JP3926264B2 - 凹面及びホログラムを有する非球面測定装置及び方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は非球面測定装置及び方法に係り、より詳細には、ホログラムを利用した非球面測定装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
大型のプロジェクションディスプレーシステムを始めとしたカムコーダー等の多くの製品で非球面レンズが使われている。製品の軽量化、小型化及び高画質化のために非球面レンズの口径及び非球面の度合いは次第に大きくなりつつあり、非球面レンズの製作に際し、高精度の形状正確度が要求されている。非球面レンズの形状を高精度で測定するために、ホログラム及び干渉計を利用した測定装置及び方法が開発されている。
【0003】
ホログラムのうち、特に計算機合成ホログラム(以下、CGH)を使って非球面レンズを測定する装置及び方法は、米国特許第5,737,079号及び第5,530,547号公報に開示されている。ここで、CGHとは、コンピュータで作成したホログラムであって、物体の位相分布からホログラムの複素振幅分布を計算して記録したホログラムを言う。
【0004】
図1を参照すれば、米国特許第5,737,079号公報に開示された非球面測定装置には、光源1と、光路を変えるビームスプリッタ2と、参照光WRを生成するCGH 5が形成されている参照面4を有する試験板3と、非球面7を有する試験レンズ6及び非球面7から反射された試験光WTと参照光WRとが干渉してイメージを形成するイメージ面10が備えられている。ここで、CGHは、参照面4上にクロムオンガラス(chrome-on-glass)の形で記録される。参照符号8は開口面を、8aは開口を、そして9はレンズを各々表わす。
光源1から出射された光L1は、ビームスプリッタ2を通り過ぎつつ発散されて光L2として試験板3及び試験レンズ6に向って進む。光L2は、試験板3を通って非球面7に垂直に入射する光L3となって同一光路に反射されて試験光WTを形成する。参照光WRは、試験板3の参照面4に形成されているCGH 5で回折される光L2から生成される。
前記非球面測定装置は、参照光WRと試験光WTとが同一光路を進むようにCGHの形成された試験板及び他の光学部材を整列させてフィゾー干渉計として構成されている。前記非球面測定装置を利用して非球面を測定する方法は、ヌル干渉縞を基準として、イメージ面10で形成された干渉縞の、ヌル干渉縞からの偏差ないしずれから、非球面の誤差を測定する方式である。ここで、ヌル干渉縞とは、干渉縞が形成されていない状態を意味する。
前記非球面測定装置において、CGH 5が記録される試験板3は、参照光及び試験光として入射光を反射しなければならないため、面精密度が極めて高くなければならない。特に、試験板3が試験レンズの前方に位置する場合、試験光が試験板3を完全に通過しなければならないために試験板3の面精密度は一層重要になるが、このように優れた面精密度を達成することは容易ではない。高い面精密度を有する試験板3が必要なその他の理由は、試験板が参照光を生成するためである。
また、前記非球面測定装置において、CGH 5は、試験板が光を透過できるようにクロムオンガラスタイプが使われ、完全に透明な位相タイプのCGHは使われられない。クロムは、アルミニウムなどの銀色の不透明なコーティングであって、CGH 5がガラスのみよりなる所は透明でクロムがコーティングされた所は不透明であり、クロムオンガラスタイプのCGHで透過されたビームは試験ビームとして使われ、反射されたビームは参照ビームとして使われる。完全に透明な位相タイプのCGHは入射ビームを全て透過させるため、参照ビーム及び試験ビームを生成することができない。従って、反射されたビームを試験ビームとして特別に生成しようとする場合、CGHの裏面にアルミニウムをコーティングする方法を使用しなければならない。
加えて、前記非球面測定装置において、参照光及び試験光が相異なる光路に進む場合、外部振動などの環境因子によって測定誤差が生じる恐れがあるため、干渉計としては、参照光と試験光とが同一光路を進んで前記測定誤差が生じないフィゾー干渉計のみを使用している。
【0005】
図2を参照すれば、米国特許第5,530,547号公報に開示された従来のCGH整列装置では、ベース11及びベース11に取り外し自在に固定されるプレート13を備えるマウント17と、光学素子が取り付けられるフレーム15とが並んでいる。前記フレーム15にはCGHまたはCGHヌル補償器が装着でき、前記フレーム15はプレート13に取り外し自在に連結される。
