JP3905299B2 - 欠陥修正装置および欠陥修正方法 - Google Patents
欠陥修正装置および欠陥修正方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3905299B2 JP3905299B2 JP2000328828A JP2000328828A JP3905299B2 JP 3905299 B2 JP3905299 B2 JP 3905299B2 JP 2000328828 A JP2000328828 A JP 2000328828A JP 2000328828 A JP2000328828 A JP 2000328828A JP 3905299 B2 JP3905299 B2 JP 3905299B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- needle
- slider
- defect
- substrate
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims description 56
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
- H01L21/485—Adaptation of interconnections, e.g. engineering charges, repair techniques
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/82—Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は欠陥修正装置および欠陥修正方法に関し、特に、液晶パネルのカラーフィルタ基板上に発生した異物混入やプラズマディスプレイパネルの背面に形成された電極パターンの欠陥を修正する欠陥修正装置および欠陥修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのフラットディスプレイパネルの背面基板に形成された電極、特に焼成前の電極に異物が混入した場合、あるいはＲＧＢ（赤，緑，青）３色に分けてリブ間に充填された蛍光体ペーストの一部に混色が生じた場合には、たとえば特開平１１−１９１３７４号公報に記載されているように、スクラッチ針を用いて欠陥部を除去する方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
スクラッチ針の先端は、平坦あるいは球状の加工が施されており、その直径は微細なパターンにも対応できるように数十μｍ程度と非常に小さい。このため、わずか数〜数十ｇ程度の荷重（自重）が加わっても、面圧（単位面積当たりの加圧力）は非常に大きくなり、その結果、欠陥部を除去するために針をガラス面に接触させた状態で横方向にストロークさせた場合には、ガラス面に傷がつき、修正品位を著しく劣化させる問題点があった。
【０００４】
それゆえに、この発明の主たる目的は、ガラス面などに損傷を与えることなく、品位の高い修正が可能な欠陥修正装置および欠陥修正方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る欠陥修正装置は、基板上のパターン不良あるいは異物混入などの欠陥を修正する欠陥修正装置であって、その先端部で欠陥を除去するための針と、針を所定の範囲で上下動可能に保持するスライダと、針がスライダに対して相対移動した距離を測定する測定手段と、スライダを下降させて針の先端を基板の表面に接触させた後、測定手段の測定結果に基づいてスライダを上昇させ、基板の表面に対して針の先端を所望の高さに設定するスライダ駆動手段と、設定手段によって先端の高さが設定された針を欠陥に対して相対移動させて欠陥を除去する移動手段とを備えて構成される。
【０００６】
また、この発明に係る欠陥修正方法は、基板上のパターン不良あるいは異物混入などの欠陥を修正する欠陥修正方法であって、その先端部で欠陥を除去するための針と、針を所定の範囲で上下動可能に保持するスライダと、針がスライダに対して相対移動した距離を測定する測定手段とを設け、スライダを下降させて針の先端を基板の表面に接触させた後、測定手段の測定結果に基づいてスライダを上昇させ、基板の表面に対して針の先端を所望の高さに設定し、針を欠陥に対して相対移動させて欠陥を除去する。
したがって、この発明に従えば、針先端の高さを基板から適当な高さに制御した上で横方向にストロークすることにより、基板に損傷を与えることなく、品位の高い修正が可能となる。
【０００８】
好ましくは、スライダを下降させて針の先端を基板の表面に接触させた後、針がスライダに対して相対移動した距離だけスライダを上昇させて基板の表面に針の先端を当接させ、針を欠陥に対して相対移動させて欠陥を除去する。
