JP3767021B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に係り、特に、MIM素子を備えた液晶表示装置の製造技術及び液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、非線形素子であるMIM(金属−絶縁体−金属)素子を画素毎に備え、このMIM素子によって画素電極へ印加する電位をオンオフ制御する方式の液晶表示装置がある。
【0003】
この種の液晶表示装置における上記MIM素子を形成する部分の製造工程は概略以下の通りである。まず、ガラス基板上にTaをスパッタリング法により被着した後、パターニングすることにより、配線層及び配線層と一体に構成された第1電極部を形成する。次に、この第1電極部の表面を陽極酸化法によって酸化することにより酸化Taから成る薄い絶縁膜を形成する。
【0004】
次に、この絶縁膜の上にスパッタリング法によりCrを被着した後に、パターニング処理を施すことによって絶縁膜の表面上から所定距離伸びて画素電極に接続されるべき画素接続部を備えた第2電極を形成する。最後に、この第2電極の画素接続部の表面上を含め、画素領域のほぼ全体をITO(インジウムスズ酸化物)から成る画素電極で被覆する。
【0005】
このような構造によれば、比較的簡単な構造によりアクティブマトリクス型の液晶表示装置を構成でき、液晶表示の高品位化と製造コストの低減との両立を図ることができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の液晶表示装置によれば、第2電極のパターニング時において、Crのエッチング処理を行うが、Crのエッチング液として一般に用いられている硝酸第2セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合水溶液を用いると、エッチングレートは比較的高いものの、エッチング後の第2電極の周縁部の側面が逆テーパーとなり、第2電極の周縁部の上部角部が鋭角形状になるため、第2電極の表面上に被着された画素電極にクラックが生じたり、角部に電界集中が起こって、電極が破壊されたりすることによって、液晶表示の品位が低下し、或いは点欠陥が発生するという問題点がある。
【0007】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、MIM素子を備えた液晶表示装置の製造方法において、第2電極の形状を改良することにより、第2電極に起因する表示品位の低下や欠陥の発生を防止する新規の製造方法を実現することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明が講じた手段は、基板上に非線形素子を形成する工程を有し、前記非線形素子であるMIM素子を画素毎に備え、前記MIM素子によって画素電極へ印加する電位をオンオフ制御する液晶表示装置の製造方法において、前記MIM素子は、第1電極、絶縁膜及び第2電極から構成されており、前記基板上に前記第1電極を形成する工程と、前記第1電極上に前記絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の表面上に一部重なるように前記第2電極を形成する工程とを備え、前記第2電極を形成する工程は、Crを主成分とする金属材料を被着する工程と、硝酸第2セリウムアンモニウムと硝酸との混合水溶液でエッチング処理を施す工程とを有し、前記混合水溶液の硝酸混入量を調節することによって、前記第2電極の周縁部側面の水平面に対する傾斜角が90度未満になるように形成することを特徴とする。
さらに、前記傾斜角は30度以上90度未満であることを特徴とする。
【0009】
この手段によれば、第2電極の周縁部側面の傾斜角を30度以上90度未満になるようにエッチング処理を施すことにより、第2電極上に形成する画素電極に生ずる亀裂や第2電極の上部角部の電界集中を防止することができるので、電極構造に起因する液晶表示の品位低下や点欠陥の低減を図ることができるとともに、第2電極の平面寸法のばらつきを低減することができるので、MIM素子の特性ばらつきを抑制でき、MIM素子の特性に起因する表示品位の劣化を防止することができる。
【0010】
ここで、前記傾斜角は約60〜70度であることが好ましい。
【0011】
この手段によれば、電極構造の欠陥をさらに低減できるとともに、MIM素子の特性ばらつきを特に抑制することができる。
【0012】
また、前記第2電極をCrを主成分とする金属材料で構成し、前記エッチング処理を硝酸第2セリウムアンモニウムと硝酸との混合水溶液で行うことが好ましい。
【0013】
この手段によれば、Crを上記混合水溶液でエッチングすることによって、確実に第2電極の周縁部側面の傾斜角を制御できる。
【0014】
この場合にはさらに、前記混合水溶液は、硝酸第2セリウムアンモニウムを約10.5wt%、硝酸を約26〜37wt%混合したものであることが望ましい。
【0015】