干渉系(interference system)で生成された球面試験ビームはCGHにより回折されて干渉縞を形成し、プレート13は、ベース11に対して前記試験ビームが回折されてヌル干渉縞が形成可能に調整される。プレート13に固定されるフレーム15を調整するために、ベース11には調整スクリューが備えられており、スクリューを調整することによりフレーム15に設けられたCGHを調整する。CGHが調整されてヌル干渉縞が形成されれば、CGHを除去した後にCGHヌル補償器を取り付けて非球面レンズを試験する。
前記非球面測定装置は、機械的にベース及びプレートを操作するために機械的な調整誤差が生じる恐れがあり、非球面の度合いが激しいレンズの場合にその測定が容易ではない。
さらに、前記従来の非球面測定装置は、試験レンズの非球面の度合いが激しい場合にCGHの格子間隔の限界によって精度良い測定が困難であるといった短所がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明が解決しようとする技術的課題は、前述した従来の技術の問題点を改善するために、干渉計、面精密度が高くない光学素子、及びホログラムの格子間隔を大きく形成した光学素子を利用して簡易に光学系を構成し、非球面の度合いが激しい光学素子を精度良く測定することができる非球面測定装置及び方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記技術的課題を達成するために、本発明は、入射光を生成する干渉計と、前記入射光を反射させて試験光として形成する非球面を有する試験部材と、前記入射光の光路上に位置し、前記試験部材に向けて前記入射光を回折させるホログラムが形成される少なくとも一つの面を有する第1の光学素子と、前記第1の光学素子の後方に整列されて前記入射光を前記非球面に進めると共に、前記非球面から反射された試験光の前記ホログラムに対する入射角を低減する凹面を有する第2の光学素子とを備えることを特徴Eとする非球面測定装置を提供する。
ここで、前記第1の光学素子は、他の凹面をさらに備えることが望ましく、前記第2の光学素子は、ホログラムが形成される他の面をさらに備えることが望ましい。
前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射される前記試験光は、入射光路と同一光路に沿って反射される。
前記試験部材の後方に球面ミラーをさらに備えることが望ましい。
望ましくは、前記ホログラムは、CGHである。
【0008】
前記技術的課題を達成するために、本発明はまた、光源からの光を光路変換器で入射光と参照光とに分岐する第1の段階と、前記入射光をホログラムの形成された第1の光学素子に入射させて前記ホログラムで回折させる第2の段階と、前記ホログラムで回折された前記入射光を凹面を有する第2の光学素子に入射させてから前記凹面に通す第3の段階と、前記凹面を通った前記入射光を非球面を有する試験部材で反射させて試験光として形成する第4の段階と、前記試験光と前記参照光とが干渉して形成された干渉縞から非球面の誤差を測定する第5の段階とを含むことを特徴とする非球面測定方法を提供する。
前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射される試験光は、入射光路と同一光路に沿って反射される。
前記試験部材の後方に球面ミラーをさらに配列して、前記試験部材を通った前記試験光を前記球面ミラーに垂直に入射させてから同一経路に沿って反射させる。
前記第5の段階において、前記非球面誤差を前記試験光と前記参照光との干渉縞のヌル干渉縞の偏差から測定する。
前記ホログラムは、CGHであることが望ましい。
前記試験部材が凸非球面を有する場合、前記凸非球面のエラーS2は、凹面のエラーS1と試験部材の屈折率n及び透過波面TRWに対する下記数式を利用して求めることが望ましい。
(数式1)
【数3】
【0009】
本発明はまた、前記技術的課題を達成するために、入射光を生成する干渉計と、前記入射光を反射させて試験光として形成する非球面を有する試験部材と、前記入射光の光路上に位置し、前記試験部材で前記入射光を回折させるホログラム、及び前記入射光の前記ホログラムに対する入射角を低減する凹面を有する光学素子とを備えることを特徴とする非球面測定装置を提供する。
前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射される試験光は、入射光路と同一光路に沿って反射される。
ここで、前記試験部材の後方に球面ミラーをさらに配列することが望ましい。
前記凹面には、ホログラムがさらに形成されることが望ましい。
望ましくは、前記ホログラムは、CGHである。
【0010】
最後に、前記技術的課題を達成するために、本発明は、光源からの光を光路変換器で入射光と参照光とに分岐する第1の段階と、前記入射光をホログラム及び凹面を有する光学素子に通す第2の段階と、前記光学素子を通った前記入射光を非球面を有する試験部材で反射させて試験光として形成する第3の段階と、前記試験光と前記参照光とが干渉して形成されたイメージから非球面の誤差を測定する第4の段階とを含むことを特徴とする非球面測定方法を提供する。
