JP3769124B2 - 薄膜el素子、およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は薄型表示装置に用いる薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子、およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
電圧印加によりエレクトロルミネッセンス(EL)を呈する薄膜EL素子は、高輝度発光、高速応答、広視野角、薄型軽量、高解像度などの多くの優れた特長を有することから、薄型表示装置として注目されている。
【0003】
薄膜EL素子は自己発光型であり、その発光色は、各素子のもつ発光層の材料すなわち、発光層を構成する半導体母体とこれに添加される発光中心の組み合わせによって決まる。従来から、発光層の材料として、母体材料にはZnS、CaS、SrS等が選ばれ、発光中心材料には、例えば遷移金属元素群の中から選ばれている。これらの組み合わせにより、ZnS:Mn等を用いた黄橙色発光素子、CaS:EuやZnS:Sm等を用いた赤色発光素子、ZnS:TbやCaS/Ce等を用いた緑色発光素子、およびSrS:CeやZnS:Tm等を用いた青色発光素子等が知られている。
【0004】
しかしながら、現在実用化されているものはマンガン(Mn)を硫化亜鉛(ZnS)にドープしたZnS:Mnによる黄橙色発光のモノカラーデイスプレイのみである。
【0005】
このため、マルチカラー、フルカラー化が強く望まれており、中でもアルカリ土類金属硫化物発光層を用いたEL素子が注目されている。
【0006】
例えば、現在白色発光素子としてもっとも有望視されているものに、J.J.Appl.Phys.Vol.25,No.3,March,1986,pp.L225−L227に開示されているような、黄色発光を呈するZnS:Mnと、その補色である青色発光を呈するSrS:Ceとを積層したものがある。白色光発光素子が実用化されれば、白黒のモノカラーディスプレイ、あるいはカラーフィルタと組み合わされたカラーディスプレイが実現できる。白色光発光素子実用化に向けて白色EL素子のヒステリシス特性を低減させる提案として、特開平8−273833号公報明細書には、透光性基板1の一方の表面に透明電極2、下部絶縁層3、EL発光層4’、上部絶縁層6、上部電極7をこの順に積層し、EL発光層4’をZnS:MnとSrS:CeNとの積層構造とし、SrS:CeN層4bを挟む上下二層のZnS:Mn層4a,4cを形成したものが記載されている(図7)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
アルカリ土類金属硫化物をはじめとしたEL用発光層は、一般に輝度、および寿命特性の改善のため、発光層の成膜終了後、発光層の安定化のための後処理として不活性ガスや、不活性ガスに硫化水素(H2 S)や硫黄(S)などを含む混合ガスで熱処理を行っている。ちなみに、上述の特開平8−273833号公報明細書に記載の薄膜EL素子では、上部絶縁層8を形成後、630℃で1時間の熱処理を施した後に上部電極9を形成して最終的に白色EL素子を得ている。
【0008】
しかし、熱処理装置やその排ガス処理装置などの設備コストがかかってしまうため、安定したアルカリ土類金属硫化物EL発光層を安価に得ることが困難であった。
【0009】
また、発光層表面に、微量な水蒸気または炭酸ガスによる酸素が吸着すると、発光層表面にある酸素原子が電圧印加によって移動し、Ce(セリウム)等の発光中心の回りの結晶場の変化をもたらし、素子特性(表示色等)の変化、しきい電圧の変動や寿命特性の低下を引き起こすことが問題になっている。発光層を多層化することにより対応が図られているが、さらなる改善が望まれている。
【0010】
本発明は上記の問題点に着目してなされ、基板表面への炭酸ガスや水蒸気などの吸着を防ぎ、発光層成膜以後に後処理としての熱処理を行うことなく、発光輝度、寿命特性に優れるアルカリ士類金属硫化物EL発光層を備えた薄膜EL素子を安価に得る製造方法や、そのようなすぐれた特性を持つ薄膜EL素子を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するため、請求項1記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を備える薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、アルカリ土類金属硫化物を含んでなるエレクトロルミネッセント(EL)発光層と、前記エレクトロルミネッセント発光層上部に積層されIIb−VIb族化合物またはこれに遷移金属から選ばれた発光中心を添加してなる直上層と、前記エレクトロルミネッセント発光層と前記直上層の間に形成され、IIb−VIb族化合物と遷移金属からなる中間層であって、前記直上層よりも遷移金属の濃度を高くした、遷移金属ドープ中間層とを有し、前記遷移金属ドープ中間層は前記直上層よりも遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くしたことを特徴とする。
【0012】
請求項2記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記発光層の側面および前記直上層の側面は前記第二の絶縁層に覆われていることを特徴とする。