この手段によれば、上記混合水溶液を用いることにより、確実に所望の傾斜角を得ることができる。
【0016】
さらにまた、前記混合水溶液の硝酸混入量によって前記傾斜角を制御することが望ましい。
【0017】
この手段によれば、硝酸混入量を変えることによって傾斜角を容易かつ確実に制御できる。
【0018】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る実施形態について説明する。
【0019】
図1は本発明に係る液晶表示装置の製造方法の実施形態によって形成された素子側基板の表面上の細部構造を示す斜視図、図2は素子側基板の画素領域の平面構造を示す平面図である。
【0020】
無アルカリガラスから成る素子側基板の表面上にTaをスパッタリング法により被着した後、熱酸化によって酸化Taから成る図示しない下地層を形成し、この下地層の上に再びTaをスパッタリング法により被着し、所定のパターニングを施すことによってストライプ状に複数並列した配線層10を形成する。
【0021】
この配線層10には、配線層10の延長方向に沿って複数配置された第1電極部11が配線層10の側面部から突出した形状に一体に形成されている。次に、この第1電極部11の表面を陽極酸化法によって酸化し、酸化Taから成る図示しない薄い絶縁膜を形成する。
【0022】
次に、上記絶縁膜の表面上に一部重なるように、Crをスパッタリング法によって被着し、パターニングを行うことによって、絶縁膜上に重なるように構成された素子接合部12aと、この素子接合部12aから延長した先において略四角形状に形成された画素接続部12bとを備えた第2電極12を形成する。
【0023】
上記第1電極部11、絶縁膜、及び第2電極12はMIM素子を構成し、図1に示す斜線で示した領域Aは、このMIM素子の接合面である。
【0024】
最後に、上記構造の上からITO(インジウムスズ酸化物)をスパッタリング法により被着しパターニングを施すことによって、図2に示すように第2電極12の画素接続部12bの表面上に一部が重なり、画素領域全体をほぼ被覆するような形状の画素電極13を形成する。
【0025】
上記複数の製造工程のうち、第2電極12のパターニング工程においては、素子側基板の表面上にフォトレジストを塗布し、図1及び図2に示す第2電極の平面パターンに対応するマスクを使用してフォトレジストを露光し、その平面パターン領域以外のフォトレジストを除去する。次に、硝酸第2セリウムアンモニウムと硝酸とを混合した水溶液をエッチング液とするディップ方式によりCrをエッチングする。
【0026】
本実施形態においては、硝酸第2セリウムアンモニウムを一定量(10.5wt%)とし、硝酸の混入量を適宜調節することによって、図3に示すように、レジスト21を用いてパターニングされた第2電極12の周縁部側面12cの基板面に対する傾斜角(以下テーパー角という。)が30度以上90度未満になるようにした。以下の表1に、硝酸の混入量を種々変えた場合における周縁部側面12cのテーパー角及び第2電極12の平面寸法のばらつきとの関係を示す。
【0027】
【表1】
【0028】
この表1において、第2電極12の平面寸法のばらつきは、図3に示す周縁部側面の傾斜による第2電極12の上部と下部との寸法差を100%とした場合、下部の端縁から30%内側にずらした位置を第2電極12の端部とみなして算出したものである。
【0029】
なお、表1の最下欄には、比較例として、Crの一般的なエッチング液である硝酸第2セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合水溶液の組成及びこのエッチング液を用いてパターニングを行った場合の第2電極のテーパー角及び平面寸法のばらつきを示す。この場合にはエッチングレートは高いものの、図4に示す第2電極12’のように、周縁部側面12c’のテーパー角は100度となり、いわゆる逆テーパーとなる。
【0030】
このように第2電極を一般的なエッチング液を用いてパターニングすると、第2電極の上部角部は鋭角となり、第2電極の上層に形成される画素電極の亀裂や上部角部に電界が集中することによる電極破壊が生ずる。この結果、液晶表示装置の表示品位が低下したり、当該画素の駆動ができなくなることによって点欠陥が発生する。なお、表1に示した通り、過塩素酸を用いた比較例と同様に、硝酸を22wt%混入したエッチング液を用いた場合にも、テーパー角は100度となる。
【0031】
表1に示すように、硝酸第2セリウムアンモニウムを一定量として硝酸の混入量を変化させた場合、パターニング後の第2電極のテーパー角を100度から10度まで変化させることができる。上記の比較例のように液晶表示装置の表示品位の低下を来さないためには、第2電極の周縁部側面12cのテーパー角を90度未満にする必要があり、本実施形態の場合には約26wt%以上の硝酸を混入する必要がある。
【0032】
