JP3966809B2 - 処理装置および処理方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上の感光性膜に現像液、エッチング液等の処理液を供給して処理を行う処理装置および処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウェハ等の基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現像装置が用いられる。現像装置は、例えば、ローラコンベアとスリットノズルとを有している。現像処理時には、基板がローラコンベアによってスリットノズルの下方を搬送されつつ、スリットノズルから現像液が吐出され、基板の一方側から他方側に順に現像液が供給される(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平1−250958号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来の現像装置では、基板の一方側から他方側に順に現像液が供給されるので、基板の一方側と他方側とで処理時間に差が生じ、現像むらが発生する。
【0005】
本発明の目的は、基板表面において処理時間を均一にし、処理むらが生じない処理装置および処理方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明に係る処理装置は、基板に処理を行うための処理装置であって、第1の方向に沿って延びる吐出領域に処理液を吐出するためのノズルと、基板とノズルとを相対的に第1の方向と交差する第2の方向に移動させるための移動手段と、基板を第1の方向を軸として傾斜させる傾斜手段と、ノズルから処理液を吐出しつつ移動手段によりノズルと基板とを相対的に第2の方向に移動させることにより基板の一方側から他方側へ処理液を供給した後、傾斜手段により基板を一方側が他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させる制御手段とを備え、制御手段は、ノズルと基板との相対的な移動速度が傾斜手段による基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルを移動させるものである。
【0007】
本発明に係る処理装置においては、基板とノズルとが相対的に第2の方向に移動するとともに第1の方向に沿って延びるノズルの吐出口から基板に処理液が吐出されることにより、基板上の一方側から他方側へ向かって処理液が供給されてゆく。その後、傾斜手段により基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜される。それにより、基板上の処理液が一方側から他方側へ流れ落ちる。したがって、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ちる。上記の場合、ノズルと基板との相対的な移動速度が傾斜手段による基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルが移動される。そのため、処理液による処理時間の差を少なくできる。その結果、基板表面の処理むらを低減できる。
【0008】
移動手段は、ノズルを第2の方向に移動させるノズル駆動手段を含んでもよい。この場合、ノズルが第2の方向に移動するとともに基板に処理液を吐出することにより、基板上の一方側から他方側へ処理液が供給される。したがって、傾斜手段により基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜されることにより、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ち、処理液による処理時間の差を少なくできる。
【0009】
移動手段は、基板を第2の方向に移動させる基板駆動手段を含んでもよい。この場合、基板が第2の方向に移動するとともにノズルにより処理液が吐出されることにより、基板上の一方側から他方側へ処理液が供給される。したがって、傾斜手段により基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜されることにより、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ち、処理液による処理時間の差を少なくできる。
【0010】
処理装置は、ノズルから基板に処理液が供給された後または同時に、基板を第1の方向に搬送する基板搬送手段をさらに備え、傾斜手段は、基板搬送手段により第1の方向に所定の距離搬送された基板を傾斜させてもよい。
【0011】