【０００９】
また好ましくは、液晶パネルのカラーフィルタ基板上に発生した異物混入の欠陥を修正する。
【００１０】
また好ましくは、プラズマディスプレイパネルの背面パネルに形成された電極パターンの欠陥を修正する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の欠陥修正装置の全体の構成を示す図である。図１において、欠陥修正装置本体は、主にＸ軸テーブル１と、Ｙ軸テーブル２と、Ｚ軸テーブル３とからなる位置決めテーブルおよびこれらの制御機器（図示せず）から構成されている。Ｘ軸テーブル１には、欠陥部分を除去するためのレーザ４と、除去した部分にペーストを充填するための塗布機構５と、修正対象を観察するためのＣＣＤカメラ６と、スクラッチ針機構７などが搭載されている。
【００１２】
ＰＤＰ基板やカラーフィルタ基板などの修正対象基板８はＹ軸テーブル２に搭載され、欠陥位置情報に基づいた任意の位置に位置決めされた後、除去あるいは塗布により修正される。基板上の薄膜パターンは、一般的にはＹＡＧレーザやＹＬＦレーザなどを用いてカット，除去することが多いが、たとえば図２（ａ）に示すように、液晶カラーフィルタの基板のＲＧＢレジスト１０の中に埋没した異物１１を除去する場合には、針を用いて図２（ｂ）に示すようにある範囲を走査する方が確実に異物を除去できる。また、図３（ａ）に示したように、ＰＤＰ基板のパターン形成時に発生した銀電極１２のショート欠陥１３の場合には、針を用いて図３（ｂ）に示すある範囲を走査する方がレーザによる方法よりも効率よくかつ飛散物が少ない修正が可能となる。
【００１３】
図４は図１に示したスクラッチ針機構７を示す図である。
次に、図４を参照して、この発明の特徴となるスクラッチ針機構７についてより具体的に説明する。スクラッチ針機構７はＺ軸取付板１４を介して図１に示したＺ軸テーブル３に取付けられている。Ｚ軸取付板１４にはスライダ保持部１６をその先端に有し、エアを駆動源としてＺ軸方向（上下方向）にストロークするエアシリンダ１５が固定されている。スライダ保持部１６にはスクラッチ針１９とこの針を保持する針ホルダ１８がスライダ１７を介して取付けられている。スライダ１７はスライダ案内１７ａとスライダキャリア１７ｂとからなり、スライダ案内１７ａはスライダ保持部１６側に固定されており、スライダキャリア１７ｂは針ホルダ１８側に固定されている。また、スライダ保持部１６の下端にはスライダキャリア１７ｂの下端を系止するためのストッパ２０が設けられている。
【００１４】
図４（ａ）はスクラッチ開始前の状態を示しており、（ｂ）は針を基板に接触させた状態を示し、（ｃ）はＺ軸テーブル３を上方に移動したときの位置関係を示している。
【００１５】
図４（ａ）に示すように、エアシリンダ１５が上昇端にあり、スクラッチ針１９はガラス基板２１の電極パターン２２には接触していない状態にある。スライダキャリア１７ｂはスライダ保持部１６の下端に設置されたストッパ２０に接触した位置にあり、このときの針ホルダ１８とスライダ保持部１６との相対位置をセンサ（図示せず）によって測定した値を距離δ１とする。
【００１６】
次に、図４（ｂ）に示すように、スクラッチ針１９をガラス基板２１に接触させるが、まずエアシリンダ１５を下降端までストロークした後、Ｚ軸テーブル３をある設定した量だけ低速で駆動し、スクラッチ針１９が電極パターン２２あるいはガラス基板２１に接触するまで降下させる。
【００１７】
エアシリンダ１５とＺ軸テーブル３の両方を下降させる理由は、エアシリンダ１５で大きなストロークを高速で動かすことにより動作時間を短縮して、Ｚ軸で低速駆動することにより、スクラッチ針１９がガラス基板２１に接触するときの衝撃を防ぐことにある。Ｚ軸のストローク量は、装置の温度変化などによる寸法変化があっても、スクラッチ針１９がガラス基板２１に確実に接触する任意の量に設定される。スクラッチ針１９がガラス基板２１に接触した後も、Ｚ軸が下降を続けるため、スライダ１７は上方にスライドする。このときの針ホルダ１８とスライダ保持部１６との距離をδ２とする。
【００１８】
図４（ｃ）に示すように、図４（ａ）および（ｂ）で得られた距離δをもとに、Ｚ軸テーブル３を上方に移動したときの位置関係を示しており、スクラッチ針１９によるスクラッチ動作を開始できる状態を示している。エアシリンダ１５を下降端としたまま、距離δ１と距離δ２の差分だけＺ軸テーブル３を上昇させると、スクラッチ針１９の針先は図４（ｂ）に示す状態と同じ位置となる。すなわち、スライダ１７はストッパ２０に接触して、距離δ１に戻る。
【００１９】