硝酸の混入量を増加させていくとテーパー角は小さくなっていくが、これに伴って第2電極の寸法ばらつきは大きくなり、特に、テーパー角が30度未満になると、図5に示すように、第2電極12”の周縁部側面12c”の端縁部が波状又は凹凸状に形成されることが多く、寸法ばらつきは急激に増大する。この寸法ばらつきはそのまま上記第1電極部、絶縁膜及び第2電極部からなるMIM素子の接合面A(図1参照)の面積のばらつきに結びつくため、MIM素子の特性のばらつきを招いて、液晶表示の表示品位を劣化させる。
【0033】
したがって、第2電極に起因する亀裂や電界集中を抑制しつつ、第2電極の寸法ばらつきを低減して、MIM素子の特性のばらつきを低減するためには、テーパー角において約30度以上90度未満の範囲とし、上記表1では硝酸の混入量を約26〜37wt%の範囲とすることが好ましい。
【0034】
特に、MIM素子の特性ばらつきに対する高い要求水準を満たし、しかも安定して画素電極の影響を防止するためには、テーパー角にして約60〜70度、表1の場合における硝酸量にして30〜33wt%とすることが望ましい。
【0035】
一般に硝酸第2セリウムアンモニウムはCrをイオン化して水中に溶解させ、過塩素酸は、その高い酸化還元電位(〜1.7V)によって溶解したCrイオンの析出を防止する効果を有するが、過塩素酸の代わりに硝酸を用いても、酸化還元電位(〜1.6V)が過塩素酸よりは低いものの上記効果を奏するには充分である。一方、硝酸を混入したエッチング液は第2電極とレジストとの界面に進入し易く、硝酸量を増加することによって容易にテーパー角を低減することができる。
【0036】
上記実施形態では、硝酸第2セリウムアンモニウムと硝酸との混合水溶液によってエッチングを行い、特に、硝酸量の変化によってテーパー角が容易に変わることに着目し、硝酸量を調節することによってテーパー角を制御するようにしているため、製造工程による液晶表示装置の表示品位の制御を容易に行うことができる。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば以下の効果を奏する。
【0038】
本発明によれば、Crを主成分とする金属材料を上記混合水溶液でエッチングすることによって、第2電極の周縁部側面の傾斜面を形成するようにエッチング処理を施すことにより、第2電極上に形成する画素電極に生ずる亀裂や第2電極の上部角部の電界集中を防止することができるので、電極構造に起因する液晶表示の品位低下や点欠陥の低減を図ることができるとともに、第2電極の平面寸法のばらつきを低減することができるので、MIM素子の特性ばらつきを抑制でき、MIM素子の特性に起因する表示品位の劣化を防止することができる。
【0039】
また、第2電極の周縁部側面の傾斜角を30度以上90度未満になるようにエッチング処理を施すことにより、第2電極上に形成する画素電極に生ずる亀裂や第2電極の上部角部の電界集中を防止することができる
【0040】
また、上記混合水溶液を用いることにより、確実に所望の傾斜角を得ることができる。
【0041】
また、硝酸混入量を変えることによって傾斜角を容易かつ確実に制御できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の実施形態により形成されたMIM素子近傍の構造を示す拡大斜視図である。
【図2】同実施形態における液晶表示装置の画素領域の平面構造を示す平面図である。
【図3】同実施形態における第2電極のパターニング工程を示す縦断面図である。
【図4】一般的なエッチング液にてパターニングを行った場合(比較例)のMIM素子近傍の構造を示す拡大斜視図である。
【図5】硝酸量を増大してテーパー角を小さくした場合のMIM素子近傍の構造を示す拡大斜視図である。
【符号の説明】
10 配線層
11 第1電極部
12 第2電極部
12a 素子接合部
12b 画素接続部
13 画素電極[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device and a liquid crystal display device, and more particularly, to a manufacturing technique of a liquid crystal display device including a MIM element and a liquid crystal display device.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, there is a liquid crystal display device of a type in which an MIM (metal-insulator-metal) element that is a non-linear element is provided for each pixel, and the potential applied to the pixel electrode is controlled on and off by the MIM element.
