JP3952603B2 - 電磁波低減反射防止膜および該反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は電磁波シールド効果を有する反射防止コートおよび反射防止コートを有する光学部材に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管やその他の電子機器から放射される電磁波が、人体へ影響を与えるのではないかという疑問が提起され、関心が高まっている。
これら電磁波による影響を避けるために、従来しばしば見られる方法は、金網などの透視可能の導電物で覆うことであった。
しかし、ブラウン管などをこれら導電物で覆った場合、金網などを構成する細線で画面が見えにくくなり、使用者の目が疲れるという問題があった。
【0003】
これに対して、画面表面などに金属細線の網の変わりに透光性薄膜の積層体を設け、反射防止効果と共に電磁波低減効果を得ようとする試みが提案されている。例えば、特開平6−34801号公報に開示されたものは、基材から順に透明導電体層として酸化インジウム錫(ITO)、低屈折率層として酸化シリコン、高屈折率層として酸化チタンの3層の積層体を用いている。これは、反射防止効果によって画面が見やすくなったが、透明導電層の膜厚が300オングストローム以下と薄く、電磁波のシールド効果が低く、十分な効果を上げていない。
【0004】
また、特願平9−269204号に開示されたものは、透光性低屈折率層と透光性高屈折率層の積層構造において、高屈折率層に透明導電層として、酸化インジウム錫を材料として用い、その膜厚を1000オングストローム以上としたものである。
導電層を厚くしたことにより、シート抵抗が低下し、電磁波シールド効果は向上し、実用上十分な性能が得られた。しかし、プラスチック透明基材に形成したとき、高温高湿環境で保管すると、コート膜の色ムラや膜浮きが生じやすく、耐環境性の点で問題があった。
【0005】
さらに、メニスカスタイプのレンズに上記のような電磁波シールド効果を有する薄膜をコートする場合は、凹面にコートするのが通例であった。これはすり傷の発生や汚れ防止のためであった。しかし、凹面へコートされた、膜厚1000オングストローム以上の透明導電層を有する電磁波低減反射防止膜では、高温高湿環境(60℃、湿度90%に1週間放置)で、レンズ基材の伸縮のため、コート剥がれやコート色の色ムラ等が生じる問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮蔽することが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優れた電磁波低減反射防止膜を得ようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、透明基材から順に、第1の低屈折率層、第1の高屈折率層、第2の低屈折率層、第2の高屈折率層、第3の低屈折率層の5層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、100Ω/cm2以下であり、かつ、上記第1、第2、第3の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第1と第3の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第3の低屈折率層の緻密性を上記第1の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする。
また、本発明の電磁波低減反射防止膜は、透明基材から順に、第1の低屈折率層、第1の高屈折率層、第2の低屈折率層、第2の高屈折率層、第3の低屈折率層の5層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、100Ω/ cm 2 以下であり、かつ、上記第1、第2、第3の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第1と第3の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第1、第2の高屈折率層を透明導電層とし、上記第1の高屈折率層の構造と上記第2の高屈折率層の構造を異なるものとしたことを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、以下の態様によって実施される。
本発明の電磁波低減反射防止膜の構成の1例を具体的に示せば、図1において、透明基材上から、第1の低屈折率の透明薄膜層L1、第1の高屈折率の透明薄膜層H1、第2の低屈折率の透明薄膜層L2、第2の高屈折率の透明薄膜層H2、第3の低屈折率の透明薄膜層L3からなり、
低屈折率の透明薄膜層L1は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 2〜3×10~2PAS
基板温度 70〜90℃
蒸着速度 2〜5Å/sec
膜厚 120〜200Å
透明薄膜層L2は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 1.5×10~2PAS
基板温度 70〜90℃
蒸着速度 10〜20Å/sec
膜厚 250〜300Å
透明薄膜層L3は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 5×10~3PAS
基板温度 70〜90℃
蒸着速度 30〜50Å/sec
膜厚 800〜900Å
上記透明薄膜層L1、L2、L3の蒸着条件で、ポリカーボネート樹脂基板上に厚さ1000Åの単層コートを蒸着し、スチールウール試験で膜の硬さをテストすると共に、断面の電子顕微鏡観察を行い、膜の構造を見た。その結果を表1に示す。
【表1】
膜の緻密性の高い膜は、膜の堆積状況が均一で、粒塊が少なかった。一方、低い膜は粒塊の発生が多く、ボソボソとした感じを与えた。
【0009】
高屈折率の透明薄膜層H1はRFイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウム錫層で、蒸着条件は、
酸素ガス圧 2〜3×10~2PAS
基板温度 70〜90℃
蒸着材料 酸化インジウム錫焼結体(Sn含有量5〜10w%)
蒸着速度 200〜120Å/min
RF放電電力 700〜800W
膜厚 100〜200Å
透明薄膜層H2はRFイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウム錫層で、蒸着条件は、
上記透明薄膜層H1、H2の蒸着条件で、ポリカーボネート樹脂基板上に厚さ1000Åの単層コートを蒸着し、断面の電子顕微鏡観察を行い、膜の構造を比較した。
膜の緻密性の高い膜H2は、膜の堆積状況が均一で、粒塊が少なかった。一方、低い膜H1は粒塊の発生が多く、ボソボソとした感じを与えた。
【0010】
図3のメニスカスタイプのプラスチックレンズは、例えば眼鏡用レンズ等として用いられる。その表面に電磁波低減反射防止コートを形成するとき、凸面側に形成する。
透明導電層の膜厚が1000Å以上のとき、図1または図2の構成の電磁波低減反射防止コートは、一方向の内部応力(圧縮応力)を有している。そのため、湾曲した基板の凹面にコートしたときは、60℃、90%湿度環境に1週間放置すると、コート膜浮きやコート色ムラが生じる。これに対して、凸面にコートしたときは、同様の環境テストにおいても、問題の発生は少なく、実用上問題とならない。特に、メニスカスタイプの凸レンズでその効果は大きい。
