JP2010203860A - 振動計測装置及び振動計測方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】測定対象における多点の振動情報を同時に測定可能な振動計測装置を提供する。
【解決手段】所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する光源10と、光源から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定面24の複数点に照射する分光ヘッド20と、光源10から出射された測定光を分光ヘッド20に入射するとともに、測定面24で反射された測定光と光源10から出射された基準光とを干渉させる干渉光学系30と、干渉光学系30により発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離する回折格子41と、回折格子41により分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する光検出器アレイ42とからなる検出部40と、検出部40により検出した各スペクトル成分に基づいて、測定面24の複数点における振動情報を解析する信号処理部50とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、光を用いて測定対象の振動情報を計測する振動計測装置及び振動計測方法に関する。
振動を検出して電気信号に変換して振動を測定する計測器として、振動計が用いられている。振動計には、接触式と非接触式のものがある。接触式の振動計は、センサを測定対象物に接続して振動の加速度を計測する。非接触式の振動計は、センサの取り付けによって振動の状態が変化する場合、測定対象が回転体であって信号の読み出しが難しい場合、寸法や材質のためにセンサの取り付けが難しい場合等に用いられる。
非接触式の振動計としては、渦電流型、静電容量型、レーザ型、レーザドップラ型等がある。例えば、レーザドップラ型の振動計は、振動体にレーザ光を照射して、ドップラ効果による反射光の周波数変化(ドップラシフト)を観測して振動の測定を行うものである。
従来の振動計測装置においては、接触式、非接触式によらず、1つのヘッドについて1箇所の振動を計測するものであり、装置によっては、ヘッドを増設することにより複数ポイントの振動測定に対応できるものもある。
特開2008−101963号公報
振動の発生原因や振動による負荷を調査するためには、測定対象の面内の振動分布の計測が求められる。例えば、定常的な振動であれば、振動の周期に合わせて場所をずらしながら振動計測を行うことによって、面内の振動分布を測ることができる。
しかしながら、過渡的に変化する振動を実時間で計測したい場合、どのような周波数成分の振動が含まれているか予め分からない場合等、数点の振動情報を同時に必要とする場合には、数点の振動情報を同時に測定できる振動計測装置が必要となる。
例えば、レーザドップラ振動計のような従来の装置においても多くのヘッドと干渉計を用い、装置間の同期をとりながら計測を行うことによって、多点の振動測定が可能であるが、多点のレーザ光線の光軸調整や測定時刻の同期をとるのは容易ではない。
本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、複雑な光軸調整をすることがなく、測定対象の多点の振動情報を同時に測定可能な振動計測装置及び振動計測方法を提供することを目的とする。
すなわち、本発明に係る振動計測装置は、所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する光源と、上記光源から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する分光ヘッドと、上記光源から出射された測定光を上記分光ヘッドに入射するとともに、上記測定面で反射され上記分光ヘッドを介して入射された測定光と、上記光源から出射された基準光とを干渉させる干渉光学系と、上記干渉光学系により発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離する回折格子と、上記回折格子により分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する複数の光検出器とからなる検出部と、上記検出部により検出した各スペクトル成分に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を解析する信号処理部とを備える。
