JP3792384B2 - Substrate rubbing method, liquid crystal electro-optic element manufacturing method, and substrate rubbing apparatus - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板のラビング方法、液晶電気光学素子の製造方法及び基板のラビング装置に係り、特に、液晶電気光学素子を形成するための基板の表面にラビング処理を施す場合の方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶電気光学素子は、液晶表示装置等の種々の応用分野において盛んに使用されているものであるが、多くの場合、２枚の基板の間に液晶を挟み込み、この液晶の光学状態を電気的に制御する構造となっている。ここで、基板の表面には、液晶と接触した際に液晶分子が所定の方向に整列して指向性を発揮するように制御するためのラビング処理が施される場合がある。
【０００３】
ラビング処理は、通常、基板上にポリイミド、ポリビニルアルコール等の配向膜を形成し、この配向膜の表面を布等によって所定の方向に擦ることにより行われる。擦られた配向膜の表面には多数の微細な傷が所定の方向に伸びるように形成され、この傷の伸びる方向に液晶分子が配向する。
【０００４】
図１５は、上記ラビング処理を行うための装置の概略図である。この図に示すように、ラビング装置には、予め基板を導入する導入面１０が設けられ、この導入面１０に沿って複数の搬送ローラ１１が並列されている。搬送ローラ１１は、図示しない駆動手段によってそれぞれ基板２０を図示右側に搬送するように回転駆動される。
【０００５】
導入面１０の上方にはラビングローラ２１が軸支されており、このラビングローラ２１は図示しない駆動手段によって図示時計周りに回転するようになっている。ラビングローラ２１の周面上にはクロス材２２が貼り付けられている。このクロス材２２はナイロンやレーヨン等の繊維によって織られたものであり、表面に多数の微少な毛足部が密生している。
【０００６】
ラビング処理は、表面に配向膜を形成したガラス基板等からなる基板２０を搬送ローラ１１によって図示左側から右側へと搬送し、ラビングローラ２１の周面上に貼着されたクロス材２２によって配向膜を擦ることによって行われる。ラビングローラ２１は、図示しない圧力付与機構によって基板２０に対して所定の圧力で押し付けられながら、基板２０の表面を擦っていく。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のようにラビング処理を行うと、基板２０の表面からは、クロス材２２で擦られることによって配向膜が削れて細かな粉塵が発生するととともに、クロス材２２の表面からは該クロス材２２の削れによるパーティクル等の細かな粉塵が発生し、これらの粉塵はクロス材２２の表面上に付着するとともに、基板２０の表面上にも付着する。粉塵のクロス材２２への付着はその後におけるラビング処理においてラビング状態に影響を与え、粉塵の基板２０への付着は基板２０の表面状態に影響を与えるため、いずれも液晶表示装置等の表示品位を劣化させる原因となる。
【０００８】
基板２０に付着した粉塵の除去は、ラビング工程の後の洗浄工程において行われるが、洗浄によって粉塵を完全に除去することは困難であり、また、クロス材２２への粉塵の付着によってラビング状態に影響が生じた場合には、洗浄によっては回復させることができない。
【０００９】
また、一般的に液晶表示装置の製造工程ではきわめて精密なクリーン度の管理が必要であり、上記ラビング処理においては、ラビング装置内及び装置の周辺にも粉塵が分散されることとなるため、その他の製造工程に対してクリーン度の低下による影響を与えないように、ラビング工程及洗浄工程をその他の製造工程とは仕切られた特別な環境で行わなければならないという問題点がある。
【００１０】
本発明はかかる問題点を解決するためになされたものであり、ラビング処理によって発生する粉塵に起因する種々の影響を防止し、高品位の液晶電気光学素子を容易に製造することができる基板のラビング方法及び装置を提供することを目的とする。
【００１１】
かかる目的を達成するために、本発明に係る基板のラビング方法は、液晶電気光学素子に使用する基板を、前記基板に対して回転するラビングローラによって擦るようにした基板のラビング方法において、前記ラビングローラの軸線方向に複数に分割され、先端部が絞られた形状である吸引経路を有するとともに、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した吸引口を前記先端部のそれぞれに有する吸引部材を備える吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビングローラの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う工程を有することを特徴とする。
【００１２】
本発明に係る基板のラビング方法は、液晶電気光学素子に使用する基板を、前記基板に対して回転するラビングローラによって擦るようにした基板のラビング方法において、前記ラビングローラを包囲するように形成され、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した第１吸引口と、前記ラビングローラの周面部に対向する第２吸引口とを有する吸引部材を備える吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビングローラの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う工程を有することが好ましい。
【００１３】
本発明に係る基板のラビング方法は、液晶電気光学素子に使用する基板をラビング処理部材によって擦るようにした基板のラビング方法において、前記基板と前記ラビング処理部材との接触部に向かって開口した吸引口を有する吸引部材を備える吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビング処理部材との少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う工程を有し、前記ラビング処理を行う工程において、前記吸引口の近傍に吹付位置が設定された吹付手段から、前記ラビング処理部材又は前記基板に対して流体を吹き付けることが好ましい。
【００１４】
本発明に係る基板のラビング方法は、液晶電気光学素子に使用する基板を、前記基板に対して回転するラビングローラによって擦るようにした基板のラビング方法において、 吸引口の周縁部が前記ラビングローラの毛足部に接触するように配置されるとともに、少なくとも前記吸引口の周縁部の前記ラビングローラの毛足部に接触する部分が非導電材で形成される吸引ノズルを備える吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビングローラとの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う工程を有することが好ましい。
【００１５】
本発明に係る基板のラビング方法は、液晶電気光学素子に使用する基板を、前記基板に対して回転するラビングローラによって擦るようにした基板のラビング方法において、 吸引口の周縁部を前記ラビングローラの毛足部に接触させ、且つ、前記吸引口の周縁部を前記ラビングローラの地肌に接触させないように配置される吸引ノズルを備える吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビングローラとの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う工程を有することが好ましい。
【００１６】
本発明に係る基板のラビング方法は、上記本発明の基板のラビング方法において、前記ラビング処理を行う工程にて、前記吸引手段は、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した吸引口を有する吸引部材を更に備えるものであって、該吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビングローラとの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行うことが好ましい。
【００１７】
本発明に係る基板のラビング方法は、上記本発明の基板のラビング方法において、前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部に対して接近離間移動可能に配置し、更に、前記基板の表面上を前記ラビング処理部材によって擦っているときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部に接近移動させ、擦っていないときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部から離間移動させる駆動手段を備えたことが好ましい。
【００１８】
本発明に係る基板のラビング方法は、上記本発明の基板のラビング方法において、前記ラビング処理を行う工程にて、前記吸引ノズルの吸引口の周縁部は、前記毛足部の先端から該毛足部の長さの１／２までの範囲で前記毛足部に接触しているものであることが好ましい。
【００１９】
本発明に係る基板のラビング方法は、上記本発明の基板のラビング方法において、前記ラビング処理を行う工程にて、前記吸引ノズルは、その吸引口に、前記ラビングローラの毛足部に接触する櫛部を設けたものであることが好ましい。
【００２０】
本発明に係る液晶電気光学素子の製造方法は、上記本発明の基板のラビング方法により配向膜にラビング処理を施すことを特徴とする。
【００２１】
本発明に係る基板のラビング装置は、液晶電気光学素子に用いる基板に対して回転し、前記基板を擦るためのラビングローラと、前記基板と前記ラビングローラとを相対的に動作させて前記基板を前記ラビングローラによって擦るように駆動する駆動手段と、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した吸引口を有し、前記基板と前記ラビング処理部材との少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段と、を備え、前記吸引手段は、前記ラビングローラの軸線方向に複数に分割され、先端部が絞られた形状である吸引経路を備え、前記先端部にそれぞれ前記吸引口が形成されていることを特徴とする。
【００２２】
本発明に係る基板のラビング装置は、液晶電気光学素子に用いる基板に対して回転し、前記基板を擦るためのラビングローラと、前記基板と前記ラビングローラとを相対的に動作させて前記基板を前記ラビングローラによって擦るように駆動する駆動手段と、前記基板と前記ラビング処理部材との少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段と、を備え、前記吸引手段は、前記ラビングローラを包囲するように形成され、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した第１吸引口と、前記ラビングローラの周面部に対向する第２吸引口とを備えていることが好ましい。
【００２３】
本発明に係る基板のラビング装置は、液晶電気光学素子に用いる基板を擦るためのラビング処理部材と、前記基板と前記ラビング処理部材とを相対的に動作させて前記基板を前記ラビング処理部材によって擦るように駆動する駆動手段と、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した吸引口を有し、前記基板と前記ラビング処理部材との少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段と、を備えた基板のラビング装置において、前記ラビング処理部材又は前記基板に対して流体を吹き付ける吹付手段が設けられ、前記吸引口の近傍に前記吹付手段の吹付位置が設定されていることが好ましい。
【００２４】
本発明に係る基板のラビング装置は、液晶電気光学素子に用いる基板に対して回転し、前記基板を擦るためのラビングローラと、前記基板と前記ラビングローラとを相対的に動作させて前記基板を前記ラビングローラによって擦るように駆動する駆動手段と、前記基板と前記ラビングローラとの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段と、を備え、前記吸引手段は吸引ノズルを有し、前記吸引ノズルは、少なくとも前記吸引口の周縁部の前記ラビングローラの毛足部に接触する部分が非導電材で形成されていることが好ましい。
