JP3739987B2 - トモグラフィー装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の干渉性を利用して測定試料の構造を検出するためのトモグラフィー装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
光干渉トモグラフィーを用いた形状測定装置は、物体の内部構造、屈折率や厚さ等を得ることができる測定装置として知られている。
【0003】
この形状測定装置としては、例えば図14に示すようなものがある。この形状測定装置は、可干渉距離が短い光源101から出射した光L101をビームスプリッタ102で物体光L102と参照光L103とに分割する。物体光L102は、スキャナ103を介して測定試料Sで反射されて物体光L104とされ再びビームスプリッタ102に入射される。また、参照光L103は、周波数シフタ104を介してモータ106で位置決めされた参照光用ミラー105で反射されて再びビームスプリッタ102に入射される。
【0004】
物体光L104と参照光L103とは、ビームスプリッタ102に入射されることで合成され、干渉光L105として光検出器107に入射される。光検出器107では、物体光L104と参照光L103との干渉により光強度が変調された干渉光を検出して検出信号を生成する。検出信号は信号処理回路108で例えばフィルタリング、A/D(analog to digital)変換されて制御部109に入力される。制御部109では、入力された信号に基づいて、例えば測定試料Sの内部構造を示す画像を測定結果として生成する。また、制御部109では、入力された信号やモータ106からのフィードバック信号に基づいてモータ駆動回路110を制御してモータ106を駆動する。また、制御部109では、測定試料Sの表面上で物体光L102を走査させるようにスキャナ103を制御する。
【0005】
このような形状測定装置では、測定試料SをZ方向又は参照用ミラー105をX方向に移動させて、測定試料S又は参照用ミラー105が移動した距離を求めることにより、測定試料Sの深さ方向における反射率分布を得る。これにより、形状測定装置は、深さ方向における反射率分布を得ることで、測定試料Sの断層計測を行って測定試料Sの内部形状及び外部形状を測定することができる。この形状測定装置では、例えば赤色〜近赤外の波長領域の光を用いることにより、生体内部の観測に用いることができる。
【0006】
また、従来の形状測定装置において、可干渉距離の短い光源101としてパルスレーザを出射したときには、参照用ミラー105で反射するパルスのタイミングが合うことにより干渉が発生した成分を用いて測定試料Sの内部構造を観測することもできる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の形状測定装置では、通常、光源101が単一であるために、参照用ミラー105のX方向における位置を機械的に制御して干渉を制御しなければならなかった。ここで、参照用ミラー105の動作速度には限界があり、従来の形状測定装置では、測定試料Sを測定するのに多大な時間を要することが多かった。
【0008】
更に、従来において、光周波数変調干渉法(Optical Frequency Domain Reflectometry:OFDR)と称される手法を適用したトモグラフィー装置が提案されているが、現実には使用するレーザの周波数を広範囲に掃引する必要があり、このときに機械的駆動が用いられている。
【0009】
更に、従来では、機械的な駆動を用いない例もあるが、分解能が低いという問題がある。
【0010】
そこで、本発明は、上述したような実情に鑑みて提案されたものであり、短時間且つ高分解能で試料の測定を行うことができるトモグラフィー装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決する本発明に係るトモグラフィー装置は、可干渉性を有する光を出射する光源と、周波数f1の第1の信号を生成する第1の信号生成手段と、上記第1の信号生成手段からの第1の信号を用いて上記光源からの光を変調して、上記光源からの光に周波数f1間隔ごとに側帯波を有する参照光を生成する第1の光周波数コム発生手段と、周波数f2の第2の信号を生成する第2の信号生成手段と、上記第2の信号生成手段からの第2の信号を用いて上記光源からの光を変調して、上記光源からの光に周波数f2間隔ごとに側帯波を有する物体光を生成する第2の光周波数コム発生手段と、上記第1の光周波数コム発生手段からの参照光と、上記第2の光周波数コム発生手段で生成され被測定物体で反射された物体光と、を合成した干渉光を生成する合成手段と、上記第1の信号及び第2の信号間の位相差又は周波数差を変化させることにより、上記第1の光周波数コム発生手段からの参照光と上記第2の光周波数コム発生手段からの物体光との干渉タイミングを制御して、上記干渉光の干渉による光強度の変化を検出する検出手段と、上記第2の光周波数コム発生手段からの物体光の照射位置を被測定物体上で走査する走査手段と、上記検出手段からの干渉検出結果に基づいて、被測定物体の形状情報を検出する形状検出手段と、上記走査手段で走査されることで、上記形状検出手段で生成された複数の形状情報を用いて、被測定物体の形状を示す画像を生成する画像生成手段とを備えることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0014】