この場合、基板が第1の方向に搬送される間、所定の時間が経過する。したがって、基板が第1の方向に搬送される間に処理液による処理を行うことができる。
【0012】
基板搬送手段は、ノズルから基板への処理液の供給時および傾斜手段による基板の傾斜時に基板の搬送を継続してもよい。この場合、基板が特定場所で長時間静止することにより基板と特定場所との間で熱の移動が生じることを防止することができる。したがって、基板の処理むらをさらに低減できる。
【0013】
基板搬送手段は、第2の方向に延びる複数のローラと、複数のローラを回転可能に支持するローラ支持手段と、複数のローラを回転駆動するローラ駆動手段とを含み、傾斜手段は、ローラ支持手段の所定部分を上下動させる上下動手段を含んでもよい。
【0014】
この場合、複数のローラがローラ駆動手段により回転駆動されることにより基板が搬送され、上下動手段によりローラ支持手段が上下動されることにより基板が傾斜される。
ノズルは、基板に対向し、基板とほぼ平行に離間した平面である液盛面を備え、処理液は液盛面に留められた状態で基板に供給されてもよい。
【0015】
本発明に係る処理方法は、基板に処理を行うための処理方法であって、第1の方向に沿って延びる吐出口を有するノズルから処理液を吐出しつつノズルと基板とを相対的に第1の方向と交差する第2の方向に移動させることにより基板の一方側から他方側へ処理液を供給するステップと、基板を一方側が他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させるステップとを備え、ノズルと基板との相対的な移動速度が基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルを移動させるものである。
【0016】
本発明に係る処理方法においては、基板とノズルとが相対的に第2の方向に移動するとともに第1の方向に沿って延びるノズルの吐出口から基板に処理液が吐出されることにより、基板上の一方側から他方側へ処理液が供給される。その後、基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜される。それにより、基板上の処理液が一方側から他方側へ流れ落ちる。したがって、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ちる。上記の場合、ノズルと基板との相対的な移動速度が基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルが移動される。そのため、処理液による処理時間の差を少なくできる。その結果、基板表面の処理むらを低減できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
図1および図2は、本発明の一実施の形態に係る現像装置を示す一部切欠き斜視図である。図1は、現像装置の傾動部が水平姿勢に設定されている状態を示し、図2は、現像装置の傾動部が傾斜姿勢に設定されている状態を示している。また、図3は、図1および図2の現像装置の概略平面図である。以下、図1〜図3を参照して、本実施の形態に係る現像装置の説明を行う。
【0018】
ここで、図1〜図3において水平面内で互いに直交する2方向を第1の方向Xおよび第2の方向Yとする。また、基板とは、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウェハ等をいう。
【0019】
図1および図2に示すように、現像装置1は、基板100に現像液を供給(液盛)する液盛部200、現像液が液盛された基板100を傾けて現像液を流し落とす傾動部300、および基板100を洗浄する洗浄部400を含む。液盛部200、傾動部300および洗浄部400は第1の方向Xに沿って直列に配置されている。現像装置1は、液盛部200、傾動部300および洗浄部400の順に基板100を第1の方向Xに搬送しつつ基板100に現像処理を施す。
【0020】
液盛部200は、搬送部210およびノズル部220を備える。液盛部200は、台211上に設置されている。搬送部210は、上方に開いた断面コ字状のローラ支持板212、第2の方向Yに延びる複数の円筒状のローラ213、および各ローラ213を回転駆動する第1駆動モータ214を備える。
【0021】
複数のローラ213は、両端部をローラ支持板212に回転自在に取り付けられている。また、各ローラ213は両端外周部に鍔部を有し、これらの一対の鍔部に基板100を挟持することによってローラ213上での基板100の横ずれを防止している。
【0022】
また、第1駆動モータ214の駆動により、各ローラ213が一斉に同一方向に回転する。それにより、現像装置の上流側の装置(図示せず)から基板100が液盛部200に搬送され、後述するように液盛部200上で所定時間停止した後に傾動部300へと搬送される。