【００２５】
本発明に係る基板のラビング装置は、液晶電気光学素子に用いる基板に対して回転し、前記基板を擦るためのラビングローラと、前記基板と前記ラビングローラとを相対的に動作させて前記基板を前記ラビングローラによって擦るように駆動する駆動手段と、前記基板と前記ラビングローラとの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段と、を備え、前記吸引手段は吸引ノズルを有し、前記吸引ノズルは、前記ラビングローラによって前記基板を擦る際に、その吸引口の周縁部を前記ラビングローラの毛足部に接触させ、且つ、前記吸引口の周縁部を前記ラビングローラの地肌に接触させないように配置されることが好ましい。
【００２６】
本発明に係る基板のラビング装置は、上記本発明のラビング装置において、前記吸引手段は、前記基板と前記ラビング処理部材との接触部に向かって開口した吸引口を有する吸引部材を更に備えたことが好ましい。
【００２７】
本発明に係る基板のラビング装置は、上記本発明のラビング装置において、前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部に対して接近離間移動可能に配置し、更に、前記基板の表面を前記ラビング処理部材によって擦っているときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部に接近移動させ、擦っていないときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部から離間移動させる駆動手段を備えたことが好ましい。
【００２８】
本発明に係る基板のラビング装置は、上記本発明のラビング装置において、前記吸引ノズルの吸引口の周縁部は、前記毛足部の先端から該毛足部の長さの１／２までの範囲で前記毛足部に接触していることが好ましい。
【００２９】
本発明に係る基板のラビング装置は、上記本発明のラビング装置において、前記吸引ノズルの吸引口に、前記ラビングローラの毛足部に接触する櫛部を設けたことを特徴とする。
【００３０】
基板のラビング方法としては、液晶電気光学素子に使用する基板の表面をラビング処理部材によって擦るようにした基板のラビング方法において、前記基板と前記ラビング処理部材の少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行うようにしてもよい。
【００３１】
この手段によれば、基板表面をラビング処理部材で擦った際に発生する粉塵を吸引するようにしているので、粉塵が基板表面に堆積したり、ラビング処理部材に付着したりすることが抑制され、液晶電気光学素子の表示品位を高めることができる。
【００３２】
上記基板のラビング方法において、前記吸引を前記粉塵の発生部において行うようにしてもよい。
【００３３】
この手段によれば、粉塵の吸引を該粉塵の発生部において行うようにしたので、粉塵が周囲環境に撒き散らされることがなく、製造工程におけるクリーン度の管理も容易になる。
【００３４】
基板のラビング装置としては、液晶電気光学素子に用いる基板の表面を擦るためのラビング処理部材と、前記基板と前記ラビング処理部材とを相対的に動作させて前記基板の表面を前記ラビング処理部材によって擦るように駆動する駆動手段とを備えた基板のラビング装置において、前記基板と前記ラビング処理部材の少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段を備えてもよい。
【００３５】
この手段によれば、上記ラビング方法と同様に、粉塵が基板表面に堆積したり、ラビング処理部材に付着したりすることが抑制されるため、液晶電気光学素子の表示品位を高めることができる。
【００３６】
上記基板のラビング装置において、前記吸引手段は、前記基板と前記ラビング処理部材との接触部に向かって開口した吸引口を有する吸引部材を備えてもよい。
【００３７】
この手段によれば、基板とラビング処理部材との接触部が粉塵の発生部にあたるため、上記ラビング方法と同様に、周囲環境に粉塵が撒き散らされることがなく、製造工程におけるクリーン度の管理も容易になる。
【００３８】
上記基板のラビング装置において、前記ラビング処理部材は前記基板に対して回転するラビングローラであり、前記吸引口は、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口していてもよい。
【００３９】
この手段によれば、簡易な構造のラビングローラによってラビング処理を行うことができるとともに、基板とラビングローラとの接触部はラビングローラに対して常時一定の位置にあるので、吸引部材を容易に配置することができる。
【００４０】
上記基板のラビング装置において、前記吸引部材は、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって絞られた形状とされ、その先端部に前記吸引口が形成されていてもよい。
【００４１】
この手段によれば、吸引部材は先端に向かって絞られた形状に形成されているので、基板とラビングローラとの接触部により近い位置に吸引口を配置することができるとともに、吸引口が絞られた先端に形成されていることによって吸引力を高めることができる。
【００４２】
上記基板のラビング装置において、前記吸引部材は、前記ラビングローラの軸線方向に複数に分割された吸引経路を備え、該吸引経路の先端部にそれぞれ前記吸引口が形成されていてもよい。
【００４３】
この手段によれば、分割された吸引経路の先端部にそれぞれ吸引口を設けているため、吸引口における吸引力を高めることができるとともに、ラビングローラの軸線方向に亘って確実に粉塵を吸引することができる。
【００４４】
上記基板のラビング装置において、前記吸引部材は、前記ラビングローラを包囲するように形成され、前記ラビングローラの周面部に対向する吸引口を備えていてもよい。
【００４５】
この手段によれば、ラビングローラに付着している粉塵の除去をより確実に行うことができるとともに、吸引部材がラビングローラを包囲するように形成されていることによって装置の小型化を図ることができる。
【００４６】
上記基板のラビング装置において、前記ラビング処理部材又は前記基板に対して流体を吹き付ける吹付手段を設け、前記吸引口の近傍に前記吹付手段の吹付位置を設定していてもよい。
【００４７】
この手段によれば、吹付手段によってラビング処理部材又は基板に流体を吹付けて粉塵を離反させた後に、吸引部材の吸引口から粉塵を吸引することができるので、ラビング処理部材又は基板に付着している粉塵をより確実に除去することができる。
【００４８】
上記基板のラビング装置において、前記ラビング処理部材は、前記基板に対して回転するラビングローラであり、前記吸引手段は、その吸引口の周縁部を前記ラビングローラの毛足部に接触させた状態で該ラビングローラの外周部に配置された吸引ノズルを備えていてもよい。
【００４９】
この手段によれば、吸引ノズルの吸引口の周縁部がラビングローラの毛足部に接触しているので、ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外周部が基板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去することができ、この結果、ラビングローラの外周部が常にクリーンな状態で基板を擦ることが可能になって、基板への粉塵の付着を防止することができる。
【００５０】
上記基板のラビング装置において、前記ラビング処理部材は、前記基板に対して回転するラビングローラであり、前記吸引手段は、その吸引口の周縁部を前記ラビングローラの毛足部に接触させた状態で該ラビングローラの外周部に配置された吸引ノズルと、前記基板と前記ラビング処理部材との接触部に向かって開口した吸引口を有する吸引部材とを備えていてもよい。
【００５１】
この手段によれば、上記ラビング装置と同様に、ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外周部が基板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去することができるので、ラビングローラの外周部が常にクリーンな状態で基板を擦ることが可能になって、基板への粉塵の付着を防止することができ、しかも、吸引部材の吸引口からも基板とラビング処理部材との接触部で発生した粉塵が吸引除去されるので、周囲環境に粉塵が撒き散らされるのを防止することができるとともに、該粉塵が基板表面に堆積したり、ラビング処理部材に付着したりするのを抑制することができ、この結果、液晶電気光学素子の表示品位を更に高めることができるとともに、製造工程におけるクリーン度の管理についても更に容易にすることができる。
【００５２】
上記基板のラビング装置において、前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部に対して接近離間移動可能に配置し、更に、前記基板の表面を前記ラビング処理部材によって擦っているときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部に接近移動させ、擦っていないときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部から離間移動させる駆動手段を備えていてもよい。
【００５３】
この手段によれば、基板の表面がラビングローラによって擦られていないときは、吸引ノズルがラビングローラの外周部から離間配置されて該吸引ノズルの吸引口の周縁部とラビングローラの毛足部との接触がなくなるため、該周縁部と毛足部との接触による熱影響及び該接触によるラビングローラの劣化を軽減することができる。
【００５４】
上記基板のラビング装置において、前記吸引ノズルの吸引口の周縁部は、前記毛足部の先端から該毛足部の長さの１／２までの範囲で前記毛足部に接触していてもよい。
【００５５】
この手段によれば、吸引ノズルの吸引口の周縁部のラビングローラの毛足部への接触を確保しつつ、該吸引口の周縁部のラビングローラの地肌への接触を確実に回避して該地肌が吸引口の周縁部によって削り取られないようにすることができる。
【００５６】
上記基板のラビング装置において、前記吸引ノズルの吸引口に、前記ラビングローラの毛足部に接触する櫛部を設けていてもよい。
【００５７】
この手段によれば、櫛部によってラビングローラの毛足部の毛並みを揃えつつ、該毛足部に付着した粉塵をたたき出して吸引口からの粉塵の吸引効果を高めることができる。
【００５８】
上記基板のラビング装置において、前記吸引ノズルは、少なくとも前記吸引口の周縁部の前記ラビングローラの毛足部に接触する部分が非導電材で形成されていてもよい。
【００５９】
この手段によれば、吸引ノズルの吸引口の周縁部とラビングローラの毛足部とが長期間に渡って接触することによって万が一に該周縁部が削れた場合に、落下した削り屑が基板表面に付着した状態で液晶が封入されて製品化されたとしても、該削り屑が非導電材であるため製品使用時のショートを防止することができる。
【００６０】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る実施形態について説明する。
【００６１】
まず、図１２及び図１３を参照してＴＦＴ液晶パネルについて説明する。図１２に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０の上には、シール材１０１がその縁に沿って設けられており、その内側に並行して、例えばブラックマトリクス１０９と同じ或いは異なる材料からなる遮光性の周辺見切り１０２が設けられている。シール材１０１の外側の領域には、データ線駆動回路１０３及び実装端子１０４がＴＦＴアレイ基板２０の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路１０５が、この一辺に隣接する二辺に沿って設けられている。更に、ＴＦＴアレイ基板２０の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路１０５間をつなぐための複数の配線１０６が設けられている。また、シール材１０１の四隅には、ＴＦＴアレイ基板２０と対向基板１０８との間で電気的導通をとるための導通材からなる銀点１０７が設けられている。そして、図１３に示すように、図１２に示したシール材１０１とほぼ同じ輪郭を持つ対向基板１０８が該シール材１０１を介してＴＦＴアレイ基板２０に固着されている。
【００６２】