【0013】
請求項3記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1または2に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記遷移金属ドープ中間層の膜厚が50nm以下であることを特徴とする。
【0014】
請求項4記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1〜3のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記直上層の前記IIb−VIb族化合物として硫化亜鉛(ZnS)を用いたことを特徴とする。
【0015】
請求項5記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1〜4のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記直上層の前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする。
【0017】
請求項6記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1〜5のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記遷移金属ドープ中間層の前記IIb−VIb族化合物として硫化亜鉛(ZnS)を用いたことを特徴とする。
【0018】
請求項7記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1〜6のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記遷移金属ドープ中間層の前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする。
【0019】
請求項8記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項7に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記遷移金属ドープ中間層中の遷移金属の濃度が2〜5wt%であることを特徴とする。
【0020】
請求項9記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項1〜8のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記直上層の膜厚が200nm以上500nm以下であることを特徴とする。
【0021】
請求項10記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を備える薄膜EL素子において、前記発光層としてアルカリ土類金属硫化物を含んでなるエレクトロルミネッセント(EL)発光層を設け、前記EL発光層上にIIb−VIb族化合物、または遷移金属から選ばれた発光中心を添加したIIb−VIb族化合物からなる直上層を200〜500nmの膜厚で積層してなり、前記発光層の成膜以後には前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理を経ておらず、前記遷移金属ドープ中間層は前記直上層よりも遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くしたことを特徴とする。
【0022】
請求項11記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項10記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記直上層の前記IIb−VIb族化合物として硫化亜鉛(ZnS)を用いたことを特徴とする。
【0023】
請求項12記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項10または11記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記直上層の前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする。
【0024】
請求項13記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、請求項10〜12のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、前記発光層と前記直上層との間に、前記直上層よりも遷移金属の濃度を高くした遷移金属ドープ中間層を設けたことを特徴とする。
【0025】