前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射される試験光は、入射光路と同一光路に沿って反射される。
ここで、前記試験部材の後方に球面ミラーをさらに配列して、前記試験部材を通った試験光を前記球面ミラーに垂直に入射させてから同一経路に沿って反射させることが望ましい。
望ましくは、前記ホログラムは、CGHである。
前記試験部材が凸非球面を有する場合、前記凸非球面のエラーS2は、凹面のエラーS1と試験部材の屈折率n及び透過波面TRWに対する前記数式を利用して求めることが望ましい。
【0011】
本発明によれば、フィゾー干渉計及びトワイマン・グリーン干渉計を使用して参照光を形成することから、光学素子に入射する入射光は単に試験光にのみ関連して光学素子の製作上の高精度が要求されない。また、凹面を有する光学素子をホログラムの形成された光学素子またはホログラムの形成された入射面の後方に位置させ、光学素子の凹面を試験部材に向わせることにより、試験部材から反射される光のホログラムに対する入射角を低減してホログラムの格子間隔が大きくできるので、非球面の度合いが激しい試験部材の精度良い測定が可能である。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面に基づき、本発明に係る非球面測定装置及び方法の実施形態を詳細に説明する。図中、各構成要素の大きさ及び厚さは本発明の実施形態を説明するために誇張されている。
【0013】
図3A及び図3Bは、本発明の第1及び第2の実施形態による非球面測定装置を各々示す図面である。
図3Aを参照すれば、本発明の第1の実施形態による非球面測定装置は、干渉計31と、干渉計31から出射された光を集束させる集束レンズ33と、前記集束された光の周波数を空間変調させる空間フィルタ35と、空間フィルタ35から入射する入射光Liを回折させるホログラム34及び前記入射光を発散させる凹面30が設けられている第1の光学手段37と、第1の光学手段37を通った光を反射させて試験光Ltとして形成する非球面38を有する試験部材39とを備える。ここで、ホログラム34は、CGHであることが望ましい。ここで、空間フィルタ35は、不要な他の次数の回折ビームを遮断させるために使われる。図3Bを参照すれば、本発明の第2の実施形態による非球面測定装置は、前述した本発明の第1の実施形態による非球面測定装置と同様に、干渉計31と、集束レンズ33と、空間フィルタ35と、試験部材39とを備えるが、第2の光学手段67は、ホログラム64及び凹面60を同時に備えるので、前記第1の光学手段37とは異なって一つの光学部材で構成される。
入射光Liは、干渉計31から出射されて集束レンズ33を通り過ぎつつ空間フィルタ35に向かって集束され、空間フィルタ35を通った後に、ホログラム34,64及び凹面30,60が設けられている光学手段37,67を通って試験部材39に進む。試験部材39の非球面38に垂直に入射してから同一光路に反射された入射光Liは試験光Ltとなって同一光路に進む。
【0014】
図4Aないし図4Cを参照すれば、本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる第1の光学手段37a,37b,37cは、ホログラム34a,34b,34cが少なくとも一面に形成される第1の光学素子32a,32b,32cと、入射光Liの出射面が凹面30a,30b,30cである第2の光学素子36a,36b,36cとを含んでなる。
ホログラム34a,34b,34cが形成される面の位置に応じて、図4Aないし図4Cの3種に分けられる。非球面の度合い及び入射光の入射角に応じて適合した光学手段を選択し、第1の光学素子32a,32b,32cと第2の光学素子36a,36b,36cとの距離を適当に調節して非球面を精度良く測定することができる。
【0015】
図5は、一次元回折格子として働くCGHを概略的に示す概念図である。
通常の1次元回折格子の形態を有するホログラム34aは、その格子間隔に対する方程式が下記数式2のように与えられる。
(数式2)
【数4】
ここで、Sは格子間隔を、θ0は格子に入射する光の入射角を、θmは格子による入射光の回折角を各々表わす。前数式2から明らかなように、ホログラム34aの格子間隔Sは波長λが一定である時に入射角θ0及び回折角θmに依存して、入射角θ0が大きくなるほど格子間隔Sは小さくなる。
本発明の実施形態による非球面測定装置に使われるホログラム34の格子間隔Sは小さいほど製作し難くなるため、ホログラム34の格子間隔Sを大きくするためには、ホログラム34の製作時にホログラム34に入射する試験光Ltの入射角を低減する必要がある。
従って、ホログラム34が形成される第1の光学素子32の後方に凹面を有するレンズを配列して試験光Ltの入射角を低減してホログラム34を記録する。