本発明を適用したトモグラフィー装置1は、例えば図1に示すように構成される。
【0015】
図1に示すトモグラフィー装置1は、光源2からのレーザ光をビームスプリッタ3を介して第1の光周波数コム発生器5、ビームスプリッタ3及びミラー4を介して第2の光周波数コム発生器6に入射し、第1の光周波数コム発生器5からの光をミラー7、周波数シフタ8、アイソレータ9、ビームスプリッタ10に入射するとともに、第2の光周波数コム発生器6からの光をアイソレータ11、ビームスプリッタ10、スキャナ12を介して測定試料Sに入射し、測定試料Sからの反射光をビームスプリッタ10で合成して光検出器13で受光する光学系を備える。また、このトモグラフィー装置1は、光検出器13で検出した光検出信号を用いて試料測定結果を得るための信号処理部14及び制御部15を備える。更に、トモグラフィー装置1は、第1の光周波数コム発生器5に第1の変調信号を供給する外部発振器16、第2の光周波数コム発生器6に第2の変調信号を供給する位相シフタ17を備え、更に位相シフタ17を制御する位相制御部18を備える。
【0016】
光源2は、可干渉性を有し所定の周波数のレーザ光L1を発生してビームスプリッタ3に出射する。
【0017】
ビームスプリッタ3は、光源2からレーザ光L1が入射され、レーザ光L1をレーザ光L2とレーザ光L3とに分割する。このビームスプリッタ3は、レーザ光L2を第1の光周波数コム発生器5に出射するとともに、レーザ光L3を第2の光周波数コム発生器6に出射する。
【0018】
外部発振器16は、周波数fmの第1の変調信号を発生する発振器からなる。この外部発振器16は、第1の変調信号を第1の光周波数コム発生器5及び位相シフタ17に供給する。
【0019】
第1の光周波数コム発生器(Optical Frequency Comb Generator)4は、ビームスプリッタ3からレーザ光L2が入射されるとともに、外部発振器16から周波数fmの第1の変調信号が入力される。この第1の光周波数コム発生器5は、例えばEOM(電気光学変調器)と当該EOMを挟むように対向して配設された反射鏡とからなり、EOMと反射鏡で光発振器を構成してなる。この第1の光周波数コム発生器5は、入射したレーザ光L2の周波数を中心周波数ν1として、周波数fmの等周波数間隔で側帯波(サイドバンド)を発生させた参照光を生成する。この結果、参照光は、中心周波数ν1からkfm(k=−m,−m+1,−m+2,・・・,0,1,2,・・・,n)の周波数成分の側帯波を有する光となされる。
【0020】
また、この第1の光周波数コム発生器5は、第1の変調信号の所定の位相に応じた所定のタイミングのパルス光として参照光L4を出射する。この第1の光周波数コム発生器5は、側帯波を有し、パルス光とした参照光L4をミラー7に出射する。第1の光周波数コム発生器5から出射された参照光L4は、ミラー7を介して周波数シフタ8に入射される。
【0021】
なお、本実施の形態では、第1の光周波数コム発生器5から出射する参照光L4がパルス光である一例について説明するが、パルス光でなくても良く、位相変調光であってもよい。
【0022】
周波数シフタ8は、ミラー7からの参照光L4を透過させることで、参照光L4の各周波数成分の周波数ν1+kfmをSfだけシフトさせる。この結果、周波数シフタ8は、参照光L4に含まれる各周波数成分をν1+kfm+Sfとし、ビームスプリッタ10に出射する。周波数シフタ8は、例えば内部に発生した超音波により音響光学相互作用で参照光L4の周波数を変化させる音響光学変調器(AOM:acoustooptic modulator)からなる。
【0023】
位相シフタ17は、位相制御部18から位相制御信号が入力され、位相シフト量φが制御される。この位相シフタ17は、外部発振器16からの第1の変調信号の位相を位相シフト量φだけシフトさせる。
【0024】
この位相シフタ17は、第2の光周波数コム発生器6から出射する物体光L6のタイミングを制御する。ここで、第1の変調信号及び第2の変調信号のゼロクロス点で参照光L4及び物体光L6が出射する。この位相シフタ17は、第1の変調信号(図2(a))と第2の変調信号(図2(c)との間に位相シフト量φを与えることで、参照光L4(図2(b))と物体光(図2(d))とのタイミングに時間差Δtを与える。
【0025】
ここで、参照光L4が出射するタイミングと物体光L6が出射するタイミングとの間の時間差Δtは、(φ/2π)×(1/fm)で表現される。
【0026】
