JP3851154B2 - ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 - Google Patents
ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3851154B2 JP3851154B2 JP2001366405A JP2001366405A JP3851154B2 JP 3851154 B2 JP3851154 B2 JP 3851154B2 JP 2001366405 A JP2001366405 A JP 2001366405A JP 2001366405 A JP2001366405 A JP 2001366405A JP 3851154 B2 JP3851154 B2 JP 3851154B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle member
- substrate
- load lock
- space
- speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術及びその課題】
従来のこの種の装置として、例えば図4に示すものが知られている。このロードロック装置は、半導体ウエハ等の基板3を1枚づつ処理する枚葉式であり、真空チャンバ14を大気に開放することなく、真空チャンバ14に対して基板3の搬入又は搬出を行うための収容空間28を予備室として備える。
【0003】
基板3は、1枚が大気ロボット15に載せられ、大気圧状態の準備室30から上チャンバ51の搬送口51aを通してロードロック装置1に搬入させ、図4に示すようにステージ2上方に位置させた後に支持部材2a上に載置させる。続いて、大気ロボット15を復帰させると共に、ノズル部材4を下降させ、ステージ2、下チャンバ19及びノズル部材4によつて画成密閉された第1収容空間28Aに基板3を収容させ、排気ライン8の排気バルブ27を開いて粗引用の副真空ポンプ10の駆動により、第1収容空間28A内を減圧させる。ノズル部材4は、ノズル駆動装置7によつて昇降駆動させることができる。
【0004】
次に、ステージ2を下降させ、主真空ポンプ11によつて予め減圧させた第2収容空間28Bと第1収容空間28Aとを連通させると共に、ステージ2上の基板3を第2収容空間28Bへと移動させる。ステージ2は、ステージ駆動装置6によつて昇降駆動させることができる。22は、開閉バルブである。
【0005】
引き続き、仕切弁50を開くと共に、真空チャンバ14内の真空ロボット26により、ステージ2上の基板3を真空チャンバ14に搬入させ、真空チャンバ14に付属する処理装置(図示せず)に供給させて所定の処理を施す。
【0006】
処理の終了した基板3は、ほぼ逆の手順によつて上チャンバ51の搬送口51aから取り出すことができるが、ステージ2を上昇させて密閉された第1収容空間28Aを画成させた後、ノズル部材4を上昇させる前に、ガス導入ライン9からのガスを第1収容空間28A内に供給させ、大気圧状態に戻す。その際、ガス導入ライン9に設けた吸気バルブ29を開く。
【0007】
このような基板3の搬送に際しては、一般に、処理の高能率化を図る上で第1収容空間28A内を速やかに減圧又は昇圧させることが望まれる。しかしながら、急速な減圧又は昇圧に伴う気流により、封じられた空間28Aの内壁に付着している微小なパーティクルを巻き上げ、これが基板3上に降り積もるという課題があつた。
【0008】
このようなパーティクルの巻き上げに伴う基板3の品質低下を防止するものとして、例えば特開平11−217670に記載される従来例が知られている。
【0009】
この従来例は、基板3上にノズル部材4中央から供給させるガスの速度をほぼ一定にさせることにより、吸気の過程において、ガス気流が乱流となつてパーティクルを巻き上げ、基板3上に付着することを防止するものである。また、第1収容空間28A内の排気に際し、一時的な吸気を行ない、パーティクルを効果的に流出させるものである。
【0010】
このため、第1収容空間28A内を速やかに昇圧させながら、ガス気流によるパーティクルの巻き上げによる影響を軽微にすることが可能であると共に、減圧に際してパーティクルを外部に流出させることが可能であるが、下チャンバ19とノズル部材4との衝突及び離脱に伴うパーティクルの発生そのものを抑制させるものとはなつていないのみならず、減圧又は昇圧を開始直後の局部的な高速ガス流が生ずることを免れ得ず、パーティクルの巻き上げそのものも十分に抑制させることができない。
【0011】
すなわち、従来のロードロック装置の基板搬送装置にあつては、排気バルブ27及び吸気バルブ29が、いずれも開度を調節不可能な開閉バルブによつて構成され、急速な排気又は吸気が開始直後からなされる構造であると共に、ノズル駆動装置7が昇降速度を増減調節されることを前提としていない。
【0012】
このため、基板3を入れた第1収容空間28A内を減圧させるために、粗引バルブ27を開いて副真空ポンプ10により排気させるとき、急速な排気が開始されて局部的な高速ガス流を生じ、封じられた空間28A内壁に付着しているパーティクルを巻き上げ、基板3上に降り積もる欠点があつた。また、基板3を入れた第1収容空間28A内を昇圧させるために、吸気バルブ29を開いて吸気させるとき、急速な吸気が開始されて局部的な高速ガス流を生じ、封じられた空間28A内壁に付着しているパーティクルを巻き上げ、基板3上に降り積もる欠点があつた。
