JP3966809B2

JP3966809B2 - 処理装置および処理方法

Info

Publication number: JP3966809B2
Application number: JP2002358517A
Authority: JP
Inventors: 浩司豊田; 光明芳谷
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2002-12-10
Filing date: 2002-12-10
Publication date: 2007-08-29
Anticipated expiration: 2022-12-10
Also published as: KR100588994B1; KR20040050845A; JP2004193279A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上の感光性膜に現像液、エッチング液等の処理液を供給して処理を行う処理装置および処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウェハ等の基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現像装置が用いられる。現像装置は、例えば、ローラコンベアとスリットノズルとを有している。現像処理時には、基板がローラコンベアによってスリットノズルの下方を搬送されつつ、スリットノズルから現像液が吐出され、基板の一方側から他方側に順に現像液が供給される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１−２５０９５８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来の現像装置では、基板の一方側から他方側に順に現像液が供給されるので、基板の一方側と他方側とで処理時間に差が生じ、現像むらが発生する。
【０００５】
本発明の目的は、基板表面において処理時間を均一にし、処理むらが生じない処理装置および処理方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明に係る処理装置は、基板に処理を行うための処理装置であって、第１の方向に沿って延びる吐出領域に処理液を吐出するためのノズルと、基板とノズルとを相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動させるための移動手段と、基板を第１の方向を軸として傾斜させる傾斜手段と、ノズルから処理液を吐出しつつ移動手段によりノズルと基板とを相対的に第２の方向に移動させることにより基板の一方側から他方側へ処理液を供給した後、傾斜手段により基板を一方側が他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させる制御手段とを備え、制御手段は、ノズルと基板との相対的な移動速度が傾斜手段による基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルを移動させるものである。
【０００７】
本発明に係る処理装置においては、基板とノズルとが相対的に第２の方向に移動するとともに第１の方向に沿って延びるノズルの吐出口から基板に処理液が吐出されることにより、基板上の一方側から他方側へ向かって処理液が供給されてゆく。その後、傾斜手段により基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜される。それにより、基板上の処理液が一方側から他方側へ流れ落ちる。したがって、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ちる。上記の場合、ノズルと基板との相対的な移動速度が傾斜手段による基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルが移動される。そのため、処理液による処理時間の差を少なくできる。その結果、基板表面の処理むらを低減できる。
【０００８】
移動手段は、ノズルを第２の方向に移動させるノズル駆動手段を含んでもよい。この場合、ノズルが第２の方向に移動するとともに基板に処理液を吐出することにより、基板上の一方側から他方側へ処理液が供給される。したがって、傾斜手段により基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜されることにより、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ち、処理液による処理時間の差を少なくできる。
【０００９】