本発明の実施形態による非球面測定装置において、試験部材39に臨む凹面30を有する第2の光学素子36は、第1の光学素子32の後方に整列され、この第1の光学素子32上に、前記非球面38から反射された試験光Ltの入射角を低減することを用いて記録されたホログラム34が形成されている。。
実際に、凹レンズを使用する以前には、レーザービームを利用して位相タイプのCGHを製作する場合の最小格子間隔は1μmであったが、凹レンズを使用した後のCGHの最小格子間隔は3μmと増加した。レーザーライティング装置(Laser writing machine)を使用してCGHを製作する場合、格子間隔は3μmが製作限界である。
【0016】
図6Aないし図6Gに、本発明の実施形態による非球面測定装置に使用する場合に、凹面を有する光学素子を備えることによりCGHの格子間隔が次第に隔たっていく過程のシミュレーションが示されている。
図6Aを参照すれば、非球面測定装置で従来使われていた平板型レンズ67aの、干渉計31との対向面にCGH64aを記録する場合、CGH64aの最小格子間隔は2ミクロンに形成される。
図6Bを参照すれば、平板型第1の光学素子62bと、非球面38との対向面は平面で第1の光学素子62bとの対向面が凹面である第2の光学素子66bとを配列した後、第1の光学素子62bの干渉計31との対向面にCGH64bを記録すれば、CGHの最小格子間隔は略2.9ミクロンと若干隔たり、図6Cを参照すれば、干渉計31との対向面が平面で非球面38との対向面が凹面である光学素子67cで前記平面にCGH64cを記録すれば、CGH64cの最小格子間隔は略3.7ミクロンに隔たる。
図6Dを参照すれば、平板型第1の光学素子62dと、第1の光学素子62dの後方に非球面38との対向面が凹面である第2の光学素子66dとを整列して第1の光学素子32の干渉計31との対向面にCGH64dを記録する場合、CGH64dの最小格子間隔は、図6Cに示されたように略3.7ミクロンとなり、図6Eを参照すれば、第1の光学素子62eの干渉計31との対向面は平面で反対面は凹面であり、第2の光学素子66eの第1の光学素子62eに対応する面が凹面で非球面38との対向面が平面である場合、第1の光学素子62eの干渉計31との対向面にCGH64eを記録すれば、CGH64eの最小格子間隔は略5ミクロンに隔たる。
図6Fを参照すれば、第1の光学素子62fの干渉計31との対向面は平面で反対面は凹面であり、第2の光学素子66fの第1の光学素子62fに対応する面が平面で非球面38との対向面が凹面である場合に、第1の光学素子62fの干渉計31との対向面にCGH64fを記録すれば、CGH64fの最小格子間隔は略6.5ミクロンに隔たり、図6Gを参照すれば、干渉計31との対向面は平面で反対面は凹面である第1の光学素子62gと、第1の光学素子62gに対応する面及び非球面38との対向面が共に凹面である第2の光学素子66gを配列し、第1の光学素子32の干渉計31との対向面にCGH64gを記録すれば、CGH64gの最小格子間隔は、最大15ミクロンまで隔たる。
図6Aないし図6Gまでのシミュレーションの結果から、第1の光学素子または第2の光学素子が凹面を多く備えるほどCGHの格子間隔が隔たるということが分かる。
【0017】
図7は、本発明の第3の実施形態による非球面測定装置を示す図面であって、図3Aに示された本発明の第1の実施形態による非球面測定装置と光学系との構成が同一であるが、単に異なる点は、集束レンズ33としてダイバージングレンズが使われており、非球面38を有する試験部材39の後方に球面ミラー40がさらに設けられているということである。
球面ミラー40が設けられていない場合、試験光Ltは非球面38に垂直に入射してから非球面38から反射され、同一光路に沿って干渉計31に向って進む。球面ミラー40がさらに設けられる場合には、試験光Ltは、非球面38を通った透過光が球面ミラー40の表面に垂直に入射してから反射され、さらに同一光路に沿って非球面38を有した試験部材39及びホログラム34を通って干渉計31に向かう。ここで、非球面38が凸面である場合、球面ミラー40をさらに設けて透過波面(TRW;Transmission Wavefront)を形成することが望ましい。
本発明の第3の実施形態による非球面測定装置において、試験部材39に無反射コーティングが施されている時、凸非球面38に対して球面ミラー40を使った場合と球面ミラー40を使っていない場合との干渉計31への到達光量に違いがある。
球面ミラー40を使っていない場合、干渉計31に達する光量は、凹面30を通った光量(0.98)×凸非球面から反射された光量(0.02)×凹面を通ってからの光量(0.98)であるのに対し、球面ミラー40を使った場合、干渉計31に達する光量は、凹面30を通った光量(0.98)×凸非球面を通ってからの光量(0.98)×球面ミラー40から反射されてからの光量(0.99)×凸非球面を通ってからの光量(0.98)×凹面を通ってからの光量(0.98)となり、球面ミラー40を使った場合の光量がはるかに高いということが分かる。光量が多いほどコントラストが高くなって、ヌル干渉縞を一層明確に観察することができる。