【0013】
また、ノズル部材4の中心に備わるガス導入ライン9からガスを導入して第1収容空間28A内を大気圧に戻し、ノズル駆動装置7によりノズル部材4を上昇させるとき、ノズル部材4と上シール面19dとの間付近に存在するパーティクルを巻き上げ、これが外部に流出することなく基板3上に降り積もるという技術的課題があつた。
【0014】
更に、第1収容空間28A内に蓄積されるパーティクルを、真空ポンプ(主として副真空ポンプ10)の駆動により、外部に排出させる構造であるから、特に、第1収容空間28Aの外部周辺の下チャンバ19上に蓄積されるパーティクルが排出されないのみならず、第1収容空間28A内に流入し、基板3上に付着する原因になつているという技術的課題があつた。
【0015】
加えて、ノズル部材4を昇降させるノズル駆動装置7が、一定の昇降速度を与える構造となつていたため、ノズル部材4が下チャンバ19の上シール面19dに密着・離脱するときに、パーティクルを発生させるという技術的課題があつた。
【0016】
以上から、本発明は、排気ライン8は排気速度を遅速変更可能なライン構造にし、パーティクルの巻き上げを抑制させると共に、ガス導入ライン9は吸気速度を遅速変更可能なライン構造にし、パーティクルの巻き上げを抑制させ、基板3の処理の高能率化とパーティクルの付着に起因する品質の劣化の防止とを両立させることを目的としてなされたものである。
【0017】
また、本発明は、ノズル部材4の下降速度、更には上昇速度を可変可能な構造にし、特に、ノズル部材4の下チャンバ19への衝突に伴うパーティクルの発生を抑制させ、基板3の処理の高能率化とパーティクルの付着に起因する品質の劣化の防止とを両立させることを目的としてなされたものである。
【0018】
更に、本発明は、ノズル部材4の周辺部に所定方向の気流を生じさせると共に、パーティクルをノズル部材4から外部へと積極的に流出させ、ノズル部材4の付近のパーティクルをロードロック装置1の外部へと速やかに排気させる構造にし、パーティクルの付着に起因する基板3の品質の劣化の防止を図ることを目的としている。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような従来の技術的課題に鑑みてなされたもので、その構成は、次の通りである。
請求項1の発明は、真空チャンバ14を大気に開放することなく、真空チャンバ14に対して基板3の搬入又は搬出を行うための収容空間28を備え、該収容空間28が、大気と密閉及び開放が可能な第1収容空間28Aと、下チャンバ19に形成され、真空チャンバ14と連通する第2収容空間28Bとを有し、第1収容空間28Aが下チャンバ19の上部開口19aを外側から密閉するノズル部材4によつて画成可能であると共に、第1収容空間28Aを減圧及び昇圧させるロードロック装置の基板搬送方法であつて、
基板3を大気中に収容する準備室30に搬送口21aによつて開口し、かつ、ノズル部材4の上方を覆つてノズル部材4を収容するノズルカバー21を配置し、該搬送口21aから流入し、ノズルカバー21の通気口21bから流出する気流によつてノズル部材4の付近を清浄化させると共に、
前記第1収容空間28Aを昇圧させるためのガス導入ライン9を備え、
前記ノズル部材4を該下チャンバ19から離脱移動させる前に、第1収容空間28Aが大気圧状態よりも高圧にされていることを特徴とするロードロック装置の基板搬送方法である。
請求項2の発明は、前記第1収容空間28Aを前記第2収容空間28Bと気密に画成した状態で、ガス導入ライン9を通して昇圧させるとき、吸気速度を低速から高速に変化させることを特徴とする請求項1のロードロック装置の基板搬送方法である。
請求項3の発明は、前記第1収容空間28Aを気密に画成して大気と密閉した後に減圧させるとき、排気速度を低速から高速に変化させることを特徴とする請求項1又は2のロードロック装置の基板搬送方法である。
請求項4の発明は、前記真空チャンバ14が、第2収容空間28Bと常時連通すると共に、第2収容空間28B及び真空チャンバ14の内部を減圧する単一の主真空ポンプ11を備えることを特徴とする請求項1,2又は3のロードロック装置の基板搬送方法である。
請求項5の発明は、前記ノズル部材4を該下チャンバ19に向けて移動密着させる際、ノズル部材4の移動速度を高速から低速に変化させることを特徴とする請求項1,2,3又は4のロードロック装置の基板搬送方法である。
請求項6の発明は、前記ノズル部材4を該下チャンバ19から離脱移動させる際、ノズル部材4の移動速度を低速から高速に変更させることを特徴とする請求項1,2,3,4又は5のロードロック装置の基板搬送方法である。
請求項7の発明は、真空チャンバ14を大気に開放することなく、真空チャンバ14に対して基板3の搬入又は搬出を行うための収容空間28を備え、該収容空間28が、大気と密閉及び開放が可能な第1収容空間28Aと、下チャンバ19に形成され、真空チャンバ14と連通する第2収容空間28Bとを有し、第1収容空間28Aが、下チャンバ19の上部開口19aを外側から密閉するノズル部材4によつて画成可能であると共に、第1収容空間28Aを減圧及び昇圧させるロードロック装置の基板搬送装置であつて、