[0003]
The manufacturing process of the portion for forming the MIM element in this type of liquid crystal display device is as follows. First, Ta is deposited on a glass substrate by a sputtering method, and then patterned to form a wiring layer and a first electrode part integrally formed with the wiring layer. Next, a thin insulating film made of oxidized Ta is formed by oxidizing the surface of the first electrode portion by an anodic oxidation method.
[0004]
Next, after depositing Cr on the insulating film by a sputtering method, a patterning process is performed to thereby extend a predetermined distance from the surface of the insulating film to provide a pixel connection portion to be connected to the pixel electrode. An electrode is formed. Finally, almost the entire pixel region including the surface of the pixel connection portion of the second electrode is covered with a pixel electrode made of ITO (indium tin oxide).
[0005]
According to such a structure, an active matrix type liquid crystal display device can be configured with a relatively simple structure, and both high-quality liquid crystal display and reduction in manufacturing cost can be achieved.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
According to the conventional liquid crystal display device, Cr is etched during patterning of the second electrode. A mixed aqueous solution of ceric ammonium nitrate and perchloric acid, which is generally used as an etching solution for Cr, is used. When used, the etching rate is relatively high, but the side surface of the peripheral portion of the second electrode after etching is inversely tapered, and the upper corner portion of the peripheral portion of the second electrode has an acute angle shape. There is a problem in that the quality of the liquid crystal display is deteriorated or a point defect is generated by cracking the pixel electrode deposited on the electrode, electric field concentration in the corner, and the electrode being destroyed. .
[0007]
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and the problem is that in a method of manufacturing a liquid crystal display device including an MIM element, the display quality caused by the second electrode is improved by improving the shape of the second electrode. It is to realize a novel manufacturing method for preventing the deterioration of the film and the occurrence of defects.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
Means taken by the present invention in order to solve the above-described problem includes a step of forming a nonlinear element on a substrate, and the MIM element as the nonlinear element is provided for each pixel, and is applied to the pixel electrode by the MIM element. In the method of manufacturing a liquid crystal display device that controls on / off of a potential, the MIM element includes a first electrode, an insulating film, and a second electrode, and the step of forming the first electrode on the substrate; A step of forming the insulating film on one electrode and a step of forming the second electrode so as to partially overlap the surface of the insulating film, wherein the step of forming the second electrode comprises mainly Cr. A step of depositing a metal material as a component, and a step of etching with a mixed aqueous solution of ceric ammonium nitrate and nitric acid, and adjusting the amount of nitric acid mixed in the mixed aqueous solution, Electric It is characterized in that the inclination angle of the side surface of the peripheral edge of the pole with respect to the horizontal plane is less than 90 degrees.
Furthermore, the inclination angle is 30 degrees or more and less than 90 degrees.
[0009]
According to this means, by performing an etching process so that the inclination angle of the side surface of the peripheral edge of the second electrode is not less than 30 degrees and less than 90 degrees, cracks or second electrodes formed on the pixel electrode formed on the second electrode As a result, it is possible to reduce the quality of the liquid crystal display and the point defects due to the electrode structure, and to reduce the variation in the planar dimensions of the second electrode. As a result, variations in the characteristics of the MIM element can be suppressed, and display quality deterioration due to the characteristics of the MIM element can be prevented.