請求項14記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法は、絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を形成する薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記第一の絶縁層上に、前記発光層としてアルカリ土類金属硫化物を含んでなる薄膜EL発光層を成膜し、前記アルカリ土類金属硫化物薄膜EL発光層上に、遷移金属をドープしたIIb−VIb族化合物からなる遷移金属ドープ中間層を成膜し、前記遷移金属ドープ中間層上に、IIb−VIb族化合物またはこれに遷移金属から選ばれる発光中心を、前記遷移金属ドープ中間層中の遷移金属の濃度が前記直上層中の遷移金属の濃度よりも高くなるように、添加したものを積層して直上層を成膜し、前記発光層の成膜以後には前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理を行わず、前記発光層を成膜した後、前記直上層を成膜する前に、前記直上層よりも前記発光中心である遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くした遷移金属ドープ中間層を成膜することを特徴とする。
【0026】
請求項15記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法は、絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を形成する薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記第一の絶縁層上にアルカリ土類金属硫化物を含んでなるアルカリ土類金属硫化物EL発光層を成膜し、前記アルカリ土類金属硫化物EL発光層上に、IIb−VIb族化合物、または遷移金属から選ばれる発光中心を添加したIIb−VIb族化合物からなる直上層を膜厚200〜500nmで成膜し、前記発光層の成膜以後には前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理を行わず、前記発光層を成膜した後、前記直上層を成膜する前に、前記直上層よりも前記発光中心である遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くした遷移金属ドープ中間層を成膜することを特徴とする。
【0028】
請求項16記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法は、請求項15記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記遷移金属ドープ中間層の膜厚が50nm以下であることを特徴とする。
【0029】
請求項17記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法は、請求項15または16に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする。
【0030】
請求項18記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法は、請求項17記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記遷移金属ドープ中間層中の発光中心の濃度が2〜5wt%であることを特徴とする。
【0031】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照して本発明を詳細に説明する。
【0032】
本発明では、図1に示すように、基板1上に第一の電極としての下部電極2、第一の絶縁層としての下部絶縁層3を順次形成し、この下部絶縁層3上に発光層としてアルカリ土類金属硫化物を含んでなるEL用発光層4を設ける。さらに、発光層4の直上にIIb−VIb族化合物、例えば硫化亜鉛(ZnS)、またはこれに発光中心を添加したものを成膜した直上層5を設ける。さらに直上層5の上に第二の絶縁層としての上部絶縁層6を設ける。発光層4の側面4aと直上層の側面5aは上部絶縁層6で覆われている。さらに第二の電極としての上部電極7を設け、上部電極8および下部電極2を電源8に接続して薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子として動作させる。
【0033】
基板1としては透光性の基板、例えば、ガラス基板を用いることができる。
【0034】
第一の電極2,第二の電極7としては少なくとも一方が透光性の電極、例えばITO電極を用いることができる。
【0035】
発光層4としては、アルカリ土類金属硫化物を母体とし、発光中心として遷移金属を含有するものを用いることができる。アルカリ土類金属硫化物の例としては、SrS,CaS,BaS,MgSなどや、これらの混合膜、またはこれらを積層した膜などを挙げることができる。遷移金属の例としては、マンガン(Mn)、セリウム(Ce)、テルビウム(Tb)、ツリウム(Tm)等が挙げられる。
【0036】
しかし、アルカリ土類金属硫化物をはじめとした反応性の高いEL用発光層は、炭酸ガス(CO,CO2 )や水蒸気(水)と非常によく反応し、組成の変化をおこすので、このままでは安定した素子特性を得ることができない。
【0037】