データ線駆動回路１０３及び走査線駆動回路１０５は、配線を介してソース電極としてのデータ線及びゲート電極としての走査線（共に図示せず。）にそれぞれ電気的に接続されている。データ線駆動回路１０３には、制御回路（図示せず。）から即時表示可能な形式に変換された画像信号が入力され、走査線駆動回路１０５がパルス的に走査線に順番にゲート電圧を送るのに合わせて、データ線駆動回路１０３は画像信号に応じた信号電圧をデータ線（ソース電極）に送る。この実施の形態では特に、ＴＦＴ１１１はｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）タイプのＴＦＴであるので、ＴＦＴ１１１の形成時に同一工程で、データ線駆動回路１０３及び走査線駆動回路１０５を形成することも可能であり、製造上有利である。
【００６３】
図１４を参照して、上記ＴＦＴ液晶パネルの組立工程の一例を簡単に説明すると、ＴＦＴアレイ基板（素子基板）２０及び対向基板１０８を受入れ洗浄した後、両基板２０，１０６の表面にポリイミド、ポリビニルアルコール等の配向膜をそれぞれ形成し、次いで、この配向膜の表面にレーヨン或いはナイロン等のクロス材２２を用いてラビングを施した後、洗浄する。次いで、ＴＦＴアレイ基板２０側に上述したシール材１０１をスクリーン印刷等で形成するとともに、導通材である銀点１０７を塗布する。
【００６４】
次に、両基板２０，１０８をシール材１０１を介して貼り合わせ、セルギャップ等のアライメントを行った後、ある程度の圧力を加えて両基板２０，１０８を圧着させる。次いで、シール材１０１が光硬化性を備えている場合には、光を照射して硬化させ、かかる硬化後に両基板２０，１０８間に液晶１１２を注入し、注入完了後、注入口を封止材１１０によって封止する。次いで、洗浄を施した後、所定の検査をし、合格したものが実装に供される。
【００６５】
ここで、この実施の形態では、上述した両基板２０，１０８に対するラビング処理を次のようにして行っている。なお、以下に示す第１〜第９の実施形態ではＴＦＴアレイ基板２０（以下、単に基板２０という。）のみを例に採って説明するが、これに限られるものではない。また、各実施形態については、基板２０の表面を擦るためのラビング処理部材として、従来例と同様に基板２０に対して回転するラビングローラ２１を例にとり、更に、従来例（図１５）と重複する部分には同一符号を付してその説明を省略する。
【００６６】
（第１実施形態）
図１は本発明に係るラビング方法及びラビング装置の第１実施形態を説明するための概略説明図である。
【００６７】
基板２０とラビングローラ２１との接触部分から配向膜の一部若しくはクロス材（ラビング布）２２の毛（パーティクル）等が粉塵として発生する。この粉塵は、上述のような基板２０の搬送方向及びラビングローラ２１の回転方向を採用した場合、基板２０とラビングローラ２１との接触部分に対して図示左側に多く発生する。
【００６８】
この実施形態では、上記接触部分の左側上方に吸引口２３ａを配置した吸引部材２３を設け、吸引口２３ａから上記接触部分で発生した粉塵を吸引して系外に排出するものである。吸引部材２３としては、図示しない吸引ファン等によって強制的に空気を吸引するものでよいが、排気口をクリーンルーム内に設ける場合には高密度フィルタ等を備える必要があるため、排気口は室外に設けることが好ましい。ここで、吸引口２３ａはラビングローラ２１の軸線方向に延長された形状を備えており、基板２０とラビングローラ２１との接触部分に対し、ほぼ平行に配置された開口位置を備えている。
【００６９】
この実施形態では、吸引口２３ａから空気を吸入することによって、ラビングローラ２１によって巻き上げられた粉塵が吸引され、排出されるので、周囲環境に粉塵が撒き散らされるのを防止することができるとともに、粉塵がクロス材２２や基板２０の表面上に堆積して悪影響を及ぼすことを防止できる。また、一旦基板２０及びクロス材２２の表面に付着した粉塵も、吸引口２３ａが基板２０の表面及びクロス材２２の表面に対向して設けられているため、吸引力によってある程度引き離され、吸引される。
【００７０】
（第２実施形態）
図２は本発明に係る第２実施形態を説明するための概略説明図である。
【００７１】
この実施形態においては、上記第１実施形態と同様に吸引部材２４の先端部に吸引口２４ａが形成され、吸引口２４ａから粉塵を吸引するようになっているが、吸引部材２４の先端寄りに、少なくとも図２に示す縦断面上において絞られた形状として形成された先端部２４ｂが設けられ、その最先端に吸引口２４ａが形成されている点で異なる。
【００７２】
この実施形態では、吸引部材２４の先端部２４ｂが絞られた形状となっているため、基板２０とラビングローラ２１との接触部分（すなわち粉塵の発生部）により近い部分に吸引口２４ａを配置することができるとともに、絞り込んだ先に吸引口２４ａを形成しているので、吸引力を高めることができ、より確実に粉塵を吸引でき、かつ、より強力に粉塵を基板２０及びクロス材２２の表面から離反させることができる。
【００７３】
ここで、吸引部材２４は上記第１実施形態と同様の吸引ファン等に接続されていてもよいが、特に、真空ポンプ等に接続された排気系に接続することによって強力な吸引力を発揮することができる。
【００７４】
この実施形態では、吸引口２４ａは、ラビングローラ２１の表面よりも基板２０の表面に向けて開口しており、基板２０の表面上に堆積した粉塵をより確実に吸引できるようになっている。
【００７５】
（第３実施形態）
図３は本発明に係る第３実施形態の構造を示す概略斜視図である。
【００７６】
この実施形態においては、上記第２実施形態とほぼ同様の吸引部材２５を備えている。吸引部材の先端寄りには絞られた形状の先端部２５ｂが形成され、この先端部２５ｂの最先端に開口した吸引口２５ａが形成されている。なお、吸引部材２５の上端に設けられた接続管２５ｃは、図示しない排気系に接続されるようになっている。
【００７７】
この実施形態では、先端部２５ｂの先端に形成された吸引口２５ａはややラビングローラ２１の周面側に向けて開口しており、基板２０とクロス材２２との接触部分において発生した粉塵を吸引するとともに、主としてクロス材２２の表面に付着した粉塵を吸引するように構成されている。
【００７８】
（第４実施形態）
図４に示すものは本発明に係る第４実施形態である。
【００７９】
この実施形態においては、吸引部材２６がラビングローラ２１の軸線方向に並列した複数の分割吸引部２６ｄに分割されている。各分割吸引部２６ｄの先端寄りには、第２及び第３実施形態と同様に絞られた形状の先端部２６ｂが形成され、その最先端に開口部を持つ吸引口２６ａがそれぞれ形成されている。接続管２６ｃは図示しない排気系に接続されるためのものである。
【００８０】
この実施形態では、吸引口２６ａを分割することによって、全体としても吸引口２６ａの開口面積を低減し、各吸引口２６ａにおける吸引力を高めるようにしている。この結果、単に大気中に巻き上げられた粉塵のみではなく、基板２０の表面やクロス材２２の表面に付着した粉塵をも離反させ、吸引除去する能力を高めることができる。
【００８１】
（第５実施形態）
図５は本発明に係る第５実施形態の全体構造を示す概略斜視図である。
【００８２】
この実施形態においては、ラビングローラ２１の周面をほぼ全面的に包囲するように、一部切り欠き部を備えた円筒形状に形成された吸引部材２７が設けられている。この吸引部材２７には、基板２０とラビングローラ２１との接触部分に対して基板２０の移動方向の前側及び後側に位置する吸引口２７ａ，２７ｂと、ラビングローラ２１の周面に貼着されたクロス材２２に対向する吸引口２７ｃとが設けられている。
【００８３】
ここで、ラビングローラ２１の周面に対向する吸引口２７ｃは、ラビングローラ２１の周面に対向する面全体が開口した構造となっていてもよく、或いは細かい吸引口を多数分散配置させた構造となっていてもよい。なお、接続管２７ｄは図示しない排気系への接続部を構成するものである。この実施形態によれば、基板２０とラビングローラ２１の接触部分の前後に加えて、ラビングローラ２１の周面のほぼ全体から吸引を行うようになっているため、粉塵を確実に捕捉することができ、特にクロス材２２から粉塵を効果的に除去することができる。また、この実施形態では、吸引部材２７がラビングローラ２１を包囲するように配置されているため、吸引部材がラビングローラ２１から離れて突出することもないから、装置全体を小型化することができる。
【００８４】
（第６実施形態）
図６は本発明に係る第６実施形態の全体構成を示す概略斜視図、図７はこの実施形態の吸引口近傍を示す拡大断面図である。
【００８５】
この実施形態では、基板２０とラビングローラ２１との接触部分の一側に、吸引部材２８の吸引口２８ａを配置し、その吸引口２８ａの近傍に、ラビングローラ２１の周面に対してエアを吹き付けるための吹付部材２９の吹付口２９ａを配置している。
【００８６】
吸引口２８ａは、上記各実施形態と同様に先端側がやや絞られた吸引部材２８の先端に形成され、上記接触部分から発生する粉塵を吸引するとともに、ラビングローラ２１の周面のクロス材２２に付着した粉塵をも吸引できるように構成されている。
【００８７】
吹付部材２９の内部には、簡略化して示すイオン化電極２９ｂ，２９ｃが設置されており、このイオン化電極２９ｂと２９ｃとの間に高周波電圧を印加することによって、図示しないエアコンプレッサ等からなる給気装置から送られるエアをイオン化するようになっている。イオン化されたエアは吹付口２９ａからクロス材２２の表面へと吹き付けられ、付着している粉塵をクロス材２２から離反させる。クロス材２２から離反された粉塵は、上記吸引口２８ａから吸引され、排出される。
【００８８】
上記吸引部材２８及び吹付部材２９の両側（ラビングローラ２１の回転方向の前後両側）には、気流制御板３１，３２がそれぞれ配置されている。これらの気流制御板３１，３２は、吹付部材２９から吹き付けられたエアを周囲に広げることなく、効率的に吸引口２８ａから排出されるようにするためのものである。これらの気流制御板３１，３２によって、吸引部材２８に吸込まれない粉塵が周囲に撒き散らされることを防止できる。
【００８９】
上記吹付部材２９にはイオン化電極を設け、エアをイオン化して吹き付けるようにすることによって、粉塵の離反を促進させている。しかし、エアのイオン化手段を設けなくても、吹付力によってある程度の粉塵を離反させることは可能である。
【００９０】
吹付手段において吹き付けるものとしては、エアに限らず、不活性ガスや純水等の、被処理物に影響を与えないものでありさえすれば、種々の他の流体を用いることができる。
【００９１】
上記吹付手段及び吸引手段は、粉塵の発生部である、基板２０とラビングローラ２１との接触部分に対して設けることが最も効果的であるが、ラビングローラ２１の表面に対しても、さらにはラビング処理後の基板表面に対しても作用するように、一体に、或いは、それぞれ適用部位毎に別体のものとして設けることが好ましい。
【００９２】
なお、上記各実施形態においては、ラビングローラ２１に貼着されたクロス材２２によって基板２０の表面を擦るラビング処理に対して説明を行ってきたが、、その他の種々のラビング処理部材によって擦る方法により行うラビング方法及び装置に広く適用できるのは勿論である。
【００９３】
（第７実施形態）
図８は本発明に係る第７実施形態を説明するための概略説明図、図９は図８を部分的に拡大した概略断面図である。
【００９４】
この実施形態では、基板２０とラビングローラ２１との接触部分の図示右側上方に吸引口５０ａを配置した吸引ノズル５０を設け、吸引口５０ａからラビングローラ２１のクロス材２２に付着した粉塵を吸引して系外に排出するものである。吸引ノズル５０としては、例えば、図示しない真空ポンプ等によって強制的に空気を真空吸引するものでよいが、排気口をクリーンルーム内に設ける場合には高密度フィルタ等を備える必要があるため、排気口は室外に設けることが好ましい。
【００９５】
吸引口５０ａはラビングローラ２１の軸線方向に沿って延在され、且つ、基板２０とラビングローラ２１との接触部分に対してほぼ平行に配置されたスリット状の開口を備える。また、吸引口５０ａの周縁部には、石英又はガラス等の非導電材層５１がコーティングされている。
【００９６】
吸引ノズル５０はラビングローラ２１の外周部に向けて接近離間移動可能に配置されており、図示しない駆動手段によってラビングローラ２１の外周部に対しての接近離間移動がなされる。具体的には、基板２０の表面をラビングローラ２１によって擦っているときには、駆動手段が吸引ノズル５０をラビングローラ２１の外周部に接近移動させ、擦っていないときには吸引ノズル５０をラビングローラ２１の外周部から離間移動させる。
【００９７】
ここで、吸引ノズル５０がラビングローラ２１に接近移動する際には、該吸引ノズル５０の吸引口５０ａの周縁部（非導電材層５１）がラビングローラ２１のクロス材２２の毛足部２２ａに接触する位置で吸引ノズル５０の移動が停止される。この場合、図９に示すように、毛足部２２ａに接触する吸引口５０ａ周縁部の位置が、クロス材２２の毛足部２２ａの長さをＬとした場合に該毛足部２２ａの先端部からＬ／２までの範囲内で吸引ノズル５０の移動が停止されるようにするのが好ましい。