ノズル部材4の上方を覆つてノズル部材4を収容し、基板3を大気中に収容する準備室30に搬送口21aによつて開口し、かつ、搬送口21aから離れた位置に通気口21bを形成したノズルカバー21を配置し、ノズルカバー21内に、準備室30から通気口21bに向かう気流を生じさせると共に、
前記第1収容空間28Aを昇圧させるためのガス導入ライン9を備え、該ガス導入ライン9が、吸気バルブ装置31を介してガス供給源32に接続され、前記ガス供給源32が、前記ノズル部材4を該下チャンバ19から離脱移動させる前に、前記第1収容空間28Aに大気圧状態よりも高圧のガスを供給できることを特徴とするロードロック装置の基板搬送装置である。
請求項8の発明は、吸気バルブ装置31が、吸気速度を増減変更可能であることを特徴とする請求項7のロードロック装置の基板搬送装置である。
請求項9の発明は、前記第1収容空間28Aを気密に画成して大気と密閉した後に減圧させるための排気ライン8を備え、該排気ライン8が、排気速度を増減変更可能な排気バルブ装置20を介して副真空ポンプ10に接続されていることを特徴とする請求項7又は8のロードロック装置の基板搬送装置である。
請求項10の発明は、前記真空チャンバ14が、第2収容空間28Bと常時連通すると共に、第2収容空間28B及び真空チャンバ14の内部を減圧する単一の主真空ポンプ11を備えることを特徴とする請求項7,8又は9のロードロック装置の基板搬送装置である。
請求項11の発明は、前記ノズル部材4を昇降移動させるノズル駆動装置7を備え、該ノズル駆動装置7が、ノズル部材4の移動速度を高低変更可能であることを特徴とする請求項7,8,9又は10のロードロック装置の基板搬送装置である。
【0020】
【発明の実施の形態】
図1〜図3は、本発明に係るロードロック装置の基板搬送装置の1実施の形態を示す。図中において符号1はロードロック装置を示し、ロードロック装置1は、カセットステーション24と、真空チャンバ14との間に配置されている。カセットステーション24は、クリーンフィルタ23から吹き出す空気によつて満たされた清浄かつ大気圧状態の空間であり、例えば半導体ウエハである基板3を複数納めるカセットボックス25を付属すると共に、基板3を大気中で搬送させる準備室30に大気ロボット15を備える。なお、カセットステーション24の準備室30は、クリーンフィルタ23から吹き出す空気によつて満たされているので、大気圧よりも若干高圧の空間であるが、事実上大気開放された空間であるため、大気圧状態にある。真空チャンバ14は、真空の空間であり、真空ロボット26を内部に備え、基板3を処理室14aに搬入又は搬出する。処理室14aでは、半導体、液晶、太陽電池等の使用目的に応じ、反応ガスを流しながら物理的、化学的な反応により基板3に膜形成やエッチングが施される。
【0021】
ロードロック装置1は、内向きフランジ部19bによつて上部開口19aを形成する下チャンバ19と、下チャンバ19内に収容され、下チャンバ19の内向きフランジ部19bの下面が形成する環状の下シール面19cに密着可能なステージ2と、下チャンバ19外に配置され、下チャンバ19の内向きフランジ部19bの上面が形成する環状の上シール面19dに密着可能なノズル部材4と、ノズルカバー21とを有する。下チャンバ19は、後記する第2収容空間28Bにおいて真空チャンバ14に連通している。なお、ステージ2付近のパーティクルが減少するので、下チャンバ19と真空チャンバ14との間を直接連通させ、従来例の仕切弁50を省略することが可能である。仕切弁50の省略は、ロードロック装置1を含む装置全体のコンパクト化をもたらす。
【0022】
ステージ2は、基板3を支持するための支持部材2aを上面に適宜に有し、下チャンバ19を気密かつ摺動自在に貫通する駆動軸5を介して取付けたステージ駆動装置6によつて昇降駆動され、上昇することにより下シール面19cに気密に密着し、第2収容空間28Bを密閉して区画可能である。ノズル部材4は、ノズル駆動装置7によつて昇降駆動され、下降することにより上シール面19dに気密に密着し、比較的小容積の第1収容空間28Aを密閉して区画可能である。小容積の第1収容空間28Aは、排気及び吸気する空間を最小限にし、高速化、高処理化を可能にする。ノズル部材4が下降した状態でステージ2が上昇することにより、第1収容空間28Aが第2収容空間28Bと気密に隔離した状態で形成される。
【0023】
ノズル駆動装置7は、ノズル部材4の昇降速度を遅速調節可能であり、ノズル部材4が上シール面19d付近に位置するときに低速度にし、上シール面19dへの密着及び離脱を緩徐にさせる。このようなノズル駆動装置7は、モータとモータの回転運動を直線運動に変換させる機構(例えばボールスクリュ・ナット機構)とを用い、モータの回転速度を制御することで実現可能である。
【0024】
従つて、第1収容空間28Aは、ノズル部材4が上部開口19aを外側から密閉した状態で、ノズル部材4、下チャンバ19及びステージ2によつて画成可能であり、第2収容空間28Bは、ステージ2が上部開口19aを内側から密閉して、下チャンバ19及びステージ2によつて第1収容空間28Aに対して画成可能である。
【0025】
