JP2008542801A - 光学系の製造方法 - Google Patents
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Abstract
光学系の取付構造体において互いに対して取り付けられた複数の光学素子を有する光学系の製造方法は、前記光学系の前記光学素子の表面に入射する測定光のビームを成形するための干渉計光学部品及び選択可能なホログラムを有する干渉計装置のビーム経路に前記光学系を配置する工程と、前記干渉計装置の第1のホログラムを選択し、第1の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第1の干渉パターンを記録する工程と、前記干渉計装置の、前記第1のホログラムとは異なる第2のホログラムを選択し、前記第1の光学素子とは異なる第2の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第2の干渉パターンを記録する工程と、前記第1の干渉パターン及び前記第2の干渉パターンに基づいて、前記取付構造体における前記第2の光学素子に対する前記第1の光学素子の位置を調整する工程とを含む。
Description
本発明は、一般に光学系の製造方法に関する。特に、本発明は、光学系のレンズを互いに対して調整することに関する。
一般に、光学系の性能は、その系が含むレンズやミラーといった光学部品の品質及び光学部品の互いに対するアラインメントの精度によって決まる。典型的に、光学素子は、ガラス又は他の適当な材料からなり、その光学面は、光学系の仕様と合致する形状を有するように加工される。その後、各光学素子は、金属又は他の適当な材料からなる、フランジや貫通孔等の機械的な取付手段を備えた取付フレームに取り付けられる。その後、光学系は、光学素子の互いに対する距離や向きといった位置が光学系の仕様に合致するように、各取付フレームを互いに対して取り付けることによって組み立てられる。従って、光学系の製造は、光学素子の製造と、取付フレームの製造と、各光学素子のその取付フレームに対するアラインメントと、取付フレームの互いに対するアラインメントとを含む。特にフォトリソグラフィの分野においては、半導体の構造がますます小型化する傾向にあり、それによって、光学撮像系の品質ひいては光学素子の互いに対するアラインメントへの要求がますます高まっている。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものである。
本発明の実施の形態は、光学素子の互いに対するアラインメントの向上を可能にする光学系の製造方法を提供する。
例示的な一実施の形態によれば、光学系の製造方法は、前記光学系の前記光学素子の表面に入射する測定光のビームを成形するための干渉計光学部品及び選択可能なホログラムを有する干渉計装置のビーム経路に前記光学系を配置する工程と、前記干渉計装置の第1のホログラムを選択し、第1の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第1の干渉パターンを記録する工程と、前記干渉計装置の、前記第1のホログラムとは異なる第2のホログラムを選択し、前記第1の光学素子とは異なる第2の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第2の干渉パターンを記録する工程と、前記第1の干渉パターン及び前記第2の干渉パターンに基づいて、前記取付構造体における前記第2の光学素子に対する前記第1の光学素子の位置を調整する工程とを含む。
このような方法においては、形状の異なる測定光のビームを生成するために1つの干渉計装置を用いてもよい。例えば、生成された測定光の第1のビームは第1の形状の波面を有し、生成された測定光の第2のビームは第2の形状の波面を有する。第1のビームの波面の形状は、上記系の第1の光学素子の表面から生成された測定光が第1の干渉パターンを生成するように決定され、第2のビームの波面の形状は、上記系の第2の光学素子の表面で反射された測定光が第2の干渉パターンを生成するように設計される。さらに、上記2つのビームは、光学系の他の表面で反射された第1のビームの測定光が、第1の光学素子の表面で反射された測定光によって生成されたパターンの評価が十分な精度で行われなくなり得るような程度まで第1の干渉パターンに寄与することがないような形状を有する。同様に、第2のビームは、第2の光学素子の表面以外の光学系の他の表面で反射された
