JP3946114B2 - 多層回路配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属突起による層間導通構造を有する多層回路配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の金属突起による層間導通構造を有する多層回路配線基板としては、例えば特開2001−111189公報のように、コニーデ状或いは略台形断面形状を有する金属突起を有する第一の導電性金属層を用意し、導電性金属層の頂部を除く部分に絶縁層を配装した後、上記金属突起に第二の導電性金属層を当接させて熱加圧プレス法により積層加圧して接合させるものであった。
【0003】
このような方法においては、同公報に記載のとおり、金属突起と第二の導電性金属層との接続の信頼性を高める為には、金属突起の頂部に導電性ペーストを塗布する方法が採用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、金属突起の頂部に対して正確に導電性ペーストを塗布することは、今後益々高精細化する回路配線基板においては、技術上困難性を有する一方、このような多層回路配線基板を安価に提供するための障害となる。
【0005】
本発明は、導電性ペーストの塗布を行う事無く、接続の信頼性を高め得る多層回路配線基板の製造方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決する為の手段】
その為に、本発明においては、第一の導電性金属層に形成された金属突起を、第二の導電性金属層に接合して層間接続がなされる多層回路配線基板の製造方法において、上記金属突起と上記第二の導電性金属層の接合時に、多層回路配線基板の厚み方向に、振動を加えながら加熱加圧して接合させ、上記第一及び第二の導電性金属層に対するエッチングにより所要の回路配線パターンを形成することを特徴とする金属突起導通型多層回路配線基板の製造方法が提供される。
【0007】
また、本発明では、所要の回路配線パターンが形成された多層回路配線基板に対し、金属突起を有する導電性金属層を、該金属突起が多層回路配線基板に形成された層間導通の為のランドに当接するように配置し、多層回路配線基板の厚み方向に、振動を加えながら加熱加圧し接合することを順次繰り返しながら積層する事を特徴とする多層回路配線基板の製造方法も提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の一実施例による多層回路配線基板の製造工程図であって、先ず同図(1)に示す様に、第一の銅箔1の一方面に対し、突起形成部に対応したレジスト皮膜2を形成し、その他方の面に対しては銅箔に対するエッチング液から保護するために、全面にわたってレジスト皮膜3を形成する。これらのレジスト皮膜2,3は回路基板形成工程中の銅箔エッチングに用いられるフィルム状のレジストをラミネートした後、露光、現像して形成される。
【0009】
次に、同図(2)に示す様に、塩化第二銅溶液など一般的に用いられているエッチング液により、第一の銅箔1をエッチングして、レジスト皮膜2、3を剥離除去し、第一の銅箔1の一部がコニーデ状、或いは略台形断面形状の突起になるようにエッチング処理を行い、金属突起4を形成する。
【0010】
そこで、同図(3)に示す様に、多層回路配線基板の層間絶縁の為の絶縁層5を、熱可塑性ポリイミド等の絶縁樹脂を用いて形成する。
【0011】
次に、同図(4)に示す様に、第二の銅箔6を積層し、振動を加えながら加熱加圧して金属突起4と第二の銅箔6を接合する。
【0012】
この振動は、金属突起の頂部面積、突起高さ等により適宜選択されるが、通常、1μmから20μmが採用される。
【0013】
次いで、同図(5)に示す様に、第一の銅箔1と第二の銅箔6に対して、通常のエッチング処理により、所要の回路配線パターン7を形成する。
【0014】
図2は、図1で製作された多層回路配線基板に対し、更に回路層を積層したものであって、先ず同図(1)に示す様に、一方面に金属突起4を有すると共に、多層回路配線基板における層間絶縁の為の絶縁層5を有する第三の銅箔8を製作する。この工程は、図1(1)〜(3)と同様の手法で行う。
【0015】
次に、同図(2)に示す様に、図1で製作された多層回路配線基板9に対し、同図(1)に示す金属突起4が層間導通の為のランド10に当接するように配置し、振動を加えながら加熱加圧して積層し、第三の銅箔に形成された金属突起4と多層回路配線基板のランド部10の銅箔とを接合する。
【0016】
そこで、同図(3)に示す様に、第三の銅箔8に対し、エッチング処理を行い、所要の回路配線パターン11を形成する。
【0017】
ここで、更に回路層数を増やしたい場合は、図1で製作した多層回路配線基板の両面に対して同様の手法による積層を行うか、または同図(3)で形成された多層回路配線基板に対して、同図(1)から(3)を繰り返し行うことで製作できる。
【0018】
【発明の効果】
本発明によれば、金属突起と銅箔の接合時に、振動を加えながら加熱加圧して接合させるので、金属突起の上面に酸化皮膜が介在した場合でも、その酸化皮膜を破壊しながら、突起金属と回路となる導電性金属層の金属粒子の分散が促進され、強固な接合を得ることが出来る。
【0019】
従って、導電性ペーストの塗布等の工程を用いず、接続信頼性を高めた突起接続による多層回路配線基板を安価に得る事が出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による多層回路配線基板の製造工程図。
【図2】本発明の他の実施例による多層回路配線基板の製造工程図。
【符号の説明】
1 銅箔
2 レジスト皮膜
3 レジスト皮膜
4 金属突起
5 絶縁層
6 銅箔
7 回路配線パターン
Claims (2)
- 第一の導電性金属層に形成された金属突起を、第二の導電性金属層に接合して層間接続がなされる多層回路配線基板の製造方法において、上記金属突起と上記第二の導電性金属層の接合時に、多層回路配線基板の厚み方向に、振動を加えながら加熱加圧して接合させ、上記第一及び第二の導電性金属層に対するエッチングにより所要の回路配線パターンを形成することを特徴とする多層回路配線基板の製造方法。
- 所要の回路配線パターンが形成された多層回路配線基板に対し、金属突起を有する導電性金属層を、該金属突起が多層回路配線基板に形成された層間導通の為のランドに当接するように配置し、多層回路配線基板の厚み方向に、振動を加えながら加熱加圧して接合することを順次繰り返しながら積層する事を特徴とする多層回路配線基板の製造方法。
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