この状態で、Ｚ軸テーブル１とＹ軸テーブル２を駆動して水平方向にスクラッチ針１９を操作させると、スクラッチ針１９の針先はガラス基板２１と同一の高さでスクラッチすることになる。修正する対象物の硬さによっては、図４（ｂ）における針位置は、ガラス基板２１上になるとは限らない。このような場合には、その量を実験などにより求め、Ｚ軸テーブル３の移動量を補正する必要がある。一方、距離δ２の測定時には、針位置はガラス基板２１の面上にあるが、スクラッチする場合は、ガラス面よりわずかに上方に浮かして修正する必要がある場合もある。これらの補正値をδ３とすると、Ｚ軸の移動量はδ１−δ２±δ３となる。
【００２０】
距離δを測定するセンサとしては、光検出式，渦電流式，静電容量式などの非接触型変位センサやプランジャ型リニアスケールなどの接触式変位センサが考えられるが、これら以外の方法を用いてもよい。
【００２１】
また、上述の説明では、センサ値を数値として入力し、それに見合う量をＺ軸テーブル３に入力して高さを制御するようにしたが、たとえば距離δ１のときにのみに位置信号（１パルス）が出力できるようにし、図４（ｃ）の位置となるときにＺ軸テーブル３を停止するようにしても、上述の実施形態と同様の機能を持たせることができる。
【００２２】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００２３】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、欠陥を除去するための針の高さを修正面あるいは修正面よりわずかに浮かせた高さに制御して欠陥を除去するようにしたので、修正面へのダメージがなく、品位の高い修正が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の欠陥修正装置の構成を示す図である。
【図２】 この発明が適用されるカラーフィルタ基板と異物を示す図である。
【図３】 この発明が適用されるＰＤＰ基板と電極欠陥を示す図である。
【図４】 この発明の一実施形態のスクラッチ針機構の動作を示す図である。
【符号の説明】
１ Ｘ軸テーブル、２ Ｙ軸テーブル、３ Ｚ軸テーブル、４ レーザ、５ 塗布機構、６ ＣＣＤカメラ、７ スクラッチ針機構、８ 修正対象基板、１４Ｚ軸取付板、１５ エアシリンダ、１６ スライダ保持部、１７ スライダ、１７ａ スライダ案内、１７ｂ スライダキャリア、１８ 針ホルダ、１９ スクラッチ針、２０ ストッパ、２１ ガラス基板、２２ 電極パターン。
【発明の属する技術分野】
この発明は欠陥修正装置および欠陥修正方法に関し、特に、液晶パネルのカラーフィルタ基板上に発生した異物混入やプラズマディスプレイパネルの背面に形成された電極パターンの欠陥を修正する欠陥修正装置および欠陥修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのフラットディスプレイパネルの背面基板に形成された電極、特に焼成前の電極に異物が混入した場合、あるいはＲＧＢ（赤，緑，青）３色に分けてリブ間に充填された蛍光体ペーストの一部に混色が生じた場合には、たとえば特開平１１−１９１３７４号公報に記載されているように、スクラッチ針を用いて欠陥部を除去する方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
スクラッチ針の先端は、平坦あるいは球状の加工が施されており、その直径は微細なパターンにも対応できるように数十μｍ程度と非常に小さい。このため、わずか数〜数十ｇ程度の荷重（自重）が加わっても、面圧（単位面積当たりの加圧力）は非常に大きくなり、その結果、欠陥部を除去するために針をガラス面に接触させた状態で横方向にストロークさせた場合には、ガラス面に傷がつき、修正品位を著しく劣化させる問題点があった。
【０００４】
それゆえに、この発明の主たる目的は、ガラス面などに損傷を与えることなく、品位の高い修正が可能な欠陥修正装置および欠陥修正方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る欠陥修正装置は、基板上のパターン不良あるいは異物混入などの欠陥を修正する欠陥修正装置であって、その先端部で欠陥を除去するための針と、針を所定の範囲で上下動可能に保持するスライダと、針がスライダに対して相対移動した距離を測定する測定手段と、スライダを下降させて針の先端を基板の表面に接触させた後、測定手段の測定結果に基づいてスライダを上昇させ、基板の表面に対して針の先端を所望の高さに設定するスライダ駆動手段と、設定手段によって先端の高さが設定された針を欠陥に対して相対移動させて欠陥を除去する移動手段とを備えて構成される。
【０００６】
また、この発明に係る欠陥修正方法は、基板上のパターン不良あるいは異物混入などの欠陥を修正する欠陥修正方法であって、その先端部で欠陥を除去するための針と、針を所定の範囲で上下動可能に保持するスライダと、針がスライダに対して相対移動した距離を測定する測定手段とを設け、スライダを下降させて針の先端を基板の表面に接触させた後、測定手段の測定結果に基づいてスライダを上昇させ、基板の表面に対して針の先端を所望の高さに設定し、針を欠陥に対して相対移動させて欠陥を除去する。