【0023】
図3に示すように、ノズル部220は、ガイドレール221、アーム駆動部222、ノズルアーム223およびスリットノズル224を含む。ガイドレール221は第2の方向Yに延びるように設けられている。ノズルアーム223は、第1の方向Xに延びるように配置され、ガイドレール221側部に備えるアーム駆動部222によりガイドレール221に沿って第2の方向Yおよびその逆方向に移動可能に設けられている。ノズルアーム223の下部に、スリット状吐出口を有するスリットノズル224が第1の方向Xに延びるように設けられている。それにより、スリットノズル224は、第2の方向Yに沿って直線状に平行移動可能となっている。
【0024】
図1および図2に示すように、傾動部300は、搬送部310および傾動装置320を含む。搬送部310は、上方に開いた断面コ字状のローラ支持板311、駆動手段支持枠312、第2の方向Yに延びる複数の円筒状のローラ313、および各ローラ313を回転駆動する第2駆動モータ314(図3参照)を備える。
【0025】
複数のローラ313は、両端部をローラ支持板311に回転自在に取り付けられている。また、各ローラ313は両端外周に鍔部を有し、これらの一対の鍔部に基板100を挟持することによってローラ313上での基板100の横ずれを防止している。
【0026】
ローラ支持板311の一側部は駆動手段支持枠312に取り付けられている。駆動手段支持枠312は第1の方向Xに沿って延びる水平軸316に回転自在に支持されている。
【0027】
また、各ローラ313が第2駆動モータ314の駆動により同一方向に一斉に回転する。それにより、傾動部300から基板100が洗浄部400に搬送される。
【0028】
傾動装置320は、台座321、第1支持軸322、シリンダ323、ピストンロッド324および第2支持軸325を備える。台座321は床上に固定され、台座321上に第1支持軸322が設けられている。シリンダ323の下端部が第1支持軸322に回転自在に取り付けられている。ピストンロッド324はシリンダ323に上下方向に進退自在に設けられている。第2支持軸325はローラ支持板311の他側部(駆動手段支持枠312と反対側の側部)の下面に取り付けられている。ピストンロッド324の上端部は第2支持軸325に回転自在に取り付けられている。
【0029】
したがって、図1に示す状態において、シリンダ323のピストンロッド324が所定量を上方に突出することにより、ローラ支持板311が水平軸316の周りで回動し、図2に示すように、傾動部300の他側部が一側部よりも高くなるように傾動部300が傾斜する。本実施の形態においては、ローラ支持板311の水平面に対する傾斜角度は3〜7度に設定されている。
【0030】
一方、洗浄部400内の複数のローラ401は、傾動部300が傾斜したときの傾斜角度と同様の傾斜角度に設定されている。それにより、傾動部300から洗浄部400へ基板100を搬送することができる。
【0031】
図3の制御部500は、CPU(中央演算処理装置)、半導体メモリ等からなり、アーム駆動部222、第1駆動モータ214、第2駆動モータ314および傾動装置320を制御する。
【0032】
基板100が液盛部200に搬送されると、制御部500は、第1駆動モータ214を動作させて基板100を液盛部200の所定の位置まで搬送し、第1駆動モータ214を停止させ、基板100の搬送を停止する。
【0033】
次に、制御部500は、アーム駆動部222によりスリットノズル224をガイドレール221に沿って第2の方向Yに移動させつつスリットノズル224から基板100に現像液を吐出し、基板100上に現像液を供給する。所定時間経過後、制御部500は、第1駆動モータ214および第2駆動モータ314を動作させ、基板100を傾動部300の所定位置へと搬送し、第1駆動モータ214および第2駆動モータ314を停止させ、基板100の搬送を停止する。
【0034】
次いで、制御部500は、傾動装置320を動作させて傾動部300を図2に示すように傾斜させ、基板100上の現像液を流し落とす。所定時間経過後、制御部500は、第2駆動モータ314を動作させ、洗浄部400へと基板100を搬送する。傾動部300の傾斜については後述する。
【0035】
図4は、本実施の形態に係るスリットノズル224の模式図であり、図5はスリットノズル224の分解図であり、図6はスリットノズル224による基板100への現像液の液盛を説明する図である。
【0036】
図4に示すように、スリットノズル224は、ノズル本体225,226およびスペーサ227を有しており、第1の方向Xに延びる吐出口228が形成されている。