また、本発明に係る振動計測装置は、所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに変調周波数及び中心周波数が異なり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する光源と、上記光源から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する分光ヘッドと、上記光源から出射された測定光を上記分光ヘッドに入射するとともに、上記測定面で反射され上記分光ヘッドを介して入射された測定光と、上記光源から出射された基準光とを干渉させる干渉光学系と、上記干渉光学系で発生した干渉光を検出する検出部と、上記検出部により検出した干渉光に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を解析する信号処理部とを備える。
また、本発明に係る振動計測方法は、所定の周波数間隔のスペクトルであって、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを光源から出射する出射工程と、上記光源から出射された測定光を分光ヘッドに入射する入射工程と、上記分光ヘッドに入射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する照射工程と、上記測定面で反射され、上記分光ヘッドを介して入射された測定光と上記光源から出射された基準光とを干渉光学系により干渉させる干渉工程と、上記干渉光に含まれる光スペクトル成分を回折格子により分離する分離工程と、上記分離した各スペクトル成分をそれぞれ複数の光検出器により検出する検出工程と、上記検出した各スペクトル成分に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を信号処理部により解析する解析工程とを有する。
また、本発明に係る振動計測方法は、所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに変調周波数及び中心周波数が異なり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを光源から出射する出射工程と、上記光源から出射された測定光を分光ヘッドに入射する入射工程と、上記分光ヘッドに入射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する照射工程と、上記測定面で反射され、上記分光ヘッドを介して入射された測定光と上記光源から出射された基準光とを干渉光学系により干渉させる干渉工程と、上記干渉光学系で発生した干渉光を検出部により検出する検出工程と、上記検出部により検出した干渉光に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を信号処理部により解析する解析工程とを有する。
本発明によれば、複雑な光軸調整をすることがなく、測定点間の時刻の同期を配慮せずに、多点の同期を必要とする測定対象の振動計測が可能となる。
振動計測装置の一例を示すブロック図である。 第1の実施の形態に係る振動計測装置の光源の構成例を示すブロック図である。 光周波数コムの発生器から出力される光周波数コムを周波数軸上で模式的に示す図である。 分光ヘッドの構成例を模式的に示す図である。 (A)は、反射型回折格子を用いた場合の分光ヘッドの構成例を模式的に示す図であり、(B)は、透過型回折格子を用いた場合の分光ヘッドの構成例を模式的に示す図である。 (A)は、アレイ導波路格子を用いた場合の分光ヘッドの構成例を模式的に示す図であり、(B)は、狭帯域フィルタを用いた場合の分光ヘッドの構成例を模式的に示す図である。 干渉光学系の構成例を示すブロック図である。 検出部の構成例を模式的に示す図である。 本実施の形態に係る振動計測装置の他の構成例を示すブロック図である。 差動検波器の構成例を示すブロック図である。 第2の実施の形態に係る振動計測装置の構成例を示すブロック図である。 第2の実施の形態に係る干渉光学系に戻される測定光と基準光とを周波数軸上で模式的に示す図である。 第3の実施の形態に係る振動計測装置の構成例を示すブロック図である。 第3の実施の形態に係る干渉光学系に戻される測定光と基準光とを周波数軸上で模式的に示す図である。 1kHzで振動するピエゾ素子に光周波数コムを照射して振動を検出した結果を示す図である。
以下、発明を実施するための形態(以下、実施の形態とする)について説明する。
<1.第1の実施の形態>
本実施の形態に係る振動計測装置1は、所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する光源10と、光源10から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面24の複数点に照射する分光ヘッド20と、光源10から出射された測定光を分光ヘッド20に入射するとともに、測定面24で反射され分光ヘッド20を介して入射された測定光と光源10から出射された基準光とを干渉させる干渉光学系30と、干渉光学系30により発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離し、この分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する検出部40と、検出部40により検出した各スペクトル成分に基づいて、測定面24の複数点における振動情報を解析する信号処理部50とを備える。