[0010]
Here, the tilt angle is preferably about 60 to 70 degrees.
[0011]
According to this means, the defect of the electrode structure can be further reduced, and the characteristic variation of the MIM element can be particularly suppressed.
[0012]
Further, it is preferable that the second electrode is made of a metal material containing Cr as a main component, and the etching treatment is performed with a mixed aqueous solution of ceric ammonium nitrate and nitric acid.
[0013]
According to this means, the inclination angle of the side surface of the peripheral edge of the second electrode can be reliably controlled by etching Cr with the above mixed aqueous solution.
[0014]
In this case, the mixed aqueous solution is preferably a mixture of about 10.5 wt% of ceric ammonium nitrate and about 26 to 37 wt% of nitric acid.
[0015]
According to this means, a desired inclination angle can be obtained reliably by using the above mixed aqueous solution.
[0016]
Furthermore, it is desirable to control the tilt angle according to the amount of nitric acid mixed in the mixed aqueous solution.
[0017]
According to this means, the inclination angle can be easily and reliably controlled by changing the amount of nitric acid mixed therein.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[0019]
FIG. 1 is a perspective view showing a detailed structure on the surface of an element side substrate formed by an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing a planar structure of a pixel region of the element side substrate. It is.
[0020]
After depositing Ta on the surface of the element-side substrate made of alkali-free glass by sputtering, a base layer (not shown) made of oxidized Ta is formed by thermal oxidation, and Ta is again coated on the base layer by sputtering. A plurality of
[0021]
In the
[0022]
Next, by depositing Cr by sputtering so as to partially overlap the surface of the insulating film and performing patterning, the
[0023]
The
[0024]
Finally, ITO (indium tin oxide) is deposited on the above structure by sputtering and patterned, so that a part of the surface of the
[0025]
Among the plurality of manufacturing processes, in the patterning process of the
[0026]
In the present embodiment, the second cerium ammonium nitrate is a fixed amount (10.5 wt%), and the amount of nitric acid mixed is adjusted as appropriate, whereby the second patterned using the resist 21 as shown in FIG. An inclination angle (hereinafter referred to as a taper angle) of the
[0027]
[Table 1]
[0028]
In Table 1, the variation in the planar dimension of the
[0029]
In the bottom column of Table 1, as a comparative example, a composition of a mixed aqueous solution of ceric ammonium nitrate and perchloric acid, which is a general etching solution for Cr, and patterning were performed using this etching solution. The variation of the taper angle and planar dimension of the second electrode is shown. In this case, although the etching rate is high, like the
[0030]
When the second electrode is patterned using a general etching solution in this way, the upper corner portion of the second electrode becomes an acute angle, and the electric field concentrates on the crack or upper corner portion of the pixel electrode formed on the upper layer of the second electrode. This causes electrode destruction. As a result, the display quality of the liquid crystal display device deteriorates or the pixel cannot be driven, thereby causing point defects. As shown in Table 1, as in the comparative example using perchloric acid, the taper angle is 100 degrees when an etching solution mixed with 22 wt% nitric acid is used.
[0031]
As shown in Table 1, when the mixing amount of nitric acid is changed with a constant amount of ceric ammonium nitrate, the taper angle of the second electrode after patterning can be changed from 100 degrees to 10 degrees. In order to prevent the display quality of the liquid crystal display device from being deteriorated as in the above comparative example, the taper angle of the
[0032]
As the amount of nitric acid mixed in increases, the taper angle decreases, but with this, the dimensional variation of the second electrode increases. In particular, when the taper angle is less than 30 degrees, as shown in FIG. In many cases, the edge portion of the
[0033]
Therefore, in order to reduce the dimensional variation of the second electrode and reduce the variation of the characteristics of the MIM element while suppressing cracks and electric field concentration due to the second electrode, the taper angle is about 30 degrees or more and 90 degrees. It is preferable that the amount of nitric acid mixed in Table 1 is in the range of about 26 to 37 wt%.