また、この第2の光周波数コム発生器6は、物体光L6を出射するタイミングを制御することでパルス光とする。この第2の光周波数コム発生器6は、中心周波数ν2を中心とした側帯波を有し、パルス光とした参照光L5をビームスプリッタ10に出射する。なお、本実施の形態では、第2の光周波数コム発生器6から出射する物体光L6がパルス光である一例について説明するが、パルス光でなくても良く、参照光L4と干渉する光であれば良い。
【0027】
アイソレータ9は、周波数シフタ8からの参照光L5をビームスプリッタ10に透過する。このアイソレータ9は、周波数シフタ8からビームスプリッタ10に向かう方向にのみ光を透過する機能を有し、ビームスプリッタ10で反射して第1の光周波数コム発生器5に入射する光を遮断する。
【0028】
アイソレータ11は、第2の光周波数コム発生器6からの物体光L6をビームスプリッタ10に透過する。このアイソレータ11は、第2の光周波数コム発生器6からビームスプリッタ10に向かう方向にのみ光を透過する機能を有し、ビームスプリッタ10で反射して第2の光周波数コム発生器6に入射する光を遮断する。
【0029】
ビームスプリッタ10は、ミラー7及び周波数シフタ8を介して第1の光周波数コム発生器5からの参照光L5が入射されるとともに、第2の光周波数コム発生器6から物体光L6が入射される。このビームスプリッタ10は、第2の光周波数コム発生器6からの物体光L6をスキャナ12に透過する。また、このビームスプリッタ10は、スキャナ12から測定試料Sで反射した物体光L8が入射され、スキャナ12からの物体光L8と参照光L5とを合成した干渉光L9を光検出器13に出射する。
【0030】
スキャナ12は、ビームスプリッタ10を介して第2の光周波数コム発生器6からの物体光L6が入射される。このスキャナ12は、制御部15からの制御信号に従って測定試料Sの表面で物体光L7を走査させる。また、スキャナ12は、測定試料Sの内部で反射した物体光L8が入射され、ビームスプリッタ10に導く。
【0031】
光検出器13は、ビームスプリッタ10からの干渉光L9が入射され、干渉光L9の光強度に応じた光検出信号を得る。光検出器13は、干渉光L9を検出したことによる光検出信号を信号処理部14に出力する。
【0032】
信号処理部14は、光検出器13からの光検出信号について所定の信号処理を施す。信号処理部14は、例えばフィルタリング、包絡線検出をして直流信号に変換し、A/D(analog to digital)変換を光検出信号に行い、物体光L8の測定試料S内での反射位置を示す反射率分布信号を生成する。なお、信号処理部14の処理内容については後述する。
【0033】
また、信号処理部14は、光検出器13から光検出信号を用いて、スペクトル解析処理を行う。この信号処理部14は、光検出器13からの光検出信号にスペクトル分解処理を行うことで、干渉光L9に含まれる各周波数成分の強度を検出し、各周波数成分の吸収を示す分光情報を制御部15に出力する。
【0034】
位相制御部18は、制御部15から制御信号が入力される。この位相制御部18は、制御部15からの制御信号に基づいて、位相シフタ17の位相シフト量φを決定して位相制御信号を位相シフタ17に出力することで、位相シフタ17の位相シフト量φを設定する。
制御部15は、位相制御部18に制御信号を出力することで、位相シフタ17での位相シフト量φを変化させ、参照光と物体光とのタイミングの時間差Δtを制御する。この制御部15は、連続的に位相シフト量φを変化させるように位相制御部18を制御することで、時間差Δtを連続的に変化させて掃引する。
【0035】
制御部15は、信号処理部14から反射率分布信号が入力され、測定試料Sの深さ方向における形状情報を生成する。この制御部15は、深さ方向における形状情報を用いて、測定試料Sの内部構造を示す断面画像を生成する。
【0036】
このように構成されたトモグラフィー装置1において、例えば図3(a)に示す参照光と図3(b)に示す物体光とが合成されて光検出器13に入射し、図3(a)に示す参照光と図3(b)に示す物体光とが合波された光検出信号が信号処理部14に入力される。ここで、参照光(図3(a))と物体光(図3(b))とは、Δt2を物体光が測定試料Sに入射して再度ビームスプリッタ10に入射するために発生する遅延時間による参照光と物体光との時間差とすると、時間差Δt−Δt2を有して入射される。また、参照光と物体光とは、図4に示すように、位相シフタ17により位相シフト量φが変化されることで時間差Δtが時間に依存した形で変化される。上記時間差Δt−Δt2は、第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6が発した光が光検出器13に達するまでの時間差であり、測定試料Sが光を反射する場所で異なる。
【0037】
第1の光周波数コム発生器5が発生させる参照光の電場の時間的変化は、外部発振器16で発生させる第1の変調信号の周波数をfmとし、kを−m次からn次まで変化させたとき、下記式1で示すように、
【0038】
【数1】
【0039】
