1次元方向に該加工対象物を移動させるステージと、
前記レーザ光源から出射されたレーザビームが入射する位置に配置され、入射したレーザビームを遮光する遮光領域内にレーザビームを透過させる透過領域が画定されており、該透過領域が、その位置におけるレーザビームのビーム断面よりも小さく、該透過領域を透過したレーザビームが、前記ステージに保持された加工対象物の被加工面に入射し、該透過領域が、レーザビームの進行方向と交差する方向に変位可能であり、該透過領域の変位によって、被加工面内におけるレーザビームの入射位置を変位させるビーム入射位置変位手段と、
前記ステージの位置または該ステージに保持された加工対象物の位置を検出する位置検出器と、
前記ステージを制御して移動させ、該ステージの移動中に、前記位置検出器が検出した該ステージまたは該ステージに保持された加工対象物の位置の、目標位置からのずれ量を求めるとともに、当該ずれ量に基づいて、前記透過領域が変位するように前記ビーム入射位置変位手段を制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置。 - 前記制御装置は、前記ステージまたは該ステージに保持された加工対象物の、目標位置からの位置ずれに起因する被加工面上のレーザビーム入射位置のずれが、前記透過領域が変位することにより補償されるように、前記ビーム入射位置変位手段を制御する_請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記ステージの移動方向が第1の方向であり、前記ビーム入射位置変位手段によるビーム入射位置の変位方向が、該第1の方向と直交する第2の方向である請求項1または2に記載のレーザ加工装置。
- (a)レーザビームの入射する被加工面を有する加工対象物が保持されたステージを移動させる工程と、
(b)前記ステージの移動中に、該ステージの位置または該ステージに保持された加工対象物の位置を検出し、検出された該ステージまたは該ステージに保持された加工対象物の位置の、目標位置からのずれ量を求めるとともに、この位置ずれに起因するレーザビーム入射位置のずれを補償するように、該ずれ量に基づいて、該加工対象物の被加工面上のビームスポットを変位させる工程と
を含むレーザ加工方法。 - 前記工程(a)において、前記ステージの移動方向が第1の方向であり、前記工程(b)において、被加工面上のビームスポットの変位方向が、該第1の方向と直交する第2の方向である請求項4に記載のレーザ加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004062786A JP3967330B2 (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
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JP2006196067A Division JP2006315086A (ja) | 2006-07-18 | 2006-07-18 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
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JP2005246451A JP2005246451A (ja) | 2005-09-15 |
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JP (1) | JP3967330B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102030457B1 (ko) * | 2017-10-30 | 2019-10-10 | 현대오트론 주식회사 | 거리 검출 센서 시간 변이 보상 장치 및 방법 |
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Publication number | Publication date |
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JP2005246451A (ja) | 2005-09-15 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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