第2のビームの測定光が、第2の干渉パターンの評価が十分な精度で行われなくなるような程度まで第2の干渉パターンに寄与することがないような形状を有する。
第2のビームの測定光が、第2の干渉パターンの評価が十分な精度で行われなくなるような程度まで第2の干渉パターンに寄与することがないような形状を有する。
従って、測定光の第1及び第2のビームは、第1の干渉パターン及び第2の干渉パターンを続けて記録するための干渉計によって続けて生成してもよい。第1及び第2の干渉パターンは、干渉計に対する第1及び第2の光学素子の位置情報を表す。第1及び第2の干渉パターンの評価を行うことにより、第1及び第2の光学素子の互いに対する相対位置の、これら光学素子の所望の所定の相対位置からのずれを求めることが可能となり、第1及び第2の光学素子の相対位置は、このような評価にしたがって調整することができる。
干渉計光学部品に対する第1及び第2の光学素子のそれぞれの絶対位置の決定は、干渉計光学部品の製造精度によって制限され得る。測定光の第1及び第2のビームの生成において、干渉計光学部品の構成部材は同一であるため、概ね同様の測定誤差が第1及び第2の光学素子の表面の干渉計測定に寄与するので、干渉計光学部品の不正確さに起因する誤差によってほとんど制限されない高い精度で第1及び第2の光学素子の相対位置を決定することができる。
測定光の異なるビームを生成するために、選択可能なホログラムが用いられる。
例示的な一実施の形態によれば、選択可能なホログラムはそれぞれ基材キャリア上に設けられ、基材キャリアの一方又は他方は、測定光の波面を成形するために測定光のビーム経路に配置される。
さらなる例示的な実施の形態によれば、空間光変調器が測定光のビーム経路に設けられる。空間光変調器は、第1又は第2のホログラムを選択的に生成するように制御される。空間光変調器の一例は、アレイ状に配置された複数の液晶素子を有する。液晶素子は、所望のパターンに応じて作動させ、空間光変調器を通る光に対するそのようなパターンに応じた位相変化及び/又は振幅変化を上記アレイがもたらすようにしてもよい。
さらなる例示的な実施の形態によれば、上記方法は、干渉計の第3のホログラムを選択し、光学系の第3の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第3の干渉パターンを記録する工程を含む。さらなる実施の形態によれば、4つ以上の干渉パターンが続けて生成され、各干渉パターンは、1つの光学素子の表面で反射された測定光から生じる。
さらなる例示的な実施の形態によれば、第2の光学素子に対する第1の光学素子の位置は、上記に示したように記録された第1及び第2の干渉パターンに基づいて調整され、その後、第1及び第2の光学素子の取付構造体に第3の光学素子が取り付けられる。その後、第3の光学素子の表面で反射された測定光が、第1及び第2の光学素子に対する第3の光学素子の位置の調整を可能にする第3の干渉パターンを生成するように測定光を生成するために、第3のホログラムが選択される。互いに対して正確に調整された4つ以上の光学素子を有する光学系を組み立てるために、さらなる光学素子を連続して追加及び調整することによってこのプロセスを繰り返してもよい。
選択可能なホログラムは、測定光の、干渉計光学部品、各ホログラム、及び測定光が通る光学系の他の構成部材中の伝播(光学系の各表面での測定光の反射を含む)のシミュレーションを行うために用いられ得る光線追跡等の方法によって決定することができる。
さらなる実施の形態によれば、本発明は、上記に示す方法を用いて製造される光学系を提供する。
例示的な一実施の形態によれば、上記光学系は、リソグラフィプロセスにおいて用いられる投影露光システムである。投影露光システムは、光学系の像平面に配置された基板を、光学系の物体平面に配置されたパターニング構造の像を用いて露光するように構成される。
以下、添付図面を参照しながら本発明の例示的な実施の形態を詳細に説明することにより、本発明の上記及びその他の有利な特徴を明らかにする。尚、本発明の可能な実施の形態の全てが、本明細書において示されている利点の全て又はいずれかを示すとは限らない。