で表現され、第2の光周波数コム発生器6が発生させる光の電場の時間的変化は、測定試料Sの反射点を一点とし、位相シフタ17から入力される第2の変調信号の第1の変調信号に対する位相シフト量をφとし、位相シフタ17から第2の光周波数コム発生器6に供給する第2の変調信号の周波数をfm2とし、kを−m次からn次まで変化させ、第2の光周波数コム発生器6の発生させたサイドバンドが第1の光周波数コム発生器5と同じ−m次〜n次まで発生したとすると、光検出器13において式1に対して
【0040】
【数2】
【0041】
で表現される。上記式1中のAk(k=−m、−m+1,−m+2・・・n)は参照光に含まれる各周波数成分の光複素振幅であり、上記式2中のBk(k=−m、−m+1,−m+2・・・n)は物体光に含まれる各周波数成分の光複素振幅であり、iconstはトモグラフィー装置1を構成する各光学部品の位置に依存する値であり、ν1は参照光の中心周波数であり、ν2は物体光の中心周波数であり、第1の光周波数コム発生器5と第2の光周波数コム発生器6とに入射する光が単一の光源2から出射した光を分割したものであるとすると、ν1とν2とは同じ値となる。
【0042】
制御部15は、位相制御部18を制御して位相シフト量を掃引することで、参照光と物体光とに位相シフタ17で位相シフト量φを与え、参照光と物体光とを干渉させて光検出信号を得る。
【0043】
参照光と物体光とが干渉したときの光検出信号は、
|(参照光のスペクトル)+(物体光のスペクトル)|2 (式3)
と表現される。ここで、光検出器13の検出帯域Wの上限の値をSf<W<fmとし、上記式3を用いて得た光検出信号の直流成分をカットすると、光検出信号は、図5に示すような波形の信号となる。ここで、図5に示す光検出信号は、kを−m次から+n次まで変化させたとき、
【0044】
【数3】
【0045】
に比例した値となる。ここで、式4中では、ν1=ν2であることから、単にνと表記し、fm1=fm2であることから、単にfmと表記している。
【0046】
第1の光周波数コム発生器5と第2の光周波数コム発生器6とは同じ性能のコム発生器であるのでAkとBk *との積が実数であり、したがって、式4中の2πfmΔt2−φが0又は2πの整数倍となったとき、周波数Sfの周波数付近の変調された波形が非常に大きくなる。すなわち、変調された波形は、位相シフト量φを変化させることで時間差Δtの変化に応じて、図5に示すように、Δt2 +(N/fm)(Nは整数)の時刻で出現する。
【0047】
制御部15は、位相シフト量φの変化により時間差Δtを変化させて時間差Δt2を求め、測定試料Sの内部の反射点を決定する。これにより、制御部15は、測定試料S内部での反射率分布信号を得て、反射点間の対応関係を得る。
【0048】
また、この制御部15は、光検出器13からの光検出信号を用いて、分光情報を得て、測定試料Sの材質等を得ることもできる。
【0049】
なお、図1に示したトモグラフィー装置1では、第1の変調信号に対して位相差を与えて第2の光周波数コム発生器6に供給する位相シフタ17を備える一例について説明したが、第1の光周波数コム発生器5に供給する変調信号の位相をシフトさせても良い。
【0050】
また、図1の周波数シフタ8は、トモグラフィー装置1で測定試料Sの反射点の対応関係を測定するだけならば、ミラー7からの光に対して周波数シフトを与える一例のみならず、第1の光周波数コム発生器5の前段等に配置しても良く、更には無くても良い。
【0051】
つぎに、本発明を適用した他のトモグラフィー装置20について図6を参照して説明する。なお、上述したトモグラフィー装置1と同様の部分については同一符号を付することでその詳細な説明を省略する。
【0052】
このトモグラフィー装置20は、第1の光周波数コム発生器5に第1の変調信号を供給する第1の外部発振器21、第2の光周波数コム発生器6に第2の変調信号を供給する第2の外部発振器22、第1の外部発振器21及び第2の外部発振器22を制御する変調信号制御部23を備える点で図1に示したトモグラフィー装置1とは異なる。
【0053】
この変調信号制御部23は、図7に示すように、ミキサ31、ローパスフィルタ32、位相弁別器33、制御用アンプ34からなる。このような変調信号制御部23では、第1の外部発振器21及び第2の外部発振器22から出力する変調信号をミキサ31で混合し、ローパスフィルタ32を介して位相弁別器33に入力する。位相弁別器33では制御部15から与えられる周波数δfの発振信号を基準信号とし、ローパスフィルタ32からの信号と基準信号との位相差に比例した位相誤差信号を生成する。この変調信号制御部23は、位相弁別器33で生成した位相誤差信号を制御用アンプ34を介して第2の外部発振器22に出力する。これにより、変調信号制御部23では、第1の外部発振器21と第2の外部発振器22とにヘテロダイン位相同期制御をすることで、第1の外部発振器21及び第2の外部発振器22で発生させる第1の変調信号及び第2の変調信号との位相差を高精度に制御し、異なる周波数の第1の変調信号及び第2の変調信号を生成する。
【0054】
ここで、上記位相シフト量φの連続的な変化が周波数fm1と周波数fm2との周波数差δfに相当し、下記式5に示すように
fm2−fm1=δf (式5)