【0037】
ノズル本体225,226は、図5に示すように第1の方向Xに延びるように形成されており、ノズル本体226の接合面229には第1の方向Xに延びる凹部231が形成されている。
【0038】
ノズル本体225は、ノズル本体226の接合面229に対応した形状の接合面230を有する厚みのある板体であって、開口233が形成されている。ノズル本体225は、その接合面230がノズル本体226の接合面229とスペーサ227とを挟んで接合される。スペーサ227は所定の厚みを有し、ノズル本体226の凹部231の周囲の3辺を閉塞するとともに凹部231の長手方向の一辺を開くようにコ字状に形成されている。
【0039】
これらノズル本体225,226とスペーサ227とは図示しないボルト等によって固定されてスリットノズル224を構成する。それにより、スリットノズル224には、ノズル本体225の接合面230とノズル本体226の接合面229との間のスペーサ227が存在しない隙間によって、現像液の傾斜流路232がスペーサ227の厚みのスリット状に形成され、その先端に吐出口228が形成される。
【0040】
凹部231は、開口233から供給される現像液の流れをスリットノズル224のスリット状の傾斜流路232の幅方向に均一化する作用を果たす。また、ノズル本体226の吐出口228側の端面には吐出口228と連なって第1の方向Xに延びる平坦な連絡面234が形成されており、さらにその連絡面234と所定の角度をなして連なる平坦な液盛面235が形成されている。ここでは、傾斜流路232と連絡面234とは直交している。
【0041】
このスリットノズル224は、使用状態においては図6に示すように配置される。傾斜流路232が斜め下向きかつ吐出口228が基板100の進行方向側を向き、連絡面234は吐出口228よりも下側に下向きに位置し、液盛面235は下向きであって基板表面とほぼ平行な水平姿勢となっている。
【0042】
ここで、液盛面235と接合面229,230とのなす角度θは、図6に示すように、10度以上50度以下が望ましい。角度θがこの範囲の値より大きいと、吐出口228より吐出される現像液が連絡面234に伝わることなく基板に落下する。一方、角度θがこの範囲の値より小さいと現像液が液盛面235に触らず基板に落下する。
【0043】
また、連絡面234の連絡長さbは0.1mm以上3mm以下が望ましく、液盛面235の第2方向の長さaは10mm以上40mm以下が望ましい。連絡面234の連絡長さbがこの範囲の値よりも大きいと、現像液に加わる表面張力よりも重力の方が大きくなり、現像液が連絡面234を伝わらず基板に落下する。一方、連絡長さbがこの範囲の値より小さいと、現像液は、連絡面234を触るが液盛面235に留まることまることなく基板に落下する。
【0044】
また、液盛面235の長さaがこの範囲の値より小さいと、現像液は液盛面235に留まることなく基板に落下する。一方、液盛面235の長さaがこの範囲の値よりも大きいと、現像液が液盛面235の全体に均一に広がらない。
【0045】
図7は、本発明の実施の形態に係る基板100上に液盛された現像液を流し落とす動作を説明する模式図である。
【0046】
図7に示すように、スリットノズル224は第2の方向Yに移動するとともに基板100上に現像液を吐出する。このとき、基板100上の一方側から他方側へと現像液が供給されるため、基板100の表面において現像液による処理の開始時点に差が生じる。
【0047】
次に、基板100は、図3で説明したように第1の方向Xに沿って液盛部200から傾動部300へと搬送される。基板100が傾動部300へ搬送された後、第1の方向Xに平行な軸を中心として基板100の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部300が傾いて基板100上の現像液が流れ落ちる。このとき、基板100上の現像液は、基板の一方側から他方側に向かって流れ落ちるため、基板100表面において現像液による処理の終了時点に差が生じる。
【0048】
したがって、スリットノズル224の移動速度を調整し、スリットノズル224が移動する速度と基板100の表面上を現像液が流れ落ちる速度とを等しくすることにより、現像液による処理時間に差が生じなくなる。その結果、現像むらが生じない。
【0049】
なお、上記実施の形態では、液盛部200での現像液供給時、および傾動部300での液落し時には、第1の方向Xへ向けた基板100の搬送を停止しているが、必ずしも停止させる必要はなく、例えば、液盛部200での現像液供給時および傾動部300での液落し時のどちらか一方または両方において、第1の方向Xへ基板100を搬送したままであってもよく、また搬送したままの場合、その速度を、例えば、比較的低速に切り換えるといった構成をとってもよい。
【0050】
このように液盛部200での現像液供給時および傾動部300での液落し時に第1の方向Xへ向けた基板100の搬送を停止しない場合には、停止した場合と比べて次のような利点がある。
【0051】
すなわち、基板100の搬送を停止すると、その間、ローラ213,313が基板の同じ個所に接触しつづけることになり、その間に基板100とローラ213,313との間に熱の移動が起こるなどして、基板100に処理むらが発生することがある。基板100の搬送を停止しなければ、このようにローラ213,313が基板100の特定部位に長時間接触しつづけることがなく、処理むらをさらに低減できる。
【0052】
このとき、基板100の搬送を継続する場合には、液盛部200においてはスリットノズル224の長さを基板100の移動範囲全体をカバーするだけの長さがあることが望ましく、傾動部300においては傾動部300自体が基板100の移動範囲全体をカバーする長さであることが必要である。
【0053】
また、スリットノズル224は、第1の方向Xに沿って延びる細長い吐出口228を有するものであったが、これに限らず、例えば多数の小さな吐出口が第1の方向Xに密に並んで設けられているものなど、実質的に、第1の方向Xに沿って延びる領域に液を吐出するものであればよい。
【0054】
また、制御部500は、傾動部300の傾斜速度を調整してもよいし、スリットノズル224の移動速度および傾動部300の傾斜角度の両方を調整してもよい。
【0055】
以下、傾動部300の傾斜角度を2段階に変化させる場合を説明する。
図8は、傾動部300の傾斜角度を2段階に変化させる場合を説明する図である。図8(a)は、傾動部300の傾斜角度の変化を示す図である。図8(b)は、傾動部300の傾斜角度の時間変化を示すグラフである。図8(b)の縦軸は傾動部300の傾斜角度を示し、横軸は時間を示す。
【0056】
図8(a)に示すように、傾動部300は傾斜角度Aおよび傾斜角度Bの2段階に分けての傾斜角度を変化させる。図8(b)に示すように、傾動部300の傾斜角度は、時点t1から時点t2までの間は傾斜角度Aであり、時点t3から時点t4までの間は傾斜角度Bである。
【0057】
ここで、傾斜した基板100上の現像液は一定速度で流れ落ちる。しかしながら、現像液がほとんど流れ落ちた状態では、基板100の下側の縁において残存する現像液が表面張力により液滴となる。それにより、現像液が落ちにくくなる。
【0058】
したがって、基板100上の現像液が少なくなったときに傾動部300の傾斜角度を大きくすることにより現像液が流れ落ちる速度を一定に保つことができる。
【0059】
なお、図8においては制御部500は傾動部300の傾斜角度を2段階に変化させたが、それに限られず、2段階よりも多く変化させてもよい。
【0060】
本実施の形態においては、アーム駆動部222が移動手段およびノズル駆動手段に相当し、傾動部320が傾斜手段に相当し、傾動装置320が上下動手段に相当し、制御部500が制御手段に相当し、ローラ213,313が基板搬送手段に相当し、ローラ支持板212,311がローラ支持手段に相当し、第1駆動モータ214および第2駆動モータ314がローラ駆動手段に相当する。
【0061】
図9は、本発明の他の実施の形態に係る現像装置の動作を説明する模式図である。
【0062】
図9に示すように、スリットノズル224は第1の方向Xに延びるように液盛部200に固定されている。基板100は複数のローラ213aによりスリットノズル224の下方を第2の方向Yと逆方向に移動する。基板100がスリットノズル224の下方を移動する間、スリットノズル224からは現像液が供給される。このとき、基板100上の一方側から他方側へと現像液が供給されるため、基板100の表面において現像液による処理の開始時点に差が生じる。
【0063】
次に、基板100は、図3で説明したようにローラ213により第1の方向Xに沿って液盛部200から傾動部300へと搬送される。基板100が傾動部300へ搬送された後、第1の方向Xに平行な軸を中心として基板100の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部300が傾いて基板100上の現像液が流れ落ちる。このとき、基板100上の現像液は基板100の一方側から他方側に向かって流れ落ちるため、基板100表面において現像液による処理の終了時点に差が生じる。
【0064】
したがって、スリットノズル224の移動速度を調整し、スリットノズル224が移動する速度と基板100の表面上を現像液が流れ落ちる速度とを等しくすることにより、処理時間に差が生じない。その結果、現像むらが生じない。
【0065】