ノズルカバー21は、ノズル部材4の上方を覆つてノズル部材4を収容し、基板3を大気中に収容する準備室30に搬送口21aによつて開口し、かつ、搬送口21aから遠い位置にスリット状の通気口21bを少なくとも1箇所に有している。このように搬送口21aから離れた位置に通気口21bを設けるのは、ノズル部材4の周辺に、搬送口21aから通気口21bに向かう気流を効果的に生じさせるためである。この大気と密閉及び開放が可能な第1収容空間28Aと、真空チャンバ14に接続する第2収容空間28Bとで、ロードロック室である収容空間28を構成している。
【0026】
また、下チャンバ19には主真空ポンプ11が接続されている。下チャンバ19と真空チャンバ14との間は直接連通しているから、単一の主真空ポンプ11により、下チャンバ19内の第2収容空間28B及び収容空間28の両者を適宜に減圧させることができると共に、真空チャンバ14内をも同時に減圧させることができる。
【0027】
第1収容空間28Aには、粗引用の排気ライン8及びガス導入ライン9が接続している。排気ライン8は、下チャンバ19の内向きフランジ部19bの内周面に一端が開口し、中間部に単位時間当たりの排気量を増減変更可能な排気バルブ装置20を備えると共に、他端が粗引排気用の副真空ポンプ10に接続している。排気バルブ装置20は、具体的には並列配置した2個のバルブ20a,20bによつて構成され、2個のバルブ20a,20bを順次に開くことにより、排気速度を増減変更可能にしてある。ガス導入ライン9は、ノズル部材4の中央部に一端が開口し、中間部に単位時間当たりの吸気量を増減変更可能な吸気バルブ装置31を備えると共に、他端がガス供給源32に接続している。
【0028】
ガス供給源32は、少なくとも乾燥ガス(空気)を供給する構造を有し、必要に応じてヒータを備えて気体を100℃程度に昇温させ、或いはイオナイザを備えて乾燥ガスをイオン化させるようになつている。このガス供給源32は、第1収容空間28Aに大気圧状態よりも高圧のガスを供給でき、ガス供給源32はポンプ(図示せず)を備え、ガス供給源32からのガスをポンプによつて圧送させるようになつている。また、ガス供給源32にアキュムレータを備えさせ、アキュムレータ内の高圧ガスを第1収容空間28Aに供給させて大気圧状態よりも高圧にすることも可能である。吸気バルブ装置31は、具体的には並列配置した2個のバルブ31a,31bによつて構成され、2個のバルブ31a,31bを順次に開くことにより、吸気速度を増減変更可能にしてある。排気バルブ装置20及び吸気バルブ装置31は、通常の流量制御バルブによつて構成することも可能である。
【0029】
次に作用について説明する。先ず、大気ロボット15及び真空ロボット26を使用して、基板3を準備室30から真空チャンバ14に向けて搬送する動作について説明する。このとき、図1に示すようにノズル部材4及び及びステージ2が上昇し、第1収容空間28Aが大気に開放され、第2収容空間28Bが主真空ポンプ11によつて真空状態にされている。
【0030】
大気ロボット15によりカセットステーション24のカセットボックス25から取り出した1枚の基板3が、搬送口21aを通して搬入され、ステージ2の支持部材2a上の所定位置に載置される。
【0031】
ステージ2上に基板3が載つたなら、大気ロボット15を復帰させると共に、ノズル駆動装置7によつてノズル部材4を下降させ、図2に示すようにノズル部材4を上シール面19dに気密に密着させ、ステージ2、下チャンバ19及びノズル部材4によつて密閉された第1収容空間28Aを画成させる。このとき、ノズル駆動装置7によつて与えるノズル部材4の下降速度は、高速から低速に変化させ、ノズル部材4の短時間での下降と下チャンバ19の内向きフランジ部19bへの緩徐な密着とを両立させ、ノズル部材4の内向きフランジ部19bへの衝突に伴うパーティクルの発生を抑制させる。
【0032】
続いて、第1収容空間28Aを副真空ポンプ10によつて排気させる。このとき、排気バルブ装置20により排気速度を低速から高速へと切り換える。具体的には、2個のバルブ20a,20bの一方を開いた後、所定時間経過後に他方を開き、第1収容空間28Aからのガス流出量を漸増させる。これにより、吸引初期に第1収容空間28A内に局部的な強い気流が生ずることを防止させ、その画壁に付着しているパーティクルが巻き上げられて基板3上に降り積もることを抑制させる。
【0033】
第1収容空間28Aを第2収容空間28Bとほぼ同等にまで減圧させた後、図3に示すように基板3を載せたステージ2を下降させる。そして、真空ロボット26によりステージ2上の基板3を受け取り、既に真空に保つてある真空チャンバ14を経て、真空チャンバ14に接続された処理室14aへ搬送し、基板3に所定の処理を施す。
【0034】
次に、真空ロボット26及び大気ロボット15を使用して、処理済みの基板3を真空チャンバ14から準備室30に向けて搬送する動作について説明する。
【0035】
処理室14aでの処理の終了した基板3は、真空ロボット26にてステージ2の支持部材2a上の所定位置に載置させる。次いで、真空ロボット26を復帰させると共に、ステージ駆動装置6により駆動軸5を介してステージ2を上昇させ、ステージ2を下シール面19cに気密に密着させる。ステージ2が下シール面19cに気密に密着した状態は、基板3が処理済みである点を除き、図2に示す状態と実質的に同様である。
【0036】