となる。
【0055】
ここで図1において、第2の光周波数コム発生器(Optical Frequency Comb Generator)6には、ビームスプリッタ3からレーザ光L3が入射されるとともに、位相シフタ17から電圧V=sin(2πfmt+φ)の第2の変調信号が入力される。このとき、φ=2πδftとすれば、第2の変調信号は
V=sin(2π(fm+δf)t)
となり、fm+δfの周波数の信号となる。したがって、位相シフタ17を用いるよりも2台の発振器21、22を用いることで位相差φを大きく変化させることができ、図6に示すトモグラフィー装置20では、上述のトモグラフィー装置1と比較して、位相差の掃引を広い範囲で行うことができる。
【0056】
第1の外部発振器21は、周波数fm1の第1の変調信号を第1の光周波数コム発生器5に供給する。また、第2の外部発振器22は、周波数fm1とは異なる値の周波数fm2の第2の変調信号を第2の光周波数コム発生器6に供給する。ここで、第1の外部発振器21及び第2の外部発振器22は、変調信号制御部23からの制御信号に応じて第1の変調信号及び第2の変調信号の周波数差を制御する。この結果、参照光L14と物体光L16とはΔt=δft/fmで表現される時間差に依存して出力される。
【0057】
このようなトモグラフィー装置20では、制御部15により、周波数fm1及び周波数fm2を制御して参照光と物体光の干渉タイミングの時間差Δtを制御し、参照光と物体光との干渉を検出し、測定試料Sの深さ方向の反射率分布信号を生成するとともに、光検出器13で検出した光検出信号を用いてスペクトル解析を行うことで分光情報を得て、測定試料Sの材質を観測する。
【0058】
すなわち、制御部15では、例えば第1の光周波数コム発生器5からの負の周波数シフトさせた参照光のパワースペクトルが図8(a)に示す特性を有し、物体光のパワースペクトルが図8(b)に示す特性を有するとき、光検出器13で干渉光を検出した光検出信号についてスペクトル分解処理をし、パワースペクトルを測定すると、第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6のk次光のサイドバンドの振幅AkBk *が周波数(Sf+kδf)の値として求まり、これを分光情報とする。例えば図8(b)に示すように物体光のk次光成分に吸収が発生していたとき、図9に示すように、光検出器13で検出するk次の信号成分の信号強度が小さくなるという分光情報を得る。
【0059】
また、このトモグラフィー装置20では、ヘテロダイン制御を行って第1の変調信号及び第2の変調信号を生成するように制御する変調信号制御部23を備えているので、高精度に第1の変調信号と第2の変調信号との位相差を制御することができ、高精度の干渉結果、分光情報を得ることができる。また、このトモグラフィー装置20では、位相差を広範囲にわたって掃引しても、高精度に位相差を制御することができる。
【0060】
つぎに、上述の本発明を適用したトモグラフィー装置1,20の原理について説明する。
【0061】
トモグラフィー装置1,20では、第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6から出射する参照光及び物体光の干渉タイミングを制御することで、側帯波を有する参照光と物体光とで干渉を発生させるが、このことを、図10に示す実験系30を参照して実証する。
【0062】
この実験系30では、光源31から出射したレーザ光L31をビームスプリッタ32で分割することによりレーザ光L32を第1の光周波数コム発生器33に入射するとともに、レーザ光L33をミラー34を介して第2の光周波数コム発生器35に入射する。そして、この実験系30において、第1の光周波数コム発生器33及び第2の光周波数コム発生器35に入射されたレーザ光L32,L33は、側帯波が発生され参照光L34及び物体光L35とされタイミングが制御されて出射され、ミラー36,37、ビームスプリッタ38を介して光検出器39に入射するように構成されている。ここで、参照光L34と物体光L35とは、ビームスプリッタ38で合成されることにより干渉光L36となされて光検出器39に入射する。
【0063】
また、この実験系30では、第1の光周波数コム発生器33に周波数fmの第1の変調信号を供給する外部発振器40と、第2の光周波数コム発生器35に周波数fmの第2の変調信号を供給する位相シフタ41とを備える。この実験系30では、上述のトモグラフィー装置1,20と同様に、第1の変調信号と第2の変調信号との間に位相シフト量φの位相差を付け、干渉タイミングの時間差Δtを制御する。
【0064】
このような実験系30において、参照光L34と物体光L35との間のタイミングを変化させることで、時間差Δt[ps]を変化させたときの干渉光L36を光検出器39で検出したときの光検出信号の信号強度[dB]を測定した結果を図11に示す。
【0065】