移動手段は、基板を第２の方向に移動させる基板駆動手段を含んでもよい。この場合、基板が第２の方向に移動するとともにノズルにより処理液が吐出されることにより、基板上の一方側から他方側へ処理液が供給される。したがって、傾斜手段により基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜されることにより、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ち、処理液による処理時間の差を少なくできる。
【００１０】
処理装置は、ノズルから基板に処理液が供給された後または同時に、基板を第１の方向に搬送する基板搬送手段をさらに備え、傾斜手段は、基板搬送手段により第１の方向に所定の距離搬送された基板を傾斜させてもよい。
【００１１】
この場合、基板が第１の方向に搬送される間、所定の時間が経過する。したがって、基板が第１の方向に搬送される間に処理液による処理を行うことができる。
【００１２】
基板搬送手段は、ノズルから基板への処理液の供給時および傾斜手段による基板の傾斜時に基板の搬送を継続してもよい。この場合、基板が特定場所で長時間静止することにより基板と特定場所との間で熱の移動が生じることを防止することができる。したがって、基板の処理むらをさらに低減できる。
【００１３】
基板搬送手段は、第２の方向に延びる複数のローラと、複数のローラを回転可能に支持するローラ支持手段と、複数のローラを回転駆動するローラ駆動手段とを含み、傾斜手段は、ローラ支持手段の所定部分を上下動させる上下動手段を含んでもよい。
【００１４】
この場合、複数のローラがローラ駆動手段により回転駆動されることにより基板が搬送され、上下動手段によりローラ支持手段が上下動されることにより基板が傾斜される。
ノズルは、基板に対向し、基板とほぼ平行に離間した平面である液盛面を備え、処理液は液盛面に留められた状態で基板に供給されてもよい。
【００１５】
本発明に係る処理方法は、基板に処理を行うための処理方法であって、第１の方向に沿って延びる吐出口を有するノズルから処理液を吐出しつつノズルと基板とを相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動させることにより基板の一方側から他方側へ処理液を供給するステップと、基板を一方側が他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させるステップとを備え、ノズルと基板との相対的な移動速度が基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルを移動させるものである。
【００１６】
本発明に係る処理方法においては、基板とノズルとが相対的に第２の方向に移動するとともに第１の方向に沿って延びるノズルの吐出口から基板に処理液が吐出されることにより、基板上の一方側から他方側へ処理液が供給される。その後、基板の一方側が他方側に対して相対的に高くなるように基板が傾斜される。それにより、基板上の処理液が一方側から他方側へ流れ落ちる。したがって、処理液による処理の開始が早い部分から遅い部分に向かって処理液が流れ落ちる。上記の場合、ノズルと基板との相対的な移動速度が基板の傾斜時に基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるようにノズルが移動される。そのため、処理液による処理時間の差を少なくできる。その結果、基板表面の処理むらを低減できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１および図２は、本発明の一実施の形態に係る現像装置を示す一部切欠き斜視図である。図１は、現像装置の傾動部が水平姿勢に設定されている状態を示し、図２は、現像装置の傾動部が傾斜姿勢に設定されている状態を示している。また、図３は、図１および図２の現像装置の概略平面図である。以下、図１〜図３を参照して、本実施の形態に係る現像装置の説明を行う。
【００１８】
ここで、図１〜図３において水平面内で互いに直交する２方向を第１の方向Ｘおよび第２の方向Ｙとする。また、基板とは、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウェハ等をいう。
【００１９】
図１および図２に示すように、現像装置１は、基板１００に現像液を供給（液盛）する液盛部２００、現像液が液盛された基板１００を傾けて現像液を流し落とす傾動部３００、および基板１００を洗浄する洗浄部４００を含む。液盛部２００、傾動部３００および洗浄部４００は第１の方向Ｘに沿って直列に配置されている。現像装置１は、液盛部２００、傾動部３００および洗浄部４００の順に基板１００を第１の方向Ｘに搬送しつつ基板１００に現像処理を施す。
【００２０】
液盛部２００は、搬送部２１０およびノズル部２２０を備える。液盛部２００は、台２１１上に設置されている。搬送部２１０は、上方に開いた断面コ字状のローラ支持板２１２、第２の方向Ｙに延びる複数の円筒状のローラ２１３、および各ローラ２１３を回転駆動する第１駆動モータ２１４を備える。
【００２１】