この問題を解決するために、本発明では、上部絶縁層6を形成する際に、直上層5の上面を絶縁膜で覆って炭酸ガスや水蒸気等の反応性物質から直上層5,発光層4を保護するだけでなく、発光層4の側面4aおよび直上層5の側面5aをも絶縁物質で被覆して、下部絶縁層3と上部絶縁層6によって発光層4と直上層5の全体が完全に包埋されるようにしている。このような構造とすることにより、発光層4が炭酸ガス、水蒸気等の反応性物質から効果的に遮断されるため、従来行われているような、発光層の成膜以後に行われる、発光層の安定化のための後処理としての熱処理を行わなくても、安定した素子特性を得ることができる。
【0038】
直上層5としては、IIb−VIb族化合物、あるいはこれに遷移金属から選ばれる発光中心を添加したものを成膜する。直上層5に用いるIIb−VIb族化合物としては、特に硫化亜鉛(ZnS)が好ましい。IIb−VIb族化合物に添加する発光中心としての遷移金属の例としては、Ce、Eu,Prなどの希土類やMnなどの金属これらの混合物などが挙げられる。直上層5の膜厚は、200〜500nmが適当である。この直上層の膜厚は200nm以下になるとアルカリ土類金属硫化物発光層の表面凹凸を十分に均一化できないため直上層を積層した効果が現れない場合がある。また、直上層の膜厚は厚くするのに従い、アルカリ土類金属硫化物発光層4への炭酸ガス(CO,C02 )や水蒸気(水)の影響が少なくなる。しかし、直上層5の膜厚が500nm以上になると、図2に示すように、EL素子のしきい電圧が高くなるため、絶縁破壊を起こしやすくなることや、ドライバー回路のコストが高くなることが問題となる。そこで、アルカリ士類金属硫化物発光層4の直上に硫化亜鉛または硫化亜鉛(ZnS)にマンガン(Mn)などの発光中心を添加したものを好ましくは200〜500nm積層することで、素子基板表面に付いた吸着ガスの影響を少なくし、素子特性の改善を行うのが好ましい。
【0039】
なお、絶縁層の材料としては、下部絶縁層3および上部絶縁層6の双方について、例えばSiO2 、SiON,Y2 03 、Ti02 、A12 O3 、Hf02 、Ta2 O5 、BaTa2 05 、SrTiO3 、PbTiO3 、ZrO2 などやこれらの混合膜または積層膜を挙げることができる。
【0040】
電極材料としては、通常の薄膜EL素子に用いられる金属、例えばAl、Cu等を用いることができる。
【0041】
上述のような本発明の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子は、以下のようにして製造することができる。すなわち、絶縁基板上に、第一の電極( 下部電極)をEB蒸着法、高周波スパッタ法等により設け、この上にスパッタ法等により第一の絶縁層を形成する。この第一の絶縁層上に、発光層としてアルカリ土類金属硫化物を含んでなる薄膜EL発光層を電子ビーム蒸着法により成膜する。このアルカリ土類金属硫化物薄膜EL発光層上に、IIb−VIb族化合物、または遷移金属から選ばれる発光中心を添加したIIb−VIb族化合物からなる直上層を電子ビーム蒸着法により膜厚200〜500nmで成膜し、この直上層上にスパッタ法等により第二の絶縁層を形成し、さらに電子ビーム蒸着法等により第二の電極を形成する。この場合、発光層の成膜以後には直上層、第二の絶縁層、第二の電極の形成の際に加熱を伴うが、それ以外には、熱処理を行わない。すなわち、前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理(例えば上述の特開平8−273833号公報明細書に記載されている、上部絶縁層8を形成後の630℃、1時間の熱処理)を行わない。このようにすると、後に図5を参照して説明するように、簡単な方法で意外にも輝度の経時低下のほとんどない安定な薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子が得られる。
【0042】
さらに、後述の図3に示す中間層を設けることができる。このようにすると、さらに発光輝度、寿命特性を向上することができる。
【0043】
図3は、本発明の別の実施形態による薄膜EL素子の模式的断面図である。図1に示す薄膜EL素子と同じ部材は同じ符号で示した。本実施形態による薄膜EL素子では、アルカリ土類金属硫化物発光層4とIIb−VIb族化合物またはこれに遷移金属、例えばマンガン(Mn)など、から選ばれる発光中心を添加したものからなる直上層5の間に中間層を挿入する。この中間層は、直上層5よりも遷移金属、例えばマンガンを高濃度にドープしたIIb−VIb族化合物、例えば硫化亜鉛(ZnS)、からなる遷移金属ドープ中間層9である。
【0044】
この遷移金属ドープ中間層9を設けたことにより、アルカリ土類金属硫化物発光層へ拡散してくる酸素原子と遷移金属例えばMnが結合することにより酸素原子がトラップされ、アルカリ土類金属硫化物発光層への酸素の取り込みを少なくし、発光層中の発光中心(Ce等)の回りの結晶場の変化を防ぐことができ、さらに素子基板表面に吸着した活性ガスの影響を少なくすることができる。
【0045】
さらに、この遷移金属ドープ中間層9に用いる遷移金属は直上層5に含有されている遷移金属と同じ元素でも異なる元素でもよい。同じ遷移金属元素を用いると発光色が変化しないという利点がある。一方、異なる遷移金属元素を用いることにより、発光色を調節することもできる。異なる遷移金属元素を用いた場合でも、発光に影響を与えないためには、高濃度の発光中心を含有させるとよい。
【0046】