図1は、干渉計のビーム経路に取り付けられた2つのレンズを備え、第1のレンズの表面を検査するための第1のホログラムが選択されている光学系を示し、
図2は、光学系の第2のレンズを検査するための第2のホログラムが選択されている、図1に示す構成を示し、
図3は、光学系に第3のレンズが追加され、第2のレンズの表面を検査するためのホログラムが選択されている干渉計のビーム経路に取り付けられた図1の光学系を示し、
図4は、第3のレンズの表面を検査するためのホログラムが選択されている、図3の構成を示し、
図5は、図1から図4に示す干渉計のホログラムを較正するための構成を示し、
図6は、選択可能なホログラムを有する干渉計装置のさらなる実施の形態を示し、
図7は、図6に示すホログラム・キャリアの立面図であり、
図8は、光学系を製造するための方法の一実施の形態を説明するフローチャートである。
図2は、光学系の第2のレンズを検査するための第2のホログラムが選択されている、図1に示す構成を示し、
図3は、光学系に第3のレンズが追加され、第2のレンズの表面を検査するためのホログラムが選択されている干渉計のビーム経路に取り付けられた図1の光学系を示し、
図4は、第3のレンズの表面を検査するためのホログラムが選択されている、図3の構成を示し、
図5は、図1から図4に示す干渉計のホログラムを較正するための構成を示し、
図6は、選択可能なホログラムを有する干渉計装置のさらなる実施の形態を示し、
図7は、図6に示すホログラム・キャリアの立面図であり、
図8は、光学系を製造するための方法の一実施の形態を説明するフローチャートである。
以下に説明する例示的な実施の形態において、機能及び構造が等しい構成部材は、可能な限り同じ参照符号で示す。従って、特定の実施の形態の個々の構成部材の特徴を理解するために、他の実施の形態の説明及び課題を解決するための手段を参照されたい。
図1は、光学系3を検査するための干渉計装置1を模式的に示している。光学系3は、前面7及び背面9を有する第1のレンズ5と、前面13及び背面15を有する第2のレンズ11とを備えている。第1のレンズ5は、フレーム17の周縁に分散され、周縁部において第1のレンズ5の背面9に接触する複数の支持突起19を有する支持フレーム17に取り付けられている。
同様に、第2のレンズ11は、取付フレーム21の支持突起19によって支持されている。支持フレーム17は、複数のボルト23によって取付フレーム21のフランジ22に連結されるフランジ18を有する。ボルト23は、フランジ18、22に設けられた貫通孔を通ると共に、第1及び第2のレンズ5、11を軸27を横切る方向において互いに対してずらすことができるようにフランジ18、22の相対位置を調整するための十分な遊びを有している。さらに、第1及び第2のレンズ5、11の間の距離を軸27の方向において調整するために、適当なスペーサをフランジ18、22の間に配置してもよく、さらには、第1及び第2のレンズ5、11の支持突起19は十分な可撓性を有し、軸27に対するレンズの向きを調整するように弾性変形が可能である。
第1及び第2のレンズ5、11のレンズ面7、9、13、15は、光学系3の仕様にしたがって製造されているものとする。上記仕様にしたがった光学性能を提供するためには、第1及び第2のレンズ5、11の相対位置もこの仕様を満たすことがさらに必要である。
干渉計装置1は、第1及び第2のレンズ5、11の相対位置を調整して仕様に合致させることを可能にする測定データを生成するために用いられる。
干渉計装置1は、光ビーム33を生成するためのヘリウムネオンレーザ等の光源31を備える。光ビーム33は、コヒーレント光の発散ビーム38が空間フィルタ37のピンホールから出射するように、微小対物レンズ等の集束レンズ装置35によって空間フィルタ37のピンホールに集束される。発散ビーム38の波面は、ほぼ球形の波面である。発散ビーム38は、コリメータレンズ装置39によって平行化され、ほぼ平坦な波面を有する略平行ビーム41が形成される。平行ビーム41は、ビーム41に直交して配置され干渉計装置1のフィゾー面を形成する平坦面44を有するくさび形プレート43を通る。フィゾー面を形成する平坦面44は半透明であり、ビーム41の強度の一部を反射して、参照光のビームを形成する。参照光のビームは、光軸27に沿って後方に移動し、コリメータレンズ装置39によって平行化されて発散ビーム38内に配置されたビームスプリッタ47で反射される収束ビームを形成し、空間フィルタ51及びカメラ光学部品53を通った後に検出装置49に入射する。検出装置49は、制御装置55に出力される干渉パターンを検出するための複数の感光画素を有するCCD型であってもよい。