振動計測装置1において、光源10は、例えば図2(A)に示すように、例えば、周波数がνのレーザ光を出射するレーザ光源11と、レーザ光源11からレーザが入射される光周波数コム発生器12と、光周波数コム発生器12に所定周波数の変調信号を与える発振器13とから構成される。また、光源10においては、光周波数コム発生器12からの出力が、ビームスプリッタ21により測定光(OFC1)と基準光(OFC2)とに分割される。
光周波数コム発生器12は、互いに干渉性の良いコム(櫛)状のスペクトルを有する光源を発生して出射するものである。光周波数コム発生器12は、例えば、レーザ外部で光の強度や位相を変調する電気光学変調器(EOM)と、このEOMを挟むように対向して配設された反射鏡とからなり、電気光学変調器と反射鏡とで光発振器を構成してなる外部変調方式の光周波数コム発生器が用いられる。また、この他にも、光周波数コム発生器12としては、LiNbO結晶を使った位相変調器、強度変調器、ファブリペロー型の電気光学変調器、半導体の吸収や位相の変化を利用する変調器等を用いることができる。
図2(A)に示すように、光周波数コム発生器12には、発振器13により、例えば周波数fmの変調信号が与えられる。光周波数コム発生器12は、レーザ光源11から出射されたレーザ光に基づいて、一定間隔の離散的な周波数成分からなる光である光周波数コムを発生して出射する。光周波数コムは、例えば、図3に示すように、光周波数νを中心にマイクロ波周波数(変調信号の周波数)fmに一致する等周波数間隔で発生させた側波帯(サイドバンド)を有する光であり、光周波数コムの中心周波数が入射されるレーザの光周波数νに一致している。光周波数νは、数百THzの領域であるため、光の位相情報を直接取り扱うことが難しいが、fmは高くても数十GHzの領域なので、従来の電子回路技術で位相情報を容易に扱うことができる。したがって、光周波数コムを用いることにより、相対的な光の周波数や位相の情報を、光周波数コムが存在している帯域内で電気的に取り扱うことが可能となる。
後に詳述するように、光周波数コムと別の比較対象レーザ、例えば、測定面で反射された測定光とを干渉させることにより、最も近い周波数にある光周波数コムのモードの1本と比較対象レーザとの干渉信号が検出される。その周波数は、比較対象のレーザの周波数がどこにあっても、(fm/2)以下である。測定対象レーザの周波数や位相の情報は、光周波数コムの帯域内であれば、干渉信号を通して得ることができる。
また、光源10として、図2(B)に示すような一定のタイミングで規則正しく発生するモード同期レーザ14や、図2(C)に示すような多モード発振レーザ15を用い、モード同期レーザ14又は多モード発振レーザ15からの出力をビームスプリッタ21により基準光と測定光とに分割するようにしてもよい。例えば、モード同期レーザ14のように一定のタイミングで規則正しく発生する光パルス光源は、周波数軸では繰返し周期の逆数に一致する周波数間隔のコム状スペクトルであるため、光源10として利用することができる。なお、光源10は、図2(A)〜(C)に示すように1台の光源の出力をビームスプリッタ21で分割して基準光と測定光とを出射するものとして説明したが、干渉性がよければ独立な2台の光源としてもよい。
続いて、分光ヘッド20には、光源10から出射された測定光が入射する。分光ヘッド20は、この入射した測定光を周波数成分毎に分けて測定面24の複数点に照射する。図4に示すように、分光ヘッド20は、例えば、分光器(分散素子)22と、レンズ23とを有する。分光器22は、例えば周波数(波長)に応じて異なる角度で光を回折する回折格子のような機能を有し、光周波数コムの周波数成分を空間に分離する。分光器22としては、例えば、図5(A)に示すように、入射した光をレンズ23に反射する反射型の回折格子25や、図5(B)に示すように入射した光をレンズ23に透過する透過型の回折格子26を用いることができる。
また、分光ヘッド20としては、図6(A)に示すようなアレイ導波路格子27(AWG:Arrayed Waveguide Grating)や、図6(B)に示すような狭帯域フィルタ28を用いることもできる。図6(A)に示すアレイ導波路格子27は、送信側において複数波長を1本に多重化し、受信側において多重化された光信号を波長毎に分波する機能を有するものである。図6(B)に示す狭帯域フィルタ28は、光フィルタ28a〜28fを有し、各光フィルタが特定周波数(波長)のみ反射・透過することで、必要な周波数成分だけを光周波数コムから切り出すものである。例えば、図6(B)に示すように、少しずつ異なる周波数(波長)を反射する光フィルタ28a〜28fを複数使用することにより、光周波数コムから必要な周波数成分であるf、f、f、f、f−1、f−2を切り出すことができる。