発光色を変化させない場合、高濃遷移金属ドープ中間層9の膜厚は、通常50nm以下が適当である。この膜厚が50nmを越えると、遷移金属ドープ中間層の発光が影響し、発光色が変化してしまうほか、しきい電圧を高くしてしまうことがある。また、膜厚が10nm未満のときは、これらの効果が十分でないことがある。
【0047】
さらに、遷移金属ドープ中間層のIIb−VIb族化合物、例えば硫化亜鉛は、発光色の変化をもたらさない濃度の遷移金属がドープされる。例えばMnの場合、O.5Wt%付近の濃度で最高輝度・発光効率を得ることができるが、2Wt%以上のMn濃度ではEL発光がほとんどない。そこで、発光色の変化をもたらすことなく、拡散してくる酸素原子と反応しやすくするため2Wt%以上のMn濃度とした。しかし、5wt%を越えるMn濃度では、遷移金属ドープ中間層でのエネルギーのロスが多くなるため、素子全体の発光効率が下がってしまう。従って、輝度、発光色、しきい電圧に影響がないよう、2〜5wt%のMn濃度の硫化亜鉛(ZnS)層を、10〜50nm以下と膜厚を薄くすることで、アルカリ土類金属硫化物発光層へ拡散してくる酸素原子をマンガン(Mn)を酸化させることにより、アルカリ土類金属硫化物発光層への酸素の取り込みを少なくし、Ce(セリウム)等の発光中心の回りの結晶場の変化を防ぎ、素子基板表面に付いた吸着ガスの影響を少なくし、素子特性を改善することができる。
【0048】
図4には、本発明のさらに別の実施形態による薄膜エレクトロルミネッセント素子の模式的断面図を示す。本実施形態では、図3に示す実施形態と同様に、遷移金属ドープ中間層9を発光層4と直上層5の間に設けるとともに、図1に示す薄膜エレクトロルミネッセント素子の場合と同様に、発光層4の側面4aと直上層の側面5aが上部絶縁層6に覆われている。従って、さらに素子の安定効果が改善される。
【0049】
上述の図3および図4を参照して説明した素子は、上述の図1を参照して説明した素子と同様にして製造することができる。ただし、遷移金属ドープ中間層は電子ビーム蒸着法等により形成することができる。
【0050】
【実施例】
〔実施例1〕
硫化ストロンチウム(SrS)母体に発光中心としてセリウム(Ce)を0.2mol%ドープした、硫化ストロンチウム(SrS)ペレットを用いて図1に示す構成の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子を作製した。
【0051】
まず、ガラス基板に膜厚200nm程度のITO電極を設け、スパッタ法で膜厚30nmのSi02 と、膜厚180nmのSi3 N4 とを順次形成し絶縁層とした。
【0052】
電子ビーム蒸着法により、基板温度500℃で膜厚1000nmの発光層を形成した。
【0053】
次に、電子ビーム蒸着法により、基板温度250℃で膜厚を150,250,350nmと変化させ、ZnS:Mn(Mnは0.5wt%)層を積層した。
【0054】
さらに、スパッタ法で膜厚180nmのSi3 N4 と膜厚30nmのSiO2 を順次形成し絶縁層とし、電子ビーム蒸着法によりAl金属電極の成膜を行った。
【0055】
また、一部の素子サンプルについて熱処理(630℃、1時間)をZnS:Mn層成膜後に行った。
【0056】
実施例1のEL素子の寿命特性を評価した結果を図5に示す。
【0057】
図5に示す結果から明らかなように、ZnS:Mnを200nm以上の膜厚に設けた場合、熱処理による安定化を経ずに、相対輝度がほぼ維持されるかあるいは若干向上されることがわかる。また、400nm以上では輝度の向上は飽和している。これに対して、従来と同様に熱処理を行うと、時間の経過とともにかえって相対輝度が低下した。従って、本発明によれば、意外にも、熱処理等の高コストの工程を要することなく、安定化した素子を得ることができる。
【0058】
〔実施例2〕
まず、ガラス基板に膜厚200nm程度のITO電極を設け、スパッタ法で膜厚30nmのSi02 と、膜厚180nmのSi3 N4 とを順次形成し絶縁層とした。
【0059】
電子ビーム蒸着法により、基板温度500℃で膜厚1000nmの硫化ストロンチウムセリウム(SrS:Ce)発光層を形成した。硫化ストロンチウムペレットは実施例1で用いたものと同じものを用いた。
【0060】
次に、電子ビーム蒸着法により、基板温度250℃でZnS+2.5wt%Mn層を30nm成膜し、その上に、ZnS+0.5wt%Mn層を250nm積層した。
【0061】
さらに、スパッタ法で膜厚180nmのSi3 N4 と膜厚30nmのSi02 を順次形成し絶縁層とし、電子ビーム蒸着法によりAl金属電極の成膜を行い、図4に示す構成のEL素子を作製した。
【0062】
実施例2のEL素子の寿命特性を評価した結果を図6に示す。
【0063】
図6に示す結果から明らかなように、遷移金属ドープ中間層(高濃度ドープ層ともいう)を設けた素子サンプルをこのような高濃度ドープ層を持たない素子サンプルに比べると、高濃度ドープ層を有する素子サンプルは初期の相対輝度が高濃度ドープ層を持たない素子サンプルとほぼ同じであるが、経時低下はごくわずかであり、高濃度ドープ層を持たない素子サンプルよりも寿命特性が優れていることがわかる。
【0064】
【発明の効果】