したがって、この発明に従えば、針先端の高さを基板から適当な高さに制御した上で横方向にストロークすることにより、基板に損傷を与えることなく、品位の高い修正が可能となる。
【０００８】
好ましくは、スライダを下降させて針の先端を基板の表面に接触させた後、針がスライダに対して相対移動した距離だけスライダを上昇させて基板の表面に針の先端を当接させ、針を欠陥に対して相対移動させて欠陥を除去する。
【０００９】
また好ましくは、液晶パネルのカラーフィルタ基板上に発生した異物混入の欠陥を修正する。
【００１０】
また好ましくは、プラズマディスプレイパネルの背面パネルに形成された電極パターンの欠陥を修正する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の欠陥修正装置の全体の構成を示す図である。図１において、欠陥修正装置本体は、主にＸ軸テーブル１と、Ｙ軸テーブル２と、Ｚ軸テーブル３とからなる位置決めテーブルおよびこれらの制御機器（図示せず）から構成されている。Ｘ軸テーブル１には、欠陥部分を除去するためのレーザ４と、除去した部分にペーストを充填するための塗布機構５と、修正対象を観察するためのＣＣＤカメラ６と、スクラッチ針機構７などが搭載されている。
【００１２】
ＰＤＰ基板やカラーフィルタ基板などの修正対象基板８はＹ軸テーブル２に搭載され、欠陥位置情報に基づいた任意の位置に位置決めされた後、除去あるいは塗布により修正される。基板上の薄膜パターンは、一般的にはＹＡＧレーザやＹＬＦレーザなどを用いてカット，除去することが多いが、たとえば図２（ａ）に示すように、液晶カラーフィルタの基板のＲＧＢレジスト１０の中に埋没した異物１１を除去する場合には、針を用いて図２（ｂ）に示すようにある範囲を走査する方が確実に異物を除去できる。また、図３（ａ）に示したように、ＰＤＰ基板のパターン形成時に発生した銀電極１２のショート欠陥１３の場合には、針を用いて図３（ｂ）に示すある範囲を走査する方がレーザによる方法よりも効率よくかつ飛散物が少ない修正が可能となる。
【００１３】
図４は図１に示したスクラッチ針機構７を示す図である。
次に、図４を参照して、この発明の特徴となるスクラッチ針機構７についてより具体的に説明する。スクラッチ針機構７はＺ軸取付板１４を介して図１に示したＺ軸テーブル３に取付けられている。Ｚ軸取付板１４にはスライダ保持部１６をその先端に有し、エアを駆動源としてＺ軸方向（上下方向）にストロークするエアシリンダ１５が固定されている。スライダ保持部１６にはスクラッチ針１９とこの針を保持する針ホルダ１８がスライダ１７を介して取付けられている。スライダ１７はスライダ案内１７ａとスライダキャリア１７ｂとからなり、スライダ案内１７ａはスライダ保持部１６側に固定されており、スライダキャリア１７ｂは針ホルダ１８側に固定されている。また、スライダ保持部１６の下端にはスライダキャリア１７ｂの下端を系止するためのストッパ２０が設けられている。
【００１４】
図４（ａ）はスクラッチ開始前の状態を示しており、（ｂ）は針を基板に接触させた状態を示し、（ｃ）はＺ軸テーブル３を上方に移動したときの位置関係を示している。
【００１５】
図４（ａ）に示すように、エアシリンダ１５が上昇端にあり、スクラッチ針１９はガラス基板２１の電極パターン２２には接触していない状態にある。スライダキャリア１７ｂはスライダ保持部１６の下端に設置されたストッパ２０に接触した位置にあり、このときの針ホルダ１８とスライダ保持部１６との相対位置をセンサ（図示せず）によって測定した値を距離δ１とする。
【００１６】
次に、図４（ｂ）に示すように、スクラッチ針１９をガラス基板２１に接触させるが、まずエアシリンダ１５を下降端までストロークした後、Ｚ軸テーブル３をある設定した量だけ低速で駆動し、スクラッチ針１９が電極パターン２２あるいはガラス基板２１に接触するまで降下させる。
【００１７】
エアシリンダ１５とＺ軸テーブル３の両方を下降させる理由は、エアシリンダ１５で大きなストロークを高速で動かすことにより動作時間を短縮して、Ｚ軸で低速駆動することにより、スクラッチ針１９がガラス基板２１に接触するときの衝撃を防ぐことにある。Ｚ軸のストローク量は、装置の温度変化などによる寸法変化があっても、スクラッチ針１９がガラス基板２１に確実に接触する任意の量に設定される。スクラッチ針１９がガラス基板２１に接触した後も、Ｚ軸が下降を続けるため、スライダ１７は上方にスライドする。このときの針ホルダ１８とスライダ保持部１６との距離をδ２とする。
【００１８】