分光ヘッド20においては、分光器22として回折格子を用いた場合には、光周波数コムが周波数スペクトルの広がりに応じたシート状になって測定対象の測定面24に照射される。分光器22により空間的に分離された光は、測定面24における各測定点に照射された後、反射されてレンズ23を介して分光ヘッド20に戻り、分光器22で再び1本のビームに束ねられる。測定面24の測定点から分光ヘッド20に戻る戻り光の位相は、測定面24の位置に応じた位相のシフトを受ける。例えば、測定面24が動いている場合には、戻り光の周波数が測定面24の速度に比例したドップラシフトを受ける。ドップラシフトとは、ある一定の周波数成分を持つ音波、電波又は光波をある速度で移動している物体に当てると、移動物体の持つ速度成分に比例して周波数が変化する現象をいう。なお、測定対象は、滑らかに繋がった表面に限定されず、例えば、光周波数コムの各モードをそれぞれ独立に振動する物体に照射することも可能である。
続いて、干渉光学系30には、分光ヘッド20の分光器22で1本のビームに束ねられた測定光が入射される。図7(A)に示すように、振動計測装置1の干渉光学系30では、分光ヘッド20から戻された測定光Pbと光源10から出射された基準光Paとを重ね合わせて干渉させることで干渉光Pcを発生させる。また、振動計測装置1においては、光源10から出射される基準光及び測定光の周波数が全て等しい場合には、図7(B)に示すように干渉光学系30を介して入射され、この入射した基準光を干渉光学系30に戻す反射鏡32を備えた構成とすることもできる。
続いて、検出部40においては、干渉光学系30により発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離して、分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する。図8に示すように、検出部40は、例えば、干渉光学系30により発生した干渉光Pcに含まれる光スペクトル成分を分離する回折格子41と、回折格子41により分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する複数の光検出器である光検出器アレイ42とからなる。回折格子41により分解された各光スペクトル成分は、光検出器アレイ42の1素子毎に、1本のサイドバンドが入射されるようになっている。光検出器アレイ42は、多くの検出器が並んだものであり、1つの検出器に干渉光の複数の周波数成分が入らないように、回折格子41の回折角や光学系の配置を調整する。検出部40から得られる信号は、多くの光周波数コムと光周波数コムとの干渉信号である。上述したように、干渉光学系30により発生した干渉光の周波数は、基準光と測定光との間の差の周波数に等しく、この干渉光の強度を検出部40で測定する。このように検出部40では、干渉光学系30により発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離して、分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出することにより、測定面24における複数点の振動を分離して計測することが可能となる。
続いて、信号処理部50では、検出部40で検出した干渉光の各スペクトル成分に基づいて測定面24の複数点における振動情報を解析する。測定面24における1点毎の振動測定の原理については、従来のレーザドップラ振動計と同様である。具体的には、上述した測定面24で反射された測定光における周波数シフト、すなわち、ドップラシフトを利用して測定面24の速度成分を測定する。例えば、光の波長をλとしたとき、ドップラシフト分の周波数変化fdと測定面24の振動速度Vとの間には、下記(1)式の関係が成立する。
fd=2V/λ (1)
したがって、振動計測装置1においては、ドップラシフト分の周波数変化fdから、測定面24の振動情報、例えば、振動速度、移動距離、加速度等を解析することができる。
このように、本実施の形態に係る振動計測装置1によれば、まず、光源10により所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する。続いて、分光ヘッド20により、光源10から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面24の複数点に照射する。続いて、干渉光学系30により、光源10から出射された測定光を分光ヘッド20に入射する。続いて、干渉光学系30により、測定面24で反射され分光ヘッド20を介して入射された測定光と、光源10から出射された基準光とを干渉させる。続いて、検出部40の回折格子41により、干渉光学系30で発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離する。続いて、検出部40の光検出器アレイ42により、回折格子41で分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する。続いて、信号処理部50により、検出部40で検出した各スペクトル成分に基づいて、測定面24の複数点における振動情報を解析する。これにより、複雑な光軸調整を個別の振動計測装置においてする必要がなく、測定点間の時刻の同期に配慮しなくても多点の同期を必要とする測定対象の測定面の振動情報を計測することが可能となる。