フィゾー面を形成する平坦面44を通る光ビーム41の一部は、干渉計光学部品56によって平行化され、制御装置55の適当な制御部によって制御される空間光変調器59を通る収束ビーム57を形成する。
空間光変調器59は、複数の液晶素子を有し、液晶素子は、それぞれの液晶素子を通るビーム57の一部に対して選択的な位相及び/又は振幅の変化をもたらすように制御装置55によって選択的に切り替えることが可能である。制御装置55によって供給されるパターンに応じて液晶素子を作動させることにより、ビーム57は、当該パターンによって決定される回折を受ける。従って、空間光変調器59の機能は、複数の異なる回折次数の光を発生させるホログラムであると理解することができ、各回折次数の光ビームは、空間光変調器59によって生成されるホログラムの回折パターンに応じた形状の波面を有する。
空間光変調器の一例は、Boulder Nonlinear Systems,Inc.Lafayette,CO(米国)から入手可能なXY Amplitude Seriesの空間光変調器である。
図1に示す空間光変調器59に与えられる励起パターンは、空間光変調器59によって1次回折された測定光のビーム61が第2のレンズ11を通り、かつ、前面7の照明された部分の各位置において測定光61が前面7に実質的に直交して入射するように第1のレンズ5の前面7に入射するよう決定される。前面7に入射した光は後方に反射され、入射した測定光と実質的に同じビーム経路で空間光変調器59、干渉計光学部品56、フィゾー面44及びコリメータレンズ装置39を通る。従って、第1のレンズ5の前面7で反射された測定光は、フィゾー面44で反射された参照光と検出装置49上で重ね合わせられ、検出装置49上に干渉パターンが生成される。前面7で反射された光はそこから直角に反射されるため、この光は、空間フィルタ51のピンホールを通ることになり、一方、レンズ面9、13及び15等の他の面で反射された測定光、並びに、空間光変調器59によって1次回折次数以外の他の回折次数に回折され、かつ、レンズ面7、9、13及び15で反射された測定光は、空間フィルタ51を通ることが実質的にできなくなる。従って、この光は、前面7で反射され、かつ、フィゾー面44で反射された参照光と重ね合わせられる測定光によって検出装置49上に生成される干渉パターンに実質的に寄与しないことになる。
空間光変調器59に与えられる励起パターンは、干渉計装置1に対する第1のレンズ5の位置が所定の位置である場合に、生成された干渉パターンが所定のインターフェログラムとなるように決定される。生成された干渉パターンを解析し、生成された干渉パターンを所定のインターフェログラムと比較することにより、第1のレンズ5の位置の、その所定の位置からのずれを求めることができる。第1のレンズ5の位置は、その後、所定の位置により良好に一致するように調整され、干渉計装置1に対する第1のレンズ5の位置を繰り返し改善するために、さらなる生成された干渉パターンを解析してもよい。この目的で、図1の三角形は、支持フレーム17を干渉計装置1に対して取り付けるための干渉計装置1の支持61を示す。支持61は、干渉計装置1に対する第1のレンズ5の位置の所望の調整を達成するための適当なアクチュエータ(図1には図示せず)を有する。
その後、空間光変調器59によって生成されるホログラムが、測定光のビーム61を光学系3の第2のレンズ11の前面13に実質的に直角に入射するように成形する第2の選択されたホログラムとなるように、空間光変調器59を作動させる。第2のホログラムは、第1のレンズ5に対する第2のレンズ11の位置が光学系3の仕様に合致する所定の位置である場合に、検出装置49上に生成される干渉パターンが所定の第2のインターフェログラムとなるように選択される。生成された干渉パターンを解析することにより、所定の相対位置からの第2のレンズ11及び第1のレンズ5の相対位置のずれを求めることができる。次に、フランジ間のスペーサを追加又は取り外し、軸27を横切る方向にフランジ21を移動させることによって支持フレーム17に対する取付フレーム21の位置を調整すること、及び、取付フレーム21の支持突起19を調整することにより、第2のレンズ11及び第1のレンズ5の相対位置を調整することができる。