図11によれば、時間差Δtが0[ps]〜0.5[ps]では信号強度が大きく、更に時間差Δtが大きくなると、信号強度が次第に小さくなることが分かる。この結果、第1の光周波数コム発生器33及び第2の光周波数コム発生器35からの参照光と物体光との間で光の干渉が発生し、参照光と物体光との光路差を機械的に変化させて干渉光の光強度を測定する場合と同様に、参照光L34及び物体光L35のスペクトルの幅から決定される可干渉距離に応じた干渉の測定ができることが分かる。したがって、独立した2つの第1の光周波数コム発生器33、第2の光周波数コム発生器35からの光を用いて干渉光の光強度が変化することが実証される。
【0066】
ここで、従来のトモグラフィー装置において、干渉位置を電気的に制御することは、LED(Light Emitting Diode)からなる光源を用いては不可能であり、2台の独立したパルス光源を用いても不可能であった。
【0067】
しかしながら、本発明を適用したトモグラフィー装置1,20によれば、干渉性の高い単一のシングルモードレーザを共有して用いているため、モードロックレーザが発生するような広い周波数スペクトル幅を有しているのにもかかわらず、参照光及び物体光のタイミングを第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6で制御しても、常にパルスが一致する位置で光の干渉を発生させることができる。
【0068】
また、トモグラフィー装置1,20によれば、第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6に供給する第1及び第2の変調信号の位相差を変化させて干渉タイミングを制御するので、電気的制御のみで物体光と参照光との間に時間差を設けることができ、高速で時間差Δtの掃引をして干渉位置を検出することができる。すなわち、このトモグラフィー装置1,20によれば、従来のトモグラフィー装置で参照光と物体光との間に光路差(時間差)を与えるための参照光用ミラーの機械的変調を行う必要が無く、機械的な速度で掃引速度が制限されるようなことはない。
【0069】
また、従来のトモグラフィー装置において、参照光用ミラーの役割は、ドップラーシフトにより光スペクトルの各成分に対して周波数シフトを与えることにある。ここで、参照光用ミラーを機械的に駆動するときの速度をvとし、参照光用ミラーに垂直に入射した参照光が反射する際に受けるドップラーシフトは、
2vν/c[Hz]
で表現される。上記の式において、νは参照光の周波数であり、cは光速である。従って上記の式によれば、光のモードの周波数間隔の1Hz当たりのドップラーシフトの差は、
2v/c[Hz/Hz]
となる。例えば参照光用ミラーを駆動するときの機械的速度を300m/s(音速)とすると、ドップラーシフトは2×10-6[Hz]となる。
【0070】
一方、本発明を適用したトモグラフィー装置1,20では、参照光の各周波数成分に対して、必要なだけ周波数シフトを起こさせることができる。従って、このトモグラフィー装置1,20によれば、機械的動作を行う必要が無く、ドップラーシフトと等価の周波数シフトを発生させることができる。すなわち、このトモグラフィー装置1,20によれば、従来の低い干渉性の光源に代えて、第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6を用い、出射する光の各周波数成分の周波数シフトを用いて、各周波数成分に対して必要なだけ周波数シフトを行う。これにより、トモグラフィー装置1,20では、参照光と物体光とに含まれる各周波数成分ごとに相対的な周波数シフトを発生させることにより、従来の機械的動作による処理を電気的な制御のみで行うことができる。
【0071】
このようなトモグラフィー装置1,20において、物体光を出射する第1の光周波数コム発生器5の変調周波数をfmとし、参照光を出射する第2の光周波数コム発生器6の変調周波数をfm+δfとすると、光の周波数1Hz当たりの周波数シフトの差は、δf/fm[Hz/Hz]となる。
【0072】
例えば、第1の光周波数コム発生器5と第2の光周波数コム発生器6との間の周波数差δfを1×106Hz、変調周波数fmを1×109Hzとしたとき、周波数差[Hz/Hz]は、1×10-3[Hz/Hz]となる。したがって、トモグラフィー装置1,20によれば、従来の機械的駆動を用いたときの1Hz当たりの周波数差(2×10-6[Hz])と比較して、1Hz当たりの周波数差を500倍とすることができる。したがって、このトモグラフィー装置1,20によれば、従来のトモグラフィー装置と比較して測定試料Sの深さ方向における掃引速度を500倍とすることができる。更に、トモグラフィー装置1,20によれば、上記例でのトモグラフィー装置が音速で機械的動作を行うことは現実的でなく、従来トモグラフィー装置と比較したときの掃引速度は更に高速である考えられる。
【0073】
更に、トモグラフィー装置1,20によれば、電気的に時間差の掃引を行うので、機械的動作を用いた従来のトモグラフィー装置よりも周波数シフトを正確に与えることができ、距離の校正を正確に行うことができる。
【0074】