アルカリ士類金属硫化物発光層の直上にIIb−VIb族化合物(例えば硫化亜鉛(ZnS))またはこれに遷移金属(例えばMn)から選ばれる発光中心を添加したものを積層し、反応性の高い素子への吸着ガスの影響を少なくすることで、アルカリ士類金属硫化物発光層への酸素の取り込みを少なくし、Ce(セリウム)等の発光中心の回りの結晶場の変化を防ぎ、しきい電圧の安定化や輝度低下の抑制などの寿命特性が向上し、発光層成膜以後の発光層の安定化のための後処理としての熱処理を行うことなく、安価に安定したEL素子特性を得ることができる。
【0065】
また、アルカリ土類金属硫化物発光層とIIb−VIb族化合物、例えば硫化亜鉛(ZnS)またはこれにマンガン(Mn)などの遷移金属から選ばれる発光中心を添加したものからなる直上層との間に、高濃度に遷移金属(例えば、マンガン(Mn))をドープしたIIb−VIb族化合物(例えば硫化亜鉛(ZnS))層、すなわち遷移金属ドープ中間層、を挿入することで、アルカリ土類金属硫化物発光層へ拡散してくる酸素原子をマンガン(Mn)を酸化させることによりトラップし、アルカリ土類金属硫化物発光層への酸素の取り込みを少なくし、Ce(セリウム)等の発光中心の回りの結晶場の変化を防ぎ、しきい電圧の安定化や輝度低下の抑制などの寿命特性が向上し、発光層成膜後の熱処理を行うことなく、安定したEL素子特性を得ることができる。
【0066】
このため、熱処理装置やその排ガス処理装置などの設備コストをかけることなく、安定したアルカリ土類金属硫化物EL発光素子を安価に得ることできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の構造を説明する模式的断面図である。
【図2】本発明の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子におけるZnS層の膜厚としきい電圧との関係を示すグラフである。
【図3】遷移金属ドープ中間層を有する本発明の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の構造を説明する模式的断面図である。
【図4】遷移金属ドープ中間層を有する本発明の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の構造を説明する模式的断面図である。
【図5】実施例1の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の寿命特性を示すグラフである。
【図6】実施例2の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の寿命特性を示すグラフである。
【図7】従来の白色EL素子の構造を説明する模式的断面図である。
【符号の説明】
1 (ガラス)基板
2 下部電極(第一の電極)
3 下部絶縁層(第一の絶縁層)
4,4’ 発光層
4a 下部ZnS:Mn層
4b SrS:CeN層
4c 上部ZnS:Mn層
5 直上層
6 上部絶縁層(第二の絶縁層)
7 上部電極(第二の電極)
8 電源
9 遷移金属ドープ中間層
Claims (18)
- 絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を備える薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子において、アルカリ土類金属硫化物を含んでなるエレクトロルミネッセント(EL)発光層と、前記エレクトロルミネッセント発光層上部に積層されIIb−VIb族化合物またはこれに遷移金属から選ばれた発光中心を添加してなる直上層と、前記エレクトロルミネッセント発光層と前記直上層の間に形成され、IIb−VIb族化合物と遷移金属からなる中間層であって、前記直上層よりも遷移金属の濃度を高くした、遷移金属ドープ中間層とを有し、前記遷移金属ドープ中間層は前記直上層よりも遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くしたことを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記発光層の側面および前記直上層の側面は前記第二の絶縁層に覆われていることを特徴とする請求項1に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記遷移金属ドープ中間層の膜厚が50nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記直上層の前記IIb−VIb族化合物として硫化亜鉛(ZnS)を用いたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記直上層の前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記遷移金属ドープ中間層の前記IIb−VIb族化合物として硫化亜鉛(ZnS)を用いたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記遷移金属ドープ中間層の前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記遷移金属ドープ中間層中の遷移金属の濃度が2〜5wt%であることを特徴とする請求項7に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記直上層の膜厚が200nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