このように、光量に対する結果は、試験部材39に無反射コーティングが施されていない場合にも同様に適用される。また、球面ミラー40は、ホログラム34に入射する光の入射角を低減する役割を果たす。すなわち、非球面38から反射される試験光Ltをそのまま使うより球面ミラー40を使ってCGHを形成する格子間隔を隔てることで、製作が容易になる。
本発明の第1ないし第3の実施形態による非球面測定装置には、試験光及び参照光を生成して干渉縞を形成するために、図8に示されているフィゾー干渉計または図9に示されているトワイマン・グリーン干渉計が使われる。
【0018】
図8を参照すれば、フィゾー干渉計31には、光源41と、光源41から発せられた光を集束させる集束レンズ42と、特定の回折次数のビームのみを通すフィルタ43と、参照光Lrと試験光Ltとが干渉してイメージを形成するイメージ面49と、光路を分離して入射光のうち参照光Lrはイメージ面49に進める一方、試験光Ltは非球面測定装置50に進めるビームスプリッタ45及び試験光Ltを平行光に変えるコリメーティングレンズ47が備えられている。
光源41はレーザー光を発し、発せられたレーザー光のうち一部は非球面測定装置50に向かう入射光Liとして、そして一部は参照光Lrとして進む。
集束レンズ42は、光源41から発せられたレーザー光を集束させてビームスプリッタ45に向わせる。集束レンズ42とビームスプリッタ45との間の光路上にはフィルタ43が設けられて、入射する光のうち所定の周波数範囲に入る最適の光強度を有するビームのみを透過させる。
ビームスプリッタ45は、入射光の一部としての参照光Lrはその光路を90°に変えてイメージ面49に向わせる一方、試験光Ltはそのまま通させて非球面測定装置50に進める。
コリメーティングレンズ47は、ビームスプリッタ45を通った入射光Li´を平行光に変え、コリメーティングレンズ47の前方にはダイバージングレンズがさらに設けられてコリメーティングレンズ47を通った入射光Li´を収斂光として形成できるが、ここで、ダイバージングレンズは、図3の非球面測定装置において集束レンズ33の機能をする。
入射光Li´は、フィゾー干渉計31を通った後に非球面測定装置50に向かい、光学素子37を通って非球面30から反射されて試験光Ltとなり、前記試験光Ltがさらにフィゾー干渉計31に入射する。フィゾー干渉計31に入射した試験光Ltはビームスプリッタ45で光路が90°変えられてイメージ面49に進み、イメージ面49で参照光Lrと干渉して干渉縞を形成する。
【0019】
図9は、本発明の実施形態において、トワイマン・グリーン干渉計を使って非球面測定装置を構成した場合の図面である。
図9を参照すれば、トワイマン・グリーン干渉計31´には、光源51と、光路を分離して入射光のうち参照光Lrがその表面から反射される参照ミラー52と、参照光Lrと試験光Ltとが干渉してイメージを形成するイメージ面56及び参照ミラー52から反射された参照光Lrをイメージ面49に進めて入射光Li´は非球面測定装置に進めるビームスプリッタ54が備えられている。
光源51及びビームスプリッタ54についての説明は、図8に示されたフィゾー干渉計と同じである。フィゾー干渉計とトワイマン・グリーン干渉計との最も大きい差異点は、参照光Lrが進む光路が相異なるということである。示されたように、トワイマン・グリーン干渉計において、参照光Ltは、試験光Lrとは異なって、ビームスプリッタ54から反射されて参照ミラー52に進んでその表面から反射された後、さらにビームスプリッタ54を通って試験光Lrと同一光路に進む。
【0020】
本発明の第1の実施形態による非球面測定方法は、図3Aに示されたように、先ず、ホログラム34を有する第1の光学素子32と凹面30を有する第2の光学素子36とを備える非球面測定装置を使用する場合、光源からの光をビームスプリッタ45で入射光Li´と参照光Ltとに分岐する第1の段階と、入射光Li´をホログラム34が形成された第1の光学素子32に入射させてホログラム34で回折させる第2の段階と、ホログラム34で回折された入射光Li´を凹面30が形成された第2の光学素子36に入射させた後に凹面30に通す第3の段階と、凹面30を通った入射光Li´を非球面38が形成された試験部材39で反射させて試験光Ltとして形成する第4の段階、及び試験光Ltと参照光Lrとが干渉して形成された干渉縞から非球面38の誤差を測定する第5の段階を含む。
【0021】