複数のローラ２１３は、両端部をローラ支持板２１２に回転自在に取り付けられている。また、各ローラ２１３は両端外周部に鍔部を有し、これらの一対の鍔部に基板１００を挟持することによってローラ２１３上での基板１００の横ずれを防止している。
【００２２】
また、第１駆動モータ２１４の駆動により、各ローラ２１３が一斉に同一方向に回転する。それにより、現像装置の上流側の装置（図示せず）から基板１００が液盛部２００に搬送され、後述するように液盛部２００上で所定時間停止した後に傾動部３００へと搬送される。
【００２３】
図３に示すように、ノズル部２２０は、ガイドレール２２１、アーム駆動部２２２、ノズルアーム２２３およびスリットノズル２２４を含む。ガイドレール２２１は第２の方向Ｙに延びるように設けられている。ノズルアーム２２３は、第１の方向Ｘに延びるように配置され、ガイドレール２２１側部に備えるアーム駆動部２２２によりガイドレール２２１に沿って第２の方向Ｙおよびその逆方向に移動可能に設けられている。ノズルアーム２２３の下部に、スリット状吐出口を有するスリットノズル２２４が第１の方向Ｘに延びるように設けられている。それにより、スリットノズル２２４は、第２の方向Ｙに沿って直線状に平行移動可能となっている。
【００２４】
図１および図２に示すように、傾動部３００は、搬送部３１０および傾動装置３２０を含む。搬送部３１０は、上方に開いた断面コ字状のローラ支持板３１１、駆動手段支持枠３１２、第２の方向Ｙに延びる複数の円筒状のローラ３１３、および各ローラ３１３を回転駆動する第２駆動モータ３１４（図３参照）を備える。
【００２５】
複数のローラ３１３は、両端部をローラ支持板３１１に回転自在に取り付けられている。また、各ローラ３１３は両端外周に鍔部を有し、これらの一対の鍔部に基板１００を挟持することによってローラ３１３上での基板１００の横ずれを防止している。
【００２６】
ローラ支持板３１１の一側部は駆動手段支持枠３１２に取り付けられている。駆動手段支持枠３１２は第１の方向Ｘに沿って延びる水平軸３１６に回転自在に支持されている。
【００２７】
また、各ローラ３１３が第２駆動モータ３１４の駆動により同一方向に一斉に回転する。それにより、傾動部３００から基板１００が洗浄部４００に搬送される。
【００２８】
傾動装置３２０は、台座３２１、第１支持軸３２２、シリンダ３２３、ピストンロッド３２４および第２支持軸３２５を備える。台座３２１は床上に固定され、台座３２１上に第１支持軸３２２が設けられている。シリンダ３２３の下端部が第１支持軸３２２に回転自在に取り付けられている。ピストンロッド３２４はシリンダ３２３に上下方向に進退自在に設けられている。第２支持軸３２５はローラ支持板３１１の他側部（駆動手段支持枠３１２と反対側の側部）の下面に取り付けられている。ピストンロッド３２４の上端部は第２支持軸３２５に回転自在に取り付けられている。
【００２９】
したがって、図１に示す状態において、シリンダ３２３のピストンロッド３２４が所定量を上方に突出することにより、ローラ支持板３１１が水平軸３１６の周りで回動し、図２に示すように、傾動部３００の他側部が一側部よりも高くなるように傾動部３００が傾斜する。本実施の形態においては、ローラ支持板３１１の水平面に対する傾斜角度は３〜７度に設定されている。
【００３０】
一方、洗浄部４００内の複数のローラ４０１は、傾動部３００が傾斜したときの傾斜角度と同様の傾斜角度に設定されている。それにより、傾動部３００から洗浄部４００へ基板１００を搬送することができる。
【００３１】
図３の制御部５００は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、半導体メモリ等からなり、アーム駆動部２２２、第１駆動モータ２１４、第２駆動モータ３１４および傾動装置３２０を制御する。
【００３２】
基板１００が液盛部２００に搬送されると、制御部５００は、第１駆動モータ２１４を動作させて基板１００を液盛部２００の所定の位置まで搬送し、第１駆動モータ２１４を停止させ、基板１００の搬送を停止する。
【００３３】
次に、制御部５００は、アーム駆動部２２２によりスリットノズル２２４をガイドレール２２１に沿って第２の方向Ｙに移動させつつスリットノズル２２４から基板１００に現像液を吐出し、基板１００上に現像液を供給する。所定時間経過後、制御部５００は、第１駆動モータ２１４および第２駆動モータ３１４を動作させ、基板１００を傾動部３００の所定位置へと搬送し、第１駆動モータ２１４および第２駆動モータ３１４を停止させ、基板１００の搬送を停止する。
【００３４】
次いで、制御部５００は、傾動装置３２０を動作させて傾動部３００を図２に示すように傾斜させ、基板１００上の現像液を流し落とす。所定時間経過後、制御部５００は、第２駆動モータ３１４を動作させ、洗浄部４００へと基板１００を搬送する。傾動部３００の傾斜については後述する。
【００３５】