これにより第1空間28Aが画成されるので、ガス導入ライン9よりガス供給源32からの気体を密閉状態の第1空間28A内に吹き出させる。このとき、第1空間28A内への単位時間当たりのガス流入量を少量から多量へと漸増させる。具体的には、2個のバルブ31a,31bの一方を開いた後、所定時間経過後に他方を開くように切り換える。これにより、ガスの流入速度を低速から高速に変化させ、第1収容空間28A内に局部的な強い気流が生ずることを防止させ、その画壁に付着しているパーティクルが巻き上げられて基板3上に降り積もることを抑制させる。ノズル部材4の中央部に開口するガス導入ライン9からのガスの吹き出しにより、基板3の上面が清浄化される。そして、第1空間28A内が大気圧状態よりも若干高圧になるようにガスを供給したなら、通常は両バルブ31a,31bを閉じる。
【0037】
次いで、ノズル駆動装置7によつてノズル部材4を上昇させ、ステージ2上の基板3の側方を大気開放させる。このとき、ノズル部材4の上昇速度は、低速から高速に変化させ、ノズル部材4の短時間での上昇とノズル部材4の下チャンバ19の内向きフランジ部19bからの緩徐な離脱とを両立させ、ノズル部材4の内向きフランジ部19bからの離脱に伴うパーティクルの発生及び巻き上げを抑制させる。第1収容空間28Aを大気圧状態よりも若干高圧にさせれば、ノズル部材4のフランジ部19bからの離脱により、第1空間28A内のガスがパーティクル、特に上シール面19d付近のパーティクルを伴つてノズル部材4の外部に流出するので、パーティクルが基板3上に降り積もることが抑制される。従つて、両バルブ31a,31bの閉じ作動は、ノズル部材4の内向きフランジ部19bからの離脱後にすることもできる。
【0038】
更に、クリーンフィルタ23から吹き出す空気によつて大気圧状態(大気圧よりも若干高圧)のカセットステーション24から通気口21bに向かう気流を生じ、ノズル部材4の付近、特に内向きフランジ部19b上のパーティクルが通気口21bから外部に流出するので、基板3上に降り積もることが抑制される。このカセットステーション24から通気口21bに向かう気流は、ノズル部材4が上シール面19dに密着しているときにも生じているので、下チャンバ19の内向きフランジ部19b上などにパーティクルが滞留することが防止される。ノズル部材4が上昇したときには、カセットステーション24から通気口21bに向かう気流により、ノズル部材4の内部も換気される。
【0039】
ノズル部材4が上昇したなら、大気ロボット15にてステージ2上の基板3を取り出し、カセットステーション24に搬送させる。収容空間28では、ノズル部材4の昇降速度を遅速調節させてパーティクルの発生及び巻き上げを抑制させると共に、吸気速度及び排気速度を増減変更可能な排気ライン8及びガス導入ライン9により、パーティクルの巻き上げを抑制させているので、ノズルカバー21内に、準備室30から通気口21bに向かう気流を生じさせてパーティクルを排出させることとも相まつて、パーティクルが基板3に再付着する可能性が事実上なくなる。カセットステーション24に搬送させた基板3は、次工程に向けて移送させる。
【0040】
ところで、上記1実施の形態にあつては、真空チャンバ14を大気に開放することなく、真空チャンバ14に対して基板3の搬入及び搬出の両者を行うための収容空間28を備え、該収容空間28が、大気と密閉及び開放が可能な第1収容空間28Aと、真空チャンバ14と連通する第2収容空間28Bとを有するものとしたが、収容空間28は、基板3の搬入及び搬出の内の少なくとも一方を負担することも可能である。その場合、基板3の搬入専用のロードロック装置と、基板3の搬出専用のロードロック装置とを備えることになる。従つて、真空チャンバ14に対して基板3の搬入又は搬出を行うための収容空間28を備えるものに対し、本発明を適用可能である。
【0041】
【発明の効果】
以上の説明によつて理解されるように、本発明に係る基板搬送方法及びその装置によれば、次の効果を奏することができる。
(1)請求項1及び7の発明によれば、ノズルカバー内に、搬送口から流入し、通気口から流出する気流を生じさせ、ノズル部材の付近を清浄化させることができる。これにより、パーティクルが第1収容空間内及びその付近に多量に滞留することがなくなる。その結果、清浄に維持した高品質の基板を得ることが可能になる。
加えて、ノズル部材を下チャンバから離脱移動させる前に、第1収容空間を大気圧状態よりも高圧にさせることができる。これにより、ノズル部材を下チャンバから離脱移動させる際に、第1収容空間内のガスが隙間から流出し、その付近のパーティクルを吹き飛ばし、収容空間内のパーティクルを減少させるようになる。その結果、清浄に維持した高品質の基板を得ることが可能になる。
【0042】
(2)請求項2及び8の発明によれば、第1収容空間を第2収容空間と気密に隔離した後、第1収容空間を大気圧状態にまで昇圧させるとき、吸気速度を低速から高速に変化させることができる。これにより、第1収容空間内のパーティクルが局部的な高速ガス流によつて巻き上げられることが良好に防止され、基板に降り積もることを抑制させることができる。その結果、清浄に維持した高品質の基板を得ることが可能になる。
【0043】