本発明の第2の実施形態による非球面測定方法は、図3Bに示されたように、ホログラム64及び凹面60を有する光学素子67を利用する場合、図8に示されたように、光源41からの光をビームスプリッタ45を利用して入射光Li´と参照光Ltとに分岐する第1の段階と、入射光Li´をホログラム34及び凹面30を有する光学素子67に通す第2の段階と、光学素子67を通った入射光Liを非球面38を有する試験部材39で反射させて試験光Ltとして形成する第3の段階、及び試験光Ltと参照光Lrとが干渉して形成されたイメージから非球面38の誤差を測定する第4の段階を含む。
ここで、ホログラム34,64は、入射光Li´及び試験光Ltが同一光路に進むように製造され、CGHであることが望ましい。
また、試験部材39の後方に球面ミラー40をさらに備えて試験部材39を通った試験光Ltを球面ミラー40の表面または凸非球面に垂直に入射させた後、同一光路で反射された光をして再び非球面38を有する試験部材39及びホログラム34に通して透過波面を形成せしめる。球面ミラー40をさらに備える場合には、非球面38が特に凸面である場合に好適である。
光源41と第1の光学素子32または光学素子67との間の光路上にビームスプリッタ45,54を配列して入射光Li´及び参照光Lrの光路を変えることが望ましい。
【0022】
本発明の第1及び第2の実施形態による非球面測定方法において、非球面誤差は、試験光Ltと参照光Lrとの干渉縞のヌル干渉縞からの偏差から測定される。
図3Aに示された本発明の第1の実施形態による非球面測定装置及び測定方法を利用して凹非球面を測定したインターフェログラムが図10Aないし図10Cに示されている。図10Aは、凹非球面のヌル干渉縞であり、図10B及び図10Cは、試験される凹非球面の2次元及び3次元位相マップである。この場合のヌル干渉縞とは、理想的な非球面で得られる干渉縞であり、図10Aは理想的な凹非球面で得られる干渉縞を示している。
非球面を有するレンズを製造した後に本発明の実施形態による測定装置及び方法を利用して干渉縞を測定した時、図10Aに示されたようなヌル干渉縞インターフェログラムが得られたならば、非球面レンズが正確に製造されたということを意味する。ヌル干渉縞に対する位相マップは0であって、ほとんど平面となる。
しかしながら、製造された非球面レンズの位相マップが図10B及び図10Cのように現れるのであれば、凹非球面が正確に加工されていないことを意味する。図10B及び図10Cを参照すれば、図10Bにおける明るい部分は図10Cにおけるピークであり、図10Bにおける暗い部分は図10Cにおけるバリーである。位相マップから、ピークツーバリーエラー(peak-to-valley error)が約7ウェーブであることが分かり、この情報に基づき非球面を約7ウェーブほど削る工程を行って正確な非球面を製造することができる。
図3Bに示されたように、本発明の第2の実施形態による非球面測定装置を利用し、ホログラムで回折されて凹面を通った後に凸非球面で反射されてさらに凹面を通った試験光と参照光との干渉波面を測定した結果が、図11A及び図11Bに示されている。
【0023】
図11A及び図11Bは各々、フィゾー干渉計及び平凹レンズを備える非球面測定装置を利用して求められた透過波面のヌル干渉縞インタフェログラム及び2次元位相マップを示すものである。
透過波面TRWは、下記数式3で表わされる。
(数式3)
【数5】
ここで、S1は凹面のフィギュアエラー(figure error)を、S2は凸面のフィギュアエラーを、nは測定される試験部材の屈折率を各々表わす。凸面のフィギュアエラーS2は、前数式3から前数式1のように求められる。
凹面エラーから透過波面を引く前数式1のような位相マッピングのために、図13に示されたように凹面に2つの基準点をおき、全ての測定において、干渉計のズーム位置は固定しなければならない。
【0024】
図12A及び図12Bは、前数式3から求められる2次元及び3次元位相マップを示すものである。これらの図面から、試験部材の凸面は約2.9ウェーブのrmsフィギュアエラーと約14.2ウェーブの表面フィギュアエラーとを有することが分かる。
【0025】
本発明の実施形態による測定装置は、凹面を有する光学素子を使って光の入射角を低減することによりホログラム格子間隔を大きく記録可能にしてホログラムの製作を容易にする。
本発明の実施形態による測定装置及び測定方法は、このようにして製作されたホログラム及び凹面を有する光学素子を利用することにより、非球面の度合いが激しい試験部材の面を精度良く測定することができる。
また、本発明の実施形態による測定装置及び測定方法において、ホログラム及び凹面を透過する光は試験光だけであるので、凹面の面精度がやや低い光学素子を使用することができ、試験光及び参照光の光路を同一にする必要がないので、フィゾー干渉計だけではなく、トワイマン・グリーン干渉計も使用することができるほか、クロムオンガラスタイプのCGH及び位相タイプのCGHも使用することができる。
【0026】
以上の説明において多くの事項が具体的に記載されているが、これらは発明の範囲を限定するよりは、望ましい実施形態の例示として解釈されなければならない。