更にまた、トモグラフィー装置1,20によれば、電気的に時間差の掃引を行うので、測定試料Sの深さ方向への掃引範囲の選択も自由に設定することができる。
【0075】
更にまた、トモグラフィー装置1,20では、周波数シフトを行っても、第1の光周波数コム発生器5及び第2の光周波数コム発生器6から出射する光の周波数間隔が離散的となっているので、1/δfの時間ごとに相対的な側帯波間の位相の値は元に戻る。したがって、トモグラフィー装置1,20によれば、従来の機械的動作を用いたトモグラフィー装置で行っていた参照用ミラーを往復動作させる必要が無く、高速且つ連続して周波数シフトを行っても、正確に干渉位置の測定を行うことができる。
【0076】
トモグラフィー装置1,20では、図11に示すように、参照光と物体光との間に設けることができる時間差が0.5[ps]であり、距離に換算すると0.15mm程度の分解能であるが、最近の高性能な光周波数コム発生器を用いるか、光ファイバを用いた光周波数コム発生器を使用することで、更に分解能を向上させることができる。
【0077】
また、トモグラフィー装置1,20では、同一の性能を有するコム発生器を用いた場合について説明したが、位相を制御する機能が同じであれば本発明が適用可能である。
【0078】
また、本発明では、パルス光源として光周波数コム発生器を用いた一例について説明したが、モードロックレーザ等のパルス光源の各モードの中心周波数及び繰り返し周波数を制御して擬似的に光周波数コム発生器から出射する光とすることで上述した効果と同じ効果を得ることができる。
【0079】
更に、図1に示したトモグラフィー装置1,20では、第1及び第2の光周波数コム発生器を含む各構成部分を光ファイバを用いたものとするとともに、各部を光ファイバで接続しても良い。なお、以下に示すトモグラフィー装置の説明では、同一符号を付することによりその詳細な説明を省略する。
【0080】
このようなトモグラフィー装置50は、図12に示すように、光源51、アイソレータ52、カプラ53を備え、カプラ53で分離したレーザ光を第1の光周波数コム発生器54及び第2の光周波数コム発生器55に入射する。第1の光周波数コム発生器54及び第2の光周波数コム発生器55は、光ファイバを介して入射されるカプラ53からの光にサイドバンドを発生させてアイソレータ56を介してカプラ58に入射し、アイソレータ57を介してカプラ58に入射する。カプラ58では、第1の光周波数コム発生器54からの光をスキャナ12を介して測定試料Sに入射して測定試料Sからの反射した物体光と第2の光周波数コム発生器55からの参照光を合成して光検出器13に入射する。ここで、アイソレータ52,56,57は、カプラ53,58からの戻り光を遮断する機能を有する。
【0081】
このようなトモグラフィー装置50では、光源51、アイソレータ52、カプラ53、第1の光周波数コム発生器54、位相シフタ8、アイソレータ56、スキャナ12、カプラ58及び光検出器13を光ファイバで接続するとともに、カプラ53、第2の光周波数コム発生器55アイソレータ57及びカプラ58を光ファイバで接続することにより、上述のトモグラフィー装置1,20と比較して装置全体の大きさを小さくすることができる。
【0082】
また、光ファイバを用いて各光学部品を接続する他のトモグラフィー装置60を図13に示す。このようなトモグラフィー装置60では、第2の光周波数コム発生器61から出射する物体光を光サーキュレータ63、スキャナ12を介して測定試料Sに入射し、測定試料Sで反射した物体光を光サーキュレータ63を介して50%カプラ64に入射する。
【0083】
ここで、光サーキュレータ63は、100%の光効率で第2の光周波数コム発生器61からの光をスキャナ12に通過させるとともにスキャナ12からの光を50%カプラ64に透過する。すなわち、光サーキュレータ63は、入射された光を光の入射方向に反射させるようなことなく透過する。
【0084】
50%カプラ64では、光サーキュレータ63からの物体光と第1の光周波数コム発生器62からの参照光とを合成し、干渉光全体の光量の50%の光として第1の光検出器65及び第2の光検出器66に出射する。
【0085】
第1の光検出器65及び第2の光検出器66では、50%カプラ64からの光の光強度に応じた検出信号を差動増幅器67に出力する。
【0086】
差動増幅器67は、第2の光検出器66からの検出信号が正入力端子に入力され、第2の光検出器66からの検出信号が負入力端子に入力される。この差動増幅器67は、第1の光検出器65及び第2の光検出器66からの検出信号の差をとることによりノイズを低減させて信号処理部14に干渉検出信号を供給する。
【0087】
このようなトモグラフィー装置60によれば、第1の光検出器65及び第2の光検出器66で検出した物体光L41及び参照光L42から生成した検出信号の信号強度の差を取ることにより、強度ノイズの影響を低減することで、干渉検出信号のS/N比を向上させることができる。
【0088】