その後、さらなる干渉パターンを記録してもよく、第1及び第2のレンズ5、11の相対位置のさらなる調整を、繰り返しプロセスによって行ってもよい。
第1及び第2のレンズ5、11の相対位置を調整した後、ボルト23は、レンズの相対位置を維持するために固定される。その後、光学系3に第3のレンズ71が追加される。第3のレンズ71は、図3に示すように、取付フレーム73のフランジ77及び取付フレーム21のフランジ79を通るボルト75によって取付フレーム21に連結された取付フレーム73の支持突起19によって支持されている。
第3のレンズ71は、前面81及び背面83を有し、第1及び第2のレンズ5、11に対する第3のレンズ71の位置は、干渉計装置1を用いて調整されることになる。
この目的で、干渉計装置1からの光学系3の距離は、図3に示すような干渉計測定を行うことによって調整され、この調整は、支持61の対応するアクチュエータを動作させることによって行われる。空間光変調器59は、空間光変調器59を通る測定光のビーム61がレンズ71を通り、軸27上にあるその中央位置において第2のレンズ11の前面13上に集束されるように作動される。生成された干渉パターンが対応する所定のインターフェログラムと異なる場合、これは、所望の所定の位置と干渉計装置1に対する光学系3の現在位置との間の差異を示すことになり、それに応じた調整を行うことができる。
図3に示す本例において、測定光のビームは、第2のレンズ11の前面13上の位置に集束される。しかし、上記図1及び図2の例を参照しながら説明したように、測定光のビームが前面13に直角に入射するように空間光変調器59によって生成された適当なホログラムを選択することも可能である。測定光がレンズ面の延長部分に直角に入射した場合、結果として生じる干渉パターンにより、干渉計装置1からの距離及び同装置に対する向きに関してレンズ面の位置を決定することができる。干渉法の分野においてキャッツアイ
構成とも呼ばれる、図3に示す構成において、生成された干渉パターンは、干渉計装置に対するレンズ面の向きに対してはあまり敏感ではないが、それでも干渉計装置からのレンズ面の距離は比較的正確に決定することができる。
構成とも呼ばれる、図3に示す構成において、生成された干渉パターンは、干渉計装置に対するレンズ面の向きに対してはあまり敏感ではないが、それでも干渉計装置からのレンズ面の距離は比較的正確に決定することができる。
干渉計装置1に対する第2及び第1のレンズ11、5の位置の調整が行われた後、空間光変調器59は、さらなる選択された所定のパターンにしたがって作動され、測定光のビーム61が第3のレンズ71の前面81に直角に入射するようにホログラムが生成される。結果として生じる干渉パターンは、第2のレンズ11に対する第3のレンズ71の位置が光学系3の仕様に合致する所定の位置である場合に生成される、所定のインターフェログラムと比較される。第3のレンズ71の位置の対応する調整は、第3のレンズ71の支持突起19並びに取付フレーム73、21の互いに対する位置を、第1及び第2のレンズ5、11の相対位置に関して図1及び図2を参照しながら説明したのと同様に調整することによって行なわれる。ここでも、光学系3の仕様に合致する調整を実現するために、生成された干渉パターンを解析することによる調整及び測定を繰り返し行ってもよい。
光学系3にさらなるレンズが追加され得ること、及び、その他のレンズに対する新たに加えられるレンズの相対位置は上記に示す方法を用いて調整され得ることは明らかである。従って、互いに対して高い精度で位置決めされたより多くの数のレンズを有する光学系を製造することが可能である。