図４（ｃ）に示すように、図４（ａ）および（ｂ）で得られた距離δをもとに、Ｚ軸テーブル３を上方に移動したときの位置関係を示しており、スクラッチ針１９によるスクラッチ動作を開始できる状態を示している。エアシリンダ１５を下降端としたまま、距離δ１と距離δ２の差分だけＺ軸テーブル３を上昇させると、スクラッチ針１９の針先は図４（ｂ）に示す状態と同じ位置となる。すなわち、スライダ１７はストッパ２０に接触して、距離δ１に戻る。
【００１９】
この状態で、Ｚ軸テーブル１とＹ軸テーブル２を駆動して水平方向にスクラッチ針１９を操作させると、スクラッチ針１９の針先はガラス基板２１と同一の高さでスクラッチすることになる。修正する対象物の硬さによっては、図４（ｂ）における針位置は、ガラス基板２１上になるとは限らない。このような場合には、その量を実験などにより求め、Ｚ軸テーブル３の移動量を補正する必要がある。一方、距離δ２の測定時には、針位置はガラス基板２１の面上にあるが、スクラッチする場合は、ガラス面よりわずかに上方に浮かして修正する必要がある場合もある。これらの補正値をδ３とすると、Ｚ軸の移動量はδ１−δ２±δ３となる。
【００２０】
距離δを測定するセンサとしては、光検出式，渦電流式，静電容量式などの非接触型変位センサやプランジャ型リニアスケールなどの接触式変位センサが考えられるが、これら以外の方法を用いてもよい。
【００２１】
また、上述の説明では、センサ値を数値として入力し、それに見合う量をＺ軸テーブル３に入力して高さを制御するようにしたが、たとえば距離δ１のときにのみに位置信号（１パルス）が出力できるようにし、図４（ｃ）の位置となるときにＺ軸テーブル３を停止するようにしても、上述の実施形態と同様の機能を持たせることができる。
【００２２】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００２３】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、欠陥を除去するための針の高さを修正面あるいは修正面よりわずかに浮かせた高さに制御して欠陥を除去するようにしたので、修正面へのダメージがなく、品位の高い修正が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の欠陥修正装置の構成を示す図である。
【図２】 この発明が適用されるカラーフィルタ基板と異物を示す図である。
【図３】 この発明が適用されるＰＤＰ基板と電極欠陥を示す図である。
【図４】 この発明の一実施形態のスクラッチ針機構の動作を示す図である。
【符号の説明】
１ Ｘ軸テーブル、２ Ｙ軸テーブル、３ Ｚ軸テーブル、４ レーザ、５ 塗布機構、６ ＣＣＤカメラ、７ スクラッチ針機構、８ 修正対象基板、１４Ｚ軸取付板、１５ エアシリンダ、１６ スライダ保持部、１７ スライダ、１７ａ スライダ案内、１７ｂ スライダキャリア、１８ 針ホルダ、１９ スクラッチ針、２０ ストッパ、２１ ガラス基板、２２ 電極パターン。
Claims (5)
- 基板上のパターン不良あるいは異物混入などの欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
その先端部で前記欠陥を除去するための針と、
前記針を所定の範囲で上下動可能に保持するスライダと、
前記針が前記スライダに対して相対移動した距離を測定する測定手段と、
前記スライダを下降させて前記針の先端を前記基板の表面に接触させた後、前記測定手段の測定結果に基づいて前記スライダを上昇させ、前記基板の表面に対して前記針の先端を所望の高さに設定するスライダ駆動手段と、
前記設定手段によって先端の高さが設定された前記針を前記欠陥に対して相対移動させて前記欠陥を除去する移動手段とを備えたことを特徴とする、欠陥修正装置。 - 基板上のパターン不良あるいは異物混入などの欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
その先端部で前記欠陥を除去するための針と、
前記針を所定の範囲で上下動可能に保持するスライダと、
前記針が前記スライダに対して相対移動した距離を測定する測定手段とを設け、
前記スライダを下降させて前記針の先端を前記基板の表面に接触させた後、前記測定手段の測定結果に基づいて前記スライダを上昇させ、前記基板の表面に対して前記針の先端を所望の高さに設定し、前記針を前記欠陥に対して相対移動させて前記欠陥を除去することを特徴とする、欠陥修正方法。 - 前記スライダを下降させて前記針の先端を前記基板の表面に接触させた後、前記針が前記スライダに対して相対移動した距離だけ前記スライダを上昇させて前記基板の表面に前記針の先端を当接させ、前記針を前記欠陥に対して相対移動させて前記欠陥を除去することを特徴とする、請求項２に記載の欠陥修正方法。
- 液晶パネルのカラーフィルタ基板上に発生した異物混入の欠陥を修正することを特徴とする、請求項２または請求項３に記載の欠陥修正方法。