また、このトモグラフィー装置60では、光サーキュレータ63を用いているので、上述のトモグラフィー装置50とは異なりカプラ58に入射された光が光入射方向に反射するようなことがなく、カプラによる光損失を減少させて光の無駄を減らすことができ、トモグラフィー装置50と比較してS/N比の向上が実現できる。
【0089】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係るトモグラフィー装置では、第1の光周波数コム発生手段からの参照光と第2の光周波数コム発生手段からの物体光との干渉タイミングを制御して干渉光の干渉を検出することができるので、電気的に参照光と物体光との間の出射タイミングの掃引を行うことができ、干渉位置を検出するときの動作を高速にして試料の形状を示す画像を生成する処理時間を短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用したトモグラフィー装置の構成を示すブロック図である。
【図2】(a)は第1の変調信号の時間的変化、(b)は第1の光周波数コム発生器から出射される参照光の強度の時間的変化、(c)は第2の変調信号の時間的変化、(d)は第2の光周波数コム発生器から出射される物体光の強度の時間的変化を示す図である。
【図3】(a)は参照光の強度の時間的変化、(b)は物体光の強度の時間的変化を示す図である。
【図4】時間差Δtの時間的変化を示す図である。
【図5】光検出信号の時間−電圧特性を示す図である。
【図6】本発明を適用した他のトモグラフィー装置の構成を示すブロック図である。
【図7】本発明を適用した他のトモグラフィー装置の変調信号制御部の構成を示すブロック図である。
【図8】(a)は参照光のパワースペクトルを示し、(b)は干渉光のパワースペクトルを示す図である。
【図9】干渉光を検出した光検出信号のパワースペクトルを示す図である。
【図10】本発明を適用したトモグラフィー装置の原理を説明するための実験系の構成を示すブロック図である。
【図11】図9に示す実験系において、時間差Δt[ps]を変化させたときの干渉光の強度[dB]の変化を示す図である。
【図12】本発明を適用した更に他のトモグラフィー装置の構成を示すブロック図である。
【図13】本発明を適用した更に他のトモグラフィー装置の構成を示すブロック図である。
【図14】従来の形状検出装置の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1,20 トモグラフィー装置、2 光源、4 第1の光周波数コム発生器、5 第2の光周波数コム発生器、8 ビームスプリッタ、9 スキャナ、10 光検出器、11 信号処理部、12 制御部、13 外部発振器、14 位相シフタ、15 位相制御部、21 第1の外部発振器、22 第2の外部発振器、23 位相制御部、30 実験系、33 第1の光周波数コム発生器、35 第2の光周波数コム発生器、38 ビームスプリッタ、39 光検出器、40 外部発振器、41 位相シフタ
Claims (4)
- 可干渉性を有する光を出射する光源と、
周波数f1の第1の信号を生成する第1の信号生成手段と、
上記第1の信号生成手段からの第1の信号を用いて上記光源からの光を変調して、上記光源からの光に周波数f1間隔ごとに側帯波を有する参照光を生成する第1の光周波数コム発生手段と、
周波数f2の第2の信号を生成する第2の信号生成手段と、
上記第2の信号生成手段からの第2の信号を用いて上記光源からの光を変調して、上記光源からの光に周波数f2間隔ごとに側帯波を有する物体光を生成する第2の光周波数コム発生手段と、
上記第1の光周波数コム発生手段からの参照光と、上記第2の光周波数コム発生手段で生成され被測定物体で反射された物体光と、を合成した干渉光を生成する合成手段と、
上記第1の信号及び第2の信号間の位相差又は周波数差を変化させることにより、上記第1の光周波数コム発生手段からの参照光と上記第2の光周波数コム発生手段からの物体光との干渉タイミングを制御して、上記干渉光の干渉による光強度の変化を検出する検出手段と、
上記第2の光周波数コム発生手段からの物体光の照射位置を被測定物体上で走査する走査手段と、
上記検出手段からの干渉検出結果に基づいて、被測定物体の形状情報を検出する形状検出手段と、
上記走査手段で走査されることで、上記形状検出手段で生成された複数の形状情報を用いて、被測定物体の形状を示す画像を生成する画像生成手段とを備えることを特徴とするトモグラフィー装置。 - 上記検出手段で検出した干渉検出結果を用いて、分光情報を検出する上記分光検出手段を備えることを特徴とする請求項1記載のトモグラフィー装置。
- 上記第1の信号生成手段と第2の信号生成手段で発生させる第1の信号及び第2の信号をヘテロダイン位相同期制御するヘテロダイン制御手段を備えることを特徴とする請求項1記載のトモグラフィー装置。
- 上記第1の光周波数コム発生手段及び第2の光周波数コム発生手段は光ファイバを用いてなり、上記各手段は光ファイバを用いて接続してなることを特徴とする請求項1記載のトモグラフィー装置。
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