上記の方法のためには、空間光変調器59を用いて選択可能なホログラムを生成することが必要である。この目的で、空間光変調器59の励起パターンを決定するために光線追跡法が用いられている。例えば、図1に示す測定の実施に適したホログラムを決定するために、測定光ビーム61のビーム経路はコンピュータによってシミュレーションされ、シミュレーションされたホログラムは、シミュレーションされた測定光のビームが第1のレンズ5の前面7に直角に入射するように調整される。上記に示したように決定された励起パターンによって作動される空間光変調器59の性能を確認するために、図5に示すような較正用の測定を行うことができる。この目的で、生成されたホログラムが光線追跡計算と一致する場合に、ホログラムによって成形されたビーム61がその各位置において面81に直角に入射するように較正面81が決定及び製造される。検出装置49によって検出された生成された干渉パターンを、ホログラムが上記計算と一致する場合に生成される所定の干渉パターンと比較することにより、これを確認することができる。所定のインターフェログラムからの検出された干渉パターンのずれは、ホログラムに対して行われ得る調整を示し、制御装置59によって生成される励起パターンは、それに応じて変更することができる。そのような手順によって決定された修正された励起パターンは、次に、測定光のビーム61を、図1に示すように前面7に直角に入射するように成形するための選択可能なホログラムとして制御装置55のメモリに格納することができる。較正面81は、図1から図4に示す測定の実施に必要な上記4つの選択可能なホログラムのそれぞれに対して製造してもよく、計算されたホログラムを修正するために、それに応じた図5に示すような較正用の測定を行ってもよい。
図6及び図7は、上記選択可能なホログラムが空間光変調器にではなくそれぞれのキャリアに設けられた別個のホログラムとして設けられている干渉計装置1aを模式的に示している。干渉計装置1aは、軸93に対して回転可能なホログラム・キャリア91を備え、8つのホログラム95のうちの1つを干渉計光学部品56aから出射される測定光のビーム61aのビーム経路に選択的に配置することができる。各ホログラム95は、ガラスからなるキャリア基材96上に設けられており、ホログラムは、リソグラフィ法によって生成された格子として、キャリア基材96の表面に設けられている。干渉法において用いられるホログラムに関する背景情報は、ダニエル・マラカラ(Daniel Malacara)のテキスト、“Optical shop testing”、2nd edi
tion、John Wiley & Sons Inc(1992年)の第15章から入手可能である。
tion、John Wiley & Sons Inc(1992年)の第15章から入手可能である。
上記に示す実施の形態において、測定光のビームは、少なくとも1つのレンズを含む干渉計光学部品及び上記ホログラムによって成形される。干渉計光学部品は、ホログラムの過度の線密度及び線密度における過度の変化を避けることができるようにさらなる屈折力をもたらす。用途によっては、干渉計光学部品を省略し、フィゾー面の下流に上記ホログラムを配置することによってのみ測定光のビームを成形することができる。
さらに、上記図6及び図7を参照しながら説明したホログラム及びキャリアのうちの少なくとも1つにさらなる屈折力をもたらすレンズを含めることができる。従って、測定光のビームを成形するために、測定用のビームのビーム経路にさらなるレンズを選択的に配置してもよい。
図8は、上記に示した光学系の製造方法をまとめたフローチャートを示している。
本発明の一実施の形態は、本明細書に示す既存の光学系を制御するための方法に関する。既存の光学系は、それが設計された機能を実行するために用いられる。すなわち、レチクルパターンを用いてウエハを露光するためのリソグラフィプロセスにおいて投影光学系が用いられている。露光プロセスは、投影露光システムを再調整するために中断される場合がある。この目的で、ウエハステージもしくはレチクルステージ、又はこれらの一部が、投影露光システムの付近から取り外され、図1から図7を参照しながら説明した干渉計系が、投影露光システムの物体側又は像側の前レンズの付近に、当該システムのレンズの互いに対する位置を測定するために取り付けられる。従って、適当なアクチュエータを動作させることにより、レンズの互いに対する位置を調整して仕様に合致させ、投影露光システムの光学性能を向上させることができる。その後、露光プロセスが継続されることになる。
上記に示した方法を適用することができる可能な投影露光システムの例が、米国特許第6,806,942号に開示されている。