- プラズマディスプレイパネルの背面パネルに形成された電極パターンの欠陥を修正することを特徴とする、請求項２または請求項３に記載の欠陥修正方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000328828A JP3905299B2 (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | 欠陥修正装置および欠陥修正方法 |
| TW90121272A TWI234181B (en) | 2000-10-27 | 2001-08-29 | Defect amending apparatus and defect amending method |
| KR20010056359A KR100835126B1 (ko) | 2000-10-27 | 2001-09-13 | 결함 수정 장치 및 결함 수정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000328828A JP3905299B2 (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | 欠陥修正装置および欠陥修正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002131527A JP2002131527A (ja) | 2002-05-09 |
| JP3905299B2 true JP3905299B2 (ja) | 2007-04-18 |
Family
ID=18805621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000328828A Expired - Lifetime JP3905299B2 (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | 欠陥修正装置および欠陥修正方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3905299B2 (ja) |
| KR (1) | KR100835126B1 (ja) |
| TW (1) | TWI234181B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4526010B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2010-08-18 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの欠陥除去装置 |
| JP2005251739A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-09-15 | Toray Ind Inc | リペア方法およびリペア治具 |
| JP4767567B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2011-09-07 | Ｎｔｎ株式会社 | パターン修正装置 |
| KR100726663B1 (ko) * | 2005-07-18 | 2007-06-12 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 |
| JP2008261995A (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-30 | Ntn Corp | 欠陥修正方法および欠陥修正装置 |
| JP4998585B2 (ja) * | 2010-04-27 | 2012-08-15 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの欠陥除去装置 |
| JP5908723B2 (ja) * | 2011-12-29 | 2016-04-26 | Ntn株式会社 | 欠陥修正装置および欠陥修正方法 |
| KR102016336B1 (ko) * | 2017-08-31 | 2019-08-30 | (주)프로템 | 임팩트 헤드 장치 및 이를 이용한 임프린트 배선기판 제조장치 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3705688B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2005-10-12 | 三菱電機株式会社 | プラズマディスプレイパネルの修正装置およびプラズマディスプレイパネルの修正方法 |
-
2000