[0034]
In particular, in order to satisfy the high required level for the characteristic variation of the MIM element and to stably prevent the influence of the pixel electrode, the taper angle is about 60 to 70 degrees, and the nitric acid amount in the case of Table 1 is 30 to 30. It is desirable to set it as 33 wt%.
[0035]
In general, ceric ammonium nitrate ionizes Cr and dissolves it in water, and perchloric acid has the effect of preventing precipitation of dissolved Cr ions by its high redox potential (˜1.7 V). Even if nitric acid is used instead of the acid, the oxidation-reduction potential (˜1.6 V) is lower than that of perchloric acid, but it is sufficient for the above effect. On the other hand, the etching solution mixed with nitric acid easily enters the interface between the second electrode and the resist, and the taper angle can be easily reduced by increasing the amount of nitric acid.
[0036]
In the above embodiment, etching is performed with a mixed aqueous solution of ceric ammonium nitrate and nitric acid. In particular, the taper angle is easily changed by changing the amount of nitric acid, and the taper angle is controlled by adjusting the amount of nitric acid. Therefore, it is possible to easily control the display quality of the liquid crystal display device by the manufacturing process.
[0037]
【The invention's effect】
As described above, the present invention has the following effects.
[0038]
According to the present invention, by etching the metal material containing Cr as a main component with the above mixed aqueous solution, an etching process is performed so as to form the inclined surface of the peripheral side surface of the second electrode. Since it is possible to prevent cracks in the pixel electrode formed in the first electrode and electric field concentration at the upper corner of the second electrode, it is possible to reduce the quality of the liquid crystal display and the point defects due to the electrode structure. Since variations in the planar dimensions of the two electrodes can be reduced, variations in the characteristics of the MIM elements can be suppressed, and display quality deterioration due to the characteristics of the MIM elements can be prevented.
[0039]
In addition, by performing an etching process so that the inclination angle of the side surface of the second electrode is not less than 30 degrees and less than 90 degrees, cracks generated in the pixel electrode formed on the second electrode and upper corners of the second electrode It is possible to prevent the electric field concentration of
Further, by using the above mixed aqueous solution, a desired tilt angle can be obtained with certainty.
[0041]
In addition, the tilt angle can be controlled easily and reliably by changing the amount of nitric acid mixed therein.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an enlarged perspective view showing a structure in the vicinity of an MIM element formed by an embodiment of a manufacturing method of a liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a planar structure of a pixel region of the liquid crystal display device according to the embodiment.
FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing a second electrode patterning step in the same embodiment;
FIG. 4 is an enlarged perspective view showing the structure in the vicinity of the MIM element when patterning is performed with a general etching solution (comparative example).
FIG. 5 is an enlarged perspective view showing the structure in the vicinity of the MIM element when the amount of nitric acid is increased to reduce the taper angle.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記MIM素子は、第1電極、絶縁膜及び第2電極から構成されており、
前記基板上に前記第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に前記絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の表面上に一部重なるように前記第2電極を形成する工程とを備え、
前記第2電極を形成する工程は、
Crを主成分とする金属材料を被着する工程と、
硝酸第2セリウムアンモニウムと硝酸との混合水溶液でエッチング処理を施す工程とを有し、
前記混合水溶液の硝酸混入量を調節することによって、前記第2電極の周縁部側面の水平面に対する傾斜角が90度未満になるように形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。In a method for manufacturing a liquid crystal display device, the method includes a step of forming a nonlinear element on a substrate, the MIM element as the nonlinear element is provided for each pixel, and the potential applied to the pixel electrode by the MIM element is controlled on and off.
The MIM element includes a first electrode, an insulating film, and a second electrode,
Forming the first electrode on the substrate;
Forming the insulating film on the first electrode;
Forming the second electrode so as to partially overlap the surface of the insulating film,
The step of forming the second electrode includes:
Applying a metal material mainly composed of Cr;
Etching with a mixed aqueous solution of ceric ammonium nitrate and nitric acid,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: adjusting a mixing amount of nitric acid in the mixed aqueous solution so that an inclination angle of a side surface of a peripheral edge of the second electrode with respect to a horizontal plane is less than 90 degrees.
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