上記に示した方法をその他のあらゆるタイプの光学系に対しても用いることができる。例としては、天文学で用いられる望遠鏡、フィルムカメラやスチルカメラ用の対物レンズ、双眼顕微鏡等の顕微鏡、双眼鏡、及びレンズとミラーの組み合わせも含み得るその他の可能な光学系が挙げられる。
上記に示した実施の形態において、干渉計系は、フィゾー型である。しかし、本発明はそのような種類の干渉計に限定されるものではない。トワイマン・グリーン干渉計及びマイケルソン型干渉計といった他の種類の干渉計を用いてもよい。干渉計の種類の例は、上記のダニエル・マラカラ(Daniel Malacara)のテキストの第2.1章に示されている。
上記に示した実施の形態の説明において、測定された干渉パターンは、検出装置によって直接検出されるものとして示されている。しかし、測定されたインターフェログラムが複数の検出された干渉パターンから決定される、位相シフト干渉法といった方法によって干渉パターンを測定することができる。複数の干渉パターンは、測定光の波長もしくは基準面の位置を変化させることによって、又は当業界で周知の他の適当な手段によって生成される異なる位相設定を用いて検出される。本発明においては、異なる位相設定は、ホログラムを生成するための励起パターンを変化させることによっても生成することができる。
本発明をその特定の例示的な実施の形態に関して説明したが、様々な変更や変形が可能なことは当業者に明らかである。従って、本明細書に記載した本発明の例示的な実施の形態は、説明を意図したものであって、いかなる意味においても限定的なものではない。添付した特許請求の範囲において定義されている本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な変更を加えることが可能である。
Claims (17)
- 光学系の取付構造体において互いに対して取り付けられた複数の光学素子を有する光学系の製造方法であって、
前記光学系の前記光学素子の表面に入射する測定光のビームを成形するための干渉計光学部品及び選択可能なホログラムを有する干渉計装置のビーム経路に前記光学系を配置する工程と、
前記干渉計装置の第1のホログラムを選択し、第1の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第1の干渉パターンを記録する工程と、
前記干渉計装置の、前記第1のホログラムとは異なる第2のホログラムを選択し、前記第1の光学素子とは異なる第2の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第2の干渉パターンを記録する工程と、
前記第1の干渉パターン及び前記第2の干渉パターンに基づいて、前記取付構造体における前記第2の光学素子に対する前記第1の光学素子の位置を調整する工程とを含む方法。 - 前記第1のホログラムは、前記第1の干渉パターンを生成する前記第1の光学素子の前記表面で反射された前記成形された測定光が、前記第1の光学素子の前記表面の複数の位置において前記第1の光学素子の前記表面に実質的に直角に入射するように選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のホログラムは、前記第2の干渉パターンを生成する前記第2の光学素子の前記表面で反射された前記成形された測定光が、前記第2の光学素子の前記表面の複数の位置において前記第2の光学素子の前記表面に実質的に直角に入射するように選択される、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第1のホログラムは、前記第1の干渉パターンを生成する前記第1の光学素子の前記表面で反射された前記成形された測定光が、前記第1の光学素子の前記表面に実質的に集束されるように選択される、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 前記第2のホログラムは、前記第2の干渉パターンを生成する前記第2の光学素子の前記表面で反射された前記成形された測定光が、前記第2の光学素子の前記表面に実質的に集束されるように選択される、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記干渉計は、前記第1のホログラムを担持する第1のキャリア又は前記第2のホログラムを担持する第2のキャリアを選択的に受け入れる取付構造体を備える、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