例えば、本発明が属する技術分野における当業者であれば、本発明の技術的な思想により凹面を有する光学素子と他の形のホログラムを有する光学素子とを配列して非球面測定装置を製造することができるであろう。よって、本発明の範囲は説明された実施形態によって定められるのではなく、特許請求の範囲に記載された技術的な思想によって定められるべきである。
【0027】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明に係る非球面測定装置及び方法の長所は、凹面及びホログラムに入射する光の角度を低減して製造された格子間隔の大きいホログラムを利用して非球面の度合いが激しいレンズを正確に測定することができるということである。また、様々な干渉計及びCGHを使用することができ、面精度がやや低い凹面を使用することができることから、非球面測定装置のコスト下げに寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 米国特許第5,737,079号公報に開示された非球面測定装置を示す図である。
【図2】 米国特許第5,530,547号公報に開示された非球面測定装置を示す図である。
【図3A】 本発明の第1の実施形態による非球面測定装置を簡略に示す図である。
【図3B】本発明の第2の実施形態による非球面測定装置を簡略に示す図である。
【図4A】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の第1の具現例を示す図である。
【図4B】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の第2の具現例を示す図である。
【図4C】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の第3の具現例を示す図である。
【図5】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われるCGHの格子間隔と入射光の入射角との関係を示す図である。
【図6A】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図6B】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図6C】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図6D】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図6E】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図6F】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図6G】 本発明の実施形態による非球面測定装置に使われる光学素子の凹面とCGHの格子間隔との関係による一具現例を示す図面である。
【図7】 本発明の第3の実施形態による非球面測定装置を示す図面である。
【図8】 本発明の実施形態による非球面測定装置のフィゾー干渉計を示す図面である。
【図9】 本発明の実施形態による非球面測定装置のトワイマン・グリーン干渉計を示す図面である。
【図10A】 本発明の実施形態による非球面測定方法により測定された凹面のヌル干渉縞を示すインタフェログラムである。
【図10B】本発明の実施形態による非球面測定方法により測定された凹面の2次元及び3次元位相マップである。
【図10C】 本発明の実施形態による非球面測定方法により測定された凹面の2次元及び3次元位相マップである。
【図11A】 本発明の実施形態による非球面測定方法により測定された凸非球面のヌル干渉縞を示すインタフェログラムである。
【図11B】 本発明の実施形態による非球面測定方法により測定された凸非球面の透過波面の2次元位相マップである。
【図12A】 本発明の実施形態による非球面測定方法により前記数式3から求められた2次元及び3次元位相図である。
【図12B】 本発明の実施形態による非球面測定方法により前記数式3から求められた2次元及び3次元位相図である。
【図13】 本発明の実施形態による非球面測定方法において、凹面に2つの基準点を表示した図面である。
【符号の説明】
30・・・凹面
31・・・干渉計
32・・・第1の光学素子
33・・・集束レンズ
34・・・ホログラム
35・・・空間フィルタ
36・・・第2の光学素子
37・・・第1の光学手段
38・・・非球面
39・・・試験部材
Li´・・・入射光
Lt・・・試験光
Claims (17)
- 光を生成する干渉計と、
前記光の光路上に位置し、前記光を反射させて試験光として形成する非球面を有する試験部材と、