ここで、測定面24の数点の振動情報の計測であれば、従来から用いられているレーザドップラ振動計を複数用い、この複数のドップラ振動計において測定の同期をとることでも可能と考えられる。しかし、このような複数のドップラ振動計において測定の同期をとることで、数百点程度の多点の振動情報の測定を行うことは、光軸調整を個別に行わなければならないこと、測定時刻の同期をとるのが難しいこと等を考えると現実的ではない。このような実情に鑑みて、本実施の形態に係る振動計測装置1では、上述したような構成により測定面24の多点の振動情報を同期をとって振動情報を測定することができ、これによりリアルタイムで、その瞬間の振動の様子の可視化、表示及びモード解析等が可能となる。
ここで、振動計測装置1は、振動の方向が異なっても同じ変化を示すため、振動の方向を特定できない。
そこで、図9に示すように、第1の実施の形態に係る振動計測装置1は、光源10から出射された基準光が干渉光学系30を介して入射され、この入射された基準光を直線偏光から円偏光に変換して干渉光学系30に戻すための参照光学系44を備える。このような直角位相ホモダイン干渉計を用いる例においては、光源10の偏光を偏光ビームスプリッタ(PBS)33の出力偏光に対して45度になるように設定しておく。参照光学系44においては、参照面44aの経路に1/8波長板44bを挿入し、往復で2回1/8波長板44bを通過することにより、入射した基準光が直線偏光から円偏光になる。
例えば、参照光学系44には、光源10から出射された基準光が干渉光学系30を介して入射され、この入射した基準光が直線偏光から円偏光に変換される。この円偏光に変換された基準光は、参照光学系44から干渉光学系30に戻される。続いて、干渉光学系30では、参照光学系44から戻された基準光と分光ヘッド20を介して入射された測定光との干渉光を発生する。続いて、偏光ビームスプリッタ33により、干渉光学系30で発生した干渉光を2つの直交成分に分離する。続いて、回折格子41a及び回折格子41bにより、偏光ビームスプリッタ33で分離した各直交成分に含まれる光スペクトル成分を分離する。そして、光検出器アレイ42aにより、回折格子41aで分離した第1の直交成分に含まれる光スペクトル成分を検出し、光検出器アレイ42bにより、回折格子41bで分離した第2の直交成分に含まれる光スペクトル成分を検出する。このようにして、光検出器アレイ42a及び光検出器アレイ42bにおいて検出される干渉光は、直交位相関係(サイン及びコサイン出力)になる。振動計測装置1においては、このような構成により、測定面24の振動速度に加えて、測定面24の振動の変化の方向についても特定することが可能となる。
また、検出部40として、図10に示すように、1台の検出器について2つの検出素子46、47及び差分器48で差動検出器49を構成するようにしてもよい。差動検出器49においては、振動の反転した2つ1組の干渉信号を得るように干渉光学系30を配置する。干渉光学系30により発生した光源10からの基準光と分光ヘッド20を介して入射した測定光との干渉光は、ビームスプリッタ34により分割され検出素子46及び検出素子47に入力される。そして、検出素子46及び検出素子47で検出した信号電流の差分を差分器48により取り出す。このようにして、差動検出器49においては、干渉光学系30により発生した干渉光に基づく振動の反転した1組の干渉信号の電流の差分を検出することで干渉信号が強調され、光源10の強度雑音のような干渉によらない変化分を相殺することができる。
<2.第2の実施の形態>
図11に示すように、第2の実施の形態に係る振動計測装置は、図2に示す第1の実施の形態に係る振動計測装置1と比較して、光源10’において、周波数がシフトした基準光を干渉光学系30に出射している点で異なる。以下の説明においては、第1の実施の形態に係る振動計測装置1と同一の構成については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第2の実施の形態に係る振動計測装置においては、光源10’から出射される基準光と測定光との周波数間隔が同じであるため、上述した振動計測装置1と同様に同じビート周波数に複数の光周波数コムの情報が重なってしまう。そのため、測定面24の振動速度に加えて測定面24の振動の変化の方向についても特定するには、光周波数コムを周波数成分毎に分けて検出する必要がある。そこで、第2の実施の形態に係る振動計測装置においては、上述した第1の実施の形態に係る振動計測装置1と同様に、基準光と測定光との干渉光を検出する検出器として、図8に示す光検出器アレイ42を使用する。