図４は、本実施の形態に係るスリットノズル２２４の模式図であり、図５はスリットノズル２２４の分解図であり、図６はスリットノズル２２４による基板１００への現像液の液盛を説明する図である。
【００３６】
図４に示すように、スリットノズル２２４は、ノズル本体２２５，２２６およびスペーサ２２７を有しており、第１の方向Ｘに延びる吐出口２２８が形成されている。
【００３７】
ノズル本体２２５，２２６は、図５に示すように第１の方向Ｘに延びるように形成されており、ノズル本体２２６の接合面２２９には第１の方向Ｘに延びる凹部２３１が形成されている。
【００３８】
ノズル本体２２５は、ノズル本体２２６の接合面２２９に対応した形状の接合面２３０を有する厚みのある板体であって、開口２３３が形成されている。ノズル本体２２５は、その接合面２３０がノズル本体２２６の接合面２２９とスペーサ２２７とを挟んで接合される。スペーサ２２７は所定の厚みを有し、ノズル本体２２６の凹部２３１の周囲の３辺を閉塞するとともに凹部２３１の長手方向の一辺を開くようにコ字状に形成されている。
【００３９】
これらノズル本体２２５，２２６とスペーサ２２７とは図示しないボルト等によって固定されてスリットノズル２２４を構成する。それにより、スリットノズル２２４には、ノズル本体２２５の接合面２３０とノズル本体２２６の接合面２２９との間のスペーサ２２７が存在しない隙間によって、現像液の傾斜流路２３２がスペーサ２２７の厚みのスリット状に形成され、その先端に吐出口２２８が形成される。
【００４０】
凹部２３１は、開口２３３から供給される現像液の流れをスリットノズル２２４のスリット状の傾斜流路２３２の幅方向に均一化する作用を果たす。また、ノズル本体２２６の吐出口２２８側の端面には吐出口２２８と連なって第１の方向Ｘに延びる平坦な連絡面２３４が形成されており、さらにその連絡面２３４と所定の角度をなして連なる平坦な液盛面２３５が形成されている。ここでは、傾斜流路２３２と連絡面２３４とは直交している。
【００４１】
このスリットノズル２２４は、使用状態においては図６に示すように配置される。傾斜流路２３２が斜め下向きかつ吐出口２２８が基板１００の進行方向側を向き、連絡面２３４は吐出口２２８よりも下側に下向きに位置し、液盛面２３５は下向きであって基板表面とほぼ平行な水平姿勢となっている。
【００４２】
ここで、液盛面２３５と接合面２２９，２３０とのなす角度θは、図６に示すように、１０度以上５０度以下が望ましい。角度θがこの範囲の値より大きいと、吐出口２２８より吐出される現像液が連絡面２３４に伝わることなく基板に落下する。一方、角度θがこの範囲の値より小さいと現像液が液盛面２３５に触らず基板に落下する。
【００４３】
また、連絡面２３４の連絡長さｂは０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下が望ましく、液盛面２３５の第２方向の長さａは１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下が望ましい。連絡面２３４の連絡長さｂがこの範囲の値よりも大きいと、現像液に加わる表面張力よりも重力の方が大きくなり、現像液が連絡面２３４を伝わらず基板に落下する。一方、連絡長さｂがこの範囲の値より小さいと、現像液は、連絡面２３４を触るが液盛面２３５に留まることまることなく基板に落下する。
【００４４】
また、液盛面２３５の長さａがこの範囲の値より小さいと、現像液は液盛面２３５に留まることなく基板に落下する。一方、液盛面２３５の長さａがこの範囲の値よりも大きいと、現像液が液盛面２３５の全体に均一に広がらない。
【００４５】
図７は、本発明の実施の形態に係る基板１００上に液盛された現像液を流し落とす動作を説明する模式図である。
【００４６】
図７に示すように、スリットノズル２２４は第２の方向Ｙに移動するとともに基板１００上に現像液を吐出する。このとき、基板１００上の一方側から他方側へと現像液が供給されるため、基板１００の表面において現像液による処理の開始時点に差が生じる。
【００４７】
次に、基板１００は、図３で説明したように第１の方向Ｘに沿って液盛部２００から傾動部３００へと搬送される。基板１００が傾動部３００へ搬送された後、第１の方向Ｘに平行な軸を中心として基板１００の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部３００が傾いて基板１００上の現像液が流れ落ちる。このとき、基板１００上の現像液は、基板の一方側から他方側に向かって流れ落ちるため、基板１００表面において現像液による処理の終了時点に差が生じる。
【００４８】
したがって、スリットノズル２２４の移動速度を調整し、スリットノズル２２４が移動する速度と基板１００の表面上を現像液が流れ落ちる速度とを等しくすることにより、現像液による処理時間に差が生じなくなる。その結果、現像むらが生じない。
【００４９】