【0011】
【実施例】
(実施例1)
以下実施例を示す。図1における高屈折率の透明薄膜層H2を2種類の膜構造の積層体として、図2の電磁波低減反射防止膜を得た。基材に近い側を上記膜H1と同じ緻密性の低い膜構造の層H21とし、基材に遠い側をより緻密性の高い膜構造の層H22とする。それぞれの層H21、H22の蒸着条件は、それぞれ上記の層H1、H2の蒸着条件と同じである。
図2に示す構成の電磁波低減反射防止コートの形成条件の1例は以下の通りである。
【0012】
各膜層の膜厚および屈折率は、
である。この電磁波低減反射防止膜は、光学反射防止性能、膜付き(テープ剥離テスト、クロスカット法)耐環境性のいずれでも良好であり、シート抵抗は30Ω/cm2、電磁波遮蔽性能は25dBであった。
【0013】
(比較例1)
実施例1においてL1層の蒸着条件を酸素ガス圧5×10~3PASに、蒸着速度を40Å/secに変更した。他の条件は同じである。
(比較例2)
実施例1においてL3層の蒸着条件をL1層の蒸着条件と同じとした。ただし膜厚は800Åである。
【0014】
(実施例2)
実施例1において、基材としてポリカーボネート樹脂に紫外線効果樹脂からなるハードコートを形成したものを用い、H1層の蒸着時の酸素ガス圧を3×10~2PASとし、RF放電電力650Wを印加、また、L3層蒸着時の酸素ガス圧を3×10~3PAS、蒸着速度を50Å/secとした。他の条件は実施例1と同じである。
【0015】
(実施例3)
実施例1において、H1層を、蒸着材料として酸化インジウムと酸化亜鉛の混合焼結体を用い、RFイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウムと酸化亜鉛の混合層とした。
H21層はH1層と同じ混合層とし、膜厚を110Åとする。H22層はRFイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウムと酸化亜鉛の混合層とした。蒸着材料としてはインジウム金属と亜鉛金属を用い、酸素圧力2×10~2PAS下で蒸着速度はインジウム金属で170Å/sec、亜鉛金属で5Å/secとした。
他は実施例1と同じである。
【0016】
(実施例4)
実施例1において、H21層をH22層と同じ条件でコートした。他は実施例1と同じである。
【0017】
(実施例5)
メニスカス形状のポリカーボネート樹脂成形のレンズの凸面に、実施例1の電磁波低減反射防止コートを形成した。
(比較例3)
実施例5において、凸面ではなく凹面に実施例1のコートを形成した。
【0018】
上記実施例と比較例との評価を下の表に示す。
【表2】
【0019】
【発明の効果】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、構成する各層の条件を最適に選ぶことにより、従来の電磁波低減反射防止膜に比して特に複雑化することもなく、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮蔽することが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優れたものを得ることが出来た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電磁波低減反射防止膜の1実施例の膜構成を示す断面図である。
【図2】本発明の電磁波低減反射防止膜の他の実施例の膜構成を示す断面図である。
【図3】本発明の電磁波低減反射防止膜をメニスカスレンズに実施した場合の説明図である。
Claims (12)
- 透明基材から順に、第1の低屈折率層、第1の高屈折率層、第2の低屈折率層、第2の高屈折率層、第3の低屈折率層の5層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、100Ω/cm2以下であり、かつ、上記第1、第2、第3の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第1と第3の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第3の低屈折率層の緻密性を上記第1の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする電磁波低減反射防止膜。
- 透明基材から順に、第1の低屈折率層、第1の高屈折率層、第2の低屈折率層、第2の高屈折率層、第3の低屈折率層の5層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、100Ω/cm2以下であり、かつ、上記第1、第2、第3の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第1と第3の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第1、第2の高屈折率層を透明導電層とし、上記第1の高屈折率層の構造と上記第2の高屈折率層の構造を異なるものとしたことを特徴とする電磁波低減反射防止膜。
- 上記第3の低屈折率層の緻密性を上記第1の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする請求項2に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第2の高屈折率層を、2種類の層の積層によって構成したことを特徴とする請求項2または3に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記2種類の層は、基材に近い側を緻密性の低い層とし、基材より遠い側を緻密性の高い層としたことを特徴とする請求項4の電磁波低減反射防止膜。
- 上記2種類の層は、基材に近い側を粒塊状に成長した構造の膜とし、基材より遠い側を粒塊が少なく均一性の高い構造の層としたことを特徴とする請求項4あるいは請求項5の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第1の高屈折率層を1種類の膜構造で形成したことを特徴とする請求項2ないし請求項6のいずれかに記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第1の高屈折率層を緻密性の低い層構造としたことを特徴とする請求項7に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第1の高屈折率層を粒塊状に成長した構造としたことを特徴とする請求項7あるいは請求項8に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記高屈折率層を酸化インジウムあるいは酸化インジウムと錫の混合物としたことを特徴とする請求項2ないし請求項9のいずれかに記載の電磁波低減反射防止膜。
- 請求項1ないし請求項10のいずれかの電磁波低減反射防止膜をその凸面部に設けたことを特徴とする反射防止膜を有する光学部材。
- 上記光学部材はメニスカスレンズであり、その凸面部に上記電磁波低減反射防止膜を設けたことを特徴とする請求項11の反射防止膜を有するレンズ。
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