図11(A)に示すように、光源10’は、レーザ光源11と、レーザ光源11からレーザが入射される光周波数コム発生器12と、光周波数コム発生器12に所定周波数の変調信号を与える発振器13と、光周波数コム発生器12から出射された基準光又は測定光の周波数をシフトする周波数シフタ16を備える。周波数シフタ16は、例えば、内部に発生した超音波により音響光学相互作用で基準光の位相を変化させる音響光学変調器(AOM:acoustooptic modulator)からなる。周波数シフタ16は、例えば、発振器17の出力により動作し、レーザ光源11から入射された基準光の周波数をfaだけシフトさせ、この周波数をシフトさせた基準光を出射する。
また、光源10’としては、図11(B)に示すような一定のタイミングで規則正しく発生するモード同期レーザ14や、図11(C)に示すような多モード発振レーザ15を用いてもよい。この図11(B)、(C)に示す例においては、モード同期レーザ14又は多モード発振レーザ15から出射されたレーザ光を周波数シフタ16により周波数をシフトさせた基準光を出射する。
図12(A)に示すように、第2の実施の形態に係る振動計測装置において、レーザ光源11から出射されるレーザの周波数をν、光周波数コム発生器12に発振器13から与えられる変調信号の周波数をfmとすると、中心(0次)周波数がνで、n次コムモード周波数が(ν+nfm)の測定対象で反射された測定光Pbが、分光ヘッド20を介して干渉光学系30に戻される。また、図12(B)に示すように、中心(0次)周波数がν+faで、n次コムモード周波数がν+fa+nfmの基準光が、干渉光学系30に出射される。
続いて、図7(A)に示す干渉光学系30においては、光源10’から出射された基準光Paと測定対象で反射された測定光Pbとを重ね合わせることにより、基準光Paと測定光Pbとの干渉光Pcを発生する。干渉光学系30により発生した干渉光Pcは、上述したように、図8に示す検出部40の回折格子41により各光スペクトル成分に分解される。回折格子41により分解された各光スペクトル成分は、光検出器アレイ42の1素子毎に、1本のサイドバンドが入射される。
ここで、干渉光学系30において発生される干渉光Pcのビート周波数は、0次の周波数が(ν+fa)−ν=faで、n次周波数が{(ν+fa+nfm)−(ν+nfm)}=fa(ここで、n=0、±1、±2、・・・)、すなわち、すべてfaになる。すなわち、図8に示す光検出器アレイ42の各素子では、全てビート周波数がfaである干渉光Pcの各光スペクトル成分が検出される。
このように、第2の実施の形態に係る振動計測装置においては、光源10’が周波数シフタ16を備え、光周波数コム発生器12から出射される基準光又は測定光の周波数をシフトさせるとともに、全てビート周波数がfaである干渉光Pcの各光スペクトル成分を光検出器アレイ42により検出することができるため、測定面24の振動速度に加えて、振動の変化の方向についても特定することができる。
<3.第3の実施の形態>
図13に示すように、第3の実施の形態に係る振動計測装置は、光源10’’において、図2に示す第1の実施の形態に係る振動計測装置1と比較して、互いに変調周波数及び中心周波数が異なり干渉性のある基準光と測定光とを出射する点で異なる。この第3の実施の形態に係る振動計測装置によれば、以下に詳述するように、同じビート周波数に複数の光周波数コムの情報が重ならないため、検出の際にも光周波数コムを周波数成分に分けずに1個の検出器で測定面24における多点の振動情報を分離して検出することができる。以下の説明においては、第1の実施の形態に係る振動計測装置1及び第2の実施の形態に係る振動計測装置と同一の構成については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図13(A)に示すように、第3の実施の形態に係る振動計測装置における光源10’’は、モード周波数間隔が異なる2台の光周波数コム発生器12,18、周波数シフタ16、発振器17、及び発振器19を備える。また、第3の実施の形態に係る振動計測装置における光源10’’としては、それぞれ周期的に強度又は位相が変調され、かつ、キャリア周波数が安定化された2台の光源、例えば、図13(B)に示すようなモード同期レーザ14a及びモード同期レーザ14bを用いてもよい。
図13(A)に示す光源10’’においては、1台の単一周波数発振のレーザ光源11から出射されるレーザ光が、ビームスプリッタ60により2つに分割され、分割されたレーザ光が2台の光周波数コム発生器12,18にそれぞれ入射される。