を備える薄膜EL素子において、前記発光層としてアルカリ土類金属硫化物を含んでなるエレクトロルミネッセント(EL)発光層を設け、前記EL発光層上にIIb−VIb族化合物、または遷移金属から選ばれた発光中心を添加したIIb−VIb族化合物からなる直上層を200〜500nmの膜厚で積層してなり、前記発光層の成膜以後には前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理を経ておらず、前記遷移金属ドープ中間層は前記直上層よりも遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くしたことを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記直上層の前記IIb−VIb族化合物として硫化亜鉛(ZnS)を用いたことを特徴とする請求項10記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記直上層の前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする請求項10または11記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 前記発光層と前記直上層との間に、前記直上層よりも遷移金属の濃度を高くした遷移金属ドープ中間層を設けたことを特徴とする請求項10〜12のいずれかに記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子。
- 絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を形成する薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記第一の絶縁層上に、前記発光層としてアルカリ土類金属硫化物を含んでなる薄膜EL発光層を成膜し、前記アルカリ土類金属硫化物薄膜EL発光層上に、遷移金属をドープしたIIb−VIb族化合物からなる遷移金属ドープ中間層を成膜し、前記遷移金属ドープ中間層上に、IIb−VIb族化合物またはこれに遷移金属から選ばれる発光中心を、前記遷移金属ドープ中間層中の遷移金属の濃度が前記直上層中の遷移金属の濃度よりも高くなるように、添加したものを積層して直上層を成膜し、前記発光層の成膜以後には前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理を行わず、前記発光層を成膜した後、前記直上層を成膜する前に、前記直上層よりも前記発光中心である遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くした遷移金属ドープ中間層を成膜することを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法。
- 絶縁基板上に、順次、第一の電極、第一の絶縁層、発光層、第二の絶縁層、および第二の電極を形成する薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法において、前記第一の絶縁層上にアルカリ土類金属硫化物を含んでなるアルカリ土類金属硫化物EL発光層を成膜し、前記アルカリ土類金属硫化物EL発光層上に、IIb−VIb族化合物、または遷移金属から選ばれる発光中心を添加したIIb−VIb族化合物からなる直上層を膜厚200〜500nmで成膜し、前記発光層の成膜以後には前記発光層の安定化のための後処理としての熱処理を行わず、前記発光層を成膜した後、前記直上層を成膜する前に、前記直上層よりも前記発光中心である遷移金属の濃度を発光に影響しない濃度まで高くした遷移金属ドープ中間層を成膜することを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法。
- 前記遷移金属ドープ中間層の膜厚が50nm以下であることを特徴とする請求項15記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法。
- 前記遷移金属としてマンガン(Mn)を用いたことを特徴とする請求項15または16に記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法。
- 前記遷移金属ドープ中間層中の発光中心の濃度が2〜5wt%であることを特徴とする請求項17記載の薄膜エレクトロルミネッセント(EL)素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000012233A JP2000012233A (ja) | 2000-01-14 |
JP3769124B2 true JP3769124B2 (ja) | 2006-04-19 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3769124B2 (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000012233A (ja) | 2000-01-14 |
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