JP3950861B2 - 位置決め装置及び露光装置 - Google Patents
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Description
図1は、図8及び図9に示すウエハステージ装置或いは位置決め装置におけるXビーム105及びXYスライダ103を部分的に示す平面図(一部は断面)である。図2は、図1のX2−X2'から左方を見た断面図である。
この実施形態では、XYスライダ103とXビーム105とを非接触な状態に維持するのアクチュエータとして、ガス圧を利用するエアーパッドを採用する。図3は、図8及び図9に示すウエハステージ装置或いは位置決め装置におけるXビーム105及びXYスライダ103を部分的に示す平面図(一部は断面)である。
この実施形態は、第1、第2の実施形態におけるストッパ(位置規制部)の構造の改良に関する。以下では、第1の実施形態におけるストッパを改良した例を説明するが、同様の方法で第2の実施形態におけるストッパを改良することができる。
この実施形態は、第3の実施形態の改良例を提供する。
図13は、第1〜第4の実施形態に代表される本発明の位置決め装置或いはウエハステージ装置を組み込んだ露光装置の概略構成を示す図である。図13に概略的に示す露光装置は、原版ステージ102によって保持された原版Rを照明光学系203によって照明し、原版Rに形成されているパターンを光学系201によってウエハステージ装置100によって保持されたウエハ(基板)上に投影し転写する。露光装置は、例えば、ステッパとして構成されてもよいし、スキャナとして構成されてもよいし、また、他の形式として構成されてもよい。露光装置はまた、紫外光、レーザー光、X線等の光を用いてパターンを基板に転写する装置として構成されてもよいし、電子線等の荷電粒子線で原版にパターンを描画するように構成されてもよい。後者においては、照明光学系203は、荷電粒子線源を含む構成によって置き換えられうる。
Claims (14)
- 第1方向を長手方向とするビームと、
前記ビームの少なくとも一部を取り囲み前記ビームとともに前記第1方向と垂直な第2方向に移動する可動体と、
前記ビームと前記可動体との間で前記第2方向に力を発生し前記ビームと前記可動体との間の相対的な位置関係を制御するアクチュエータと、
前記ビームと前記可動体との間に配置され、前記ビームと前記可動体との間の前記第2方向における位置関係を規制する位置規制部と、
を備え、前記ビームと前記可動体との間隙の最小値が前記位置規制部によって決定されることを特徴とする位置決め装置。 - 前記アクチュエータは、前記ビームに固定された第1要素と、前記可動体に固定された第2要素とを含み、
前記位置規制部は、前記第1要素と前記第2要素とが接触しないように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。 - 前記アクチュエータは、前記ビームに固定された要素を含み、
前記位置規制部は、前記要素と前記可動体とが接触しないように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。 - 前記アクチュエータは、前記可動体に固定された要素を含み、
前記位置規制部は、前記要素と前記ビームとが接触しないように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。 - 前記アクチュエータは、電磁力により前記ビームと前記可動体との間の相対的な位置関係を制御するように構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の位置決め装置。
- 前記アクチュエータは、ガス圧により前記ビームと前記可動体との間の相対的な位置関係を制御するように構成されていることを特徴とする請求項1、請求項3又は請求項4に記載の位置決め装置。
- 前記位置規制部は、ベアリングを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の位置決め装置。
- 前記ベアリングは、前記可動体が前記ビームに沿って移動可能な面に直交する軸の周りで回転可能な外輪を有することを特徴とする請求項7に記載の位置決め装置。
- 前記ベアリングは、前記ビームと前記可動体との間隙が縮まることにより前記ベアリングが受ける衝撃が緩和されるように構成されていることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の位置決め装置。
- 前記ベアリングは、外輪の周りに緩衝部材を有することを特徴とする請求項9に記載の位置決め装置。
- 前記位置規制部は、前記ビームと前記可動体との間隙がある値になったときに前記ビーム又は前記可動体と接触することにより、前記ビームと前記可動体との間隙が前記値未満にならないように前記ビームと前記可動体との間の位置関係を規制する請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の位置決め装置。
- 前記位置規制部は、前記可動体に固定された前記要素の前記第1方向における両側に配置されていることを特徴とする請求項4に記載の位置決め装置。
- 請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の位置決め装置を、基板を位置決めするための装置として備えることを特徴とする露光装置。
- 請求項13に記載の露光装置を、デバイスを製造する工程のうち露光工程に用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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