- 前記干渉計は、前記第1のホログラム及び前記第2のホログラムを担持する移動可能な取付構造体を備え、前記取付構造体は、前記測定光のビームの前記ビーム経路に前記第1のホログラム又は前記第2のホログラムを選択的に配置するように移動可能である、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 前記干渉計は、前記測定光のビームの前記ビーム経路に配置された空間光変調器を備え、前記第1のホログラムを選択する前記工程は、前記第1のホログラムを生成するように前記空間光変調器を駆動する工程を含み、前記第2のホログラムを選択する前記工程は、前記第2のホログラムを生成するように前記空間光変調器を駆動する工程を含む、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記第1のホログラムは、キャリア上に固定して設けられた複数の回折素子を備える、
請求項1から8のいずれかに記載の方法。 - 前記第1及び第2の光学素子の所定の相対位置に基づいて、光線追跡計算を用いて前記第1及び第2のホログラムの構造を計算する工程をさらに含む、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
- 前記取付構造体における前記第2の光学素子に対する前記第1の光学素子の位置を調整する前記工程は、前記第1及び第2の光学素子の所定の相対位置からの前記第1及び第2の光学素子の前記相対位置のずれを低減するために実施される、請求項1から10のいずれかに記載の方法。
- 前記第1及び第2の干渉パターンのうちの一方に基づいて、前記干渉計に対する前記光学系の位置を調整する工程をさらに含む、請求項1から11のいずれかに記載の方法。
- 前記光学系の前記取付構造体に第3の光学素子を取り付ける工程と、
前記干渉計の、前記第1及び第2のホログラムとは異なる第3のホログラムを選択し、前記第3の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第3の干渉パターンを記録する工程と、
前記第3の干渉パターンに基づいて、前記取付構造体における前記第1及び第2の光学素子に対する前記第3の光学素子の位置を調整する工程とをさらに含む、請求項1から12のいずれかに記載の方法。 - 前記干渉計の前記ビーム経路に第1の較正用光学素子を配置する工程と、
前記第1の較正用光学素子と相互作用した測定光によって生成された少なくとも1つの第4の干渉パターンを記録する工程とをさらに含み、
前記第2の光学素子に対する前記第1の光学素子の位置を調整する前記工程は、前記第4の干渉パターンにさらに基づいている、請求項1から13のいずれかに記載の方法。 - 請求項1から14のいずれかに記載の方法を用いて製造される光学系。
- 前記光学系は、前記光学系の像平面に配置された基板を、前記光学系の物体平面に配置されたパターニング構造の像を用いて露光するように構成された投影露光システムである、請求項15に記載の光学系。
- 光学系の取付構造体において互いに対して取り付けられた複数の光学素子と、前記光学系の前記光学素子の表面に入射する測定光のビームを成形するための干渉計光学部品及び選択可能なホログラムを有する干渉計とを備えた光学系の制御方法であって、
前記方法は、
前記干渉計の第1のホログラムを選択し、前記光学系の第1の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第1の干渉パターンを記録する工程と、
前記干渉計の、前記第1のホログラムとは異なる第2のホログラムを選択し、前記第1の光学素子とは異なる前記光学系の第2の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも1つの第2の干渉パターンを記録する工程と、
前記第1の干渉パターン及び前記第2の干渉パターンに基づいて、前記取付構造体における前記第2の光学素子に対する前記第1の光学素子の位置を調整する工程とを含む方法。
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