(3)請求項3及び9の発明によれば、第1収容空間を大気と密閉した後に排気ラインを通じて減圧させるとき、排気速度を低速から高速に変化させることができる。これにより、第1収容空間内のパーティクルが局部的な高速ガス流によつて巻き上げられることが良好に防止され、基板に降り積もることを抑制させることができる。その結果、清浄に維持した高品質の基板を得ることが可能になる。
【0044】
(4)請求項4及び10の発明によれば、真空チャンバが、第2収容空間と常時連通し、かつ、これらに単一の主真空ポンプを備える。これにより、真空チャンバと第2収容空間との間に配置させていた仕切弁が省略されると共に、真空ポンプに関する構造を簡素にすることができる。このようなロードロック装置の簡素かつコンパクトな構造は、収容空間内のパーティクルが減少する結果として、実現が可能になるものである。
【0045】
(5)請求項5及び11の発明によれば、ノズル部材を下チャンバに向けて移動させる際、ノズル部材の移動速度を高速から低速に変更させることができる。これにより、ノズル部材が下チャンバに強く衝突し、パーティクルが発生することを抑制することができる。
【0046】
(6)請求項6及び11の発明によれば、ノズル部材を下チャンバから離脱移動させる際、ノズル部材の移動速度を低速から高速に変更させることができる。これにより、ノズル部材が下チャンバから離脱する際に、パーティクルが発生し、或いは巻き上げられることを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の1実施の形態に係るロードロック装置の基板搬送装置を示す断面図。
【図2】 同じく作用説明図。
【図3】 同じく作用説明図。
【図4】 従来例を示す断面図。
【符号の説明】
1:ロードロック装置、2:ステージ、3:基板、4:ノズル部材、6:ステージ駆動装置、7:ノズル駆動装置、8:排気ライン、9:ガス導入ライン、10:副真空ポンプ、11:主真空ポンプ、14:真空チャンバ、14a:処理室、19:下チャンバ、19a:上部開口、20:排気バルブ装置、21:ノズルカバー、21a:搬送口、21b:通気口、23:クリーンフィルタ、24:カセットステーション、25:カセットボックス、26:真空ロボット、28:収容空間、28A:第1収容空間、28B:第2収容空間、30:準備室、31:吸気バルブ装置、32:ガス供給源。
Claims (11)
- 真空チャンバ(14)を大気に開放することなく、真空チャンバ(14)に対して基板(3)の搬入又は搬出を行うための収容空間(28)を備え、該収容空間(28)が、大気と密閉及び開放が可能な第1収容空間(28A)と、下チャンバ(19)に形成され、真空チャンバ(14)と連通する第2収容空間(28B)とを有し、第1収容空間(28A)が下チャンバ(19)の上部開口(19a)を外側から密閉するノズル部材(4)によつて画成可能であると共に、第1収容空間(28A)を減圧及び昇圧させるロードロック装置の基板搬送方法であつて、
基板(3)を大気中に収容する準備室(30)に搬送口(21a)によつて開口し、かつ、ノズル部材(4)の上方を覆つてノズル部材(4)を収容するノズルカバー(21)を配置し、該搬送口(21a)から流入し、ノズルカバー(21)の通気口(21b)から流出する気流によつてノズル部材(4)の付近を清浄化させると共に、
前記第1収容空間(28A)を昇圧させるためのガス導入ライン(9)を備え、
前記ノズル部材(4)を該下チャンバ(19)から離脱移動させる前に、第1収容空間(28A)が大気圧状態よりも高圧にされていることを特徴とするロードロック装置の基板搬送方法。 - 前記第1収容空間(28A)を前記第2収容空間(28B)と気密に画成した状態で、ガス導入ライン(9)を通して昇圧させるとき、吸気速度を低速から高速に変化させることを特徴とする請求項1のロードロック装置の基板搬送方法。
- 前記第1収容空間(28A)を気密に画成して大気と密閉した後に減圧させるとき、排気速度を低速から高速に変化させることを特徴とする請求項1又は2のロードロック装置の基板搬送方法。
- 前記真空チャンバ(14)が、第2収容空間(28B)と常時連通すると共に、第2収容空間(28B)及び真空チャンバ(14)の内部を減圧する単一の主真空ポンプ(11)を備えることを特徴とする請求項1,2又は3のロードロック装置の基板搬送方法。
- 前記ノズル部材(4)を該下チャンバ(19)に向けて移動密着させる際、ノズル部材(4)の移動速度を高速から低速に変化させることを特徴とする請求項1,2,3又は4のロードロック装置の基板搬送方法。
- 前記ノズル部材(4)を該下チャンバ(19)から離脱移動させる際、ノズル部材(4)の移動速度を低速から高速に変更させることを特徴とする請求項1,2,3,4又は5のロードロック装置の基板搬送方法。
- 真空チャンバ(14)を大気に開放することなく、真空チャンバ(14)に対して基板(3)の搬入又は搬出を行うための収容空間(28)を備え、該収容空間(28)が、大気と密閉及び開放が可能な第1収容空間(28A)と、下チャンバ(19)に形成され、真空チャンバ(14)と連通する第2収容空間(28B)とを有し、第1収容空間(28A)が、下チャンバ(19)の上部開口(19a)を外側から密閉するノズル部材(4)によつて画成可能であると共に、第1収容空間(28A)を減圧及び昇圧させるロードロック装置の基板搬送装置であつて、