【００９８】
この実施形態では、ラビング時においては吸引ノズル５０の吸引口５０ａの周縁部がラビングローラ２１の外周部のクロス材２２の毛足部２２ａに接触して配置されているため、クロス材２２に付着した粉塵が、該クロス材２２が基板２０に接触する前に強力な吸引力で吸引除去される。この結果、クロス材２２が基板２０に接触する前において該クロス材２２は常にクリーンな状態とされ、この状態で基板２０を擦ることが可能になって、基板２０への粉塵の付着が良好に防止される。
【００９９】
また、毛足部２２ａの先端部から該毛足部２２ａの長さＬの１／２までの範囲内に吸引ノズル５０の吸引口５０ａの周縁部を位置させることにより、吸引口５０ａの周縁部のクロス材２２の地肌への不用意な接触が回避されるため、吸引口５０ａの周縁部の毛足部２２ａへの接触を確保して強力な吸引力を維持する一方において、クロス材２２の地肌が吸引口５０ａの周縁部によって削り取られて基板２０上に落下するのを確実に防止することができる。
【０１００】
更に、基板２０の表面がラビングローラ２１によって擦られていないときは、吸引ノズル５０がラビングローラ２１の外周部から離間配置されて該吸引ノズル５０の吸引口５０ａの周縁部と毛足部２２ａとの接触がなくなるため、該周縁部と毛足部２２ａとの接触（摩擦）による熱影響及び該接触によるラビングローラ２１の劣化を軽減することができ、この結果、ラビングローラ２１の寿命向上を図ることができる。
【０１０１】
更に、吸引口５０ａの周縁部には非導電材層５１が配置されているため、吸引口５０ａの周縁部と毛足部２２ａとが長期間に渡って接触して万が一に該周縁部が削れた場合に、落下した削り屑が基板２０の表面に付着した状態で液晶が封入されて製品化されたとしても、該削り屑が非導電材であるため製品使用時のショートを確実に防止することができる。この場合、非導電材層５１を石英又はガラスで構成することにより、吸引口５０ａの周縁部の耐久性の向上を図るとができるとともに、該周縁部に容易に鏡面部を形成することができる。
【０１０２】
なお、この実施の形態では、吸引ノズル５０を基板２０とラビングローラ２１との接触部分の図示右側上方に配置して吸引口５０ａをクロス材２２の毛足部２２ａに接触させているが、これに限定されず、吸引ノズル５０を基板２０とラビングローラ２１との接触部分の図示左側上方或いは図示中央部上方に配置して吸引口５０ａをクロス材２２の毛足部２２ａに接触させるようにしてもよい。
【０１０３】
（第８実施形態）
図１０は本発明に係る第８実施形態を説明するための概略説明図である。
【０１０４】
この実施形態は、第７実施形態の吸引ノズル５０の吸引口５０ａに櫛部６０を配置した点の除いてその構成が第７実施形態と同一であるため、第７実施形態と重複する部分については同一符号を付してその説明を省略し、相違点を説明する。
【０１０５】
吸引ノズル５０の吸引口５０ａにはクロス材２２の毛足部２２ａに接触する櫛部６０が取り付けられており、該櫛部６０は吸引口５０ａと同様にラビングローラ２１の軸線方向に沿って延在されるとともに、基板２０とラビングローラ２１との接触部分に対してほぼ平行に配置され、且つ、先端部が吸引口５０ａの周縁部と略面一とされている。
【０１０６】
この実施の形態では、ラビング時において、吸引口５０ａに設けられた櫛部６０によって毛足部２２ａの毛並みが揃えられるとともに、該櫛部６０が毛足部２２ａに付着した粉塵をたたき出すため吸引口５０ａからの粉塵の吸引効果を高めることができる。なお、その他の作用効果は上述した第７実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１０７】
（第９実施形態）
図１１は本発明に係る第９実施形態を説明するための概略説明図である。
【０１０８】
この実施形態は、第１実施形態（図１参照）の吸引部材２３を基板２０とラビングローラ２１との接触部分の図示左側（粉塵が多く発生する側）上方に配置するとともに、第７実施形態（図８及び図９参照）の吸引ノズル５０を該接触部分の図示右側上方に配置したものである。なお、吸引部材２３及び吸引ノズル５０はそれぞれ第１実施形態及び第７実施形態で説明済であるため、重複する部分に同一符号を付してその説明を省略する。
【０１０９】
この実施形態では、ラビング時において、ラビングローラ２１によって巻き上げられた粉塵が吸引部材２３の吸引口２３ａから吸引されて排出されるので、周囲環境に粉塵が撒き散らされるのを防止することができるとともに、粉塵がクロス材２２や基板２０の表面上に堆積して悪影響を及ぼすことを防止でき、更に、一旦基板２０及びクロス材２２の表面に付着した粉塵も、吸引口２３ａが基板２０の表面及びクロス材２２の表面に対向して設けられていることにより、吸引力によってある程度引き離されて吸引され、しかも、吸引ノズル５０によってクロス材２２に付着した粉塵が、該クロス材２２が基板２０に接触する前に強力な吸引力で吸引除去されるので、ラビングローラ２１の外周部を常にクリーンな状態にして基板２０を擦ることが可能になって基板２０への粉塵の付着を防止することができる。この結果、ＴＦＴの品質を更に高めることができるとともに、製造工程におけるクリーン度の管理についても、従来必要であったラビング工程及洗浄工程とその他の製造工程との環境仕切りを不要にすることが可能になった。なお、その他の作用効果については、第７実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１１０】
以上説明したように本発明によれば以下の効果を奏する。
【０１１１】
本発明では、基板表面をラビング処理部材で擦った際に発生する粉塵を吸引するようにしているので、粉塵が基板表面に堆積したり、ラビング処理部材に付着したりすることが抑制され、液晶電気光学素子の表示品位を高めることができるという効果が得られる。
【０１１２】
本発明では、上記本発明に加えて、粉塵の吸引を該粉塵の発生部において行うようにしたので、粉塵が周囲環境に撒き散らされることがなく、製造工程におけるクリーン度の管理を容易に行うことができるという効果が得られる。
【０１１３】
本発明では、上記本発明に加えて、簡易な構造のラビングローラによってラビング処理を行うことができるとともに、基板とラビングローラとの接触部はラビングローラに対して常時一定の位置にあるので、吸引部材の配置を容易に行うことができるという効果が得られる。
【０１１４】
本発明では、上記本発明に加えて、吸引部材は先端に向かって絞られた形状に形成されているので、基板とラビングローラとの接触部により近い位置に吸引口を配置することができるとともに、吸引口が絞られた先端に形成されていることによって吸引力を高めることができるという効果が得られる。
【０１１５】
本発明では、上記本発明に加えて、分割された吸引経路の先端部にそれぞれ吸引口を設けているため、吸引口における吸引力を高めることができるとともに、ラビングローラの軸線方向に亘って確実に粉塵を吸引することができるという効果が得られる。
【０１１６】
本発明では、上記本発明に加えて、ラビングローラに付着している粉塵の除去をより確実に行うことができるとともに、吸引部材がラビングローラを包囲するように形成されていることによって装置の小型化を図ることができるという効果が得られる。
【０１１７】
本発明では、上記本発明に加えて、吹付手段によってラビング処理部材又は基板に流体を吹付けて粉塵を離反させた後に、吸引部材の吸引口から粉塵を吸引することができるので、ラビング処理部材又は基板に付着している粉塵をより確実に除去することができるという効果が得られる。
【０１１８】
本発明では、上記本発明に加えて、吸引ノズルの吸引口の周縁部がラビングローラの毛足部に接触しているので、ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外周部が基板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去することができ、この結果、常にクリーンな状態のラビングローラの外周部で基板を擦ることが可能になって、基板への粉塵の付着を防止することができるという効果が得られる。
【０１１９】
本発明では、上記本発明に加えて、ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外周部が基板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去することができるので、常にクリーンな状態のラビングローラの外周部で基板を擦ることが可能になって、基板への粉塵の付着を防止することができるとともに、吸引部材の吸引口からも基板とラビング処理部材との接触部で発生した粉塵が吸引除去されるので、周囲環境に粉塵が撒き散らされるのを防止することができ、この結果、液晶電気光学素子の表示品位を更に高めることができるとともに、製造工程におけるクリーン度の管理についても更に容易にすることができるという効果が得られる。
【０１２０】
本発明では、上記本発明に加えて、基板の表面がラビングローラによって擦られていないときは、吸引ノズルがラビングローラの外周部から離間配置されて該吸引ノズルの吸引口の周縁部とラビングローラの毛足部との接触がなくなるため、該周縁部と毛足部との接触による熱影響及び該接触によるラビングローラの劣化を軽減することができるという効果が得られる。
【０１２１】
本発明では、上記本発明に加えて、吸引ノズルの吸引口の周縁部のラビングローラの毛足部への接触を確保しつつ、該吸引口の周縁部のラビングローラの地肌への接触を確実に回避して該地肌が吸引口の周縁部によって削り取られないようにすることができるという効果が得られる。
【０１２２】
本発明では、上記本発明に加えて、櫛部によってラビングローラの毛足部の毛並みを揃えつつ、該毛足部に付着した粉塵をたたき出して吸引口からの粉塵の吸引効果を高めることができるという効果が得られる。
【０１２３】
本発明では、上記本発明に加えて、吸引ノズルの吸引口の周縁部とラビングローラの毛足部とが長期間に渡って接触することによって万が一に該周縁部が削れた場合に、落下した削り屑が基板表面に付着した状態で液晶が封入されて製品化されたとしても、該削り屑が非導電材であるため製品使用時のショートを確実に防止することができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の説明を行うための概略断面図である。
【図２】本発明に係る第２実施形態の説明を行うための概略断面図である。
【図３】本発明に係る第３実施形態の説明を行うための概略斜視図である。
【図４】本発明に係る第４実施形態の説明を行うための概略斜視図である。
【図５】本発明に係る第５実施形態の説明を行うための概略斜視図である。
【図６】本発明に係る第６実施形態の説明を行うための概略斜視図である。
【図７】第６実施形態の構造を示す拡大断面図である。
【図８】本発明に係る第７実施形態の説明を行うための概略断面図である。
【図９】ラビングローラの外周部を部分的に拡大した概略断面図である。
【図１０】本発明に係る第８実施形態の説明を行うための概略断面図である。
【図１１】本発明に係る第９実施形態の説明を行うための概略断面図である。
【図１２】ＴＦＴの概略透視平面図である。
【図１３】図１２のＨ−Ｈ′線断面図である。
【図１４】液晶表示装置の組み立て工程を説明するためのフローチャート図である。
【図１５】従来のラビング処理の状況を説明するための概略断面図である。
【符号の説明】
１１ 搬送ローラ
２０ 基板
２１ ラビングローラ
２２ クロス材
２２ａ 毛足部
２３，２４，２５，２６，２７，２８ 吸引部材
２３ａ，２４ａ，２５ａ，２６ａ，２７ａ，２８ａ 吸引口
２９ 吹付部材
２９ａ 吹付口
２９ｂ，２９ｃ イオン化電極
５０ 吸引ノズル
５０ａ 吸引口
５１ 非導電材
６０ 櫛部
Ｌ 毛足部の長さ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate rubbing method, a liquid crystal electro-optical element manufacturing method, and a substrate rubbing apparatus, and more particularly, to a method and apparatus for performing a rubbing process on a surface of a substrate for forming a liquid crystal electro-optical element.
[0002]
[Prior art]
Liquid crystal electro-optical elements are actively used in various application fields such as liquid crystal display devices. In many cases, liquid crystal is sandwiched between two substrates, and the optical state of the liquid crystal is electrically changed. It has a structure to control to. Here, the surface of the substrate may be subjected to a rubbing process for controlling so that liquid crystal molecules are aligned in a predetermined direction and exhibit directivity when in contact with the liquid crystal.
[0003]
The rubbing treatment is usually performed by forming an alignment film such as polyimide or polyvinyl alcohol on a substrate and rubbing the surface of the alignment film with a cloth or the like in a predetermined direction. On the surface of the rubbed alignment film, a large number of fine scratches are formed so as to extend in a predetermined direction, and the liquid crystal molecules are aligned in the extending direction of the scratches.
[0004]
FIG. 15 is a schematic view of an apparatus for performing the rubbing process. As shown in this figure, the rubbing apparatus is provided with an introduction surface 10 for introducing a substrate in advance, and a plurality of transport rollers 11 are arranged in parallel along the introduction surface 10. The transport rollers 11 are rotationally driven so as to transport the substrate 20 to the right side in the drawing by driving means (not shown).
[0005]
A rubbing roller 21 is pivotally supported above the introduction surface 10, and the rubbing roller 21 is rotated clockwise by a driving means (not shown). On the peripheral surface of the rubbing roller 21, a cloth material 22 is attached. The cloth material 22 is woven with fibers such as nylon and rayon, and a large number of minute hair feet are densely formed on the surface.
[0006]
In the rubbing treatment, a substrate 20 made of a glass substrate or the like having an alignment film formed on the surface thereof is conveyed from the left side to the right side by the conveyance roller 11 and the alignment film is formed by the cloth material 22 adhered on the peripheral surface of the rubbing roller 21. Is done by rubbing. The rubbing roller 21 rubs the surface of the substrate 20 while being pressed against the substrate 20 by a pressure applying mechanism (not shown) with a predetermined pressure.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, when the rubbing treatment is performed as described above, the alignment film is scraped from the surface of the substrate 20 by rubbing with the cloth material 22 to generate fine dust, and from the surface of the cloth material 22 the cloth material Fine dust such as particles due to the shaving of 22 is generated, and these dusts adhere to the surface of the cloth material 22 and also to the surface of the substrate 20. Since the adhesion of dust to the cloth material 22 affects the rubbing state in the subsequent rubbing process, and the adhesion of dust to the substrate 20 affects the surface state of the substrate 20, both have a display quality such as a liquid crystal display device. It causes deterioration.
[0008]
The dust attached to the substrate 20 is removed in a cleaning step after the rubbing step. However, it is difficult to completely remove the dust by the cleaning, and the rubbing state is caused by the adhesion of the dust to the cloth material 22. If an effect occurs, it cannot be recovered by washing.
[0009]
In addition, in general, the manufacturing process of a liquid crystal display device requires a very precise control of cleanliness. In the rubbing process, dust is dispersed in and around the rubbing device. Therefore, there is a problem that the rubbing process and the cleaning process must be performed in a special environment separated from the other manufacturing processes so that the manufacturing process is not affected by the decrease in cleanness.
[0010]
The present invention has been made to solve such a problem, and prevents various influences caused by dust generated by rubbing treatment and can easily manufacture a high-quality liquid crystal electro-optical element. An object is to provide a rubbing method and apparatus.
[0011]
In order to achieve such an object, the substrate rubbing method according to the present invention includes a substrate rubbing method in which a substrate used in a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing roller that rotates with respect to the substrate. Each of the tip end portions has a suction path that is divided into a plurality of portions in the axial direction of the roller and has a narrowed tip portion, and has a suction opening that opens toward the contact portion between the substrate and the rubbing roller. The method includes a step of performing a rubbing process while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing roller using a suction unit including a suction member.
[0012]
The substrate rubbing method according to the present invention is a substrate rubbing method in which a substrate used for a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and is formed so as to surround the rubbing roller. And using a suction means comprising a suction member having a first suction port that opens toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller, and a second suction port that faces a peripheral surface portion of the rubbing roller. And rubbing treatment while sucking dust generated from at least one of the rubbing rollers.
[0013]
The substrate rubbing method according to the present invention is a substrate rubbing method in which a substrate used in a liquid crystal electro-optical element is rubbed with a rubbing treatment member, and suction that opens toward a contact portion between the substrate and the rubbing treatment member. A step of performing a rubbing process while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing processing member using a suction means having a suction member having a mouth, and in the step of performing the rubbing process, It is preferable that a fluid is sprayed on the rubbing member or the substrate from a spraying means in which a spraying position is set in the vicinity of the suction port.
[0014]
The substrate rubbing method according to the present invention is a substrate rubbing method in which a substrate used for a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing roller that rotates with respect to the substrate. Using a suction means provided with a suction nozzle that is arranged so as to contact the hair foot portion and at least a portion that contacts the hair foot portion of the rubbing roller of the peripheral portion of the suction port is formed of a non-conductive material, It is preferable to include a step of performing a rubbing process while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing roller.
[0015]
The substrate rubbing method according to the present invention is a substrate rubbing method in which a substrate used in a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing roller that rotates with respect to the substrate. From at least one of the substrate and the rubbing roller, using a suction means including a suction nozzle that is brought into contact with the bristle portion and the peripheral edge of the suction port is not brought into contact with the background of the rubbing roller. It is preferable to include a step of performing a rubbing process while sucking the generated dust.
[0016]
The substrate rubbing method according to the present invention is the above-described substrate rubbing method according to the present invention, wherein, in the rubbing process, the suction means opens toward the contact portion between the substrate and the rubbing roller. A suction member having a mouth is further provided, and it is preferable to perform a rubbing process using the suction means while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing roller.
[0017]
The substrate rubbing method according to the present invention is the substrate rubbing method according to the present invention, wherein the suction nozzle is disposed so as to be movable toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller, and further on the surface of the substrate. Drive means for moving the suction nozzle closer to the outer peripheral portion of the rubbing roller when rubbing by the rubbing processing member and moving the suction nozzle away from the outer peripheral portion of the rubbing roller when not rubbing. preferable.
[0018]
The substrate rubbing method according to the present invention is the above-described substrate rubbing method according to the present invention, wherein in the step of performing the rubbing treatment, the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle is formed from the tip of the hair foot portion to the hair foot. It is preferable that the hair is in contact with the bristle portion within a range of up to ½ of the length of the portion.
[0019]
The substrate rubbing method according to the present invention is the above-described substrate rubbing method according to the present invention, wherein in the step of performing the rubbing process, the suction nozzle has a comb portion in contact with the bristle portion of the rubbing roller at the suction port. Is preferably provided.
[0020]
The method for producing a liquid crystal electro-optical element according to the present invention is characterized in that the alignment film is subjected to a rubbing treatment by the above-described substrate rubbing method of the present invention.
[0021]
A substrate rubbing apparatus according to the present invention rotates with respect to a substrate used for a liquid crystal electro-optic element, and a rubbing roller for rubbing the substrate, and relatively moving the substrate and the rubbing roller to move the substrate. Drive means that drives the rubbing roller to rub, and a suction port that opens toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller, and generates dust generated from at least one of the substrate and the rubbing processing member. A suction means for sucking, and the suction means includes a suction path that is divided into a plurality of portions in the axial direction of the rubbing roller and has a narrowed tip portion, and the suction ports are formed at the tip portions, respectively. It is characterized by being.
[0022]
A substrate rubbing apparatus according to the present invention rotates with respect to a substrate used for a liquid crystal electro-optic element, and a rubbing roller for rubbing the substrate, and relatively moving the substrate and the rubbing roller to move the substrate. A driving unit that drives the rubbing roller to rub; and a suction unit that sucks dust generated from at least one of the substrate and the rubbing processing member. The suction unit surrounds the rubbing roller. It is preferable that a first suction port formed toward the contact portion between the substrate and the rubbing roller and a second suction port facing the peripheral surface portion of the rubbing roller are provided.
[0023]
The substrate rubbing apparatus according to the present invention rubs the substrate with the rubbing processing member by relatively operating the rubbing processing member for rubbing the substrate used for the liquid crystal electro-optical element, and the substrate and the rubbing processing member. Driving means for driving in such a manner, and suction means for suctioning dust generated from at least one of the substrate and the rubbing member, having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller. In the substrate rubbing apparatus, the spraying means for spraying a fluid to the rubbing processing member or the substrate is provided, and the spraying position of the spraying means is set in the vicinity of the suction port.
[0024]
A substrate rubbing apparatus according to the present invention rotates with respect to a substrate used for a liquid crystal electro-optic element, and a rubbing roller for rubbing the substrate, and relatively moving the substrate and the rubbing roller to move the substrate. Drive means for driving the rubbing roller to rub, and suction means for sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing roller, the suction means having a suction nozzle, and the suction nozzle It is preferable that at least a portion of the peripheral edge portion of the suction port that is in contact with the bristle portion of the rubbing roller is formed of a non-conductive material.
[0025]
A substrate rubbing apparatus according to the present invention rotates with respect to a substrate used for a liquid crystal electro-optic element, and a rubbing roller for rubbing the substrate, and relatively moving the substrate and the rubbing roller to move the substrate. Drive means for driving the rubbing roller to rub, and suction means for sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing roller, the suction means having a suction nozzle, and the suction nozzle When rubbing the substrate with the rubbing roller, the peripheral portion of the suction port is brought into contact with the bristle portion of the rubbing roller, and the peripheral portion of the suction port is not brought into contact with the background of the rubbing roller. Preferably they are arranged.
[0026]
The substrate rubbing apparatus according to the present invention is the above-described rubbing apparatus according to the present invention, wherein the suction means further includes a suction member having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing treatment member. Is preferred.
[0027]
The substrate rubbing apparatus according to the present invention is the rubbing apparatus according to the present invention, wherein the suction nozzle is disposed so as to be movable toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller, and the surface of the substrate is further rubbed with the rubbing treatment member. It is preferable that drive means is provided for moving the suction nozzle closer to the outer peripheral portion of the rubbing roller when rubbing due to, and moving the suction nozzle away from the outer peripheral portion of the rubbing roller when not rubbing.
[0028]
The substrate rubbing apparatus according to the present invention is the rubbing apparatus of the present invention described above, wherein the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle is in a range from the tip of the hair foot portion to ½ of the length of the hair foot portion. It is preferable that it is in contact with the hair feet.
[0029]
The substrate rubbing apparatus according to the present invention is characterized in that, in the rubbing apparatus of the present invention described above, a comb portion that contacts the bristle portion of the rubbing roller is provided at the suction port of the suction nozzle.
[0030]
As a substrate rubbing method, a substrate rubbing method in which the surface of a substrate used in a liquid crystal electro-optical element is rubbed with a rubbing treatment member while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing treatment member. A rubbing process may be performed.
[0031]
According to this means, dust generated when the substrate surface is rubbed with a rubbing treatment member is sucked, so that dust is prevented from being deposited on the substrate surface or adhering to the rubbing treatment member. The display quality of the liquid crystal electro-optical element can be improved.
[0032]
In the substrate rubbing method, the suction may be performed in the dust generation unit.
[0033]
According to this means, since the dust is sucked in the dust generating part, the dust is not scattered in the surrounding environment, and the cleanliness management in the manufacturing process is facilitated.
[0034]
As a substrate rubbing apparatus, a rubbing treatment member for rubbing the surface of a substrate used for a liquid crystal electro-optical element, and the substrate and the rubbing treatment member are operated relatively so that the surface of the substrate is moved by the rubbing treatment member. The substrate rubbing apparatus including a driving unit that drives to rub may include a suction unit that sucks dust generated from at least one of the substrate and the rubbing member.
[0035]
According to this means, similarly to the rubbing method, dust is prevented from being deposited on the substrate surface or adhering to the rubbing member, so that the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be improved.
[0036]
In the substrate rubbing apparatus, the suction unit may include a suction member having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing processing member.
[0037]
According to this means, since the contact portion between the substrate and the rubbing treatment member corresponds to the dust generation portion, the dust is not scattered in the surrounding environment as in the rubbing method, and the cleanliness management in the manufacturing process is also possible. It becomes easy.
[0038]
In the substrate rubbing apparatus, the rubbing processing member may be a rubbing roller that rotates relative to the substrate, and the suction port may open toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller.
[0039]
According to this means, the rubbing process can be performed by a rubbing roller having a simple structure, and the contact portion between the substrate and the rubbing roller is always at a fixed position with respect to the rubbing roller, so that the suction member can be easily arranged. can do.
[0040]
In the substrate rubbing apparatus, the suction member may have a shape that is squeezed toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller, and the suction port may be formed at a tip portion thereof.
[0041]
According to this means, since the suction member is formed in a shape squeezed toward the tip, the suction port can be disposed at a position closer to the contact portion between the substrate and the rubbing roller, and the suction port is squeezed. The suction force can be increased by being formed at the tip.
[0042]
In the above-described substrate rubbing apparatus, the suction member may include a plurality of suction paths divided in the axial direction of the rubbing roller, and the suction ports may be formed at the distal ends of the suction paths.
[0043]
According to this means, since the suction port is provided at the tip of each of the divided suction paths, the suction force at the suction port can be increased and the dust is reliably sucked in the axial direction of the rubbing roller. be able to.
[0044]
In the substrate rubbing apparatus, the suction member may include a suction port that is formed so as to surround the rubbing roller and faces a peripheral surface portion of the rubbing roller.
[0045]
According to this means, the dust adhering to the rubbing roller can be more reliably removed, and the suction member is formed so as to surround the rubbing roller, thereby reducing the size of the apparatus. it can.
[0046]
In the substrate rubbing apparatus, spraying means for spraying fluid onto the rubbing processing member or the substrate may be provided, and a spray position of the spraying means may be set in the vicinity of the suction port.
[0047]
According to this means, the dust can be sucked from the suction port of the suction member after the fluid is sprayed on the rubbing treatment member or the substrate by the spraying means and the dust is separated from the rubbing treatment member or the substrate. It is possible to more reliably remove dust that is present.
[0048]
In the substrate rubbing apparatus, the rubbing processing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and the suction means is in a state in which a peripheral portion of the suction port is in contact with a bristle foot portion of the rubbing roller. You may provide the suction nozzle arrange | positioned at the outer peripheral part of this rubbing roller.
[0049]
According to this means, since the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle is in contact with the bristle portion of the rubbing roller, the dust adhering to the outer peripheral portion of the rubbing roller is powerful before the outer peripheral portion contacts the substrate. As a result, the substrate can be rubbed while the outer peripheral portion of the rubbing roller is always clean, and dust can be prevented from adhering to the substrate.
[0050]
In the substrate rubbing apparatus, the rubbing processing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and the suction means is in a state in which a peripheral portion of the suction port is in contact with a bristle foot portion of the rubbing roller. You may provide the suction nozzle which has the suction opening opened toward the contact part of the said board | substrate and the said rubbing process member, and the suction nozzle arrange | positioned at the outer peripheral part of this rubbing roller.
[0051]
According to this means, as with the rubbing device, dust attached to the outer periphery of the rubbing roller can be sucked and removed with a strong suction force before the outer periphery contacts the substrate. It is possible to rub the substrate with a clean part at all times, preventing dust from adhering to the substrate, and also from the suction port of the suction member at the contact part between the substrate and the rubbing treatment member Since the collected dust is sucked and removed, it is possible to prevent the dust from being scattered in the surrounding environment and to suppress the dust from being deposited on the substrate surface or adhering to the rubbing treatment member. As a result, the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be further improved, and the management of the degree of cleanliness in the manufacturing process can be further facilitated.
[0052]
In the substrate rubbing apparatus, the suction nozzle is disposed so as to be movable toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller, and the suction nozzle is moved when the surface of the substrate is rubbed by the rubbing treatment member. Drive means for moving the suction nozzle closer to the outer periphery of the rubbing roller and moving the suction nozzle away from the outer periphery of the rubbing roller when not rubbing may be provided.
[0053]
According to this means, when the surface of the substrate is not rubbed by the rubbing roller, the suction nozzle is spaced apart from the outer peripheral portion of the rubbing roller, and the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle and the bristle portion of the rubbing roller Therefore, it is possible to reduce the thermal effect due to the contact between the peripheral edge portion and the bristle foot portion and the deterioration of the rubbing roller due to the contact.
[0054]
In the substrate rubbing apparatus, the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle may be in contact with the hair foot in a range from the tip of the hair foot to 1/2 of the length of the hair foot. Good.
[0055]
According to this means, while ensuring the contact of the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle to the bristle portion of the rubbing roller, the contact of the peripheral portion of the suction port to the background of the rubbing roller is surely avoided. The background can be prevented from being scraped off by the peripheral edge of the suction port.
[0056]
In the above-described substrate rubbing apparatus, a comb portion that contacts the bristle portion of the rubbing roller may be provided in the suction port of the suction nozzle.
[0057]
According to this means, it is possible to increase the dust suction effect from the suction port by knocking out dust adhering to the bristles while aligning the bristles of the rubbing roller with the comb.
[0058]
In the substrate rubbing apparatus, the suction nozzle may be formed of a non-conductive material at least at a portion of the peripheral edge of the suction port that contacts the bristles of the rubbing roller.
[0059]
According to this means, when the peripheral edge portion of the suction nozzle and the bristle foot portion of the rubbing roller are in contact with each other over a long period of time and the peripheral edge is shaved, the fallen shavings are removed from the substrate surface. Even if the liquid crystal is sealed and commercialized in a state of adhering to the surface, the shavings are non-conductive material, so that a short circuit during product use can be prevented.
[0060]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[0061]
First, a TFT liquid crystal panel will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 12, a sealing material 101 is provided on the TFT array substrate 20 along its edge, and in parallel with the inner side, for example, a light shielding property made of the same or different material as the black matrix 109. The peripheral parting 102 is provided. A data line driving circuit 103 and a mounting terminal 104 are provided along one side of the TFT array substrate 20 in a region outside the sealing material 101, and the scanning line driving circuit 105 extends along two sides adjacent to the one side. Is provided. Further, a plurality of wirings 106 are provided on the remaining side of the TFT array substrate 20 to connect between the scanning line driving circuits 105 provided on both sides of the screen display area. Further, silver points 107 made of a conductive material for providing electrical continuity between the TFT array substrate 20 and the counter substrate 108 are provided at the four corners of the sealing material 101. As shown in FIG. 13, the counter substrate 108 having substantially the same outline as the sealing material 101 shown in FIG. 12 is fixed to the TFT array substrate 20 via the sealing material 101.
[0062]
The data line driving circuit 103 and the scanning line driving circuit 105 are electrically connected to a data line as a source electrode and a scanning line as a gate electrode (both not shown) via wirings. The data line driving circuit 103 is supplied with an image signal converted into a format that can be displayed immediately from a control circuit (not shown), and the scanning line driving circuit 105 sequentially sends gate voltages to the scanning lines in a pulse manner. At the same time, the data line driving circuit 103 sends a signal voltage corresponding to the image signal to the data line (source electrode). Particularly in this embodiment, since the TFT 111 is a p-Si (polysilicon) type TFT, it is possible to form the data line driving circuit 103 and the scanning line driving circuit 105 in the same process when the TFT 111 is formed. This is advantageous in manufacturing.
[0063]
Referring to FIG. 14, an example of the assembly process of the TFT liquid crystal panel will be briefly described. After receiving and cleaning the TFT array substrate (element substrate) 20 and the counter substrate 108, polyimide, An alignment film such as polyvinyl alcohol is formed, and then the surface of the alignment film is rubbed with a cloth material 22 such as rayon or nylon and then washed. Next, the above-described sealing material 101 is formed on the TFT array substrate 20 side by screen printing or the like, and a silver spot 107 as a conductive material is applied.
[0064]
Next, the two substrates 20 and 108 are bonded together via the sealing material 101, and after alignment such as a cell gap, the substrates 20 and 108 are pressure-bonded by applying a certain pressure. Next, when the sealing material 101 has photo-curing property, it is cured by irradiating light, and after the curing, the liquid crystal 112 is injected between the substrates 20 and 108, and after the injection is completed, the injection port is sealed. Sealed with material 110. Next, after performing cleaning, a predetermined inspection is performed, and those that pass are provided for mounting.
[0065]
Here, in this embodiment, the rubbing process for both the substrates 20 and 108 is performed as follows. In the following first to ninth embodiments, only the TFT array substrate 20 (hereinafter simply referred to as the substrate 20) will be described as an example. However, the present invention is not limited to this. Further, in each embodiment, as a rubbing treatment member for rubbing the surface of the substrate 20, a rubbing roller 21 that rotates with respect to the substrate 20 is taken as an example, and further overlaps with the conventional example (FIG. 15). The same reference numerals are assigned to the parts to be described, and the description thereof is omitted.
[0066]
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic explanatory view for explaining a first embodiment of a rubbing method and a rubbing apparatus according to the present invention.
[0067]
Part of the alignment film or bristles (particles) of the cloth material (rubbing cloth) 22 is generated as dust from the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21. When the transport direction of the substrate 20 and the rotation direction of the rubbing roller 21 are employed as described above, a large amount of dust is generated on the left side in the drawing with respect to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21.
[0068]
In this embodiment, a suction member 23 having a suction port 23a disposed on the upper left side of the contact portion is provided, and dust generated at the contact portion is sucked from the suction port 23a and discharged out of the system. The suction member 23 may be a member that forcibly sucks air by a suction fan (not shown). However, when the exhaust port is provided in a clean room, it is necessary to provide a high-density filter or the like. It is preferable to provide it. Here, the suction port 23 a has a shape extending in the axial direction of the rubbing roller 21, and has an opening position arranged substantially parallel to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21.
[0069]
In this embodiment, dust sucked up by the rubbing roller 21 is sucked and discharged by sucking air from the suction port 23a, so that dust can be prevented from being scattered in the surrounding environment. It is possible to prevent dust from accumulating on the cloth material 22 and the surface of the substrate 20 and having an adverse effect. Also, dust once adhering to the surface of the substrate 20 and the cloth material 22 is also separated and sucked to some extent by the suction force because the suction port 23a is provided facing the surface of the substrate 20 and the surface of the cloth material 22. The
[0070]
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a schematic explanatory diagram for explaining a second embodiment according to the present invention.
[0071]
In this embodiment, as in the first embodiment, a suction port 24a is formed at the tip of the suction member 24, and dust is sucked from the suction port 24a. 2 is different in that a distal end portion 24b formed as a constricted shape on at least the longitudinal section shown in FIG. 2 is provided, and a suction port 24a is formed at the foremost end thereof.
[0072]
In this embodiment, since the tip end portion 24b of the suction member 24 is narrowed, the suction port 24a is disposed in a portion closer to the contact portion (that is, the dust generation portion) between the substrate 20 and the rubbing roller 21. In addition, since the suction port 24a is formed at the narrowed tip, the suction force can be increased, dust can be sucked more reliably, and dust can be more strongly applied to the surfaces of the substrate 20 and the cloth material 22. Can be separated from.
[0073]
Here, the suction member 24 may be connected to the same suction fan or the like as in the first embodiment, but in particular, exerts a strong suction force when connected to an exhaust system connected to a vacuum pump or the like. be able to.
[0074]
In this embodiment, the suction port 24 a is opened toward the surface of the substrate 20 rather than the surface of the rubbing roller 21, so that dust accumulated on the surface of the substrate 20 can be more reliably sucked.
[0075]
(Third embodiment)
FIG. 3 is a schematic perspective view showing the structure of the third embodiment according to the present invention.
[0076]
In this embodiment, a suction member 25 substantially the same as that of the second embodiment is provided. A narrowed tip portion 25b is formed near the tip of the suction member, and a suction port 25a opened at the forefront of the tip portion 25b is formed. The connecting pipe 25c provided at the upper end of the suction member 25 is connected to an exhaust system (not shown).
[0077]
In this embodiment, the suction port 25a formed at the tip of the tip portion 25b is slightly open toward the peripheral surface side of the rubbing roller 21, and sucks dust generated at the contact portion between the substrate 20 and the cloth material 22. At the same time, it is configured to mainly suck dust adhering to the surface of the cloth material 22.
[0078]
(Fourth embodiment)
FIG. 4 shows a fourth embodiment according to the present invention.
[0079]
In this embodiment, the suction member 26 is divided into a plurality of divided suction portions 26 d arranged in parallel in the axial direction of the rubbing roller 21. Near the tip of each divided suction part 26d, a tip part 26b having a narrowed shape is formed in the same manner as in the second and third embodiments, and a suction port 26a having an opening part is formed at the tip thereof. . The connection pipe 26c is for connection to an exhaust system (not shown).
[0080]
In this embodiment, by dividing the suction port 26a, the opening area of the suction port 26a is reduced as a whole, and the suction force at each suction port 26a is increased. As a result, it is possible to enhance not only the dust just rolled up in the atmosphere but also the dust adhering to the surface of the substrate 20 and the surface of the cloth material 22 and the ability to suck and remove.
[0081]
(Fifth embodiment)
FIG. 5 is a schematic perspective view showing the overall structure of the fifth embodiment according to the present invention.
[0082]
In this embodiment, a suction member 27 formed in a cylindrical shape having a notch is provided so as to substantially completely surround the peripheral surface of the rubbing roller 21. The suction member 27 is attached to suction ports 27 a and 27 b located on the front side and the rear side in the moving direction of the substrate 20 with respect to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and the peripheral surface of the rubbing roller 21. A suction port 27c facing the cloth material 22 is provided.
[0083]
Here, the suction port 27c facing the peripheral surface of the rubbing roller 21 may have a structure in which the entire surface facing the peripheral surface of the rubbing roller 21 is opened, or a structure in which a large number of fine suction ports are dispersedly arranged. It may be. The connection pipe 27d constitutes a connection part to an exhaust system (not shown). According to this embodiment, since suction is performed from almost the entire peripheral surface of the rubbing roller 21 in addition to the front and rear of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, dust can be reliably captured. In particular, dust can be effectively removed from the cloth material 22. In this embodiment, since the suction member 27 is disposed so as to surround the rubbing roller 21, the suction member does not protrude away from the rubbing roller 21, and thus the entire apparatus can be reduced in size. .
[0084]
(Sixth embodiment)
FIG. 6 is a schematic perspective view showing the overall configuration of the sixth embodiment according to the present invention, and FIG. 7 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the suction port of this embodiment.
[0085]
In this embodiment, the suction port 28a of the suction member 28 is disposed on one side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and air is supplied to the peripheral surface of the rubbing roller 21 in the vicinity of the suction port 28a. The spraying port 29a of the spraying member 29 for spraying is arrange | positioned.
[0086]
The suction port 28a is formed at the tip of the suction member 28 whose tip side is slightly squeezed in the same manner as in each of the above embodiments, sucks dust generated from the contact portion, and is formed on the cloth member 22 on the peripheral surface of the rubbing roller 21. It is configured so that the adhering dust can also be sucked.
[0087]
Simplified ionization electrodes 29b and 29c are installed inside the blowing member 29, and a high-frequency voltage is applied between the ionization electrodes 29b and 29c to supply air from an air compressor or the like (not shown). The air sent from the apparatus is ionized. The ionized air is blown from the blowing port 29 a to the surface of the cloth material 22, and the adhering dust is separated from the cloth material 22. The dust separated from the cloth material 22 is sucked and discharged from the suction port 28a.
[0088]
Airflow control plates 31 and 32 are disposed on both sides of the suction member 28 and the spray member 29 (both front and rear sides in the rotational direction of the rubbing roller 21). These airflow control plates 31 and 32 are for efficiently discharging air blown from the blowing member 29 from the suction port 28a without spreading it around. These air flow control plates 31 and 32 can prevent dust that is not sucked into the suction member 28 from being scattered around.
[0089]
The spray member 29 is provided with an ionization electrode, and air is ionized and sprayed to promote separation of dust. However, a certain amount of dust can be separated by the spraying force without providing ionizing means for air.
[0090]
What is sprayed by the spraying means is not limited to air, and various other fluids such as inert gas and pure water can be used as long as they do not affect the object to be processed.
[0091]
It is most effective to provide the spraying means and the suction means on the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, which is a dust generation part, but also on the surface of the rubbing roller 21, It is preferable to provide them integrally or separately for each application site so as to act on the substrate surface after the rubbing treatment.
[0092]
In each of the embodiments described above, the rubbing process in which the surface of the substrate 20 is rubbed with the cloth material 22 adhered to the rubbing roller 21 has been described. However, the rubbing process with other various rubbing treatment members has been described. Of course, the present invention can be widely applied to the rubbing method and apparatus performed by the above method.
[0093]
(Seventh embodiment)
FIG. 8 is a schematic explanatory view for explaining a seventh embodiment according to the present invention, and FIG. 9 is a schematic sectional view partially enlarged from FIG.
[0094]
In this embodiment, a suction nozzle 50 having a suction port 50a disposed above the right side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 is provided, and dust adhering to the cloth material 22 of the rubbing roller 21 is sucked from the suction port 50a. Are discharged outside the system. The suction nozzle 50 may be, for example, a device that forcibly sucks air by a vacuum pump (not shown). However, when the exhaust port is provided in a clean room, it is necessary to provide a high-density filter or the like. Is preferably provided outside the room.
[0095]
The suction port 50 a includes a slit-like opening that extends along the axial direction of the rubbing roller 21 and is disposed substantially parallel to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21. Further, a non-conductive material layer 51 such as quartz or glass is coated on the peripheral edge of the suction port 50a.
[0096]
The suction nozzle 50 is arranged so as to be movable toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21, and is moved toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21 by driving means (not shown). Specifically, when the surface of the substrate 20 is rubbed by the rubbing roller 21, the driving means moves the suction nozzle 50 closer to the outer peripheral portion of the rubbing roller 21, and when not rubbing, the suction nozzle 50 is moved to the outer periphery of the rubbing roller 21. Move away from the part.
[0097]
Here, when the suction nozzle 50 moves closer to the rubbing roller 21, the peripheral edge portion (non-conductive material layer 51) of the suction port 50 a of the suction nozzle 50 is brought into contact with the bristle feet 22 a of the cloth member 22 of the rubbing roller 21. The movement of the suction nozzle 50 is stopped at the contact position. In this case, as shown in FIG. 9, when the position of the peripheral edge of the suction port 50a contacting the hair foot 22a is L, the length of the hair foot 22a of the cloth material 22 is the tip of the hair foot 22a. It is preferable that the movement of the suction nozzle 50 is stopped within a range from the portion to L / 2.
[0098]
In this embodiment, during rubbing, the peripheral portion of the suction port 50a of the suction nozzle 50 is disposed in contact with the bristle portion 22a of the cross member 22 on the outer peripheral portion of the rubbing roller 21, and therefore adheres to the cross member 22. The dust thus collected is removed by suction with a strong suction force before the cloth material 22 contacts the substrate 20. As a result, before the cloth material 22 comes into contact with the substrate 20, the cloth material 22 is always in a clean state, and the substrate 20 can be rubbed in this state, and adhesion of dust to the substrate 20 is good. Is prevented.
[0099]
Further, by positioning the peripheral edge of the suction port 50a of the suction nozzle 50 within the range from the tip of the hair foot 22a to 1/2 of the length L of the hair foot 22a, the peripheral edge of the suction port 50a Inadvertent contact of the cloth material 22 with the ground is avoided, so that the contact of the peripheral edge of the suction port 50a with the hair feet 22a is maintained and a strong suction force is maintained. It is possible to reliably prevent the background from being scraped off by the peripheral edge of the suction port 50a and falling onto the substrate 20.
[0100]
Further, when the surface of the substrate 20 is not rubbed by the rubbing roller 21, the suction nozzle 50 is disposed away from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21, and the peripheral portion of the suction port 50a of the suction nozzle 50 and the bristle portion 22a Therefore, it is possible to reduce the thermal effect caused by the contact (friction) between the peripheral edge portion and the bristle foot portion 22a and the deterioration of the rubbing roller 21 due to the contact. As a result, the life of the rubbing roller 21 is improved. be able to.
[0101]
Furthermore, since the non-conductive material layer 51 is disposed at the peripheral portion of the suction port 50a, the peripheral portion of the suction port 50a and the bristle portion 22a come into contact with each other over a long period of time, and the peripheral portion is scraped by any chance. In this case, even if the fallen shavings adhere to the surface of the substrate 20 and the liquid crystal is sealed and commercialized, the shavings are non-conductive materials, so that short-circuiting during product use is surely prevented. be able to. In this case, by configuring the non-conductive material layer 51 with quartz or glass, it is possible to improve the durability of the peripheral portion of the suction port 50a and to easily form a mirror surface portion on the peripheral portion. .
[0102]
In this embodiment, the suction nozzle 50 is arranged on the upper right side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 and the suction port 50a is in contact with the hair feet 22a of the cloth material 22. However, the suction nozzle 50 is arranged on the upper left side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 or on the upper center of the drawing so that the suction port 50a is in contact with the bristle portion 22a of the cloth member 22. Also good.
[0103]
(Eighth embodiment)
FIG. 10 is a schematic explanatory diagram for explaining an eighth embodiment according to the present invention.
[0104]
This embodiment has the same configuration as that of the seventh embodiment except that the comb portion 60 is arranged in the suction port 50a of the suction nozzle 50 of the seventh embodiment. The same reference numerals are given and the description thereof is omitted, and the differences will be described.
[0105]
A comb portion 60 is attached to the suction port 50a of the suction nozzle 50 so as to be in contact with the bristle portion 22a of the cloth material 22, and the comb portion 60 extends along the axial direction of the rubbing roller 21 like the suction port 50a. In addition, it is disposed substantially parallel to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and the tip is substantially flush with the peripheral edge of the suction port 50a.
[0106]
In this embodiment, at the time of rubbing, the hair portions 22a are aligned by the comb portion 60 provided in the suction port 50a, and the comb portion 60 knocks out dust adhering to the hair foot portion 22a from the suction port 50a. The dust suction effect can be enhanced. Since other functions and effects are the same as those of the above-described seventh embodiment, description thereof is omitted.
[0107]
(Ninth embodiment)
FIG. 11 is a schematic explanatory diagram for explaining a ninth embodiment according to the present invention.
[0108]
In this embodiment, the suction member 23 of the first embodiment (see FIG. 1) is disposed above the left side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 (the side on which much dust is generated) and the seventh embodiment. The suction nozzle 50 (see FIGS. 8 and 9) is arranged on the upper right side of the contact portion in the figure. In addition, since the suction member 23 and the suction nozzle 50 have been described in the first embodiment and the seventh embodiment, respectively, overlapping portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
[0109]
In this embodiment, during rubbing, the dust wound up by the rubbing roller 21 is sucked and discharged from the suction port 23a of the suction member 23, so that dust can be prevented from being scattered in the surrounding environment. In addition, dust can be prevented from accumulating on the surfaces of the cloth material 22 and the substrate 20 and adversely affecting the dust. Further, once the dust has once adhered to the surfaces of the substrate 20 and the cloth material 22, By being provided facing the surface of the cloth material 22, the cloth material 22 is brought into contact with the substrate 20 by the suction nozzle 50, and the dust adhered to the cloth material 22 by the suction nozzle 50. Since it is sucked and removed with a strong suction force before being rubbed, the outer periphery of the rubbing roller 21 is always kept clean and the substrate 20 is rubbed. It is possible to prevent adhesion of dust to the substrate 20 by preparative becomes possible. As a result, it is possible to further improve the quality of the TFT and to eliminate the environmental partition between the rubbing process and the cleaning process and other manufacturing processes, which were necessary in the past, for the management of the cleanliness in the manufacturing process. Became. Since the other operational effects are the same as those of the seventh embodiment, the description thereof is omitted.
[0110]
As described above, the present invention has the following effects.
[0111]
In the present invention, dust generated when the substrate surface is rubbed with a rubbing treatment member is sucked, so that it is possible to prevent dust from being deposited on the substrate surface or adhering to the rubbing treatment member. The effect that the display quality of the electro-optic element can be improved is obtained.
[0112]
In the present invention, in addition to the above-mentioned present invention, dust suction is performed in the dust generating part, so that dust is not scattered in the surrounding environment, and the cleanliness management in the manufacturing process is easily performed. The effect that it can be obtained.
[0113]
In the present invention, in addition to the present invention, the rubbing process can be performed by a rubbing roller having a simple structure, and the contact portion between the substrate and the rubbing roller is always at a fixed position with respect to the rubbing roller. The effect that the members can be easily arranged is obtained.
[0114]
In the present invention, in addition to the above-described present invention, the suction member is formed in a shape that is narrowed toward the tip, so that the suction port can be disposed at a position closer to the contact portion between the substrate and the rubbing roller. The suction force can be increased by forming the suction port at the narrowed tip.
[0115]
In the present invention, in addition to the above-described present invention, the suction port is provided at the tip of each of the divided suction paths, so that the suction force at the suction port can be increased and the axial direction of the rubbing roller can be reliably increased. In addition, the effect that dust can be sucked is obtained.
[0116]
In the present invention, in addition to the present invention, dust attached to the rubbing roller can be removed more reliably, and the suction member is formed so as to surround the rubbing roller, thereby reducing the size of the apparatus. The effect that it can achieve is obtained.
[0117]
In the present invention, in addition to the above-mentioned present invention, the dust can be sucked from the suction port of the suction member after the fluid is sprayed on the rubbing processing member or the substrate by the spraying means and then the rubbing processing member. Or the effect that the dust adhering to a board | substrate can be removed more reliably is acquired.
[0118]
In the present invention, in addition to the above-mentioned present invention, since the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle is in contact with the bristle portion of the rubbing roller, the outer peripheral portion contacts the substrate with the dust adhering to the outer peripheral portion of the rubbing roller. Can be removed by suction with a strong suction force, and as a result, it becomes possible to rub the substrate with the outer periphery of the rubbing roller in a clean state at all times, thereby preventing dust from adhering to the substrate The effect that it can be obtained.
[0119]
In the present invention, in addition to the present invention, dust adhered to the outer peripheral portion of the rubbing roller can be removed by suction with a strong suction force before the outer peripheral portion contacts the substrate, so that the rubbing is always clean. It becomes possible to rub the substrate at the outer peripheral portion of the roller, preventing dust from adhering to the substrate, and dust generated at the contact portion between the substrate and the rubbing treatment member from the suction port of the suction member. Since it is removed by suction, dust can be prevented from being scattered in the surrounding environment. As a result, the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be further improved, and the management of cleanliness in the manufacturing process is further improved. The effect that it can be made easy is acquired.
[0120]
In the present invention, in addition to the above-mentioned present invention, when the surface of the substrate is not rubbed by the rubbing roller, the suction nozzle is spaced apart from the outer peripheral portion of the rubbing roller, and the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle and the rubbing roller Since there is no contact with the hair feet, there is an effect that it is possible to reduce the thermal influence caused by the contact between the peripheral edge and the hair feet and the deterioration of the rubbing roller due to the contact.
[0121]
In the present invention, in addition to the present invention described above, the contact of the rubbing roller at the periphery of the suction port to the background of the rubbing roller is ensured while ensuring the contact of the periphery of the suction port of the suction nozzle to the hair feet of the rubbing roller. Thus, the effect is obtained that the background can be prevented from being scraped off by the peripheral edge of the suction port.
[0122]
In the present invention, in addition to the above-described present invention, the comb portion can align the hair of the rubbing roller, and the dust attached to the hair foot can be knocked out to enhance the dust suction effect from the suction port. An effect is obtained.
[0123]
In the present invention, in addition to the present invention, the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle and the bristle foot of the rubbing roller are in contact with each other over a long period of time, so that the peripheral edge is dropped by any chance. Even if liquid crystal is sealed and productized while the shavings adhere to the substrate surface, the shavings are non-conductive materials, so that an effect of reliably preventing short-circuiting during product use can be obtained. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining a first embodiment according to the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view for explaining a second embodiment according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic perspective view for explaining a third embodiment according to the present invention.
FIG. 4 is a schematic perspective view for explaining a fourth embodiment according to the present invention.
FIG. 5 is a schematic perspective view for explaining a fifth embodiment according to the present invention.
FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining a sixth embodiment according to the present invention.
FIG. 7 is an enlarged sectional view showing a structure of a sixth embodiment.
FIG. 8 is a schematic sectional view for explaining a seventh embodiment according to the present invention.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view in which an outer peripheral portion of a rubbing roller is partially enlarged.
FIG. 10 is a schematic sectional view for explaining an eighth embodiment according to the present invention.
FIG. 11 is a schematic sectional view for explaining a ninth embodiment according to the present invention.
FIG. 12 is a schematic perspective plan view of a TFT.
13 is a cross-sectional view taken along line HH ′ of FIG.
FIG. 14 is a flowchart for explaining an assembly process of the liquid crystal display device.
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view for explaining the state of a conventional rubbing process.
[Explanation of symbols]
11 Transport roller
20 substrates
21 rubbing roller
22 Cross material
22a Hair feet
23, 24, 25, 26, 27, 28 Suction member
23a, 24a, 25a, 26a, 27a, 28a Suction port
29 Spray members
29a Spray outlet
29b, 29c ionization electrodes
50 Suction nozzle
50a Suction port
51 Non-conductive material
60 Comb
L Hair length

Claims (3)

液晶電気光学素子に使用する基板を、前記基板に対して回転するラビングローラによって擦るようにした基板のラビング方法において、
前記ラビングローラの軸線方向に複数に分割され、先端部が絞られた形状である吸引経路を有するとともに、前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した吸引口を前記先端部のそれぞれに有する吸引部材を備える吸引手段を用いて、前記基板と前記ラビングローラの少なくとも一方から発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う工程を有することを特徴とする基板のラビング方法。In a substrate rubbing method in which a substrate used for a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing roller rotating with respect to the substrate,
Each of the front end portions has a suction path that is divided into a plurality of portions in the axial direction of the rubbing roller and has a suction path that is narrowed at the front end portion, and has a suction port that opens toward the contact portion between the substrate and the rubbing roller. A substrate rubbing method comprising: performing a rubbing process while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing roller using a suction means including a suction member. 請求項１におけるラビング方法により配向膜にラビング処理を施すことを特徴とする液晶電気光学素子の製造方法。  A method for manufacturing a liquid crystal electro-optical element, wherein the alignment film is rubbed by the rubbing method according to claim 1. 液晶電気光学素子に用いる基板に対して回転し、前記基板を擦るためのラビングローラと、
前記基板と前記ラビングローラとを相対的に動作させて前記基板を前記ラビングローラによって擦るように駆動する駆動手段と、
前記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口した吸引口を有し、前記基板と前記ラビング処理部材との少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引手段と、
を備え、
前記吸引手段は、前記ラビングローラの軸線方向に複数に分割され、先端部が絞られた形状である吸引経路を備え、前記先端部にそれぞれ前記吸引口が形成されていることを特徴とする基板のラビング装置。A rubbing roller that rotates relative to the substrate used for the liquid crystal electro-optic element and rubs the substrate;
Driving means for relatively moving the substrate and the rubbing roller to drive the substrate to be rubbed by the rubbing roller;
A suction means having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller, and sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing processing member;
With
The substrate is characterized in that the suction means includes a suction path that is divided into a plurality of portions in the axial direction of the rubbing roller and has a narrowed tip portion, and the suction ports are formed in the tip portions, respectively. Rubbing equipment.

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