前記光の光路上の前記干渉計と前記試験部材との間に位置し、前記試験部材に向けて前記光を回折させるホログラムが形成される少なくとも一つの面を有する第1の光学素子と、
前記光の光路上の前記第1の光学素子と前記試験部材との間に整列されて前記光を前記非球面に進めると共に、前記非球面から反射された試験光の前記ホログラムに対する入射角を低減する凹面を有する第2の光学素子とを備え、
前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射される前記試験光は、前記試験部材に入射する光路と同一光路に沿って反射されることを特徴とする非球面測定装置。 - 前記第1の光学素子は、さらに他の凹面を備えることを特徴とする請求項1に記載の非球面測定装置。
- 前記第2の光学素子は、ホログラムが形成されるさらに他の面を備えることを特徴とする請求項1に記載の非球面測定装置。
- 前記試験部材の前記干渉計とは反対側に球面ミラーをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の非球面測定装置。
- 前記ホログラムは、計算機合成ホログラム(CGH)であることを特徴とする請求項1に記載の非球面測定装置。
- 光源からの光を光路変換器で光と参照光とに分岐する第1の段階と、
前記光をホログラムの形成された第1の光学素子に入射させて前記ホログラムで回折させる第2の段階と、
前記ホログラムで回折された前記光を凹面を有する第2の光学素子に入射させてから前記凹面に通す第3の段階と、
前記凹面を通った前記光の少なくとも一部を、非球面を有する試験部材で前記光路変換器の方向に反射させて試験光として形成する第4の段階と、
前記試験光と前記参照光とが干渉して形成された干渉縞から非球面の誤差を測定する第5の段階とを含み、
前記第4の段階において、前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射させる試験光を、前記試験部材に入射する光路と同一光路に沿って反射させることを特徴とする非球面測定方法。 - 前記第4の段階において、
前記試験部材の前記干渉計とは反対側に球面ミラーをさらに配列して、前記試験部材を通った前記光の少なくとも一部を前記球面ミラーに垂直に入射させてから同一経路に沿って反射させることを特徴とする請求項6に記載の非球面測定方法。 - 前記第5の段階において、
前記非球面誤差を前記試験光と前記参照光との干渉縞のヌル干渉縞の偏差から測定することを特徴とする請求項6または7に記載の非球面測定方法。 - 前記ホログラムは、CGHであることを特徴とする請求項6に記載の非球面測定方法。
- 光を生成する干渉計と、
前記光の光路上に位置し、前記光を反射させて試験光として形成する非球面を有する試験部材と、
前記光の光路上の前記干渉計と前記試験部材との間に位置し、前記試験部材に向けて前記光を回折させるホログラム、及び前記光の前記ホログラムに対する入射角を低減する凹面を有する光学素子とを備え、
前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射される試験光は、前記試験部材に入射する光路と同一光路に沿って反射されることを特徴とする非球面測定装置。 - 前記試験部材の前記干渉計とは反対側に球面ミラーをさらに配列することを特徴とする請求項10に記載の非球面測定装置。
- 前記凹面には、ホログラムがさらに形成されることを特徴とする請求項10に記載の非球面測定装置。
- 前記ホログラムは、CGHであることを特徴とする請求項10に記載の非球面測定装置。
- 光源からの光を光路変換器で光と参照光とに分岐する第1の段階と、
前記光をホログラム及び凹面を有する光学素子に、ホログラム、凹面の順番で通す第2の段階と、
前記光学素子を通った前記光の少なくとも一部を、非球面を有する試験部材で前記光路変換器の方向に反射させて試験光として形成する第3の段階と、
前記試験光と前記参照光とが干渉して形成された干渉縞から非球面の誤差を測定する第4の段階とを含み、
前記第3の段階において、前記試験部材の非球面に垂直に入射してから反射させる試験光を、前記試験部材に入射する光路と同一光路に沿って反射させることを特徴とする非球面測定方法。 - 前記第3の段階において、
前記試験部材の前記干渉計とは反対側に球面ミラーをさらに配列して、前記試験部材を通った前記光の少なくとも一部を前記球面ミラーに垂直に入射させてから同一経路に沿って反射させることを特徴とする請求項14に記載の非球面測定方法。 - 前記第4の段階において、
前記非球面誤差を前記試験光と前記参照光との干渉縞のヌル干渉縞からの偏差から測定することを特徴とする請求項14又は15に記載の非球面測定方法。 - 前記ホログラムは、CGHであることを特徴とする請求項14に記載の非球面測定方法。
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