ノズル部材(4)の上方を覆つてノズル部材(4)を収容し、基板(3)を大気中に収容する準備室(30)に搬送口(21a)によつて開口し、かつ、搬送口(21a)から離れた位置に通気口(21b)を形成したノズルカバー(21)を配置し、ノズルカバー(21)内に、準備室(30)から通気口(21b)に向かう気流を生じさせると共に、
前記第1収容空間(28A)を昇圧させるためのガス導入ライン(9)を備え、該ガス導入ライン(9)が、吸気バルブ装置(31)を介してガス供給源(32)に接続され、前記ガス供給源(32)が、前記ノズル部材(4)を該下チャンバ(19)から離脱移動させる前に、前記第1収容空間(28A)に大気圧状態よりも高圧のガスを供給できることを特徴とするロードロック装置の基板搬送装置。 - 吸気バルブ装置(31)が、吸気速度を増減変更可能であることを特徴とする請求項7のロードロック装置の基板搬送装置。
- 前記第1収容空間(28A)を気密に画成して大気と密閉した後に減圧させるための排気ライン(8)を備え、該排気ライン(8)が、排気速度を増減変更可能な排気バルブ装置(20)を介して副真空ポンプ(10)に接続されていることを特徴とする請求項7又は8のロードロック装置の基板搬送装置。
- 前記真空チャンバ(14)が、第2収容空間(28B)と常時連通すると共に、第2収容空間(28B)及び真空チャンバ(14)の内部を減圧する単一の主真空ポンプ(11)を備えることを特徴とする請求項7,8又は9のロードロック装置の基板搬送装置。
- 前記ノズル部材(4)を昇降移動させるノズル駆動装置(7)を備え、該ノズル駆動装置(7)が、ノズル部材(4)の移動速度を高低変更可能であることを特徴とする請求項7,8,9又は10のロードロック装置の基板搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001366405A JP3851154B2 (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001366405A JP3851154B2 (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003168712A JP2003168712A (ja) | 2003-06-13 |
JP3851154B2 true JP3851154B2 (ja) | 2006-11-29 |
Family
ID=19176307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001366405A Expired - Fee Related JP3851154B2 (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3851154B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180127763A (ko) * | 2017-05-22 | 2018-11-30 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005158926A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Canon Inc | ロードロック装置および方法 |
KR20070096669A (ko) * | 2006-03-27 | 2007-10-02 | 브룩스오토메이션아시아(주) | 로드락 챔버 |
JP2008258477A (ja) | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Canon Inc | 処理装置及び雰囲気置換方法 |
CN114300584B (zh) * | 2021-12-31 | 2023-07-14 | 成都中建材光电材料有限公司 | 一种太阳能电池芯片的传输装置及退火传输方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62142791A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-26 | Anelva Corp | 真空処理装置 |
JPH04352326A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-07 | Tokyo Electron Ltd | 微細加工装置 |
JPH088152A (ja) * | 1994-06-23 | 1996-01-12 | Nippon Steel Corp | 排気装置 |
JPH09191015A (ja) * | 1996-01-11 | 1997-07-22 | Canon Inc | 熱処理装置 |
JP4116149B2 (ja) * | 1997-11-25 | 2008-07-09 | 株式会社日本製鋼所 | 枚葉式ロードロック装置 |
JP4364396B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2009-11-18 | 平田機工株式会社 | 物品容器開閉・転送装置 |
-
2001