光周波数コム発生器12又は光周波数コム発生器18は、互いに異なる周波数、例えば、周波数fmで発振する発振器13又は周波数fm+Δfmで発振する発振器19により駆動する。発振器13及び発振器19は、例えば、図示しない共通の基準発振器により位相同期されることで、fm+Δfmとfmとの相対周波数を安定にすることができる。また、光周波数コム発生器18の出力先には、上述したような周波数シフタ16を設け、この周波数シフタ16により光周波数コム発生器18から出射された周波数faの光周波数コムにシフトを与える。
光源10’’を構成している2台の光周波数コム発生器12,18は、図14に示すような周波数の光周波数コム(OFC1及びOFC2)を出射する。図14(A)は、光周波数コム発生器12から出射された光周波数コム(測定光:OFC1)を表しており、図14(B)は、周波数シフタ16を介して出力された光周波数コム(基準光:OFC2)をそれぞれ表している。図14に示す光周波数コムは、光パルスの繰り返し周波数に一致したコム状のモードを持っている。モード間隔は、図14(A)示す測定光がfmであり、図14(B)に示す基準光がfm+△fmである。図14に示す例では、スペクトル中央のモードを中心にモード番号を付け、N=0のモード間の干渉信号の周波数をfaと仮定している。この例において、中心周波数成分を0番目として数えてモードにつけた番号をNとすると、N番目のビート周波数は、以下の(2)式のように表わされ、光周波数コムのモードによって異なる周波数に出る。
N番目のビート周波数=fa+N△fm (2)
また、信号処理部50においては、検出部40で検出した光周波数コムの各モードの情報を高速フーリエ変換(FFT)のような周波数解析により分離することで、測定面24の複数点における振動情報を解析する。モード情報が分離された後の1点毎の振動測定については、上述した従来のレーザドップラ振動計と同様の原理で行うことができる。第3の実施の形態に係る振動計測装置においては、測定面24の測定点に対応するビート周波数の位相や周波数を観測することによって、測定点の振動情報を得ることができる。
以上のように、第3の実施の形態に係る振動計測装置によれば、同じビート周波数に複数の光周波数コムの情報が重ならないため、検出の際に光周波数コムを周波数成分に分けて検出する必要がなくなり、光検出器アレイ42を用いることなく1つの光検出器で測定面24における多点の振動情報を分離して検出することができる。
また、第3の実施の形態に係る振動計測装置においては、上述した第1の実施の形態に係る振動計測装置1と同様に、検出部40として図10に示すような差動検出器49を用いてもよい。これにより、検出部40では、干渉光学系30により発生した干渉光に基づく振動の反転した1組の干渉信号の電流の差分を検出することで干渉信号が強調され、光源10’’の強度雑音のような干渉によらない変化分を相殺することができる。
続いて、本実施の形態に係る振動計測装置の実施例について説明する。図15は、1kHzで振動するピエゾ素子に光周波数コムを照射して振動を検出した結果を示す図である。図15において、横軸は時間(1msec/div)、縦軸は位相(2rad/div)をそれぞれ表している。図15は、ピエゾ素子の同じ部分に光周波数コムを照射した場合における5点の振動結果、すなわち、例えばキャリア周波数を0としたときの光周波数コムの次数(番目)Nが40、20、0、−20、−40についての振動結果を示している。図15に示すように、同じ位相タイミングの振動情報が5点すべてについて検出されていることが分かる。この結果から、本実施の形態に係る振動計測装置によれば、複雑な光軸調整をすることがなく、測定点間の時刻の同期を配慮せずに、多点の同期を必要とする測定対象の振動計測が可能であることが分かる。
1 振動計測装置、10 光源、11 レーザ光源、12 光周波数コム発生器、13 発振器、14 モード同期レーザ、15 多モード発振レーザ、16 周波数シフタ、17,19 発振器、18 光周波数コム発生器、20 分光ヘッド、30 干渉光学系、40 検出部、50 信号処理部、60 ビームスプリッタ

Claims (9)

  1. 所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する光源と、
    上記光源から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する分光ヘッドと、
    上記光源から出射された測定光を上記分光ヘッドに入射するとともに、上記測定面で反射され上記分光ヘッドを介して入射された測定光と、上記光源から出射された基準光とを干渉させる干渉光学系と、
    上記干渉光学系により発生した干渉光に含まれる光スペクトル成分を分離する回折格子と、上記回折格子により分離した各スペクトル成分をそれぞれ検出する複数の光検出器とからなる検出部と、
    上記検出部により検出した各スペクトル成分に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を解析する信号処理部と