なお、制御部500は、傾動部30の傾斜角度を調整してもよいし、スリットノズル224の移動速度および傾動部30の傾斜角度の両方を調整してもよい。
【0066】
本実施の形態においては、ローラ213aが移動手段および基板駆動手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る現像装置を示す一部切欠き斜視図である。
【図2】本発明の一実施の形態に係る現像装置を示す一部切欠き斜視図である。
【図3】図1および図2の現像装置の概略的平面図である。
【図4】スリットノズルの模式図である。
【図5】スリットノズルの分解図である。
【図6】スリットノズルによる現像液の基板への液盛を説明する図である。
【図7】基板上に液盛された現像液を流し落とす動作を説明する模式図である。
【図8】傾動部の傾斜角度を2段階に変化させる場合を説明する図である。
【図9】本発明の他の実施の形態に係る現像装置の動作を説明する模式図である。
【符号の説明】
1 現像装置
100 基板
200 液盛部
210,310 搬送部
213,313 ローラ
220 ノズル部
221 ガイドレール
224 スリットノズル
300 傾動部
320 傾動装置
400 洗浄部
500 制御部
Claims (8)
- 基板に処理を行うための処理装置であって、
第1の方向に沿って延びる吐出領域に処理液を吐出するためのノズルと、
前記基板と前記ノズルとを相対的に前記第1の方向と交差する第2の方向に移動させるための移動手段と、
前記基板を前記第1の方向を軸として傾斜させる傾斜手段と、
前記ノズルから処理液を吐出しつつ前記移動手段により前記ノズルと前記基板とを相対的に前記第2の方向に移動させることにより前記基板の一方側から他方側へ処理液を供給した後、前記傾斜手段により前記基板を前記一方側が前記他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させる制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記ノズルと前記基板との相対的な移動速度が前記傾斜手段による前記基板の傾斜時に前記基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるように前記ノズルを移動させることを特徴とする処理装置。 - 前記移動手段は、前記ノズルを前記第2の方向に移動させるノズル駆動手段を含むことを特徴とする請求項1記載の処理装置。
- 前記移動手段は、前記基板を前記第2の方向に移動させる基板駆動手段を含むことを特徴とする請求項1または2記載の処理装置。
- 前記ノズルから前記基板に処理液が供給された後または同時に、前記基板を前記第1の方向に搬送する基板搬送手段をさらに備え、
前記傾斜手段は、前記基板搬送手段により前記第1の方向に所定の距離搬送された前記基板を傾斜させることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の処理装置。 - 前記基板搬送手段は、前記ノズルから前記基板への処理液の供給時および前記傾斜手段による前記基板の傾斜時に前記基板の搬送を継続することを特徴とする請求項4記載の処理装置。
- 前記基板搬送手段は、
前記第2の方向に延びる複数のローラと、
前記複数のローラを回転可能に支持するローラ支持手段と、
前記複数のローラを回転駆動するローラ駆動手段とを含み、
前記傾斜手段は、前記ローラ支持手段の所定部分を上下動させる上下動手段を含むことを特徴とする請求項4または5記載の処理装置。 - 前記ノズルは、前記基板に対向し、前記基板とほぼ平行に離間した平面である液盛面を備え、
前記処理液は前記液盛面に留められた状態で基板に供給されることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の処理装置。 - 基板に処理を行うための処理方法であって、
第1の方向に沿って延びる吐出口を有するノズルから処理液を吐出しつつ前記ノズルと前記基板とを相対的に前記第1の方向と交差する第2の方向に移動させることにより前記基板の一方側から他方側へ処理液を供給するステップと、
前記基板を前記一方側が前記他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させるステップとを備え、
前記ノズルと前記基板との相対的な移動速度が前記基板の傾斜時に前記基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるように前記ノズルを移動させることを特徴とする処理方法。
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