なお、上記実施の形態では、液盛部２００での現像液供給時、および傾動部３００での液落し時には、第１の方向Ｘへ向けた基板１００の搬送を停止しているが、必ずしも停止させる必要はなく、例えば、液盛部２００での現像液供給時および傾動部３００での液落し時のどちらか一方または両方において、第１の方向Ｘへ基板１００を搬送したままであってもよく、また搬送したままの場合、その速度を、例えば、比較的低速に切り換えるといった構成をとってもよい。
【００５０】
このように液盛部２００での現像液供給時および傾動部３００での液落し時に第１の方向Ｘへ向けた基板１００の搬送を停止しない場合には、停止した場合と比べて次のような利点がある。
【００５１】
すなわち、基板１００の搬送を停止すると、その間、ローラ２１３，３１３が基板の同じ個所に接触しつづけることになり、その間に基板１００とローラ２１３，３１３との間に熱の移動が起こるなどして、基板１００に処理むらが発生することがある。基板１００の搬送を停止しなければ、このようにローラ２１３，３１３が基板１００の特定部位に長時間接触しつづけることがなく、処理むらをさらに低減できる。
【００５２】
このとき、基板１００の搬送を継続する場合には、液盛部２００においてはスリットノズル２２４の長さを基板１００の移動範囲全体をカバーするだけの長さがあることが望ましく、傾動部３００においては傾動部３００自体が基板１００の移動範囲全体をカバーする長さであることが必要である。
【００５３】
また、スリットノズル２２４は、第１の方向Ｘに沿って延びる細長い吐出口２２８を有するものであったが、これに限らず、例えば多数の小さな吐出口が第１の方向Ｘに密に並んで設けられているものなど、実質的に、第１の方向Ｘに沿って延びる領域に液を吐出するものであればよい。
【００５４】
また、制御部５００は、傾動部３００の傾斜速度を調整してもよいし、スリットノズル２２４の移動速度および傾動部３００の傾斜角度の両方を調整してもよい。
【００５５】
以下、傾動部３００の傾斜角度を２段階に変化させる場合を説明する。
図８は、傾動部３００の傾斜角度を２段階に変化させる場合を説明する図である。図８（ａ）は、傾動部３００の傾斜角度の変化を示す図である。図８（ｂ）は、傾動部３００の傾斜角度の時間変化を示すグラフである。図８（ｂ）の縦軸は傾動部３００の傾斜角度を示し、横軸は時間を示す。
【００５６】
図８（ａ）に示すように、傾動部３００は傾斜角度Ａおよび傾斜角度Ｂの２段階に分けての傾斜角度を変化させる。図８（ｂ）に示すように、傾動部３００の傾斜角度は、時点ｔ１から時点ｔ２までの間は傾斜角度Ａであり、時点ｔ３から時点ｔ４までの間は傾斜角度Ｂである。
【００５７】
ここで、傾斜した基板１００上の現像液は一定速度で流れ落ちる。しかしながら、現像液がほとんど流れ落ちた状態では、基板１００の下側の縁において残存する現像液が表面張力により液滴となる。それにより、現像液が落ちにくくなる。
【００５８】
したがって、基板１００上の現像液が少なくなったときに傾動部３００の傾斜角度を大きくすることにより現像液が流れ落ちる速度を一定に保つことができる。
【００５９】
なお、図８においては制御部５００は傾動部３００の傾斜角度を２段階に変化させたが、それに限られず、２段階よりも多く変化させてもよい。
【００６０】
本実施の形態においては、アーム駆動部２２２が移動手段およびノズル駆動手段に相当し、傾動部３２０が傾斜手段に相当し、傾動装置３２０が上下動手段に相当し、制御部５００が制御手段に相当し、ローラ２１３，３１３が基板搬送手段に相当し、ローラ支持板２１２，３１１がローラ支持手段に相当し、第１駆動モータ２１４および第２駆動モータ３１４がローラ駆動手段に相当する。
【００６１】
図９は、本発明の他の実施の形態に係る現像装置の動作を説明する模式図である。
【００６２】
図９に示すように、スリットノズル２２４は第１の方向Ｘに延びるように液盛部２００に固定されている。基板１００は複数のローラ２１３ａによりスリットノズル２２４の下方を第２の方向Ｙと逆方向に移動する。基板１００がスリットノズル２２４の下方を移動する間、スリットノズル２２４からは現像液が供給される。このとき、基板１００上の一方側から他方側へと現像液が供給されるため、基板１００の表面において現像液による処理の開始時点に差が生じる。
【００６３】
次に、基板１００は、図３で説明したようにローラ２１３により第１の方向Ｘに沿って液盛部２００から傾動部３００へと搬送される。基板１００が傾動部３００へ搬送された後、第１の方向Ｘに平行な軸を中心として基板１００の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部３００が傾いて基板１００上の現像液が流れ落ちる。このとき、基板１００上の現像液は基板１００の一方側から他方側に向かって流れ落ちるため、基板１００表面において現像液による処理の終了時点に差が生じる。
【００６４】
したがって、スリットノズル２２４の移動速度を調整し、スリットノズル２２４が移動する速度と基板１００の表面上を現像液が流れ落ちる速度とを等しくすることにより、処理時間に差が生じない。その結果、現像むらが生じない。
【００６５】
なお、制御部５００は、傾動部３０の傾斜角度を調整してもよいし、スリットノズル２２４の移動速度および傾動部３０の傾斜角度の両方を調整してもよい。
【００６６】
本実施の形態においては、ローラ２１３ａが移動手段および基板駆動手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る現像装置を示す一部切欠き斜視図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る現像装置を示す一部切欠き斜視図である。
【図３】図１および図２の現像装置の概略的平面図である。
【図４】スリットノズルの模式図である。
【図５】スリットノズルの分解図である。
【図６】スリットノズルによる現像液の基板への液盛を説明する図である。
【図７】基板上に液盛された現像液を流し落とす動作を説明する模式図である。
【図８】傾動部の傾斜角度を２段階に変化させる場合を説明する図である。
【図９】本発明の他の実施の形態に係る現像装置の動作を説明する模式図である。
【符号の説明】
１現像装置
１００基板
２００液盛部
２１０，３１０搬送部
２１３，３１３ローラ
２２０ノズル部
２２１ガイドレール
２２４スリットノズル
３００傾動部
３２０傾動装置
４００洗浄部
５００制御部

Claims

基板に処理を行うための処理装置であって、
第１の方向に沿って延びる吐出領域に処理液を吐出するためのノズルと、
前記基板と前記ノズルとを相対的に前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させるための移動手段と、
前記基板を前記第１の方向を軸として傾斜させる傾斜手段と、
前記ノズルから処理液を吐出しつつ前記移動手段により前記ノズルと前記基板とを相対的に前記第２の方向に移動させることにより前記基板の一方側から他方側へ処理液を供給した後、前記傾斜手段により前記基板を前記一方側が前記他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させる制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記ノズルと前記基板との相対的な移動速度が前記傾斜手段による前記基板の傾斜時に前記基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるように前記ノズルを移動させることを特徴とする処理装置。
前記移動手段は、前記ノズルを前記第２の方向に移動させるノズル駆動手段を含むことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
前記移動手段は、前記基板を前記第２の方向に移動させる基板駆動手段を含むことを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。
前記ノズルから前記基板に処理液が供給された後または同時に、前記基板を前記第１の方向に搬送する基板搬送手段をさらに備え、
前記傾斜手段は、前記基板搬送手段により前記第１の方向に所定の距離搬送された前記基板を傾斜させることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の処理装置。
前記基板搬送手段は、前記ノズルから前記基板への処理液の供給時および前記傾斜手段による前記基板の傾斜時に前記基板の搬送を継続することを特徴とする請求項４記載の処理装置。
前記基板搬送手段は、
前記第２の方向に延びる複数のローラと、
前記複数のローラを回転可能に支持するローラ支持手段と、
前記複数のローラを回転駆動するローラ駆動手段とを含み、
前記傾斜手段は、前記ローラ支持手段の所定部分を上下動させる上下動手段を含むことを特徴とする請求項４または５記載の処理装置。
前記ノズルは、前記基板に対向し、前記基板とほぼ平行に離間した平面である液盛面を備え、
前記処理液は前記液盛面に留められた状態で基板に供給されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の処理装置。
基板に処理を行うための処理方法であって、
第１の方向に沿って延びる吐出口を有するノズルから処理液を吐出しつつ前記ノズルと前記基板とを相対的に前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させることにより前記基板の一方側から他方側へ処理液を供給するステップと、
前記基板を前記一方側が前記他方側に対して相対的に高くなるように傾斜させるステップとを備え、
前記ノズルと前記基板との相対的な移動速度が前記基板の傾斜時に前記基板上の処理液が流れ落ちる速度と等しくなるように前記ノズルを移動させることを特徴とする処理方法。