- 2001-11-30 JP JP2001366405A patent/JP3851154B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180127763A (ko) * | 2017-05-22 | 2018-11-30 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
KR101958643B1 (ko) * | 2017-05-22 | 2019-03-15 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003168712A (ja) | 2003-06-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11782404B2 (en) | Substrate processing systems, apparatus, and methods with substrate carrier and purge chamber environmental controls | |
KR100859602B1 (ko) | 기판처리 장치 및 반도체 디바이스의 제조방법 | |
JP5153296B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR100785871B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 | |
JP4584821B2 (ja) | 真空処理装置及び帯状気流形成装置 | |
JP3851154B2 (ja) | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 | |
KR20130011969A (ko) | 열처리 장치 | |
JP2003332213A (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP2004087781A (ja) | 真空処理装置及び真空処理方法 | |
JP2772835B2 (ja) | 基板処理装置及び真空処理方法 | |
JPH08148539A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH11217670A (ja) | 枚葉式ロードロック装置及び基板清浄化方法 | |
JPH09306972A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP3276382B2 (ja) | 真空処理装置および真空処理方法 | |
JPH07235497A (ja) | 横型処理炉 | |
JP2005268244A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH09246354A (ja) | 可搬式密閉コンテナのガスパージステーション | |
JP2006086186A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3121022B2 (ja) | 減圧処理装置 | |
JP2939378B2 (ja) | 真空処理装置 | |
JPH0219186B2 (ja) | ||
WO2024095760A1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2003174072A (ja) | 基板移載装置及び基板移載方法 | |
JP2005340330A (ja) | 半導体基板の保管容器および半導体基板の保管方法 | |
JPH11219908A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060117 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060829 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060831 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090908 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100908 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100908 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110908 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110908 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120908 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120908 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130908 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |