JP3791006B2 - 有機ｅｌパネル - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、第一の電極と第二の電極で発光層を挟持した有機エレクトロルミネッセンスパネル（以下、有機ＥＬパネルと記す）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図９に示すように、有機ＥＬパネル１は、ガラス基板２上に積層体３を形成したものであり、この積層体３は、透明電極４，絶縁層５，有機層６，アルミニウム（Al）からなる背面電極７を有する。透明電極４は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなるものである。有機層６は正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送層からなるものであり、透明電極４と背面電極７に挟持されている。
【０００３】
積層体３は封止ガラス８に覆われており、この封止ガラス８はガラス基板２に紫外線硬化性の接着剤９で接着されている。透明電極４は陽極配線部４ａ及び陽極部４ｂを有しており、背面電極７は陰極配線部７ａ及び陰極部７ｂを有している。有機層６は、陽極部４ｂと陰極部７ｂに挟持されており、有機ＥＬパネル１は、陽極配線部４ａと陰極配線部７ａに電源を接続することにより発光する。
有機ＥＬパネル１は、自発光型表示素子であるため、液晶表示素子と比較すると、バックライト装置が不要であるという利点があり、種々幅広い商品分野において注目されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような商品分野における制御機器としては、マイクロコンピュータが用いられることが一般的になっており、このマイクロコンピュータに電磁放射ノイズの影響を与えない有機ＥＬパネルが必要とされている。
本発明は、この問題に鑑みなされたものであり、電磁放射ノイズを低減した有機ＥＬパネルを提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第一の配線部１５ａを有する第一の電極１５と、第二の配線部１８ａを有する第二の電極１８と、前記第一の電極１５と前記第二の電極１８の間に設けられた発光層１７ｃと、を少なくとも有する積層体１３，２３，３３を基板１２に形成した有機ＥＬパネル１１，２１，３１であって、前記基板１２と前記第二の配線部１８ａの間に、電磁放射ノイズを低減するＩＴＯ層１４，２４，３４と、前記ＩＴＯ層１４，２４，３４と前記第二の配線部１８ａの間を絶縁する絶縁層１６，２６と、を設けたものである。
【０００６】
また、本発明は、前記基板１２と前記第一の配線部１５ａの間に、前記ＩＴＯ層２４及び前記絶縁層２６を順次設けたものである。
【０００７】
また、本発明は、前記ＩＴＯ層１４，２４，３４を接地したものである。
【０００８】
また、本発明は、前記第一の電極１５はストライプ状に形成された陽極部１５ｂを有し、前記第二の電極１８は前記陽極部１５ｂに交差する方向のストライプ状に形成された陰極部１８ｂを有するものである。
【０００９】
また、本発明は、前記陽極部１５ｂと前記陰極部１８ｂの対向箇所からなる画素がマトリクス状に設けられた表示部２０を有するものである。
【００１０】
また、本発明は、前記表示部２０の周辺に前記ＩＴＯ層３４を設けたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、ドットマトリクス型の有機ＥＬパネルに本発明を適用した一実施形態を添付の図面に基づいて説明する。図１乃至図４は第一実施形態を示すものである。
有機ＥＬパネル１１は、ガラス基板１２（基板）に積層体１３を形成したものである。積層体１３は、ＩＴＯ層１４，透明電極１５（第一の電極），絶縁層１６，有機層１７，背面電極１８（第二の電極）からなるものであり、ガラス基板１３の後面に順次積層形成されている。なお、図面が煩雑にならないように、図３においては、絶縁層１６及び有機層１７を図示しない。
【００１２】
ＩＴＯ層１４は、酸化スズ（SnO２）に酸化インジウム（In２O３）をドープしたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなるものであり、スパッタリング，イオンプレーティング等の方法でガラス基板１２上に形成される。ＩＴＯ層１４は図示しない端子部でアース（接地）されている。透明電極１５は、ＩＴＯ層１４と同じＩＴＯからなるものであり、ＩＴＯ層１４と同時に形成される。透明電極１５は、陽極配線部１５ａ及び陽極部１５ｂを有しており、ストライプ状になっている。
【００１３】
絶縁層１６は、ポリイミド系の絶縁材料からなるものであり、ＩＴＯ層１４の上に積層されている。絶縁層１６は、ＩＴＯ層１４と後述する陰極配線部１８ａの間を絶縁するものである。有機層１７は、正孔注入層１７ａ，正孔輸送層１７ｂ，発光層１７ｃ及び電子輸送層１７ｄからなるものであり（図３参照）、陽極部１５ｂに積層されている。
【００１４】
背面電極１８は、アルミニウム（Al）からなるものであり、蒸着等の方法で形成される。背面電極１８は、陰極端子部１８ａ及び陰極部１８ｂを有しており、陰極端子部１８ａは円弧状、陰極部１８ｂは透明電極１５に直交する方向のストライプ状になっている。表示部２０は、陽極部１５ｂと陰極部１８ｂの対向箇所からなる画素がマトリクス状に設けられたものであり、各画素に定電流を選択的に付与することにより、種々の文字や図形を表示する。
【００１５】
図５乃至図７は第二実施形態を示すものである。第一実施形態と同一の構成には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００１６】
有機ＥＬパネル２１は、ガラス基板１２に積層体２３を形成したものである。積層体２３は、ＩＴＯ層２４，絶縁層２６，透明電極１５，有機層１７，背面電極１８からなるものである。なお、図面が煩雑にならないように、図７においては、絶縁層２６及び有機層１７を図示しない。
【００１７】
ＩＴＯ層２４は、ＩＴＯからなるものであり、ガラス基板１２上に形成される。ＩＴＯ層２４は、陰極配線部１８ａとガラス基板１２の間に設けられる矩形部２４ａと、陽極配線部１５ａとガラス基板１２の間に設けられる帯状部４ｂとを有している。絶縁層２６は、ＩＴＯ層２４と陰極配線部１８ａの間、ＩＴＯ層２４と陽極配線部１５ａの間を絶縁するものである。
【００１８】
図８は第三実施形態を示す図である。第一実施形態と同一の構成には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００１９】
有機ＥＬパネル２１は、ガラス基板１２に積層体３３を形成したものである。積層体３３は、ＩＴＯ層３４，絶縁層１６，透明電極１５，有機層１７，背面電極１８からなるものである。なお、図面が煩雑にならないように、絶縁層１６及び有機層１７を図示しない。
ＩＴＯ層３４は、ＩＴＯからなるものであり、ガラス基板１２上に形成される。ＩＴＯ層３４は、陰極配線部１８ａとガラス基板１２の間に設けられる矩形部３４ａと、表示部２０の周囲に設けられる帯状部３４ｂとを有している。
【００２０】
各実施形態は、ＩＴＯ層１４，２４，３４を設け、このＩＴＯ層１４，２４，３４を接地したことにより、陰極配線部１８ａから発生する電磁放射ノイズを低減できる。また、第二実施形態では、ＩＴＯ層２４の帯状部２４ｂを設けたことにより、陽極配線部１５ａから発生する電磁放射ノイズを低減できる。また、第三実施形態では、ＩＴＯ層３４の帯状部３４ｂを設けたことにより、表示部２０から発生する電磁放射ノイズを低減できる。
【００２１】
なお、本実施形態はドットマトリクス型の有機ＥＬパネル１１，２１，３１であったが、セグメント型の有機ＥＬパネルにも本発明を適用できることは言うまでもない。
【００２２】
【発明の効果】
本発明は、第一の配線部を有する第一の電極と、第二の配線部を有する第二の電極と、前記第一の電極と前記第二の電極の間に設けられた発光層と、を少なくとも有する積層体を基板に形成した有機ＥＬパネルであって、前記基板と前記第二の配線部の間に、電磁放射ノイズを低減するＩＴＯ層と、前記ＩＴＯ層と前記第二の配線部の間を絶縁する絶縁層と、を設けたものであり、電磁放射ノイズを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第一実施形態を示す断面図。
【図２】 同上実施形態を示す断面図。
【図３】 同上実施形態を示す正面図。
【図４】 同上実施形態を示す有機層の拡大断面図。
【図５】 本発明の第二実施形態を示す断面図。
【図６】 同上実施形態を示す断面図。
【図７】 同上実施形態を示す正面図。
【図８】 本発明の第三実施形態を示す正面図。
【図９】 従来例を示す断面図。
【符号の説明】
１１ 有機ＥＬパネル
１２ 基板
１３ 積層体
１４ ＩＴＯ層
１５ 第一の電極
１５ａ 第一の配線部
１５ｂ 陽極部
１６ 絶縁層
１７ｃ 発光層
１８ 第二の電極
１８ａ 第二の配線部
１８ｂ 陰極部
２０ 表示部
２１ 有機ＥＬパネル
２３ 積層体
２４ ＩＴＯ層
２６ 絶縁層
３１ 有機ＥＬパネル
３３ 積層体
３４ ＩＴＯ層
【発明の属する技術分野】
本発明は、第一の電極と第二の電極で発光層を挟持した有機エレクトロルミネッセンスパネル（以下、有機ＥＬパネルと記す）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図９に示すように、有機ＥＬパネル１は、ガラス基板２上に積層体３を形成したものであり、この積層体３は、透明電極４，絶縁層５，有機層６，アルミニウム（Al）からなる背面電極７を有する。透明電極４は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなるものである。有機層６は正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送層からなるものであり、透明電極４と背面電極７に挟持されている。
【０００３】
積層体３は封止ガラス８に覆われており、この封止ガラス８はガラス基板２に紫外線硬化性の接着剤９で接着されている。透明電極４は陽極配線部４ａ及び陽極部４ｂを有しており、背面電極７は陰極配線部７ａ及び陰極部７ｂを有している。有機層６は、陽極部４ｂと陰極部７ｂに挟持されており、有機ＥＬパネル１は、陽極配線部４ａと陰極配線部７ａに電源を接続することにより発光する。
有機ＥＬパネル１は、自発光型表示素子であるため、液晶表示素子と比較すると、バックライト装置が不要であるという利点があり、種々幅広い商品分野において注目されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような商品分野における制御機器としては、マイクロコンピュータが用いられることが一般的になっており、このマイクロコンピュータに電磁放射ノイズの影響を与えない有機ＥＬパネルが必要とされている。
本発明は、この問題に鑑みなされたものであり、電磁放射ノイズを低減した有機ＥＬパネルを提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第一の配線部１５ａを有する第一の電極１５と、第二の配線部１８ａを有する第二の電極１８と、前記第一の電極１５と前記第二の電極１８の間に設けられた発光層１７ｃと、を少なくとも有する積層体１３，２３，３３を基板１２に形成した有機ＥＬパネル１１，２１，３１であって、前記基板１２と前記第二の配線部１８ａの間に、電磁放射ノイズを低減するＩＴＯ層１４，２４，３４と、前記ＩＴＯ層１４，２４，３４と前記第二の配線部１８ａの間を絶縁する絶縁層１６，２６と、を設けたものである。
【０００６】
また、本発明は、前記基板１２と前記第一の配線部１５ａの間に、前記ＩＴＯ層２４及び前記絶縁層２６を順次設けたものである。
【０００７】
また、本発明は、前記ＩＴＯ層１４，２４，３４を接地したものである。
【０００８】
また、本発明は、前記第一の電極１５はストライプ状に形成された陽極部１５ｂを有し、前記第二の電極１８は前記陽極部１５ｂに交差する方向のストライプ状に形成された陰極部１８ｂを有するものである。
【０００９】
また、本発明は、前記陽極部１５ｂと前記陰極部１８ｂの対向箇所からなる画素がマトリクス状に設けられた表示部２０を有するものである。
【００１０】
また、本発明は、前記表示部２０の周辺に前記ＩＴＯ層３４を設けたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、ドットマトリクス型の有機ＥＬパネルに本発明を適用した一実施形態を添付の図面に基づいて説明する。図１乃至図４は第一実施形態を示すものである。
有機ＥＬパネル１１は、ガラス基板１２（基板）に積層体１３を形成したものである。積層体１３は、ＩＴＯ層１４，透明電極１５（第一の電極），絶縁層１６，有機層１７，背面電極１８（第二の電極）からなるものであり、ガラス基板１３の後面に順次積層形成されている。なお、図面が煩雑にならないように、図３においては、絶縁層１６及び有機層１７を図示しない。
【００１２】
ＩＴＯ層１４は、酸化スズ（SnO２）に酸化インジウム（In２O３）をドープしたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなるものであり、スパッタリング，イオンプレーティング等の方法でガラス基板１２上に形成される。ＩＴＯ層１４は図示しない端子部でアース（接地）されている。透明電極１５は、ＩＴＯ層１４と同じＩＴＯからなるものであり、ＩＴＯ層１４と同時に形成される。透明電極１５は、陽極配線部１５ａ及び陽極部１５ｂを有しており、ストライプ状になっている。
【００１３】
絶縁層１６は、ポリイミド系の絶縁材料からなるものであり、ＩＴＯ層１４の上に積層されている。絶縁層１６は、ＩＴＯ層１４と後述する陰極配線部１８ａの間を絶縁するものである。有機層１７は、正孔注入層１７ａ，正孔輸送層１７ｂ，発光層１７ｃ及び電子輸送層１７ｄからなるものであり（図３参照）、陽極部１５ｂに積層されている。
【００１４】
背面電極１８は、アルミニウム（Al）からなるものであり、蒸着等の方法で形成される。背面電極１８は、陰極端子部１８ａ及び陰極部１８ｂを有しており、陰極端子部１８ａは円弧状、陰極部１８ｂは透明電極１５に直交する方向のストライプ状になっている。表示部２０は、陽極部１５ｂと陰極部１８ｂの対向箇所からなる画素がマトリクス状に設けられたものであり、各画素に定電流を選択的に付与することにより、種々の文字や図形を表示する。
【００１５】
図５乃至図７は第二実施形態を示すものである。第一実施形態と同一の構成には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００１６】
有機ＥＬパネル２１は、ガラス基板１２に積層体２３を形成したものである。積層体２３は、ＩＴＯ層２４，絶縁層２６，透明電極１５，有機層１７，背面電極１８からなるものである。なお、図面が煩雑にならないように、図７においては、絶縁層２６及び有機層１７を図示しない。
【００１７】
ＩＴＯ層２４は、ＩＴＯからなるものであり、ガラス基板１２上に形成される。ＩＴＯ層２４は、陰極配線部１８ａとガラス基板１２の間に設けられる矩形部２４ａと、陽極配線部１５ａとガラス基板１２の間に設けられる帯状部４ｂとを有している。絶縁層２６は、ＩＴＯ層２４と陰極配線部１８ａの間、ＩＴＯ層２４と陽極配線部１５ａの間を絶縁するものである。
【００１８】
図８は第三実施形態を示す図である。第一実施形態と同一の構成には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００１９】
有機ＥＬパネル２１は、ガラス基板１２に積層体３３を形成したものである。積層体３３は、ＩＴＯ層３４，絶縁層１６，透明電極１５，有機層１７，背面電極１８からなるものである。なお、図面が煩雑にならないように、絶縁層１６及び有機層１７を図示しない。
ＩＴＯ層３４は、ＩＴＯからなるものであり、ガラス基板１２上に形成される。ＩＴＯ層３４は、陰極配線部１８ａとガラス基板１２の間に設けられる矩形部３４ａと、表示部２０の周囲に設けられる帯状部３４ｂとを有している。
【００２０】
各実施形態は、ＩＴＯ層１４，２４，３４を設け、このＩＴＯ層１４，２４，３４を接地したことにより、陰極配線部１８ａから発生する電磁放射ノイズを低減できる。また、第二実施形態では、ＩＴＯ層２４の帯状部２４ｂを設けたことにより、陽極配線部１５ａから発生する電磁放射ノイズを低減できる。また、第三実施形態では、ＩＴＯ層３４の帯状部３４ｂを設けたことにより、表示部２０から発生する電磁放射ノイズを低減できる。
【００２１】
なお、本実施形態はドットマトリクス型の有機ＥＬパネル１１，２１，３１であったが、セグメント型の有機ＥＬパネルにも本発明を適用できることは言うまでもない。
【００２２】
【発明の効果】
本発明は、第一の配線部を有する第一の電極と、第二の配線部を有する第二の電極と、前記第一の電極と前記第二の電極の間に設けられた発光層と、を少なくとも有する積層体を基板に形成した有機ＥＬパネルであって、前記基板と前記第二の配線部の間に、電磁放射ノイズを低減するＩＴＯ層と、前記ＩＴＯ層と前記第二の配線部の間を絶縁する絶縁層と、を設けたものであり、電磁放射ノイズを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第一実施形態を示す断面図。
【図２】 同上実施形態を示す断面図。
【図３】 同上実施形態を示す正面図。
【図４】 同上実施形態を示す有機層の拡大断面図。
【図５】 本発明の第二実施形態を示す断面図。
【図６】 同上実施形態を示す断面図。
【図７】 同上実施形態を示す正面図。
【図８】 本発明の第三実施形態を示す正面図。
【図９】 従来例を示す断面図。
【符号の説明】
１１ 有機ＥＬパネル
１２ 基板
１３ 積層体
１４ ＩＴＯ層
１５ 第一の電極
１５ａ 第一の配線部
１５ｂ 陽極部
１６ 絶縁層
１７ｃ 発光層
１８ 第二の電極
１８ａ 第二の配線部
１８ｂ 陰極部
２０ 表示部
２１ 有機ＥＬパネル
２３ 積層体
２４ ＩＴＯ層
２６ 絶縁層
３１ 有機ＥＬパネル
３３ 積層体
３４ ＩＴＯ層
Claims (6)
- 第一の配線部を有する第一の電極と、第二の配線部を有する第二の電極と、前記第一の電極と前記第二の電極の間に設けられた発光層と、を少なくとも有する積層体を基板に形成した有機ＥＬパネルであって、
前記基板と前記第二の配線部の間に、電磁放射ノイズを低減するＩＴＯ層と、前記ＩＴＯ層と前記第二の配線部の間を絶縁する絶縁層と、を設けたことを特徴とする有機ＥＬパネル。 - 前記基板と前記第一の配線部の間に、前記ＩＴＯ層及び前記絶縁層を順次設けたことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
- 前記ＩＴＯ層を接地したことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
- 前記第一の電極はストライプ状に形成された陽極部を有し、前記第二の電極は前記陽極部に交差する方向のストライプ状に形成された陰極部を有することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
- 前記陽極部と前記陰極部の対向箇所からなる画素がマトリクス状に設けられた表示部を有することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬパネル。
- 前記表示部の周辺に前記ＩＴＯ層を設けたことを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬパネル。
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2002
- 2002-03-20 JP JP2002078811A patent/JP3791006B2/ja not_active Expired - Lifetime
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