    を備える振動計測装置。
  2. 上記光源から出射される基準光又は測定光の周波数をシフトする周波数シフタをさらに備える請求項1記載の振動計測装置。
  3. 上記光源から出射された基準光が上記干渉光学系を介して入射され、該入射した基準光を直線偏光から円偏光に変換して上記干渉光学系に戻す参照光学系と、
    上記干渉光学系で発生した上記参照光学系から戻された基準光と上記分光ヘッドを介して入射された測定光との干渉光を、2つの直交成分に分離する偏光ビームスプリッタとをさらに備え、
    上記回折格子は、上記偏光ビームスプリッタにより分離した第1の直交成分に含まれる光スペクトル成分を分離する第1の回折格子と、上記偏光ビームスプリッタにより分離した第2の直交成分に含まれる光スペクトル成分を分離する第2の回折格子とからなり、
    上記複数の光検出器は、上記第1の回折格子により分離した第1の直交成分に含まれる光スペクトル成分をそれぞれ検出する第1の複数の光検出器と、上記第2の回折格子により分離した第2の直交成分に含まれる光スペクトル成分をそれぞれ検出する第2の複数の光検出器とからなる請求項1記載の振動計測装置。
  4. 上記検出部は、上記干渉光学系により発生した干渉光に基づく振動の反転した1組の干渉信号の電流の差分を検出する請求項1記載の振動計測装置。
  5. 所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに変調周波数及び中心周波数が異なり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを出射する光源と、
    上記光源から出射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する分光ヘッドと、
    上記光源から出射された測定光を上記分光ヘッドに入射するとともに、上記測定面で反射され上記分光ヘッドを介して入射された測定光と、上記光源から出射された基準光とを干渉させる干渉光学系と、
    上記干渉光学系で発生した干渉光を検出する検出部と、
    上記検出部により検出した干渉光に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を解析する信号処理部と
    を備える振動計測装置。
  6. 上記光源は、第1の発振器により第1の変調周波数の変調信号でレーザ光を変調して第1の光周波数コムを生成する第1の光周波数コム発生器と、第2の発振器により上記第1の変調周波数とは異なる第2の変調周波数の変調信号で上記レーザ光を変調することにより、上記第1の光周波数コムとはモード周波数間隔が異なる第2の光周波数コムを生成する第2の光周波数コム発生器とからなる請求項5記載の振動計測装置。
  7. 上記検出部は、上記干渉光学系により発生した干渉光に基づく振動の反転した1組の干渉信号の電流の差分を検出する請求項5記載の振動計測装置。
  8. 所定の周波数間隔のスペクトルであって、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを光源から出射する出射工程と、
    上記光源から出射された測定光を分光ヘッドに入射する入射工程と、
    上記分光ヘッドに入射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する照射工程と、
    上記測定面で反射され、上記分光ヘッドを介して入射された測定光と上記光源から出射された基準光とを干渉光学系により干渉させる干渉工程と、
    上記干渉光に含まれる光スペクトル成分を回折格子により分離する分離工程と、
    上記分離した各スペクトル成分をそれぞれ複数の光検出器により検出する検出工程と、
    上記検出した各スペクトル成分に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を信号処理部により解析する解析工程と
    を有する振動計測方法。
  9. 所定の周波数間隔のスペクトルであり、互いに変調周波数及び中心周波数が異なり、互いに位相同期され干渉性のある基準光と測定光とを光源から出射する出射工程と、
    上記光源から出射された測定光を分光ヘッドに入射する入射工程と、
    上記分光ヘッドに入射された測定光を周波数成分毎に分けて測定対象の測定面の複数点に照射する照射工程と、
    上記測定面で反射され、上記分光ヘッドを介して入射された測定光と上記光源から出射された基準光とを干渉光学系により干渉させる干渉工程と、
    上記干渉光学系で発生した干渉光を検出部により検出する検出工程と、
    上記検出部により検出した干渉光に基づいて、上記測定面の複数点における振動情報を解析する解析工程と
    を有する振動計測方法。
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