- 2000-10-27 JP JP2000328828A patent/JP3905299B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-08-29 TW TW90121272A patent/TWI234181B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-09-13 KR KR20010056359A patent/KR100835126B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20020033043A (ko) | 2002-05-04 |
| JP2002131527A (ja) | 2002-05-09 |
| KR100835126B1 (ko) | 2008-06-05 |
| TWI234181B (en) | 2005-06-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101118848B1 (ko) | 미세 패턴의 결함 수정 방법 | |
| JP2006344675A (ja) | 基板の位置決め方法及び装置 | |
| JP3905299B2 (ja) | 欠陥修正装置および欠陥修正方法 | |
| JPH1133458A (ja) | 液状体の塗布装置 | |
| CN110102900B (zh) | 紫外激光除胶方法和*** | |
| JP2007094341A (ja) | 塗布針と、それを用いた塗布機構、欠陥修正装置、塗布方法、および液晶表示パネル用カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
| JP4481688B2 (ja) | 基板処理装置，塗布装置、塗布方法、及び、フォトマスクの製造方法 | |
| JP3889347B2 (ja) | シール剤の塗布装置および塗布方法 | |
| JP3989505B2 (ja) | スクリーン印刷方法およびスクリーン印刷装置 | |
| JP3732538B2 (ja) | シール剤の塗布装置およびその方法 | |
| JP2004335728A (ja) | 基板塗布装置及び基板塗布方法 | |
| CN110823923A (zh) | 一种显示屏内部电路检测装置 | |
| JP2006108384A (ja) | 実装装置、その実装荷重補正方法及びノズル検査方法 | |
| JP2009145685A (ja) | 基板上の微細パターンに発生した欠陥修正方法と修正装置 | |
| KR100584839B1 (ko) | 레이저 전극 절단장치 및 이의 제어방법 | |
| JP2013200496A (ja) | 転写方法および転写装置 | |
| JP2009014665A (ja) | 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置 | |
| TW201401546A (zh) | 基板之加工裝置 | |
| JP2005193156A (ja) | ペースト塗布機 | |
| JP3184339B2 (ja) | ペーストカバー付きスクリーン印刷装置 | |
| JP3742228B2 (ja) | パターン修正装置 | |
| JP5895868B2 (ja) | マーキング装置 | |
| CN218766676U (zh) | 载板检测复判装置 | |
| JP2005051220A (ja) | レジスト膜付基板の製造方法 | |
| JPH0515819A (ja) | ペースト塗布機のノズル位置決め方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040924 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060707 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060718 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060829 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061219 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070111 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3905299 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140119 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |