JP3739969B2 - Photothermographic material for heat development - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は熱現像機内での搬送性に優れる熱現像写真感光材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
熱現像感材は露光し潜像を形成した後、通常、８０〜１５０℃の加熱して現像するが、熱現像処理後の、寸度安定性あるいはシワを改善することがＷＯ９５／３０９３４号パンフレットや特開平８−２１１５４７号公報に記載されている。しかし、これらの熱現像感材の多くはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を支持体に用いており、熱現像温度はＰＥＴのガラス転位温度(Ｔg＝７０℃）を上回っている。このため熱現像感材の弾性が低下し腰が弱くなるため、熱現像機搬送中に多くのトラブルを発生し、改善が望まれていた。例えば、搬送中に駆動ロールや駆動ベルトの搬送力を十分受け留めることができず、熱現像機内の搬送時間が送れたり、搬送中に弛みが発生し、これが熱現像機内のロールに巻き付きジャミングを発生したり、搬送力が左右均等に付与されず熱現像感材に皺が発生するようなトラブルが発生し、改善が望まれていた。このような搬送トラブルは、非接触型熱現像機に於いて特に顕著に発生した。また大判の感材(例えば４５cm角以上)に於いてとくに顕著に発生した。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、熱現像機内で搬送トラブルの発生しにくく、熱現像後の寸度安定性およびシワの改善された熱現像写真感光材料を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
これらの課題は、以下の特徴を持つ熱現像感材により達成された。
すなわち本発明は
（１）１２０℃３０秒処理に伴うＭＤ（長手方向）、ＴＤ（幅方向）の熱寸法変化が幅方向全域にわたって−０．０５％以上０．０５％以下であり、かつ感光層の熱現像温度８０℃以上１５０℃以下に於ける表面弾性率を０．０５ＧＰａ以上０．８ＧＰａ以下とし、感光層の前記熱現像温度に於ける押し込み深さを１μｍ以上１０μｍ以下とし、感光層の前記熱現像温度に於ける塑性変形エネルギーを１ｎＪ以上１０ｎＪ以下とすることを特徴とする熱現像写真感光材料、
（２）熱現像後の２５℃７５％ＲＨにおける吸水速度が０％／時間以上０．１６％／時間以下である支持体を用いたことを特徴とする（１）項に記載の熱現像写真感光材料、
（３）熱現像が８０℃以上１５０℃以下で１０秒以上５分以下で実施されることを特徴とする（１）又は（２）項に記載の熱現像写真感光材料
を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明において感光層の熱現像温度に於ける表面弾性率とは、熱現像温度に加熱した感光層表面にビッカース圧子を一定荷重で挿入し、荷重を除去したときに圧子が感材表面から受ける反発力を指す。この表面弾性率は、０．０５ＧＰａ以上０．８ＧＰａ以下、好ましくは０．１ＧＰａ以上０．６ＧＰａ以下、さらに好ましくは０．１ＧＰａ以上０．４ＧＰａ以下である。この表面弾性率が０．０５ＧＰａ未満では、熱現像機内のロールに粘着し易く、通過時間の遅れを生じ易い。０．８ＧＰａを越えると、熱現像機内のロールとスリップし易く、通過時間の遅れを生じ易い。なお、熱現像温度とは、感光層の組成により異なるが好ましくは８０℃以上１５０℃以下、より好ましくは９０℃以上１４０℃以下、さらに好ましくは１００℃以上１３０℃以下を指す。本発明は熱現像温度が、熱現像感材の支持体のガラス転移温度を上回るような場合に特に好ましい。
さらに、感光層の熱現像温度に於ける押込み深さが１μm以上１０μm以下であることが好ましい。これは熱現像温度に昇温した感材にビッカース圧子を２mＮで押込んだ後、この圧子の挿入深さを測定したものである。より好ましくは２μm以上９μm以下、さらに好ましくは４μm以上８μm以下である。
さらに、感光層の熱現像温度に於ける塑性変形エネルギーが１nＪ以上１０nＪ以下にすることが好ましい。より好ましくは１nＪ以上８nＪ以下、さらに好ましくは１．５nＪ以上６nＪ以下である。塑性変形エネルギ−とは、ビッカース圧子を２mNで押し込んだ後、これを取り去った後に塑性変形(窪みの形成)に消費されたエネルギーを指す。
このような表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギーにすることにより、熱現像機内の駆動ロールや駆動ベルトに張り付いてジャミングを発生したり、駆動ロールや駆動ベルトが感光層の上でスリップし正確な時間で搬送しない等のトラブルの発生をより一層防止し、安定した搬送を行なうことができる。
【０００６】
このような感光層は下記、イ）、ロ）及びハ）により達成される。
イ）感光層をラテックス系ポリマーを用いて形成する。
感光層はポリマー層で形成されるが有機溶剤に溶解して塗布するより、水に分散したラテックス系ポリマーを用いて形成するのが好ましい。これは本発明のような熱現像感材ではバインダーのポリマーとほぼ同量のカルボン酸銀塩を画像形成剤として用いるが、有機溶剤系塗布ではこれらが均一に分散され可塑剤として作用するため、感光層が柔らかく成りやすいためである。一方、ポリマーラテックス系では、これらは個別に分散されるため、カルボン酸銀塩が可塑化効果を発現しにくい。
好ましいラテックスの例として、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましく、より具体的にはメチルメタクリレート／エチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ジビニルベンゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリデン／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタクリル酸コポリマーが挙げられ、さらに好ましくはスチレン／ブタジエン系のポリマーラテックス（LACSTAR3307B、Nipol Lx430、435）が挙げられる。これらの重量平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜１０００００程度が好ましい。
ラテックスバインダー塗布量は０．２〜３０g／ｍ^２、より好ましくは１．０〜１５g／ｍ^２の範囲が好ましい。
【０００７】
ロ）感光層塗布後の乾燥中の温度を感光層下部(支持体側)を感光層上部(空気側)より高くして不均一に行なう。
感光層下部の温度をより高くすることで、感光層の厚み方向に不均一な構造を形成することができる。即ちよりポリマーラテックスの多い層を下側に、よりカルボン酸銀塩の多い層を上側に形成させることで、本発明の表面硬度と上記のより好ましい押込み深さ、又は塑性変形エネルギーを有する感光層を形成することができる。
さらにこの乾燥方法は、ポリマーラッテクス表面に薄皮が形成されるのを防ぐ。この結果薄皮は内部に水分等の揮発分が残留することなく、本発明の表面硬度を達成できる。
具体的には３５〜９０℃、より好ましくは４０〜８５℃、さらに好ましくは４５〜８０℃で乾燥を行なうが、下部(バック層側)の温度を上部(感光層側)より１〜２０℃、より好ましくは２〜１５℃、さらに好ましくは３〜１０℃高くして乾燥させる。これは、感材を上下から挟むように設置した吹き出し口から、個別に調整した温度の風を吹き出すことで容易に達成できる。
【０００８】
ハ）感光層下部側の乾燥風の風量を感光層上部より大きくする。
感光層下部側の乾燥風の風量を感光層上部より１％以上３０％以下、より好ましくは２％以上２５％以下、さらに好ましくは３％以上２０％以下大きくすることで、上記ロ)同様に加工層厚み方向に不均一な構造を達成しやすい。
これは、感材を上下から挟むように設置した吹き出し口のダンパーを調整することで容易に達成できる。ここで云う風量の差とは、以下のように定めたものである。
風量の差(%)＝200×(Ｓl×Ｖl−Ｓu×Ｖu)／(Ｓl×Ｖl＋Ｓu×Ｖu)
但し Ｓu＝上側に設置した吹き出し口の総面積
Ｖu＝上側に設置した吹き出し口の平均風速
Ｓl＝下側に設置した吹き出し口の総面積
Ｖl＝下側に設置した吹き出し口の平均風速
【０００９】
さらに、熱現像機内での搬送トラブルを軽減するために、１２０℃３０秒処理に伴うＭＤ（長手方向）、ＴＤ（幅方向）の熱寸法変化が幅方向全領域にわたって−０．０５％以上０．０５％以下、より好ましくは−０．０４％以上０．０４％以下、さらに好ましくは−０．０３％以上０．０３％以下にすることが好ましい。これにより前後左右の熱収縮の不均一性に由来する感材の熱現像機内搬送時の蛇行を抑制できる。
これには、左右端の配向角の差が０〜３０度、より好ましくは０〜２０度、さらに好ましくは０〜１０度の支持体を、１４０〜２００℃、より好ましくは１５０〜１９０℃、さらに好ましくは１５０〜１８０℃で０．３〜５kg/m、より好ましくは０．５〜４kg/m、さらに好ましくは１〜４kg/mで、２０〜４００秒、より好ましくは３０〜３００秒、さらに好ましくは４０〜２５０秒熱処理することで達成できる。このような配向角の支持体は、延伸製膜における２．５〜３．５倍に縦延伸、３〜４．５倍に横延伸、２２０〜２５０℃で３〜６０秒熱固定の後に２２０〜２５０℃で１〜１０％、より好ましくは１〜８％、さらに好ましくは２〜６％横方向に延伸することで達成される。さらに、配向角のおおきな端部の少なくとも一方をスリットで落とすとさらに好ましい。好ましいスリット落としの幅は(片端あたり)、全幅の３〜３０％、より好ましくは５〜２５％、さらに好ましくは７〜２０％である。
【００１０】
さらに、熱現像後の支持体の２５℃７５％ＲＨにおける吸水速度が０％／時間以上０．１６％／時間以下、より好ましくは０％／時間以上０．１４％／時間以下、さらに好ましくは０％／時間以上０．１３％／時間以下にすることでも熱現像機内の搬送性を改良できる。これは熱現機入口、出口での急激な脱湿、吸湿に伴う支持体の縮み、伸びに伴う感材の変形が搬送性を低下させることを抑制するためである。
このような防水層は、無機物、有機物いずれでも良く、無機物の場合、特開平８−２２４７９５号に記載のようなシリカ蒸着層、あるいはアルミナ、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を蒸着しても良い。また雲母等の無機微粒子をポリマーバインダー中に分散し塗布しても良い。
【００１１】
有機物の場合、ポリ塩化ビニリデン系樹脂（PVdC）、ポリビニルアルコール(PVA)、高密度ポリエチレン、ポリ弗化エチレン等の層を塗工するのが好ましい。これらの中で好ましいのがPVdCとPVAであり、さらに好ましいのがポリ塩化ビニリデン系樹脂である。
ポリ塩化ビニリデン系樹脂は共重合体を用いるのが好ましく、含有される塩化ビニリデン残基の量は７０〜９９．９wt％が好ましく、より好ましくは８５〜９９wt％、さらに好ましくは９０〜９９wt％である。塩化ビニリデン以外の共重合成分としてメタクリル酸、アクリル酸、メチルメタクリル酸、イタコン酸、シトラコン酸およびこれらのエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ビニルアセテート、アクリルアミド、スチレン等を挙げることができる。これらの共重合体の重量平均分子量は５０００以上１０万以下が好ましく８０００以上８万以下がより好ましく、１万以上４．５万以下がさらに好ましい。
【００１２】
ポリ塩化ビニリデン系樹脂の支持体上への塗工は、これを有機溶剤に溶解し塗布する方法でも水分散ラテックスを塗布する方法いずれも用いることができるが、後者がより好ましい。水分散ラテックスの水分散物の場合、均一構造のポリマー粒子のラテックスであってもコア部とシェル部で組成の異なったいわゆるコア−シェル構造のポリマー粒子のラテックスでもよい。
【００１３】
塩化ビニリデン共重合体の具体例として以下のものを挙げることができる。ただし（ ）内の数字は重量比を表す。またMwは重量平均分子量を表す。
(A)塩化ビニリデン:メチルアクリレート：アクリル酸(90:9:1)のラテックス(Mw=42000)
(B)塩化ビニリデン:メチルアクリレート：メチルメタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸(87:4:4:4:1)のラテックス(Mw=40000)
(C)塩化ビニリデン：メチルメタクリレート：グリシジルメタクリレート：メタクリル酸(90:6:2:2)のラテックス(Mw=38000)
(D)塩化ビニリデン：エチルメタクリレート：２−ヒドロキシエチルメタクリレート：アクリル酸(90:8:1.5:0.5)のラテックス(Mw=44000)
(E)コアシェルタイプのラテックス(コア部90重量%、シェル部10重量%)
コア部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチルメタクリレート:アクリロニトリル：アクリル酸(93:3:3:0.9:0.1)
シェル部 塩化ビニリデン:メチルアクリレート：メチルメタクリレート：アクリロニトリル：アクリル酸(88:3:3:3:3)(Mw=38000)
(F)コアシェルタイプのラテックス(コア部70重量%、シェル部30重量%)
コア部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチルメタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸(92.5:3:3:1:0.5)
シェル部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチルメタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸(90:3:3:1:3)(Mw=20000)
これらの防水層の厚みは支持体の少なくとも片側に０．５μm以上１０μm以下設けるのが好ましく、より好ましくは支持体両側に各々０．８μm以上５μm以下、さらに好ましくは両側に各々１．０μm以上３μm以下設けるのが好ましい。
さらに、本発明においては、次の（１）又は／及び（２）の手段を組合わせることにより、その発明の効果をより高めることができる。
【００１４】
（１）バック層の熱現像温度に於ける表面弾性率が１ＧＰａ以上５ＧＰａ以下とする。
バック層の熱現像温度に於ける表面弾性率とは、熱現像温度に昇温した感材のバック面にビッカース圧子を２mＮの加重で押込んだ後、加重を除去し圧子の受ける応力を測定したものである。この表面弾性率は好ましくは、１ＧＰａ以上５ＧＰａ以下、より好ましくは２ＧＰａ以上５ＧＰａ以下、さらに好ましくは２ＧＰａ以上４．５ＧＰａ以下である。
さらに、バック層の熱現像温度に於ける押込み深さが０．４μm以上２μm以下であることが好ましい。より好ましくは０．５μm以上１．７μm以下、さらに好ましくは０．５μm以上１．４μm以下である。
さらに、バック層の熱現像温度に於ける塑性変形エネルギ−が０．０１nＪ以上１nＪ以下にすることが好ましい。より好ましくは０．０２nＪ以上０．６nＪ以下、さらに好ましくは０．０３nＪ以上０．５nＪ以下である。
このような表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギーを有するバック層にすることにより、熱現像機内のバック層に接触する駆動ロールや駆動ベルトに張り付いてジャミングを発生したり、駆動ロールや駆動ベルトとバック層がスリップし正確な時間で搬送しない等のトラブルの発生を防止し、安定した搬送を行なうことができる。
【００１５】
このようなバック層を達成する上でのポイントは下記２点である。
イ)バック層中に無機微粒子を含む層を少なくとも１層以上有する。
無機微粒子は特に限定されないが、シリカ、アルミナ、雲母、タルク、スズ酸化物、インジウム酸化物、酸化チタン、酸価亜鉛等が挙げられる。好ましい粒径は０．０１〜０．７μｍ、より好ましくは、０．０２〜０．５μｍである。好ましい添加量は５０ｍｇ／ｍ^２以上５００ｍｇ／ｍ^２以下、より好ましくは１００ｍｇ／ｍ^２以上４００ｍｇ／ｍ^２以下、さらに好ましくは１５０ｍｇ／ｍ^２以上３５０ｍｇ／ｍ^２以下である。これらの微粒子の形状は特に問わないが、アスペクト比が３以上の針状のもの、あるいは平板状のものがより好ましい。これらの無機微粒子はポリマーバインダーに分散させて塗設するのが好ましい。好ましいポリマーは、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸セルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましく、より具体的にはメチルメタクリレート／エチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ジビニルベンゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリデン／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタクリル酸コポリマーが挙げられる。これらの重量平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜１０００００程度が好ましい。ポリマーバインダーの塗布量は、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１０〜８０ｍｇ／ｍ^２、さらに好ましくは２０〜５０ｍｇ／ｍ^２である。
【００１６】
ロ)バック表面カレンダリング処理。
バック面の接触圧を式１に従って、より好ましくは式２に従ってカレンダリングする。好ましい温度はいずれも、８０℃以上１８０℃以下、より好ましくは１１０℃以上１７０℃以下、さらに好ましくは１２０℃以上１７０℃以下で５秒以上２４０秒以下、より好ましくは１０秒以上２００秒以下、さらに好ましくは２０秒以上１８０秒、式１を満足する接触圧で、より好ましくは式２を満足する接触圧で実施する。

【００１７】
このような接触圧の調整は、搬送張力とエッジ持ちロールにより達成できる。搬送張力は５g/ｍｍ^２以上１００g/ｍｍ^２以下が好ましく、より好ましくは８g/ｍｍ^２以上８０g/ｍｍ^２以下、さらに好ましくは１０g/ｍｍ^２以上６０g/ｍｍ^２以下である。この時、さらに搬送ロールの端部を高くしたロール(エッジ持ちロール)を用いベースを浮かせて搬送させることで接触圧を下げることがより好ましい。高くしたエッジ部の高さは０．０５mm以上１０mm以下が好ましく、より好ましくは０．１mm以上５mm以下、さらに好ましくは０．１５mm以上３mm以下である。エッジ部の好ましい幅は５mm以上２００mm以下であり、より好ましくは８mm以上１００mm以下であり、さらに好ましくは１０mm以上８０mm以下である。エッジ部は搬送するベースの端に位置するように設け、両端に設けるのがより好ましい。このようなエッジ部はロール作成時に予め所定に部分が高くなるよう加工しても良く、既存のロールに耐熱テープ等を巻き付け高くすることも好ましい。
さらにこのエッジ部にあたる部分の支持体に厚みだし加工(ナール加工)を行なうのもより好ましい。ナール加工は片面から押出しても良く、両側から押出してもよい。好ましい幅は３〜５０mm、より好ましくは５〜３０mmである。厚み出し加工の高さ(両側から厚み出しを行った場合は、両面の平均を云う)は５μm以上１５０μm以下が好ましく、より好ましくは１０μm以上８０μm以下がより好ましい。
【００１８】
（２）２５℃５０％ＲＨ調湿後のバック層をＸＰＳ測定した２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度比（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）が５以上１８以下とする。
バック層を２５℃５０％ＲＨ調湿後、バック層を下記方法で光電子分光測定(ＸＰＳ)行ない、２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度比（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）を求める。これらはＣ1s電子に起因するシグナルであり、前者がＣ−Ｃ炭素に由来し、滑り剤として作用する長鎖炭化水素の量を示す。ＸＰＳは極表面(５ｎｍ)のみを測定するため、このシグナルが強いことは、表面の滑り性を高くできる。一方後者の２８８．４ｅＶのシグナルは、Ｃ＝Ｏ結合に由来し、表面の滑り性を低下させやすい。従ってこれらの比（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）が高いほど滑り性が低下しやすい。好ましい（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）は５以上１８以下であり、より好ましくは６以上１６以下、さらに好ましくは７以上１５以下である。
【００１９】
さらに、２５℃７５％ＲＨ調湿後のバック層をＸＰＳ測定した２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度比(Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(75%RH)）を、(Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）で割った値が０．６以上１以下、より好ましくは０．６５以上０．９５以下、さらに好ましくは０．７以上０．９０以下にすることがより望ましい。これは、長鎖炭化水素からなる滑り剤が疎水性のため高湿下でバック層中に潜り込み滑り性が低下するのを防ぐためである。このＸＰＳ強度比は、調湿を７５%RHに変更する以外は上と同様に測定される。
さらに２５℃５０％ＲＨ調湿後のバック層の表面フッ素量（Ｆs）と表面炭素量（Ｃs）の比(Ｆs／Ｃs)が０．２５以上０．５以下、より好ましくは０．３以上０．４５以下、より好ましくは０．３以上、０．４以下である。これは長鎖炭素系滑り剤を安定して塗布するためにフッ素系界面活性剤を添加するが、これらが競争的に表面に出ようとするため、この範囲内にするのが好ましい。
【００２０】
さらに、バック層の動摩擦係数が０．０５以上０．５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０５以上０．４以下、さらに０．０５以上０．３以下である。この動摩擦係数は２５℃６０％rh下に於いて、直径０．５mmのステンレス球を用いて測定した値である。
このような特性にすることで、熱現像感材と熱現像機との間の摩擦を低減させ、摩擦抵抗によるジャミングを低減させることができる。さらに広い環境条件に於いて、信頼性の高い搬送性を確保できる。このような特性は、非接触式の熱現像機に於いて特に有効であり、中でもバック層を不織布に接触させながら搬送するような方式（例えば特願平１０−１７７６１０号、特願平１０−２４９９４０号に記載の熱現像機）において有効である。
【００２１】
このような特性を有するバック層を達成する上でのポイントは下記３点である。
イ）バック最外層へのフッ素系界面活性剤と長鎖炭化水素系滑り剤の混用。
滑り性を得るために炭素数１０以上５０以下、より好ましくは炭素数１０以上４０以下、さらに好ましくは炭素数１０以上３０以下の長鎖炭化水素系滑り剤を用いる。具体的には以下のような構造の化合物を挙げることができるが、より好ましくは長鎖アルキルスルホン酸、長鎖アルキルベンゼンスルホン酸、カルナバワックス（セロゾール５２４）や変成ポリエチレンラテックス(ケミパール)である。
【００２２】
好ましい長鎖炭化水素系滑り剤
n-Ｃ_１６Ｈ_３３−Ｏ−ＳＯ_３Ｎａ
n-Ｃ_１２Ｈ_２５−Ｏ−ＳＯ_３Ｌi
n-Ｃ_２０Ｈ_４１−Ｏ−ＳＯ_３Ｎａ
n-Ｃ_１２Ｈ_２５−Ｃ_６Ｈ_４−ＯＳＯ_３Ｎａ
n-Ｃ_１６Ｈ_３３ＣＯＯＫ
n-Ｃ_２０Ｈ_４１ＣＯＯＮａ
カルナバワックス（例えば、中京油脂製セロゾール５２４）
変成ポリエチレンラテックス(例えば、三井東圧製ケミパール)
ステアリルアミド
n-Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯＣ_３０Ｈ_６１-n
n-Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯＣ_４０Ｈ_８１‐n
n-Ｃ_２７Ｈ_５５ＣＯＯＣ_２８Ｈ_５７-n
n-Ｃ_２１Ｈ_４３ＣＯＯ-(ＣＨ_２)_７ＣＨ-(ＣＨ_３)-Ｃ_９Ｈ_１９-n
n-Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯＣ_２４Ｈ_４９-iso
n-Ｃ_２９Ｈ_５９ＯＣＯ(ＣＨ_２)_２ＣＯＯ-Ｃ_２４Ｈ_４９-n
n-Ｃ_４０Ｈ_８１ＯＣＯ(ＣＨ_２)_２ＣＯＯ-Ｃ_５０Ｈ_１０１‐n
n-Ｃ_１７Ｈ_３５ＣＯＯ(ＣＨ_２)_６ＯＣＯ-Ｃ_１７Ｈ_３５-n
iso-Ｃ_２３Ｈ_４７ＣＯＯ(ＣＨ_２)_２ＯＣＯ-Ｃ_２３Ｈ_４７-n
n-Ｃ_４０Ｈ_８１Ｏ(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_１５Ｈ
n-Ｃ_５０Ｈ_１０１Ｏ(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_３０Ｈ
n-Ｃ_４０Ｈ_８１ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯ-(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_１６Ｈ
n-Ｃ_５０Ｈ_１０１ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯ-(ＣＨ_２ＣＨ_２(ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ)_３(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_１５Ｈ
【００２３】
さらにこの滑り剤の塗布安定性付与(ハジキ故障対策)としてフッ素系界面活性剤を添加する。これにより全面に均一な滑り性を付与できる。好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数４以上（通常１５以下）のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、またはフルオロアリール基を有し、イオン性基としてアニオン基（スルホン酸（塩）、硫酸（塩）、カルボン酸（塩）、リン酸（塩））、カチオン基（アミン塩、アンモニウム塩、芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩）、ベタイン基（カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホアンモニウム塩、）またはノニオン基（置換、無置換のポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタン残基）を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含フッ素界面活性剤は特開昭49-10722号、英国特許第1,330,356号、米国特許第4,335,201号、同4,347,308号、英国特許第1,417,915号、特開昭55-149938号、同58-196544号、英国特許第1,439,402号などに記載されている。これらの含フッ素界面活性剤は、２種以上混合してもよい。
【００２４】
【化１】

【００２５】
これらのフッ素系界面活性剤(Ｆ系界面活性剤)と長鎖炭化水素系滑り剤の添加量比は１：１０〜１：１であり、より好ましくは１：８〜１：１であり、さらに好ましくは１：４〜１：１である。好ましい長鎖炭化水素系滑り剤の塗布量は５〜１００mg/ｍ^２であり、より好ましくは８〜８０ｍｇ／ｍ^２、さらに好ましくは１０〜６０ｍｇ／ｍ^２である。好ましいＦ系界面活性剤の塗布量は０．５〜１００ｍｇ／ｍ^２であり、より好ましくは１〜８０ｍｇ／ｍ^２、さらに好ましくは２．５〜６０ｍｇ／ｍ^２である。
【００２６】
ロ）フッ素系樹脂をライニングしたロールを用いた熱処理
１００〜２００℃、より好ましくは１２０〜１９０℃、さらに好ましくは１４０〜１８０℃で、表面にフッ素樹脂をコートしたロールに接触させることで、上記特性を有するバック表面を達成できる。即ち接触させる部材によりバック表面の析出量を制御するものである。好ましいフッ素系樹脂として、テフロン(ポリテトラフルオロエチレン：ＰＴＦＥ)、ポリフッ化ビニリデン(ＰＶｄＦ)、ポリビニルフルオライド(ＰＶＦ)、ポリクロロトリフルオロエチレン(ＰＣＴＦＥ)、ポリフルオロアルキルビニルエーテル(ＰＦＡＶＥ)等が挙げられるが、より好ましくはテフロンである。これらのライニング厚は１０〜１００００μmが好ましい。ライニングに用いるロールはアルミ製、鉄製、ステンレス製等を用いることができる。好ましいロールの直径は１０〜１０００mmである。
フッ素系樹脂をライニングしたロールに接触させる時間によりバック特性を制御でき、好ましくは１〜３００秒、より好ましくは２〜２００秒、さらに好ましくは３〜６０秒である。
【００２７】
ハ）塗布乾燥後の低湿度巻取り
バック層塗布後、あるいは低張力熱処理後のベース吸水率を０〜０．２wt％、より好ましくは０〜０．１wt％、さらに好ましくは０〜０．０５wt％にして巻き取る。これにより湿度依存性を抑えるために特に有効である。これは、巻取り部の湿度を０〜６０％rh、より好ましくは１０〜５０％rh、さらに好ましくは１０〜３０％rhにして巻取り、さらに巻取り時の支持体温度を３５〜７０℃、より好ましくは４０〜６０℃で巻き取るのがより好ましい。
【００２８】
以下に本発明を用いた熱現像感材の調製方法について述べる。
(1)支持体の調製
本発明の感材に用いる支持体は特に限定されないが、１２０℃での弾性率（Ｅ120）が１００kg/ｍｍ^２以上６００kg/ｍｍ^２以下であることが好ましく、より好ましくは１２０kg/ｍｍ^２以上５００kg/ｍｍ^２以下である。具体的にはポリエチレンナフタレート（Ｅ120=４１０kg/ｍｍ^２）、ポリエチレンテレフタレート（Ｅ120=１５０kg/ｍｍ^２）、ポリブチレナフタレート（Ｅ120=１６０kg/ｍｍ^２）、ポリカーボネイト（Ｅ120=１７０kg/ｍｍ^２）、シンジオタクチックポリスチレン（Ｅ120=２２０kg/ｍｍ^２）、ポリエーテルイミド（Ｅ120=１９０kg/ｍｍ^２）、ポリアリレート（Ｅ120=１７０kg/ｍｍ^２）、ポリスルホン（Ｅ120=１８０kg/ｍｍ^２）、ポリエーテルスルホン（Ｅ120=１７０kg/ｍｍ^２）等が挙げられる。これらは単独で用いても良く積層あるいは混合して用いても良い。好ましいのがポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、シンジオタクチックポリスチレンである。特に好ましいのがポリエチレンテレフタレートである。これらの支持体中にはハンドリング性向上のため０．０１μm〜１０μmの微粒子を１ppm〜１０００ppm添加するのも好ましい。支持体の厚みは特に制限はないが、好ましくは８０〜２５０μｍ、より好ましくは９０〜２００μｍ、さらに好ましくは９５〜１５０μｍである。
【００２９】
さらに本発明の感材を調製するためには支持体上に下記下塗層、バック層を設けるのが好ましい。
▲１▼下塗層
支持体の少なくとも片面に下塗層を塗設するが、これに先立ちこれらの層と支持体を強固に固定するため表面処理を行っても良い。例えば、グロー放電処理（特開平８−１９４２８６等）、コロナ処理（例えば特公昭４８−５０４３号、同４７−５１９０５号、特開昭４７−２８０６７号、同４９−８３７６７号、同５１−４１７７０号、同５１−１３１５７６号等）、紫外線処理（例えば特公昭４３−２６０３号、特公昭４３−２６０４号、特公昭４５−３８２８号）や火炎処理を行なうのが好ましい。
【００３０】
下塗り層としては、第１層として支持体によく接着する層（以下、下塗り第１層と略す）を設け、その上に第２層として下塗り第１層と写真層をよく接着する層（以下、下塗り第２層と略す）を塗布するいわゆる重層法と、支持体と写真層をよく接着する層を一層のみ塗布する単層法とがある。
単層法においては、多くは支持体を膨潤させ、下塗りポリマーと界面混合させる事によって良好な接着性を得る方法が多く用いられる。この下塗りポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共重合体などの水溶性ポリマー、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロースエステル、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体等のラテックスポリマー、などが用いられる。これらのうち好ましいのはゼラチンである。ゼラチンとしては、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチン誘導体及び変性ゼラチン等当業界で一般に用いられているものはいずれも用いることができる。これらのゼラチンのうち、最も好ましく用いられるのは石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。
【００３１】
重層法における下塗り第１層では、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等の中から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体、エポキシ樹脂、ゼラチン、ニトロセルロース、ポリ酢酸ビニルなどが用いられる。また必要に応じて、トリアジン系、エポキシ系、メラミン系、ブロックイソシアネートを含むイソシアネート系、アジリジン系、オキサザリン系等の架橋剤、コロイダルシリカ等の無機粒子、界面活性剤、増粘剤、染料、防腐剤などを添加してもよい。ポリ塩化ビニリデン系樹脂を用いる場合、上記防水層と兼用することができる。下塗第２層では主にゼラチンが用いられる。
【００３２】
▲２▼バック層
画像形成層（感光層）の反対側にバック層（バッキング層）を設けるのが好ましい。バック層塗設に先立ち、支持体との密着性を改善するためグロー放電処理、コロナ処理、紫外線処理や火炎処理を行なっても良い。
本発明のバック層は、所望の波長範囲での最大吸収が0.3以上2以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.5以上2以下の吸収であり、かつ処理後の可視領域においての吸収が0.001以上0.5未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度を有する層であることが好ましい。また、バック層に用いるハレーション防止染料を塗布することも好ましい。
【００３３】
帯電調整剤として導電性の結晶性金酸化物又はその複合酸化物微粒子を添加して表面抵抗率を１０^１２以下にすることも好ましい。導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子としては体積抵抗率が１０^７Ωcm以下、より好ましくは１０^５Ωcm以下のものが望ましい。またその粒子サイズは０．０１〜０．７μｍ、特に０．０２〜０．５μｍであることが望ましい。
これらの導電性の結晶性金属酸化物あるいは複合酸化物の微粒子の製造方法については特開昭５６−１４３４３０号公報の明細書に詳細に記載されている。即ち、第１に金属酸化物微粒子で焼成により作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に焼成により金属酸化物微粒子を製造するときに導電性を向上させる為の異種原子を共存させる方法、第３に焼成により金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等が容易である。金属原子を含む例としてはＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、ＴｉＯ_２に対してはＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ_２に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等があげられる。異種原子の添加量は０．０１〜３０ｍｏｌ％の範囲が好ましいが０．１〜１０ｍｏｌ％であれば特に好ましい。これらのうちＳｂを添加したＳｎＯ_２複合金属酸化物微粒子が最も好ましい。
【００３４】
バック面マット化のために微粒子を添加するのも好ましい。微粒子は無機微粒子（シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、チタニア、ジルコニアなど）、有機微粒子（ＰＭＭＡ、ＰＳｔおよびこれらの架橋体など）が挙げられる。本発明では、特開平3-109542号公報２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目に記載された多孔性のマット剤、特開平4-127142号公報３頁右上欄７行目〜５頁右下欄４行に記載されたアルカリで表面修飾したマット剤、特開平6-118542号公報の段落番号「０００５」から「００２６」に記載された有機重合体のマット剤を用いることがより好ましい。好ましい粒径は０．３μm以上１０μm以下、より好ましくは１μm以上８μm以下、さらに好ましくは３μm以上７μm以下である。好ましい添加量は１〜５０mg／ｍ^２、より好ましくは２〜３０mg／ｍ^２、さらに好ましくは３〜１５mg／ｍ^２である。これにより達成される好ましいベック平滑度（ＪＩＳ Ｐ８１１９）は、２０００秒以下であり、より好ましくは１０秒〜２０００秒である。
【００３５】
これらのバック層は親水性コロイドをバインダ−としてもよく、疎水性ポリマーをバインダーとしてもよい。
親水性ポリマーとして最も好ましいものはゼラチンである。親水性ポリマ−を用いる場合、より強固な密着性を付与するために、感光層と同じ下塗を行った上にバック層を塗設することも好ましい。
疎水性ポリマー層のバインダーとしてはポリメチルメタクリレート、エチルアクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルポリマー、ポリエチレン等のオレフィン系ポリマー、スチレン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、ブタジエン等のゴム系ポリマーなどが用いられる。この層は１層でも２層以上でもよい。さらにバック層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としては、米国特許4,281,060号、特開平6-208193号などに記載されているポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などに記載されているエポキシ化合物類、特開昭62-89048号などに記載されているビニルスルホン系化合物類などが用いられる。
【００３６】
バック層の最外層に保護層を設けても良い。保護層用の全バインダー量は０．２〜５．０g／ｍ^２、より好ましくは０．５〜３．０g／ｍ^２の範囲が好ましい。バック層用のバインダーとしては、アクリル系、オレフィン系、塩化ビニリデン系のポリマーラテックスが用いられ、具体的にはアクリル樹脂系のジュリマーET-410、セビアンA-4635、ポリゾールF410など、オレフィン樹脂系のケミパールS120、塩化ビニリデン系のL502、アロンD7020などが好ましい。
このようなバック層は、１層でも多層でもよく、各層の厚みは０．０２〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜７μｍの範囲が好ましく、これらの層の全厚みは０〜５μｍが好ましい。
これらのバック層、下塗層の塗工は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、等により塗布することができる。これらは単層ずつ塗布しても２層以上同時塗布しても良い。
【００３７】
(２)感光層の調製
本発明の熱現像感材は支持体上に有機銀塩、還元剤および感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層（感光層）を有し、画像形成層上には少なくとも１層の保護層が設けられている。
感光層はバインダー中にハロゲン化銀、化学増感剤、有機銀塩、還元剤、超硬調化剤、増感色素、カブリ防止剤、可塑剤等を分散させたものである。
【００３８】
バインダーとして用いられるのは、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましく、より具体的にはメチルメタクリレート／エチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ジビニルベンゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリデン／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタクリル酸コポリマーが挙げられ、さらに好ましくはスチレン／ブタジエン系のポリマーラテックス（LACSTAR3307B、Nipol Lx430、435）が好ましく用いられる。これらの重量平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜１０００００程度が好ましい。さらにバインダー中に、全バインダーの２０wt%以下の範囲でポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。
バインダーの塗布量は０．２〜３０g／ｍ^２、より好ましくは１．０〜１５g／ｍ^２の範囲が好ましい。
【００３９】
また、本発明は超硬調画像形成のために、超硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用することができる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のアミン化合物、同第5,545,507号に記載のヒドロキサム酸類、同第5,545,507号に記載のアクリロニトリル類、同第5,558,983号に記載のヒドラジン化合物、日本特許特開平09-297368号に記載のオニュ−ム塩類などを用いることができる。
【００４０】
本発明における増感色素としてはシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。
赤色光への分光増感の例としては、He-Neレーザー、赤色半導体レーザーやLEDなど赤色光源に対しては特開昭54-18726号、特開平6-75322号、特開平7-287338号、特公昭55-39818号、特開昭62-284343号、特開平7-287338号に記載の化合物を用いることができる。
750〜1400ｎｍの波長領域の半導体レーザー光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよびキサンテン色素を含む種々の既知の色素により有利に増感させることができる。
また、J-bandを形成する色素として米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号、特開平2-96131号、特開昭59-48753号が好ましく用いることができる。
本発明における増感色素の使用量としては、感光性層のハロゲン化銀1モル当たり10^−６〜1モルが好ましく、10^−４〜10^−１モルがさらに好ましい。
【００４１】
カブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体は、米国特許第2,131,038号および同第2,694,716号に記載のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号および同第2,444,605号に記載のアザインデン、米国特許第2,728,663号に記載の水銀塩、米国特許第3,287,135号に記載のウラゾール、米国特許第3,235,652号に記載のスルホカテコール、英国特許第623,448号に記載のオキシム、ニトロン、ニトロインダゾール、米国特許第2,839,405号に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,839号に記載のチウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263号および同第2,597,915号に記載のパラジウム、白金および金塩、米国特許第4,108,665号および同第4,442,202号に記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,128,557号および同第4,137,079号、第4,138,365号および同第4,459,350号に記載のトリアジンならびに米国特許第4,411,985号に記載のリン化合物などがある。
また、カブリ防止や高感度化を目的として安息香酸類を含有しても良い。好ましい安息香酸類の構造の例としては、米国特許第4,784,939号、同第4,152,160号、特開平9-329865号、同9-329864号、同9-281637号などに記載の化合物が挙げられれ、有機銀塩含有層に添加することが好ましい。この添加量は、銀1モル当たり1μモル以上2モル以下が好ましく、1mモル以上0.5モル以下がさらに好ましい。
【００４２】
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができる。
メルカプト化合物はメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましく、この具体例としては、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプト-5-メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-2-メルカプトベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-ベンゾチアゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイミダゾール、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-4-キノリンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチオール、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジンモノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプトピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロリド、3-メルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、2-メルカプト-4-フェニルオキサゾールなどが挙げられる。これらのメルカプト化合物の添加量は乳剤層中に銀1モル当たり0.0001〜1.0モルが好ましく、さらに好ましくは0.001〜0.3モルの量である。
【００４３】
画像形成層には、可塑剤および潤滑剤として多価アルコール(例えば、米国特許第2,960,404号に記載された種類のグリセリンおよびジオール)、米国特許第2,588,765号および同第3,121,060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特許第955,061号に記載のシリコーン樹脂などを用いることができる。
画像形成層である感光性層には色調改良、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料を用いることができるが、好ましい染料としてはアントラキノン染料(特開平5-341441号、特開平5-165147号記載の化合物など)、アゾメチン染料(特開平5-341441号記載の化合物)、インドアニリン染料(特開平5-289227号、特開平5-341441号、特開平5-165147号記載の化合物など)およびアゾ染料(特開平5-341441号記載の化合物など)が挙げられる。これらの化合物の使用量は感材１ｍ^２当たり1μg以上1g以下の範囲で用いることが好ましい。
【００４４】
アンチハレーション層を感光性層に対して光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーション層は所望の波長範囲での最大吸収が0.3以上2以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.5以上2以下の露光波長の吸収であり、かつ処理後の可視領域においての吸収が0.001以上0.5未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度を有する層であることが好ましい。単独の染料としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、同7-13295号、同7-11432号、米国特許第5,380,635号、特開平2-68539号、同3-24539号などを用いることができる。処理で消色する染料として特開昭52-139136号、同53-132334号、同56-501480号、同57-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同59-182436号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭48-33692号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特許第4,088,497号、同第4,283,487号、同第4,548,896号、同第5,187,049号に記載のものを好ましく用いることができる。
【００４５】
感光層の最外層に保護層を設けることも好ましい。保護層用のバインダーとしてはアクリル系、スチレン系、アクリル／スチレン系、塩化ビニル系、塩化ビニリデン系のポリマーラテックスが好ましく用いられ、具体的にはアクリル樹脂系のVONCORT R3370、4280、Nipol Lx857、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマー、塩化ビニル樹脂のNipol G576、塩化ビニリデン樹脂のアロンD5071が好ましく用いられる。これらの層の中にイソシアネート等の架橋剤を添加するのもより好ましい。保護層の好ましい塗布量は０．５〜１０g/ｍ^２、より好ましくは１〜７g/ｍ^２、さらに好ましくは１．５〜５g/ｍ^２である。
さらに保護層中にマット剤を添加するのがより好ましい。無機系のマット剤としては、二酸化ケイ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛およびカルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、有機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビニルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合体のマット剤が挙げられる。これらのマット剤を２種以上併用してもよい。好ましいマット剤の平均粒径は、１〜１０μｍ、好ましい添加量は、５〜４００mg／ｍ^２、特に１０〜２００mg／ｍ^２の範囲である。
【００４６】
このようにして調製した熱現像感材は使用する際に裁断するが、ロール状で使用しても良く、シート状で使用しても良い。いずれの場合も好ましい幅（熱現像機を通過させるときに処理方向と直交する方向）は４０cm以上１５０cm以下、より好ましくは４５cm以上１００cm以下、さらに好ましくは５０cm以上８０cm以下である。
これらの感材は２０％RH以上８０％RH以下、より好ましくは３０％RH以上７０％RH以下で袋詰めされ出荷される。
【００４７】
本発明の熱現像画像記録材料はいかなる方法で露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好ましい。本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー、YAGレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生素子などを用いることもできる。
本発明の熱現像画像記録材料は露光時のヘイズが低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞発生防止技術としては、特開平5-113548号などに開示されているレーザー光を画像記録材料に対して斜めに入光させる技術や、WO95/31754号などに開示されているマルチモードレーザーを利用する方法が知られており、これらの技術を用いることが好ましい。
本発明の熱現像画像記録材料を露光するにはSPIE vol.169 Laser Printing 116-128頁(1979)、特開平4-51043号、WO95/31754号などに開示されているようにレーザー光が重なるように露光し、走査線が見えないようにすることが好ましい。
【００４８】
本発明の画像形成方法の加熱現像工程はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した感光材料を昇温して現像される。用いられる熱現像機の好ましい態様としては、熱現像感光材料をヒートローラーやヒートドラムなどの熱源に接触させるタイプとして特公平5-56499号、特許公報第684453号、特開平9-292695号、特開平9-297385号および国際特許ＷＯ95/30934号に記載の熱現像機、非接触型のタイプとして特開平7-13294号、国際特許ＷＯ97/28489号、同97/28488号および同97/28487号に記載の熱現像機がある。特に好ましい態様としては非接触型の熱現像機である。好ましい現像温度としては80〜150℃であり、より好ましくは９０〜140℃、さらに好ましくは100〜130℃である。本発明は熱現像温度が、熱現像感材の支持体のガラス転移温度を上回るような場合に特に好ましい。現像時間は１０秒〜５分が好ましく、より好ましくは１５秒〜３分、さらに好ましくは２０秒〜１分である。
さらに、80℃以上115℃未満の温度で画像が出ないようにして5秒以上予熱した後、上記熱現像を行なう多段階熱現像方法が特に好ましい。
【００４９】
以下に本発明で用いた測定法について述べる。
(1)感光層、バック層の表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギー
サンプルをスライドガラス板上に瞬間接着剤で張り付けた後、加熱ステージ上に置き所定の温度にまで昇温する。これを微小硬度計（フィッシャースコープH-100：Fischer社製)を用い下記要領で測定する。
【００５０】
イ)表面弾性率
熱現像温度に昇温した感材にビッカース圧子を２mＮで押込み５秒間保持した後、加重を除去し圧子の受ける応力を測定する。
ロ)押込み深さ
熱現像温度に昇温した感材にビッカース圧子を２mＮで押込んだ時の圧子の到達深さを測定したする。
ハ)塑性変形エネルギ−
▲１▼熱現像温度下でビッカース圧子を２mＮで押込む時にビッカース圧子の受ける応力(Ｆi)と挿入深さ(Ｄi)を測定する。Ｆiを縦軸にＤiを横軸にプロットし、この間に形成される面積を挿入エネルギー(Ｅi)とする。
▲２▼上記条件で挿入し５秒間保持した後、ビッカース圧子に加えた力を取り除くとビッカース圧子はサンプルの弾性力で押し戻される。この時ビッカース圧子の受ける応力(Ｆo)と深さ(Ｄo)を測定し、Ｆoを縦軸にＤoを横軸にプロットし、この間に形成される面積を弾性エネルギー(Ｅo)とする。
▲３▼Ｅi−Ｅ0を塑性変形エネルギーとする。
【００５１】
(2)２５℃５０％ＲＨ調湿後、２５℃７５％ＲＨ調湿後のバック層をＸＰＳ測定した２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度比（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）、(Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(75%RH)）
▲１▼バック層を２５℃５０％ＲＨあるいは２５℃７５％ＲＨで１２時間調湿後、２９５ｅＶ〜２８０ｅＶ(結合エネルギー)の範囲をＸＰＳ測定する。
▲２▼得られたスペクトルの中で最も低結合エネルギー側に現れるピークを２８４．６ｅＶとしてチャージ補正(平行移動)する。
▲３▼２９３〜２９１ｅＶの中の最も低い点と、２８４〜２８２ｅＶの中の最も低い点を結びベースラインとする。ここから２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度(ピーク高さ)を計測し、比を求める。
【００５２】
(3)２５℃５０％ＲＨ調湿後のバック層の表面フッ素量（Ｆs）と表面炭素量（Ｃs）の比(Ｆs／Ｃs)
▲１▼バック層を２５℃５０％ＲＨで１２時間調湿後、７００ｅＶ〜６８０ｅＶ(結合エネルギー)の範囲をＸＰＳ測定する。
▲２▼６９８ｅＶ〜６９６ｅＶの中の最も低い点と、６８４ｅＶ〜６８２ｅＶの中の最も低い点を結びベースラインとする。ベースラインの上の面積を積算した後、イオン化断面積(４．３)で割った値をＦsとする。
▲３▼引き続き、２９５ｅＶ〜２８０ｅＶ(結合エネルギー)の範囲をＸＰＳ測定する。２９３ｅＶ〜２９１ｅＶの中の最も低い点と、２８２ｅＶ〜２８４ｅＶの中の最も低い点を結びベースラインとする。ベースラインの上の面積を積算した後、イオン化断面積(１)で割った値をＣsとする。
▲４▼ＦsをＣsで割り、Ｆs／Ｃs値とする。
【００５３】
(4)バック層の動摩擦係数
２５℃６０％rh下に於いて、直径０．５mmのステンレス球を用いて測定する。
(5)１２０℃３０秒のＭＤ、ＴＤの熱寸法変化
▲１▼感光層塗布後裁断前の熱現像感材から、幅方向３点（両端と中央）で、ＭＤサンプル（ＭＤ２５cm×ＴＤ５cm）、ＴＤサンプル（ＭＤ５cm×ＴＤ２５cm）を切り出す。
▲２▼２５℃６０％rh下に２４時間調湿後２０cm間隔の一対の孔を空け、この間隔をピンゲージを用いて測長する(Ｌ１とする)。
▲３▼１２０℃に加熱した熱板に３０秒間サンプルを接触させる。
▲４▼２５℃６０％rh下に２４時間調湿後、ピンゲージを用いて測長する(Ｌ2とする)。
▲５▼100×(Ｌ1−Ｌ2)／Ｌ1を１２０℃３０秒処理に伴う熱寸法変化率(%)とする。
【００５４】
(6)熱現像後の支持体の吸水速度
下塗、バック層まで塗工した支持体を２５℃４０％ＲＨに１２時間調湿する。これを１２０℃３０秒熱現像し、２５℃７５％ＲＨ下に置く。この３分後に計測した水分量と１時間後に計測した水分量の差を熱現像後の吸水速度（％／時間）とする。
なお、水分量の計測は以下の方法で実施した。
▲１▼サンプルを２５℃７５％ＲＨ下で１ｃｍ×３ｃｍに切り抜き、重量（Ｆ）をガラス管に封入する。
▲２▼これを加熱装置の付いたカールフィッシャー水分計（三菱化成工業製 微量水分測定装置ＣＡ−０３型＋水分気化装置ＶＡ−０５型）を用いて１５０℃にサンプルを加熱しながら水分の重量（Ｗ）を求める。１００×Ｗ(g)／Ｆ(g)を水分量（％）とした。
【００５５】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。
実施例−１
（１）支持体（ベース）の作成
テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従いＩＶ（固有粘度）＝０．６６（フェノ−ル／テトラクロルエタン＝６／４(重量比)中２５℃で測定）のＰＥＴを得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出し、５０℃の冷却ドラム上で急冷し未延伸フィルムを作成した。
【００５６】
これを周速の異なるロールを用い３．３倍に１０５℃で縦延伸した。ついでテンターで１２５℃で４．３倍に横延伸した。この後、テンター幅を変化させずに表１に示した温度、時間熱処理した後、２４０℃で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に表１に示した比率だけ延伸した。この後テンターのチャック部を各１５cmスリットした後、両端にナール加工を行い、４０℃に冷却後４．８kg/mで巻き取った。このようにして、厚み１００μm、幅２．５ｍの延伸ＰＥＴ支持体を得た。これを表１に示した割合だけ両端をスリットした。この後両端に幅１cmのナール加工を厚み２５μmで実施した。この後、上記方法に従い両端の分子配向角を測定し表２に示した。
【００５７】
（２）感光層側 防水・下塗層
上記支持体（ベース）の片面に、表２に示すように下記組成の防水層を設けた。
▲１▼PVdC系防水層、▲２▼SBR系防水層は表２に示した乾燥厚みになるよう塗布後、１８０℃、４分間乾燥した。▲３▼PVA系防水層は支持体の熔融押出し時にマルトマニホールドダイを用いて二軸延伸後に表２の厚みになるように共押出しして形成した。
これらの防水層の上に下記下塗り層を塗設し１８０℃、４分間乾燥した。
【００５８】
(2-1)防水層

【００５９】
(2-2)下塗り層
アルカリ処理ゼラチン
（Ｃａ++含量３０ppm、ゼリー強度２３０ｇ） ５０ｍｇ／ｍ^２
【００６０】
(３)バック層
上記下塗り層の反対側に下記塗設を行った。
(3-1)無機微粒子層
下記▲１▼〜▲３▼の中から１つを選択し(表１に記載)、１８０℃、４分間乾燥した後、表１に示す温度、接触圧でカレンダリング処理を行った。カレンダリングは張力４５ｇ／ｍｍ^２で搬送させながら、支持体のナール部に接触する部分(両端)を７５μmずつ高くしたエッジロールを用いることで実施した。

【００６１】
(3-2)中間層
無機微粒子層の上に下記塗布液を塗設し、１８０℃、４分間乾燥した。
ジュリマーET-410（日本純薬（株）製）：Tg＝５２℃ ３８ｍｇ／ｍ^２
【００６２】
(3-3)バック側防水層
▲１▼PVdC系防水層、▲２▼SBR系防水層は上記無機微粒子層と中間層の上に表２に示した乾燥厚みになるよう塗布後、１８０℃、４分間乾燥した。▲３▼PVA系防水層は上記無機微粒子層と中間層塗布前に、支持体の熔融押出し時にマルトマニホールドダイを用いて二軸延伸後に表１の厚みになるように共押出しして形成した。

【００６３】
(3-4)バック最外層
無機微粒子層、中間層、防水層の上に下記組成のバック最外層を塗設し１８０℃、３分間乾燥した。
ジュリマーET-410（日本純薬（株）製）：Tg＝５２℃ １０００ｍｇ／ｍ^２
マット剤（ポリスチレン，平均粒径５μm） １０ｍｇ／ｍ^２
直鎖アルキル(Ｃ20)スルホン酸ナトリウム ３０ｍｇ／ｍ^２
炭化水素系滑り剤(下記A,B,C,Dの中から一つを選択：表１に記載)
A.カルナウバワックス 塗布量は表１に記載
B.ケミパール(変成ポリエチレンラテックス) 〃
C.ステアリルアミド 〃
D.Ｃ_１６Ｈ_３３-Ｏ-ＳＯ_３Ｎａ 〃
Ｆ系界面活性剤(下記イ、ロ、ハ、ニの中から一つを選択：表１に記載)
イ.Ｃ_８Ｆ_１７-Ｃ_６Ｈ_４-ＯＳＯ_３Ｎａ 塗布量は表１に記載
ロ.Ｃ_８Ｆ_１７-ＳＯ_３Ｎａ 〃
ハ.Ｃ_８Ｆ_１７-Ｎ(Ｃ_３Ｈ_７)-(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_８-Ｃ_４Ｈ_８-ＳＯ_３Ｎａ 〃
ニ.Ｃ_８Ｆ_１７-Ｎ(Ｃ_３Ｈ_７)-ＣＨ_２ＣＯＯＫ 〃
【００６４】
（４）熱処理
バック層／下塗り層のついた支持体を一旦巻き取った後、表２に記載の条件で加熱ゾーン内を搬送しながら熱処理を実施した。この後、表１に記載の材質のフッ素系樹脂をライニングしたロール上を表１記載の温度、時間だけ搬送させ熱処理し、表１に記載の湿度に巻取り部を調整し支持体温度５０℃で巻き取ることで、表１に記載のベース吸水率を達成し低湿巻取りを行った。
このように低張力熱処理まで終了した支持体の吸水速度を上記方法に従って測定し、表２に記載した。
【００６５】
（５）画像形成層（感光層）
上記方法で下塗、バック層を塗設し熱処理まで終了した支持体の、下塗り層（バック層の反対側）の上に下記画像形成層および保護層を順次塗布し、表２に記載の条件で乾燥した。この時、表２に示すように感材の上面・下面間の温度差を設けるように乾燥するが、水平に搬送させた乾燥ゾーンの上下に設けた温風吹き出し装置の設定温度を調製して実施した。さらに感材上面、下面の乾燥風量も表２に示す様に差を与えるが、これは上下に設けた吹き出し口に取り付けたダンパーの調整で達成した。
【００６６】
(5-1)ハロゲン化銀粒子の調製
水７００mlにフタル化ゼラチン１１gおよび臭化カリウム３０mg、チオスルホン酸ナトリウム１０mgを溶解して温度３５℃にてｐＨを５．０に合わせた後、硝酸銀１８．６gを含む水溶液１５９mlと臭化カリウムを１モル／リットルで含む水溶液をpAg７.７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で６．５分間かけて添加した。ついで、硝酸銀５５．４ｇを含む水溶液４７６mlと臭化カリウムを１モル／リットルで含むハロゲン塩水溶液pAg７．７に保ちながらコントロールダブルジェット法で３０分間かけて添加した後、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン１ｇを添加し、さらにｐＨを下げて凝集沈降させ脱塩処理をした。その後、フェノキシエタノール０.１ｇを加え、ｐＨ５.９、pAg８．２に調整し臭化銀粒子（平均サイズ０．１２μｍ、投影面積直径変動係数８％、（100）面比率８８％の立方体粒子）の調製を終えた。
こうして得たハロゲン化銀粒子を６０℃に昇温して銀１モル当たりチオスルホン酸ナトリウム８．５×１０^−４モルを添加し、１２０分間熟成した後４０℃に急冷したのち、１×１０^−５モルの色素Ｓ−１、５×１０^−５モルの２-メルカプト−５−メチルベンゾイミダゾールおよび５×１０^−５モルのＮ−メチル−Ｎ’−｛３−（メルカプトテトラゾリル）フェニル｝ウレアを添加し３０℃に急冷してハロゲン化銀乳剤を得た。
【００６７】
【化２】

【００６８】
(5-2)有機酸銀分散物の調製
ステアリン酸４．４g、ベヘン酸３９．４g、蒸留水７７０mlを９０℃で撹拌しながら1N-NaOH水溶液１０３mlを添加し２４０分反応させ、７５℃に降温した。次いで、硝酸銀１９．２gの水溶液１１２．５mlを４５秒かけて添加し、そのまま２０分間放置し、３０℃に降温した。その後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度が３０μS/cmになるまで水洗した。こうして得た固形分にヒドロキシプロピルメチルセルロース１０wt％水溶液１００gを添加し、さらに総重量２７０gとなるように水を加えたのち、自動乳鉢にて素分散し有機酸銀粗分散物を得た。この有機酸銀粗分散物をナノマイザー（ナノマイザ（株）製）を用い衝突時の圧力１０００ｋｇ／ｃｍ^３で分散し有機酸銀分散物を得た。こうして得た有機酸銀分散物に含まれる有機酸銀粒子は平均短径０.０４μm、平均長径０．８μm、変動係数３０％の針状粒子であった。
【００６９】
(5-3)還元剤分散物の調製
1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン１００gとヒドロキシプロピルセルロース５０gに水８５０gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径０.５mmのジルコニアビーズ８４０ｇを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス（株）製）にて５時間分散し還元剤分散物を得た。
【００７０】
(5-4)有機ポリハロゲン化物分散物の調製
トリブロモメチルフェニルスルホン５０gとヒドロキシプロピルメチルセルロース１０gに水９４０gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径０.５nmのジルコニアビーズ８４０ｇを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス（株）製）にて５時間分散し有機ポリハロゲン化物分散物を得た。
【００７１】
(5-5)画像形成層塗布液の調製
下記組成の画像形成層塗布液を調製した。
上記有機酸銀分散物 １００g
上記還元剤分散物 ２０g
上記有機ポリハロゲン化物分散物 １５g
ポリマーラテックス素材(下記▲１▼〜▲４▼の中から一つを選択)

この塗布液を塗布銀量１．５g/ｍ^２、ポリマーラテックスの固形分の塗布量が５．７g/ｍ^２になるように塗布した。
【００７２】
（６）保護層
(6-1)保護層塗布液の調製
下記塗布液をポリマーラテックスの固形分が２g/ｍ^２になるように、上記感光層の上に塗布した。
４０wt%のポリマーラテックス（メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルアクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタアクリル酸＝５９／９／２６／５／１の共重合体；Ｔｇ４７℃）５００ｇに、Ｈ_２Ｏ ２６２ｇを加え、造膜助剤として、ベンジルアルコール１４ｇ、下記化合物−２ ２．５ｇ、セロゾール５２４（中京油脂（株）製）３．６ｇ、下記化合物−３ １２ｇ、下記化合物−４ １ｇ、下記化合物−５ ２ｇ、下記化合物−６ ７．５ｇ、マット剤として、平均粒径３μｍのポリメチルメタクリレート微粒子３．４ｇを順次加えて、さらにＨ_２Ｏを加えて、１０００ｇとし、粘度５ｃｐ（２５℃）、ｐＨ＝３．４（２５℃）の塗布液を調製した。
【００７３】
【化３】

【００７４】
【表１】

【００７５】
【表２】

【００７６】
（７）感材の評価
上記方法で調製した感材の、感光層力学強度(表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギー)、バック層表面の力学強度(表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギー)、バック層のＸＰＳ測定、バック層の動摩擦係数を、上述の方法に従って測定し、結果を表３に示した。
さらに、感材の幅方向の中央、両端から５cmの所をＭＤ、ＴＤ方向にサンプリングし、上記方法に従って寸度変化率を測定し、表４に示した。
【００７７】
（８）感材の熱現像の評価
得られた熱現像感材を長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）に沿って各６０cmの正方形に切り出した。これを、下記３方式の熱現像機を用いて処理し、評価を行った。
【００７８】
(8-1)熱現像
上記熱現像感材（６０cm×６０cm）に平網露光した後、４隅に５０cm間隔で「トンボ（十字状の目印）」を露光した後、下記３方式の熱現像機を用いて熱現像した。予熱、熱現像条件(温度、時間)は表４に示した。
▲１▼非接触型熱現像機
【００７９】
図１に示した熱現像機を用いて処理する。この方式の特徴は、感材を直接熱源に接触させることなく、一定温度に保持された恒温槽中を、不織布の上を搬送するものである。この結果、感光層側は、熱源と非接触で搬送される。
図１の熱現像機の側面図を用いて詳細を説明する。図１の熱現像機は熱現像感光材料１０を平面状に矯正及び予備加熱しながら加熱部に搬入する搬入ローラー対１１（下部ローラーがヒートローラー）と熱現像後の熱現像後の熱現像感光材料１０を平面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬出ローラー対１２を有する。熱現像感光材料１０は搬入ローラー対１１から搬出ローラー対１２へと搬送される間に熱現像される。この熱現像中の熱現像感光材料１０を搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接触する側に複数のローラー１３が設置され、その反対側のバック面が接触する側には不織布（たとえばポリフェニレンサルファイトやテフロンから成る）等が貼り合わされた平滑面１４が設置される。熱現像感光材料１０は画像形成層を有する面に接触する複数のローラー１３の駆動により、バック面は平滑面１４の上を滑って搬送される。加熱手段はローラー１３の上部及び平滑面１４の下部に熱現像感光材料１０の両面から加熱されるように加熱ヒーター１５が設置される。この場合の加熱手段としては板状ヒーター等が挙げられる。ローラー１３と平滑面１４とのクリアランスは平滑面の部材により異なるが、熱現像感光材料１０が搬送できるクリアランスに適宜調整される。好ましくは０〜１ｍｍである。
【００８０】
ローラー１３の表面の材質及び平滑面１４の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料１０の搬送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面の材質はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドまたはテフロン（ＰＴＦＥ）製の不織布が好ましい。加熱手段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度を自由に設定することが好ましい。
なお、熱現像処理部の上流の予備加熱部は、熱現像温度よりも低く（例えば１０〜２０℃程度低く）、熱現像感光材料中の水分量を蒸発させるのに十分な温度および時間に設定することが望ましく、熱現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも高い温度で、現像ムラが出ないように設定することが好ましい。
また、熱現像処理部の下流にはガイド板１６が設置され、さらに、徐冷部が設置される。ガイド板は熱伝導率の低い素材が好ましく、冷却は徐々に行うのが好ましい。
【００８１】
▲２▼ロール接触型熱現像機
ＷＯ９５／３０９３４の実施例１に記載の方式の熱現像機を使用した。
▲３▼熱板接触型熱現像機
特表平７−５０５４８８号の実施例１に記載の方式の熱現像機を使用した。
【００８２】
(8-2)熱現像機の搬送性、熱現像後の感材の評価
▲１▼通過時間
感材が搬出されるのに要した時間を計測し(Ｔ1秒)、設定時間(Ｔ0秒)に対する遅れた割合(100×(Ｔ1−Ｔ0)／Ｔ0)を表４に示した。許容されるのは６％以下である。なお、∞は熱現像機から排出されなかったことを示す（ジャミングの発生（ロールに感材が巻きつき、からまってしまった。））。
▲２▼現像ムラ
熱現像後の平網の画像を目視で評価した。搬送不良に起因する横方向(搬送方向に直角方向)に３〜１５cmピッチで現れるしま状の現像ムラ(濃度ムラ)が発生したものを×、発生しないものを○とし表４に示した。○は許容、×は許容外である。
▲３▼ジャミング
熱現像中に搬送ロールに巻き付き、出てこなかったものを×、問題無く搬送されたものを○とし表４に示した。○は許容、×は許容外である。
▲４▼トンボのズレ
同一感材を２版続けて熱現像し、これを重ね合わせて四辺のトンボのズレを５０倍のルーペで観察した。ズレの発生したものを×、発生しないものを○で表４に示した。○は許容、×は許容外である。
【００８３】
【表３】

【００８４】
【表４】

【００８５】
表３及び４の結果から明らかなように、感光層の熱現像温度における表面弾性率が０．０５〜０．８ＧＰａの範囲にある本発明の試料は、優れた熱現像機搬送性を示すのに対し、それが０．０３ＧＰａである比較例１は、熱現像機搬送性を全く示さない。
【００８６】
【発明の効果】
本発明の熱現像写真感光材料は、熱現像機内での搬送性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】非接触型熱現像機の一構成例を示す側面図である。
【符号の説明】
１０ 熱現像材料
１１ 搬入ローラー対
１２ 搬出ローラー対
１３ ローラー
１４ 平滑面
１５ 加熱ヒーター
１６ ガイド板
Ａ 予備加熱部
Ｂ 熱現像処理部
Ｃ 徐冷部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photothermographic material having excellent transportability in a heat developing machine.
[0002]
[Prior art]
The heat-developable photosensitive material is exposed to form a latent image and then developed by heating at 80 to 150 ° C. However, it is possible to improve the dimensional stability or wrinkle after the heat development process. And JP-A-8-21547. However, many of these heat-developable photosensitive materials use polyethylene terephthalate (PET) as a support, and the heat development temperature exceeds the glass transition temperature (Tg = 70 ° C.) of PET. For this reason, since the elasticity of the heat-developable photosensitive material is lowered and the waist becomes weak, many troubles occur during the conveyance of the heat developing machine, and improvement has been desired. For example, the conveyance force of the drive roll or drive belt cannot be sufficiently received during conveyance, and the conveyance time in the heat developing machine can be sent, or slack occurs during conveyance, which wraps around the roll in the heat developing machine and causes jamming. There has been a problem that the heat developing photosensitive material is wrinkled because it is generated or the conveying force is not imparted evenly on the left and right, and improvement has been desired. Such a conveyance trouble occurred particularly remarkably in the non-contact type heat developing machine. Further, it was particularly noticeable in large-size photosensitive materials (for example, 45 cm square or more).
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photothermographic material which is less likely to cause a conveyance trouble in a heat developing machine and has improved dimensional stability and wrinkle after heat development.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
  These problems have been achieved by a heat-developable photosensitive material having the following characteristics.
  That is, the present invention
(1)The thermal dimensional change of MD (longitudinal direction) and TD (width direction) accompanying the treatment at 120 ° C. for 30 seconds is −0.05% or more and 0.05% or less over the entire width direction, andThe surface elastic modulus at a heat development temperature of 80 ° C. to 150 ° C. of the photosensitive layer is set to 0.05 GPa to 0.8 GPa, and the indentation depth at the heat development temperature of the photosensitive layer is set to 1 μm to 10 μm. A heat-developable photographic material, wherein the plastic deformation energy of the layer at the heat development temperature is from 1 nJ to 10 nJ,
(2)heatA support having a water absorption rate at 25 ° C. and 75% RH after development of 0% / hour or more and 0.16% / hour or less is used (1)The heat-developable photographic light-sensitive material according to item
(3) Thermal development at 80 ° C to 150 ° C for 10 seconds to 5 minutesso(1) characterized by being implementedOr (2)Photothermographic material according to claim 1
Is to provide.
[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the present invention, the surface elastic modulus at the heat development temperature of the photosensitive layer means that a Vickers indenter is inserted at a constant load on the surface of the photosensitive layer heated to the heat development temperature, and the indenter receives from the surface of the photosensitive material when the load is removed. Refers to repulsive force. This surface elastic modulus is 0.05 GPa or more and 0.8 GPa or less, preferably 0.1 GPa or more and 0.6 GPa or less, and more preferably 0.1 GPa or more and 0.4 GPa or less. If the surface elastic modulus is less than 0.05 GPa, it tends to stick to the roll in the heat developing machine, and the passage time is likely to be delayed. If it exceeds 0.8 GPa, it will easily slip with the roll in the heat developing machine, and the passage time will be delayed. The heat development temperature varies depending on the composition of the photosensitive layer, but preferably 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or higher and 140 ° C. or lower, and further preferably 100 ° C. or higher and 130 ° C. or lower. The present invention is particularly preferred when the heat development temperature exceeds the glass transition temperature of the support of the heat development sensitive material.
Further, the indentation depth at the heat development temperature of the photosensitive layer is preferably 1 μm or more and 10 μm or less. This is a measurement of the insertion depth of the indenter after the Vickers indenter was pushed into the photosensitive material heated to the heat development temperature at 2 mN. More preferably, they are 2 micrometers or more and 9 micrometers or less, More preferably, they are 4 micrometers or more and 8 micrometers or less.
Furthermore, the plastic deformation energy at the heat development temperature of the photosensitive layer is preferably 1 nJ or more and 10 nJ or less. More preferably, they are 1 nJ or more and 8 nJ or less, More preferably, they are 1.5 nJ or more and 6 nJ or less. The plastic deformation energy refers to the energy consumed for plastic deformation (depression formation) after the Vickers indenter is pushed in at 2 mN and then removed.
By using such surface elastic modulus, indentation depth, and plastic deformation energy, jamming occurs due to sticking to the drive roll or drive belt in the heat developing machine, or the drive roll or drive belt slips on the photosensitive layer. In addition, it is possible to further prevent the occurrence of troubles such as not transporting in an accurate time, and to perform stable transport.
[0006]
Such photosensitive layers are as follows: a), b)as well asC).
A) The photosensitive layer is formed using a latex polymer.
The photosensitive layer is formed of a polymer layer, but it is preferably formed using a latex polymer dispersed in water rather than being dissolved in an organic solvent. This is because the heat-developable photosensitive material as in the present invention uses the same amount of silver carboxylate as the image forming agent as the binder polymer, but these are uniformly dispersed and act as a plasticizer in organic solvent-based coatings. This is because the photosensitive layer tends to be soft. On the other hand, in the polymer latex system, since these are dispersed individually, the carboxylic acid silver salt hardly exhibits the plasticizing effect.
Examples of preferable latex are acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, and polyolefin resin, and more specifically, methyl methacrylate / ethyl methacrylate / methacrylic acid copolymer. , Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, vinylidene chloride / Ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, more preferably styrene / butadiene type Rimmer latex (LACSTAR3307B, Nipol Lx430,435) and the like. These weight average molecular weights are preferably 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000.
Latex binder coating amount is 0.2-30 g / m², More preferably 1.0 to 15 g / m²The range of is preferable.
[0007]
B) The temperature during drying after application of the photosensitive layer is made uneven by making the lower part of the photosensitive layer (support side) higher than the upper part of the photosensitive layer (air side).
By increasing the temperature below the photosensitive layer, a non-uniform structure can be formed in the thickness direction of the photosensitive layer. That is, the photosensitive layer having the surface hardness of the present invention and the above-mentioned more preferable indentation depth, or plastic deformation energy is formed by forming a layer containing more polymer latex on the lower side and a layer containing more carboxylic acid silver salt on the upper side. Can be formed.
Furthermore, this drying method prevents thin skin from forming on the surface of the polymer latex. As a result, the skin can achieve the surface hardness of the present invention without volatile components such as moisture remaining inside.
Specifically, drying is performed at 35 to 90 ° C., more preferably 40 to 85 ° C., and further preferably 45 to 80 ° C., but the temperature of the lower part (back layer side) is 1 to 20 ° C. from the upper part (photosensitive layer side). More preferably, the temperature is increased by 2 to 15 ° C., more preferably 3 to 10 ° C. This can be easily achieved by blowing a wind at a temperature adjusted individually from a blowing port installed so as to sandwich the photosensitive material from above and below.
[0008]
C) The amount of dry air on the lower side of the photosensitive layer is made larger than that on the upper side of the photosensitive layer.
In the same manner as b) above, the amount of dry air on the lower side of the photosensitive layer is increased from 1% to 30%, more preferably from 2% to 25%, more preferably from 3% to 20%. It is easy to achieve a non-uniform structure in the processed layer thickness direction.
This can be easily achieved by adjusting the damper of the air outlet installed so as to sandwich the photosensitive material from above and below. The difference in air volume referred to here is determined as follows.
Difference in air volume (%) = 200 x (Sl x Vl-Su x Vu) / (Sl x Vl + Su x Vu)
However, Su = total area of the air outlet installed on the upper side
Vu = Average wind speed at the outlet located above
Sl = Total area of the outlet installed on the lower side
Vl = Average wind speed at the outlet located on the lower side
[0009]
Further, in order to alleviate the conveyance trouble in the heat developing machine, the thermal dimension change of MD (longitudinal direction) and TD (width direction) accompanying the processing at 120 ° C. for 30 seconds is −0.05% or more over the entire region in the width direction. 0.05% or less, more preferably −0.04% or more and 0.04% or less, and further preferably −0.03% or more and 0.03% or less. As a result, the meandering of the photosensitive material due to the non-uniformity of the thermal contraction of the front, rear, left and right during the conveyance in the heat developing machine can be suppressed.
For this, a support having a difference in the orientation angle between the left and right ends of 0 to 30 degrees, more preferably 0 to 20 degrees, and still more preferably 0 to 10 degrees, is 140 to 200 ° C, more preferably 150 to 190 ° C. More preferably, it is 0.3-5 kg / m at 150-180 degreeC, More preferably, it is 0.5-4 kg / m, More preferably, it is 1-4 kg / m, 20-400 seconds, More preferably, it is 30-300 seconds, More preferably, it can be achieved by heat treatment for 40 to 250 seconds. The support having such an orientation angle is longitudinally stretched 2.5 to 3.5 times in stretched film formation, transversely stretched 3 to 4.5 times, and heat-fixed at 220 to 250 ° C. for 3 to 60 seconds and then 220. It is achieved by stretching in the transverse direction at 1 to 10%, more preferably 1 to 8%, and further preferably 2 to 6% at ˜250 ° C. Furthermore, it is more preferable that at least one of the large end portions of the orientation angle is dropped with a slit. The preferred slit drop width (per one end) is 3 to 30% of the total width, more preferably 5 to 25%, and even more preferably 7 to 20%.
[0010]
Furthermore, the support after heat developmentAt 25 ° C. and 75% RHThe water absorption rate is from 0% / hour to 0.16% / hour, more preferably from 0% / hour to 0.14% / hour, and even more preferably from 0% / hour to 0.13% / hour. However, the transportability in the heat developing machine can be improved. This is to prevent rapid dehumidification at the inlet and outlet of the heat generator, shrinkage of the support accompanying moisture absorption, and deformation of the photosensitive material due to elongation to reduce transportability.
Such a waterproof layer may be either an inorganic material or an organic material. In the case of an inorganic material, a silica vapor deposition layer as described in JP-A-8-224895 or a metal oxide such as alumina, tin oxide, or indium oxide is vapor-deposited. Also good. Further, inorganic fine particles such as mica may be dispersed and applied in a polymer binder.
[0011]
In the case of an organic substance, it is preferable to coat a layer of polyvinylidene chloride resin (PVdC), polyvinyl alcohol (PVA), high density polyethylene, polyfluorinated ethylene, or the like. Among these, PVdC and PVA are preferable, and polyvinylidene chloride resin is more preferable.
The polyvinylidene chloride-based resin is preferably a copolymer, and the amount of vinylidene chloride residue contained is preferably 70 to 99.9 wt%, more preferably 85 to 99 wt%, still more preferably 90 to 99 wt%. is there. As copolymerization components other than vinylidene chloride, methacrylic acid, acrylic acid, methyl methacrylic acid, itaconic acid, citraconic acid and their esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl Examples include methacrylate, vinyl acetate, acrylamide, and styrene. The weight average molecular weight of these copolymers is preferably from 5,000 to 100,000, more preferably from 8,000 to 80,000, and even more preferably from 10,000 to 45,000.
[0012]
For the coating of the polyvinylidene chloride resin on the support, either a method of dissolving this in an organic solvent or a method of applying a water-dispersed latex can be used, but the latter is more preferable. In the case of an aqueous dispersion of an aqueous dispersion latex, it may be a latex of polymer particles having a uniform structure or a latex of polymer particles having a so-called core-shell structure having different compositions in the core part and the shell part.
[0013]
Specific examples of the vinylidene chloride copolymer include the following. However, the number in () represents the weight ratio. Mw represents a weight average molecular weight.
(A) Latex of vinylidene chloride: methyl acrylate: acrylic acid (90: 9: 1) (Mw = 42000)
(B) Latex (Mw = 40000) of vinylidene chloride: methyl acrylate: methyl methacrylate: acrylonitrile: methacrylic acid (87: 4: 4: 4: 1)
(C) Latex (Mw = 38000) of vinylidene chloride: methyl methacrylate: glycidyl methacrylate: methacrylic acid (90: 6: 2: 2)
(D) Latex (Mw = 44000) of vinylidene chloride: ethyl methacrylate: 2-hydroxyethyl methacrylate: acrylic acid (90: 8: 1.5: 0.5)
(E) Core-shell type latex (core part 90% by weight, shell part 10% by weight)
Core part Vinylidene chloride: Methyl acrylate: Methyl methacrylate: Acrylonitrile: Acrylic acid (93: 3: 3: 0.9: 0.1)
Shell part Vinylidene chloride: Methyl acrylate: Methyl methacrylate: Acrylonitrile: Acrylic acid (88: 3: 3: 3: 3) (Mw = 38000)
(F) Core-shell type latex (core part 70% by weight, shell part 30% by weight)
Core part Vinylidene chloride: Methyl acrylate: Methyl methacrylate: Acrylonitrile: Methacrylic acid (92.5: 3: 3: 1: 0.5)
Shell part Vinylidene chloride: Methyl acrylate: Methyl methacrylate: Acrylonitrile: Methacrylic acid (90: 3: 3: 1: 3) (Mw = 20000)
The thickness of the waterproof layer is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less on at least one side of the support, more preferably 0.8 μm or more and 5 μm or less on each side of the support, and more preferably 1.0 μm or more and 3 μm on each side. It is preferable to provide the following.
Furthermore, in the present invention, the effects of the present invention can be further enhanced by combining the following means (1) and / or (2).
[0014]
(1) The surface elastic modulus of the back layer at the heat development temperature is 1 GPa or more and 5 GPa or less.
The surface elastic modulus at the thermal development temperature of the back layer is measured by pressing the Vickers indenter into the back surface of the photosensitive material heated to the thermal development temperature with a load of 2 mN, removing the weight, and measuring the stress received by the indenter. It is a thing. This surface elastic modulus is preferably 1 GPa or more and 5 GPa or less, more preferably 2 GPa or more and 5 GPa or less, and further preferably 2 GPa or more and 4.5 GPa or less.
Further, the indentation depth at the heat development temperature of the back layer is preferably 0.4 μm or more and 2 μm or less. More preferably, they are 0.5 micrometer or more and 1.7 micrometers or less, More preferably, they are 0.5 micrometer or more and 1.4 micrometers or less.
Furthermore, it is preferable that the plastic deformation energy at the heat development temperature of the back layer is 0.01 nJ or more and 1 nJ or less. More preferably, it is 0.02 nJ or more and 0.6 nJ or less, and further preferably 0.03 nJ or more and 0.5 nJ or less.
By making the back layer having such surface elastic modulus, indentation depth, and plastic deformation energy, jamming occurs on the drive roll or drive belt that contacts the back layer in the heat developing machine, It is possible to prevent troubles such as the drive belt and the back layer slipping and not being conveyed in an accurate time, and stable conveyance can be performed.
[0015]
The following two points are necessary to achieve such a back layer.
A) The back layer has at least one layer containing inorganic fine particles.
The inorganic fine particles are not particularly limited, and examples thereof include silica, alumina, mica, talc, tin oxide, indium oxide, titanium oxide, and acid value zinc. The preferred particle size is 0.01 to 0.7 μm, more preferably 0.02 to 0.5 μm. The preferred addition amount is 50 mg / m²500 mg / m or more²Or less, more preferably 100 mg / m²400 mg / m or more²Or less, more preferably 150 mg / m²350 mg / m or more²It is as follows. The shape of these fine particles is not particularly limited, but a needle-like shape having an aspect ratio of 3 or more or a flat shape is more preferred. These inorganic fine particles are preferably coated by being dispersed in a polymer binder. Preferred polymers are acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, cellulose acetate resins, polyester resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, and polyolefin resins, and more specifically methyl methacrylate / ethyl. Methacrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic Acid copolymers, vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymers. These weight average molecular weights are preferably 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. The coating amount of the polymer binder is preferably 5 to 100 mg / m², More preferably 10-80 mg / m²More preferably, 20-50 mg / m²It is.
[0016]
B) Back surface calendaring process.
The back surface contact pressure is calendered according to Equation 1, more preferably according to Equation 2. The preferred temperature is 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or higher and 170 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 170 ° C. or lower, and 5 seconds or longer and 240 seconds or shorter, more preferably 10 seconds or longer and 200 seconds or shorter. More preferably, it is carried out at a contact pressure satisfying the formula 1 for 20 seconds to 180 seconds, more preferably at a contact pressure satisfying the formula 2.

[0017]
Such adjustment of the contact pressure can be achieved by conveying tension and an edge holding roll. Conveyance tension is 5g / mm²100 g / mm or more²The following is preferable, more preferably 8 g / mm²80g / mm or more²Or less, more preferably 10 g / mm²60g / mm or more²It is as follows. At this time, it is more preferable to lower the contact pressure by lifting and transporting the base using a roll (edge holding roll) having a higher end of the transport roll. The height of the raised edge portion is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.1 mm or more and 5 mm or less, and further preferably 0.15 mm or more and 3 mm or less. A preferable width of the edge portion is 5 mm or more and 200 mm or less, more preferably 8 mm or more and 100 mm or less, and further preferably 10 mm or more and 80 mm or less. More preferably, the edge portions are provided so as to be positioned at the ends of the base to be conveyed, and are provided at both ends. Such an edge portion may be processed in advance so as to have a predetermined height at the time of roll creation, and it is also preferable to increase the temperature by winding a heat-resistant tape or the like around an existing roll.
Further, it is more preferable to perform a thickness increasing process (knurl process) on the support portion corresponding to the edge part. The knurling process may be extruded from one side or from both sides. The preferred width is 3-50 mm, more preferably 5-30 mm. The height of the thickening process (when the thickness is measured from both sides, the average of both sides) is preferably 5 μm or more and 150 μm or less, more preferably 10 μm or more and 80 μm or less.
[0018]
(2) Intensity ratio of signals of 284.6 eV and 288.4 eV obtained by XPS measurement of the back layer after conditioning at 25 ° C. and 50% RH (I_284.6/ I_288.4(50% RH)) is 5 or more and 18 or less.
After adjusting the humidity of the back layer at 25 ° C. and 50% RH, the back layer was subjected to photoelectron spectroscopy measurement (XPS) by the following method, and the intensity ratio of the signal of 284.6 eV and the signal of 288.4 eV (I_284.6/ I_288.4(50% RH)). These are signals originating from C1s electrons, the former being derived from C-C carbon and indicating the amount of long chain hydrocarbons acting as slip agents. Since XPS measures only the extreme surface (5 nm), the fact that this signal is strong can increase the slipperiness of the surface. On the other hand, the latter 288.4 eV signal originates from the C═O bond and tends to reduce the slipperiness of the surface. Therefore, their ratio (I_284.6/ I_288.4The higher the (50% RH)), the easier it is to slip. Preferred (I_284.6/ I_288.4(50% RH)) is 5 or more and 18 or less, more preferably 6 or more and 16 or less, and still more preferably 7 or more and 15 or less.
[0019]
Furthermore, the intensity ratio of the signal of 284.6 eV and the signal of 288.4 eV (I) obtained by XPS measurement of the back layer after conditioning at 25 ° C. and 75% RH._284.6/ I_288.4(75% RH)) with (I_284.6/ I_288.4The value divided by (50% RH)) is 0.6 or more and 1 or less, more preferably 0.65 or more and 0.95 or less, and further preferably 0.7 or more and 0.90 or less. This is because the slip agent made of long-chain hydrocarbons is hydrophobic, so that it can be prevented from entering the back layer under high humidity and lowering the slipperiness. This XPS intensity ratio is measured in the same manner as above except that the humidity control is changed to 75% RH.
Further, the ratio (Fs / Cs) of the surface fluorine amount (Fs) to the surface carbon amount (Cs) of the back layer after humidity adjustment at 25 ° C. and 50% RH is 0.25 or more and 0.5 or less, more preferably 0.3 or more. 0.45 or less, more preferably 0.3 or more and 0.4 or less. In order to stably apply the long-chain carbon-based slip agent, a fluorosurfactant is added. However, since they tend to come out on the surface competitively, it is preferable to be within this range.
[0020]
Further, the dynamic friction coefficient of the back layer is preferably 0.05 or more and 0.5 or less, more preferably 0.05 or more and 0.4 or less, and further 0.05 or more and 0.3 or less. This dynamic friction coefficient is a value measured using a stainless steel ball having a diameter of 0.5 mm at 25 ° C. and 60% rh.
By setting it as such a characteristic, the friction between a heat development sensitive material and a heat developing machine can be reduced, and the jamming by frictional resistance can be reduced. In addition, reliable transportability can be ensured under a wider range of environmental conditions. Such a characteristic is particularly effective in a non-contact type heat developing machine, and in particular, a system in which the back layer is conveyed while being in contact with the nonwoven fabric (for example, Japanese Patent Application No. 10-177610, Japanese Patent Application No. 10- This is effective in the heat developing machine described in No. 249940.
[0021]
The following three points are necessary to achieve a back layer having such characteristics.
B) Mixed use of fluorine-based surfactant and long-chain hydrocarbon-based slip agent in the back outermost layer.
In order to obtain slipperiness, a long-chain hydrocarbon slipping agent having 10 to 50 carbon atoms, more preferably 10 to 40 carbon atoms, and still more preferably 10 to 30 carbon atoms is used. Specific examples include compounds having the following structures, and more preferred are long-chain alkyl sulfonic acids, long-chain alkyl benzene sulfonic acids, carnauba wax (Cerosol 524), and modified polyethylene latex (Chemical).
[0022]
Preferred long chain hydrocarbon slip agents
n-C₁₆H₃₃-O-SO₃Na
n-C₁₂H₂₅-O-SO₃Li
n-C₂₀H₄₁-O-SO₃Na
n-C₁₂H₂₅-C₆H₄-OSO₃Na
n-C₁₆H₃₃COOK
n-C₂₀H₄₁COONa
Carnauba wax (for example, Cellosol 524 made by Chukyo Yushi)
Modified polyethylene latex (for example, Chemipearl manufactured by Mitsui Toatsu)
Stearylamide
n-C₁₅H₃₁COOC₃₀H₆₁-n
n-C₁₅H₃₁COOC₄₀H₈₁-N
n-C₂₇H₅₅COOC₂₈H₅₇-n
n-C₂₁H₄₃COO- (CH₂)₇CH- (CH₃) -C₉H₁₉-n
n-C₁₅H₃₁COOC₂₄H₄₉-iso
n-C₂₉H₅₉OCO (CH₂)₂COO-C₂₄H₄₉-n
n-C₄₀H₈₁OCO (CH₂)₂COO-C₅₀H₁₀₁-N
n-C₁₇H₃₅COO (CH₂)₆OCO-C₁₇H₃₅-n
iso-C₂₃H₄₇COO (CH₂)₂OCO-C₂₃H₄₇-n
n-C₄₀H₈₁O (CH₂CH₂O)₁₅H
n-C₅₀H₁₀₁O (CH₂CH₂O)₃₀H
n-C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂COO- (CH₂CH₂O)₁₆H
n-C₅₀H₁₀₁OCOCH₂CH₂COO- (CH₂CH₂(OH) CH₂O)₃(CH₂CH₂O)₁₅H
[0023]
In addition, a fluorosurfactant is added to impart stability to this slip agent (to prevent repelling failure). Thereby, uniform slipperiness can be given to the whole surface. Preferred fluorine-containing surfactants have a fluoroalkyl group, a fluoroalkenyl group, or a fluoroaryl group having 4 or more (usually 15 or less) carbon atoms, and an ionic group (sulfonic acid (salt), sulfuric acid ( Salt), carboxylic acid (salt), phosphoric acid (salt), cationic group (amine salt, ammonium salt, aromatic amine salt, sulfonium salt, phosphonium salt), betaine group (carboxyamine salt, carboxyammonium salt, sulfoamine salt) , Sulfoammonium salt, phosphoammonium salt) or a nonionic group (substituted, unsubstituted polyoxyalkylene group, polyglyceryl group or sorbitan residue). These fluorine-containing surfactants are disclosed in JP-A-49-10722, British Patent 1,330,356, U.S. Pat.Nos. 4,335,201, 4,347,308, British Patent 1,417,915, JP-A-55-149938, 58-196544. No. 1, British Patent No. 1,439,402 and the like. Two or more of these fluorine-containing surfactants may be mixed.
[0024]
[Chemical 1]

[0025]
The addition amount ratio of these fluorosurfactants (F surfactants) and long-chain hydrocarbon slip agents is 1:10 to 1: 1, more preferably 1: 8 to 1: 1. More preferably, it is 1: 4 to 1: 1. The preferred coating amount of the long-chain hydrocarbon slip agent is 5 to 100 mg / m.²And more preferably 8-80 mg / m²More preferably, it is 10-60 mg / m²It is. A preferable coating amount of F-based surfactant is 0.5 to 100 mg / m.²And more preferably 1-80 mg / m²More preferably, 2.5-60 mg / m²It is.
[0026]
B) Heat treatment using rolls lined with fluororesin
The back surface which has the said characteristic can be achieved by making it contact the roll which coat | covered the fluororesin on the surface at 100-200 degreeC, More preferably, 120-190 degreeC, More preferably, 140-180 degreeC. That is, the amount of precipitation on the back surface is controlled by the contacted member. Preferred fluororesins include Teflon (polytetrafluoroethylene: PTFE), polyvinylidene fluoride (PVdF), polyvinyl fluoride (PVF), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polyfluoroalkyl vinyl ether (PFAVE), and the like. However, Teflon is more preferable. These lining thicknesses are preferably 10 to 10,000 μm. The roll used for lining can use aluminum, iron, stainless steel, etc. The preferred roll diameter is 10 to 1000 mm.
The back characteristics can be controlled by the contact time of the fluororesin with the lined roll, and is preferably 1 to 300 seconds, more preferably 2 to 200 seconds, and further preferably 3 to 60 seconds.
[0027]
C) Low humidity winding after coating and drying
The base water absorption after coating the back layer or after the low-tension heat treatment is 0 to 0.2 wt%, more preferably 0 to 0.1 wt%, still more preferably 0 to 0.05 wt%. This is particularly effective for suppressing humidity dependency. This is done by setting the humidity of the winding part to 0 to 60% rh, more preferably 10 to 50% rh, still more preferably 10 to 30% rh, and further the support temperature during winding to 35 to 70 ° C. More preferably, winding at 40 to 60 ° C. is more preferable.
[0028]
The method for preparing the heat-developable photosensitive material using the present invention is described below.
(1) Preparation of support
The support used for the light-sensitive material of the present invention is not particularly limited, but the elastic modulus (E120) at 120 ° C. is 100 kg / mm.²600 kg / mm or more²Or less, more preferably 120 kg / mm²500 kg / mm or more²It is as follows. Specifically, polyethylene naphthalate (E120 = 410kg / mm²), Polyethylene terephthalate (E120 = 150kg / mm²), Polybutylene naphthalate (E120 = 160kg / mm²), Polycarbonate (E120 = 170kg / mm²), Syndiotactic polystyrene (E120 = 220kg / mm²), Polyetherimide (E120 = 190kg / mm²), Polyarylate (E120 = 170kg / mm²), Polysulfone (E120 = 180kg / mm²), Polyethersulfone (E120 = 170 kg / mm²) And the like. These may be used singly or may be laminated or mixed. Preference is given to polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and syndiotactic polystyrene. Particularly preferred is polyethylene terephthalate. It is also preferable to add 1 ppm to 1000 ppm of fine particles of 0.01 μm to 10 μm to these supports in order to improve handling properties. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a support body, Preferably it is 80-250 micrometers, More preferably, it is 90-200 micrometers, More preferably, it is 95-150 micrometers.
[0029]
Furthermore, in order to prepare the light-sensitive material of the present invention, it is preferable to provide the following undercoat layer and back layer on the support.
(1) Undercoat layer
An undercoat layer is provided on at least one surface of the support, but prior to this, a surface treatment may be performed to firmly fix these layers and the support. For example, glow discharge treatment (JP-A-8-194286, etc.), corona treatment (for example, JP-B-48-5043, JP-A-47-51905, JP-A-47-28067, JP-A-49-83767, JP-A-51-41770). 51-131576, etc.), ultraviolet treatment (for example, JP-B 43-2603, JP-B 43-2604, JP-B 45-3828) and flame treatment are preferable.
[0030]
As the undercoat layer, a layer (hereinafter abbreviated as the undercoat first layer) that is well bonded to the support is provided as the first layer, and a layer that adheres the undercoat first layer and the photographic layer well as the second layer (hereinafter referred to as the undercoat layer). In other words, there are a so-called multi-layer method in which an undercoat second layer is applied) and a single-layer method in which only one layer that well bonds the support and the photographic layer is applied.
In the single-layer method, many methods are used in which good adhesion is obtained by swelling the support and interfacial mixing with the undercoat polymer. Examples of the undercoat polymer include water-soluble polymers such as gelatin, gelatin derivatives, casein, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymer, maleic anhydride copolymer, and cellulose such as carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose. Examples thereof include latex polymers such as esters, vinyl chloride-containing copolymers, vinylidene chloride-containing copolymers, acrylic ester-containing copolymers, vinyl acetate-containing copolymers, and vinyl acetate-containing copolymers. Of these, gelatin is preferred. As the gelatin, any of those generally used in the art such as so-called lime-processed gelatin, acid-processed gelatin, enzyme-processed gelatin, gelatin derivatives and modified gelatin can be used. Of these gelatins, lime-processed gelatin and acid-processed gelatin are most preferably used.
[0031]
In the first undercoat layer in the multilayer method, for example, a simple substance selected from vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile, methacrylic acid ester, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, and the like. Copolymers starting from monomers, epoxy resins, gelatin, nitrocellulose, polyvinyl acetate, and the like are used. If necessary, triazine-based, epoxy-based, melamine-based, isocyanate-containing isocyanates including blocked isocyanate, aziridine-based, oxazaline-based crosslinking agents, colloidal silica and other inorganic particles, surfactants, thickeners, dyes, antiseptics An agent or the like may be added. When a polyvinylidene chloride resin is used, it can also be used as the waterproof layer. In the second undercoat layer, gelatin is mainly used.
[0032]
▲ 2 ▼ Back layer
A back layer (backing layer) is preferably provided on the opposite side of the image forming layer (photosensitive layer). Prior to coating the back layer, a glow discharge treatment, a corona treatment, an ultraviolet treatment or a flame treatment may be performed in order to improve the adhesion to the support.
The back layer of the present invention preferably has a maximum absorption in a desired wavelength range of 0.3 or more and 2 or less, more preferably 0.5 or more and 2 or less, and an absorption in the visible region after treatment of 0.001 or more. It is preferably less than 0.5, more preferably a layer having an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. It is also preferable to apply an antihalation dye used for the back layer.
[0033]
Conductive crystalline gold oxide or composite oxide fine particles thereof are added as a charge control agent to make the surface resistivity 10¹²It is also preferable to make it below. As the conductive crystalline oxide or composite oxide fine particles, the volume resistivity is 10⁷Ωcm or less, more preferably 10⁵The thing below Ωcm is desirable. The particle size is preferably 0.01 to 0.7 μm, particularly preferably 0.02 to 0.5 μm.
The method for producing fine particles of these conductive crystalline metal oxides or composite oxides is described in detail in the specification of JP-A-56-143430. That is, firstly, a method in which metal oxide fine particles are produced by firing and heat-treated in the presence of different atoms to improve conductivity, and second, in order to improve conductivity when producing metal oxide fine particles by firing. The method of coexisting these different atoms, and the third method of introducing oxygen defects by reducing the oxygen concentration in the atmosphere when producing metal fine particles by firing are easy. Examples containing metal atoms include Zn, Al, In, etc., TiO₂Nb, Ta, etc., SnO₂In contrast, Sb, Nb, halogen elements and the like can be mentioned. The amount of the heteroatom added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, but particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Of these, SnO added with Sb₂The composite metal oxide fine particles are most preferable.
[0034]
It is also preferable to add fine particles for matting the back surface. The fine particles include inorganic fine particles (silica, alumina, calcium carbonate, titania, zirconia, etc.), and organic fine particles (PMMA, PSt, and cross-linked products thereof). In the present invention, the porous matting agent described in JP-A-3-109542, page 2, lower left column, line 8 to page 3, upper right column, line 4, JP-A-4-127142, page 3, upper right column, line 7 Use the matting agent surface-modified with alkali described in page 4, right lower column, line 4, and the organic polymer matting agent described in paragraphs “0005” to “0026” of JP-A-6-118542. Is more preferable. The preferred particle size is 0.3 μm or more and 10 μm or less, more preferably 1 μm or more and 8 μm or less, and further preferably 3 μm or more and 7 μm or less. A preferred addition amount is 1 to 50 mg / m.², More preferably 2-30 mg / m²More preferably 3-15 mg / m²It is. The preferable Beck smoothness (JIS P8119) achieved thereby is 2000 seconds or less, more preferably 10 seconds to 2000 seconds.
[0035]
In these back layers, a hydrophilic colloid may be used as a binder, and a hydrophobic polymer may be used as a binder.
The most preferred hydrophilic polymer is gelatin. In the case of using a hydrophilic polymer, it is also preferable to coat the back layer after applying the same undercoat as the photosensitive layer in order to give stronger adhesion.
As the binder of the hydrophobic polymer layer, (meth) acrylic acid ester polymers such as polymethyl methacrylate and ethyl acrylate, olefin polymers such as polyethylene, styrene polymers, urethane polymers, rubber polymers such as butadiene, and the like are used. This layer may be a single layer or two or more layers. Further, a hardener may be used for the back layer. Examples of hardeners include polyisocyanates described in US Pat. No. 4,281,060, JP-A-6-208193, epoxy compounds described in US Pat. No. 4,791,042, and JP-A 62-89048. The vinyl sulfone compounds described in the above are used.
[0036]
A protective layer may be provided on the outermost layer of the back layer. The total binder amount for the protective layer is 0.2 to 5.0 g / m.², More preferably 0.5 to 3.0 g / m²The range of is preferable. As the binder for the back layer, acrylic, olefinic, and vinylidene chloride polymer latexes are used. Specifically, acrylic resin-based Julimer ET-410, Sebian A-4635, Polysol F410, and other olefin resin-based latexes are used. Chemipearl S120, vinylidene chloride-based L502, Aron D7020 and the like are preferable.
Such a back layer may be a single layer or multiple layers, and the thickness of each layer is preferably 0.02 to 10 μm, more preferably 0.1 to 7 μm, and the total thickness of these layers is preferably 0 to 5 μm.
These back layers and undercoat layers can be applied by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and the like. These may be applied as single layers or simultaneously as two or more layers.
[0037]
(2) Preparation of photosensitive layer
The heat-developable photosensitive material of the present invention has an image forming layer (photosensitive layer) containing an organic silver salt, a reducing agent and a photosensitive silver halide on a support, and at least one protective layer is provided on the image forming layer. Is provided.
The photosensitive layer is obtained by dispersing silver halide, chemical sensitizer, organic silver salt, reducing agent, ultra-high contrast agent, sensitizing dye, antifoggant, plasticizer and the like in a binder.
[0038]
As the binder, acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, and polyolefin resin are preferable, and more specifically, methyl methacrylate / ethyl methacrylate / methacrylic acid. Copolymer, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, chloride Examples include vinylidene / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymers, more preferably styrene / butadiene. Polymer latex (LACSTAR3307B, Nipol Lx430,435) is preferably used. These weight average molecular weights are preferably 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. Further, a hydrophilic polymer such as polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose or the like may be added to the binder in the range of 20 wt% or less of the total binder.
The amount of binder applied is 0.2-30 g / m.², More preferably 1.0 to 15 g / m²The range of is preferable.
[0039]
Further, in the present invention, in order to form a super high contrast image, a high contrast accelerator can be used in combination with the super high contrast agent. For example, amine compounds described in US Pat. No. 5,545,505, hydroxamic acids described in US Pat. No. 5,545,507, acrylonitriles described in US Pat. No. 5,545,507, hydrazine compounds described in US Pat. No. 5,558,983, Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-297368 Onum salts described in No. 1 can be used.
[0040]
As the sensitizing dye in the present invention, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and the like can be used.
Examples of spectral sensitization to red light include He-Ne laser, red semiconductor laser, LED and other red light sources such as JP-A-54-18726, JP-A-6-75322, JP-A-7-287338. The compounds described in JP-B-55-39818, JP-A-62-284343, and JP-A-7-287338 can be used.
For semiconductor laser light sources in the 750-1400 nm wavelength region, it can be advantageously sensitized by various known dyes including cyanine, merocyanine, styryl, hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes.
Further, US Pat. Nos. 5,510,236, 3,871,887, JP-A-2-96131, and JP-A-59-48753 can be preferably used as the dye forming J-band.
The amount of sensitizing dye used in the present invention is 10 per mole of silver halide in the photosensitive layer.^-6~ 1 mole is preferred, 10^-4~Ten^-1Mole is more preferred.
[0041]
Antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors are described in the thiazonium salts described in U.S. Pat.Nos. 2,131,038 and 2,694,716, azaindenes described in U.S. Pat.Nos. 2,886,437 and 2,444,605, and U.S. Pat. Described mercury salt, urazole described in U.S. Pat.No. 3,287,135, sulfocatechol described in U.S. Pat.No. 3,235,652, oxime described in British Patent No. 623,448, nitrone, nitroindazole, many Valent metal salts, thiuronium salts described in US Pat. No. 3,220,839, and palladium, platinum and gold salts described in US Pat. Nos. 2,566,263 and 2,597,915, halogens described in US Pat. Nos. 4,108,665 and 4,442,202. Substituted organic compounds, triazines described in U.S. Pat.Nos. 4,128,557 and 4,137,079, 4,138,365 and 4,459,350, There are phosphorous compounds described in No. 4,411,985.
Moreover, you may contain benzoic acids for the purpose of fog prevention and high sensitivity. Examples of preferable benzoic acid structures include compounds described in U.S. Pat.Nos. 4,784,939, 4,152,160, JP-A-9-329865, 9-329864, and 9-281637. It is preferable to add to the salt-containing layer. This addition amount is preferably 1 μmol or more and 2 mol or less, and more preferably 1 mmol or more and 0.5 mol or less per mol of silver.
[0042]
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development and control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. .
The mercapto compound is preferably a mercapto-substituted heteroaromatic compound, and specific examples thereof include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy- 2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2- Mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridine Thiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino- 5-mercapto-1,2,4-triazole, 4-hydroxy-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3- Examples include mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole and 2-mercapto-4-phenyloxazole. The addition amount of these mercapto compounds is preferably 0.0001 to 1.0 mol, more preferably 0.001 to 0.3 mol, per mol of silver in the emulsion layer.
[0043]
In the image-forming layer, polyhydric alcohols (for example, glycerol and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404), fatty acids or esters described in US Pat. Nos. 2,588,765 and 3,121,060 are used as plasticizers and lubricants. The silicone resin described in British Patent No. 955,061 can be used.
Various dyes and pigments can be used for the photosensitive layer which is an image forming layer from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation, but preferred anthraquinone dyes (Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-341441 and 5-165147). Azomethine dyes (compounds described in JP-A-5-341441), indoaniline dyes (compounds described in JP-A-5-289227, JP-A-5-341441, JP-A-5-165147) and the like. And azo dyes (compounds described in JP-A-5-341441). The amount of these compounds used is 1m of sensitive material.²It is preferably used in the range of 1 μg or more and 1 g or less.
[0044]
The antihalation layer can be provided on the side far from the light source with respect to the photosensitive layer. The antihalation layer preferably has a maximum absorption in a desired wavelength range of 0.3 or more and 2 or less, more preferably an absorption of an exposure wavelength of 0.5 or more and 2 or less, and an absorption in the visible region after processing of 0.001 or more It is preferably less than 0.5, more preferably a layer having an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. As individual dyes, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140, JP-A-7-13295, JP-A-111432, U.S. Pat.No. 5,380,635, JP-A-2-68539, JP-A-3-24539 Etc. can be used. JP-A 52-139136, 53-132334, 56-501480, 57-16060, 57-68831, 57-101835, 59-182436 JP-A-7-36145, JP-A-7-199409, JP-B-48-33692, JP-A-50-16648, JP-B-2-41734, U.S. Pat.Nos. 4,088,497, 4,283,487, 4,548,896, Those described in US Pat. No. 5,187,049 can be preferably used.
[0045]
It is also preferable to provide a protective layer as the outermost layer of the photosensitive layer. As the binder for the protective layer, acrylic, styrene, acrylic / styrene, vinyl chloride, and vinylidene chloride polymer latexes are preferably used. Specifically, acrylic resin-based VONCORT R3370, 4280, Nipol Lx857, methyl A methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylic acid copolymer, a vinyl chloride resin Nipol G576, and a vinylidene chloride resin Aaron D5071 are preferably used. It is more preferable to add a crosslinking agent such as isocyanate into these layers. The preferable coating amount of the protective layer is 0.5 to 10 g / m.², More preferably 1-7 g / m²More preferably, 1.5-5 g / m²It is.
Furthermore, it is more preferable to add a matting agent in the protective layer. Examples of inorganic matting agents include silicon dioxide, titanium and aluminum oxides, zinc and calcium carbonates, barium and calcium sulfates, calcium and aluminum silicates, and organic matting agents such as cellulose. Mention may be made of organic polymer matting agents such as esters, polymethyl methacrylate, polystyrene or polydivinylbenzene and copolymers thereof. Two or more of these matting agents may be used in combination. The average particle size of the preferable matting agent is 1 to 10 μm, and the preferable addition amount is 5 to 400 mg / m.², Especially 10-200 mg / m²Range.
[0046]
The heat-developable photosensitive material thus prepared is cut when used, but may be used in a roll form or a sheet form. In any case, the preferred width (direction perpendicular to the processing direction when passing through the heat developing machine) is 40 cm or more and 150 cm or less, more preferably 45 cm or more and 100 cm or less, and further preferably 50 cm or more and 80 cm or less.
These photosensitive materials are packaged and shipped at 20% RH to 80% RH, more preferably 30% RH to 70% RH.
[0047]
The heat-developable image recording material of the present invention may be exposed by any method, but laser light is preferred as the exposure light source. As the laser beam according to the present invention, a gas laser, a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser and the like are preferable. A semiconductor laser and a second harmonic generation element can also be used.
The heat-developable image recording material of the present invention has a low haze upon exposure and tends to generate interference fringes. As this interference fringe generation prevention technology, a laser beam disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-11548 etc. is incident obliquely on the image recording material, and a multimode disclosed in WO95 / 31754 etc. Methods using lasers are known and these techniques are preferably used.
To expose the heat-developable image recording material of the present invention, laser light overlaps as disclosed in SPIE vol. 169 Laser Printing, pages 116-128 (1979), JP-A-4-51043, WO95 / 31754, etc. It is preferable to expose the scanning line so that the scanning line is not visible.
[0048]
The heat development step of the image forming method of the present invention may be developed by any method. Usually, the photosensitive material exposed imagewise is heated and developed. As a preferred embodiment of the heat developing machine used, as a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum, Japanese Patent Publication No. 5-56499, Japanese Patent Publication No. 684453, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-292695, The heat developing machine described in Kaihei 9-297385 and International Patent WO95 / 30934, as a non-contact type, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-13294, International Patent WO97 / 28489, 97/28488 and 97/28487 There is a heat developing machine described in 1. A particularly preferred embodiment is a non-contact type heat developing machine. The preferred development temperature is 80 to 150 ° C, more preferably 90 to 140 ° C, and still more preferably 100 to 130 ° C. The present invention is particularly preferred when the heat development temperature exceeds the glass transition temperature of the support of the heat development sensitive material. The development time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 15 seconds to 3 minutes, and even more preferably 20 seconds to 1 minute.
Further, a multi-stage heat development method in which the above heat development is performed after preheating for 5 seconds or more so as not to produce an image at a temperature of 80 ° C. or more and less than 115 ° C.
[0049]
The measurement method used in the present invention will be described below.
(1) Surface elastic modulus, indentation depth, plastic deformation energy of photosensitive layer and back layer
After attaching the sample on the slide glass plate with an instantaneous adhesive, the sample is placed on a heating stage and heated to a predetermined temperature. This is measured using a micro hardness tester (Fischerscope H-100: manufactured by Fischer) in the following manner.
[0050]
B) Surface elastic modulus
The Vickers indenter is pushed into the photosensitive material heated to the heat development temperature at 2 mN and held for 5 seconds, then the load is removed and the stress received by the indenter is measured.
B) Pushing depth
The depth reached by the indenter when the Vickers indenter was pushed into the photosensitive material heated to the heat development temperature at 2 mN was measured.
C) Plastic deformation energy
(1) Measure the stress (Fi) and insertion depth (Di) received by the Vickers indenter when the Vickers indenter is pushed in at 2 mN at the heat development temperature. Fi is plotted on the vertical axis and Di is plotted on the horizontal axis, and the area formed between them is defined as insertion energy (Ei).
(2) After inserting and holding for 5 seconds under the above conditions, when the force applied to the Vickers indenter is removed, the Vickers indenter is pushed back by the elastic force of the sample. At this time, the stress (Fo) and depth (Do) received by the Vickers indenter are measured, Fo is plotted on the vertical axis, and Do is plotted on the horizontal axis, and the area formed between them is defined as elastic energy (Eo).
(3) Let Ei-E0 be the plastic deformation energy.
[0051]
(2) The intensity ratio of the 284.6 eV signal and the 288.4 eV signal obtained by XPS measurement of the back layer after 25 ° C. and 50% RH humidity control at 25 ° C. and 75% RH (I_284.6/ I_288.4(50% RH)), (I_284.6/ I_288.4(75% RH))
(1) The back layer is conditioned at 25 ° C. 50% RH or 25 ° C. 75% RH for 12 hours, and XPS measurement is performed in the range of 295 eV to 280 eV (binding energy).
(2) Charge correction (translation) is performed with the peak appearing on the lowest binding energy side in the obtained spectrum as 284.6 eV.
(3) The lowest point of 293 to 291 eV and the lowest point of 284 to 282 eV are connected to form a baseline. From this, the intensity (peak height) of the 284.6 eV signal and the 288.4 eV signal is measured, and the ratio is obtained.
[0052]
(3) Ratio of surface fluorine amount (Fs) and surface carbon amount (Cs) of the back layer after humidity adjustment at 25 ° C. and 50% RH (Fs / Cs)
(1) The back layer is conditioned at 25 ° C. and 50% RH for 12 hours, and then subjected to XPS measurement in the range of 700 eV to 680 eV (binding energy).
(2) The lowest point of 698 eV to 696 eV and the lowest point of 684 eV to 682 eV are connected to form a baseline. After integrating the area above the baseline, the value divided by the ionization cross section (4.3) is taken as Fs.
(3) Subsequently, XPS measurement is performed in the range of 295 eV to 280 eV (binding energy). The lowest point of 293 eV to 291 eV and the lowest point of 282 eV to 284 eV are connected to form a baseline. After integrating the area above the baseline, the value divided by the ionization cross section (1) is Cs.
(4) Divide Fs by Cs to obtain Fs / Cs value.
[0053]
(4) Dynamic coefficient of friction of back layer
Measurement is performed using a stainless steel sphere having a diameter of 0.5 mm at 25 ° C. and 60% rh.
(5) Thermal dimensional change of MD and TD at 120 ° C for 30 seconds
(1) MD samples (MD25 cm × TD5 cm) and TD samples (MD5 cm × TD25 cm) are cut out at three points in the width direction (both ends and center) from the heat-developable photosensitive material after the photosensitive layer is coated and before cutting.
{Circle around (2)} A pair of holes with an interval of 20 cm are made after humidity adjustment at 25 ° C. and 60% rh for 24 hours, and this interval is measured using a pin gauge (L1).
(3) The sample is brought into contact with a hot plate heated to 120 ° C. for 30 seconds.
(4) After humidity adjustment at 25 ° C. and 60% rh for 24 hours, the length is measured using a pin gauge (L2).
{Circle around (5)} 100 × (L1−L2) / L1 is defined as the rate of change in thermal dimension (%) accompanying the treatment at 120 ° C. for 30 seconds.
[0054]
(6) Water absorption rate of the support after heat development
The substrate coated up to the undercoat and back layer is conditioned for 12 hours at 25 ° C. and 40% RH. This is heat-developed at 120 ° C. for 30 seconds and placed under 25 ° C. and 75% RH. The difference between the moisture content measured after 3 minutes and the moisture content measured after 1 hour is defined as the water absorption rate (% / hour) after thermal development.
The moisture content was measured by the following method.
(1) A sample is cut out to 1 cm × 3 cm at 25 ° C. and 75% RH, and the weight (F) is sealed in a glass tube.
(2) The weight of moisture while heating the sample to 150 ° C. using a Karl Fischer moisture meter (Mitsubishi Kasei Kogyo Co., Ltd. trace moisture measuring device CA-03 type + moisture vaporizer VA-05 type) equipped with a heating device. (W) is obtained. 100 × W (g) / F (g) was defined as the moisture content (%).
[0055]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to this.
Example-1
(1) Preparation of support (base)
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET of IV (inherent viscosity) = 0.66 (measured in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio) at 25 ° C.) was obtained according to a conventional method. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled on a cooling drum at 50 ° C. to prepare an unstretched film.
[0056]
This was stretched longitudinally at 105 ° C. by 3.3 times using rolls having different peripheral speeds. Next, the film was stretched 4.3 times at 125 ° C. with a tenter. Thereafter, heat treatment was performed for the temperature and time shown in Table 1 without changing the tenter width, followed by heat setting at 240 ° C. for 20 seconds, and then stretching at the same temperature as the ratio shown in Table 1 at the same temperature. Thereafter, the chuck part of the tenter was slit 15 cm each, then knurled at both ends, cooled to 40 ° C. and wound at 4.8 kg / m. In this way, a stretched PET support having a thickness of 100 μm and a width of 2.5 m was obtained. This was slit at both ends by the ratio shown in Table 1. Thereafter, knurling with a width of 1 cm was performed at both ends with a thickness of 25 μm. Thereafter, the molecular orientation angles at both ends were measured according to the above method and shown in Table 2.
[0057]
(2) Photosensitive layer side Waterproof / undercoat layer
As shown in Table 2, a waterproof layer having the following composition was provided on one side of the support (base).
(1) The PVdC waterproof layer and (2) the SBR waterproof layer were applied at the dry thicknesses shown in Table 2 and then dried at 180 ° C. for 4 minutes. (3) The PVA waterproof layer was formed by coextrusion using a malt manifold die at the time of melt extrusion of the support so as to have the thickness shown in Table 2 after biaxial stretching.
The following undercoat layer was coated on these waterproof layers and dried at 180 ° C. for 4 minutes.
[0058]
(2-1) Waterproof layer

[0059]
(2-2) Undercoat layer
Alkali-treated gelatin
(Ca ++ content 30ppm, jelly strength 230g) 50mg / m²
[0060]
(3) Back layer
The following coating was performed on the opposite side of the undercoat layer.
(3-1) Inorganic fine particle layer
One of the following (1) to (3) was selected (described in Table 1), dried at 180 ° C. for 4 minutes, and calendered at the temperature and contact pressure shown in Table 1. Calendering has a tension of 45g / mm²This was carried out by using an edge roll in which the portions (both ends) in contact with the knurled portion of the support were raised by 75 μm.

[0061]
(3-2) Middle layer
The following coating solution was applied on the inorganic fine particle layer and dried at 180 ° C. for 4 minutes.
Jurimer ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd.): Tg = 52 ° C. 38 mg / m²
[0062]
(3-3) Back side waterproof layer
(1) The PVdC waterproof layer and (2) the SBR waterproof layer were applied on the inorganic fine particle layer and the intermediate layer so as to have the dry thicknesses shown in Table 2, and then dried at 180 ° C. for 4 minutes. {Circle around (3)} The PVA waterproof layer was formed by co-extrusion to the thickness shown in Table 1 after biaxial stretching using a malt manifold die at the time of melt extrusion of the support before coating the inorganic fine particle layer and the intermediate layer.

[0063]
(3-4) Back outermost layer
A back outermost layer having the following composition was coated on the inorganic fine particle layer, the intermediate layer, and the waterproof layer, and dried at 180 ° C. for 3 minutes.
Jurimer ET-410 (Nippon Pure Chemicals Co., Ltd.): Tg = 52 ° C. 1000 mg / m²
Matting agent (polystyrene, average particle size 5 μm) 10 mg / m²
Sodium linear alkyl (C20) sulfonate 30mg / m²
Hydrocarbon slip agent (Select one of the following A, B, C, D: listed in Table 1)
A. Carnauba wax The coating amount is listed in Table 1.
B. Chemipearl (modified polyethylene latex) 〃
C. Stearylamide 〃
D.C₁₆H₃₃-O-SO₃Na 〃
F-based surfactant (Select one from the following a, b, c, and d: listed in Table 1)
B.C₈F₁₇-C₆H₄-OSO₃Na coating amount is listed in Table 1.
B.C₈F₁₇-SO₃Na 〃
C₈F₁₇-N (C₃H₇)-(CH₂CH₂O)₈-C₄H₈-SO₃Na 〃
D.C₈F₁₇-N (C₃H₇) -CH₂COOK 〃
[0064]
(4) Heat treatment
After winding up the support with the back layer / undercoat layer, heat treatment was carried out while being conveyed in the heating zone under the conditions shown in Table 2. After this, the roll lined with the fluororesin of the material shown in Table 1 is transported and heat-treated for the temperature and time shown in Table 1, and the winding part is adjusted to the humidity shown in Table 1, and the support temperature is 50 ° C. The base water absorption shown in Table 1 was achieved, and low-humidity winding was performed.
The water absorption rate of the support thus completed until the low-tension heat treatment was measured according to the above method and is shown in Table 2.
[0065]
(5) Image forming layer (photosensitive layer)
Under the conditions described in Table 2, the following image forming layer and protective layer were sequentially applied on the undercoat layer (opposite side of the back layer) of the support which had been coated with the undercoat and back layers by the above-described method and completed up to the heat treatment. Dried. At this time, as shown in Table 2, drying is performed so as to provide a temperature difference between the upper and lower surfaces of the photosensitive material, but the set temperature of the hot air blowing device provided above and below the drying zone conveyed horizontally is adjusted. Carried out. Further, as shown in Table 2, the amount of dry air on the upper and lower surfaces of the light-sensitive material also gives a difference. This was achieved by adjusting the dampers attached to the upper and lower outlets.
[0066]
(5-1) Preparation of silver halide grains
11 g of phthalated gelatin, 30 mg of potassium bromide and 10 mg of sodium thiosulfonate are dissolved in 700 ml of water and the pH is adjusted to 5.0 at a temperature of 35 ° C. Then, 159 ml of an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate and 1 ml of potassium bromide are added. An aqueous solution containing mol / liter was added over 6.5 minutes by the controlled double jet method while maintaining pAg of 7.7. Subsequently, after adding 476 ml of an aqueous solution containing 55.4 g of silver nitrate and a halogen salt aqueous solution pAg 7.7 containing 1 mol / liter of potassium bromide over 30 minutes by the control double jet method, 4-hydroxy-6-methyl was added. −1,3,3a, 7-tetrazaindene (1 g) was added, and the pH was further lowered to cause aggregation and sedimentation, followed by desalting. Thereafter, 0.1 g of phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg of 8.2 to obtain silver bromide grains (cubic grains having an average size of 0.12 μm, a projected area diameter variation coefficient of 8%, and a (100) plane ratio of 88%). The preparation was finished.
The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C. and sodium thiosulfonate 8.5 × 10 5 per mole of silver.^-4Mole was added, aged for 120 minutes, then rapidly cooled to 40 ° C. and then 1 × 10^-5Molar dye S-1, 5 × 10^-5Mole of 2-mercapto-5-methylbenzimidazole and 5 × 10^-5Mole of N-methyl-N ′-{3- (mercaptotetrazolyl) phenyl} urea was added and quenched to 30 ° C. to obtain a silver halide emulsion.
[0067]
[Chemical 2]

[0068]
(5-2) Preparation of organic acid silver dispersion
While stirring 4.4 g of stearic acid, 39.4 g of behenic acid and 770 ml of distilled water at 90 ° C., 103 ml of 1N-NaOH aqueous solution was added and reacted for 240 minutes, and the temperature was lowered to 75 ° C. Next, 112.5 ml of an aqueous solution containing 19.2 g of silver nitrate was added over 45 seconds, left as it was for 20 minutes, and the temperature was lowered to 30 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate reached 30 μS / cm. 100 g of a 10 wt% hydroxypropylmethylcellulose aqueous solution was added to the solid content thus obtained, and water was further added to a total weight of 270 g, followed by elementary dispersion in an automatic mortar to obtain a crude organic acid silver dispersion. The organic acid silver coarse dispersion was subjected to a collision pressure of 1000 kg / cm using a nanomizer (manufactured by Nanomizer).³To obtain an organic acid silver dispersion. The organic acid silver particles contained in the organic acid silver dispersion thus obtained were needle-like particles having an average minor axis of 0.04 μm, an average major axis of 0.8 μm, and a coefficient of variation of 30%.
[0069]
(5-3) Preparation of reducing agent dispersion
To 100 g of 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 50 g of hydroxypropylcellulose, 850 g of water was added and mixed well to obtain a slurry. 840 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm were prepared, put in a vessel together with the slurry, and dispersed for 5 hours with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to obtain a reducing agent dispersion. .
[0070]
(5-4) Preparation of organic polyhalide dispersion
940 g of water was added to 50 g of tribromomethylphenylsulfone and 10 g of hydroxypropylmethylcellulose and mixed well to prepare a slurry. Prepare 840 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 nm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse the organic polyhalide dispersion with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 5 hours. Obtained.
[0071]
(5-5) Preparation of image forming layer coating solution
An image forming layer coating solution having the following composition was prepared.
100g organic acid silver dispersion
20 g of the above reducing agent dispersion
15g of the above organic polyhalide dispersion
Polymer latex material (Choose one from (1) to (4) below)

This coating liquid is applied with a silver amount of 1.5 g / m.²The coating amount of polymer latex solids is 5.7 g / m²It applied so that it might become.
[0072]
(6) Protective layer
(6-1) Preparation of protective layer coating solution
The following coating solution has a polymer latex solid content of 2 g / m.²Then, it was coated on the photosensitive layer.
To 500 g of 40 wt% polymer latex (methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid = 59/9/26/5/1 copolymer; Tg 47 ° C.)₂262 g of O was added, and 14 g of benzyl alcohol, 2.5 g of the following compound-2, 3.6 g of cellosol 524 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.), 12 g of the following compound-3, 1 g of the following compound-4, Compound-5 2g, Compound-6 7.5g, and polymethylmethacrylate fine particles 3.4g having an average particle diameter of 3 μm were sequentially added as a matting agent.₂O was added to 1000 g, and a coating solution having a viscosity of 5 cp (25 ° C.) and a pH = 3.4 (25 ° C.) was prepared.
[0073]
[Chemical Formula 3]

[0074]
[Table 1]

[0075]
[Table 2]

[0076]
(7) Evaluation of sensitive material
Photosensitive layer dynamic strength (surface elastic modulus, indentation depth, plastic deformation energy) of the photosensitive material prepared by the above method, back layer surface mechanical strength (surface elastic modulus, indentation depth, plastic deformation energy), back layer The XPS measurement and the dynamic friction coefficient of the back layer were measured according to the method described above, and the results are shown in Table 3.
Further, the center in the width direction of the light-sensitive material, 5 cm from both ends, was sampled in the MD and TD directions, and the dimensional change rate was measured according to the above method.
[0077]
(8) Evaluation of thermal development of photosensitive material
The obtained heat-developable photosensitive material was cut into 60 cm squares along the longitudinal direction (MD) and the width direction (TD). This was processed and evaluated using the following three types of thermal developing machines.
[0078]
(8-1) Thermal development
The above heat-developable photosensitive material (60 cm × 60 cm) was exposed to a flat screen, and then “dragonfly marks (cross marks)” were exposed at intervals of 50 cm at four corners, followed by heat development using the following three types of heat developing machines. . Table 4 shows preheating and heat development conditions (temperature, time).
(1) Non-contact type heat developing machine
[0079]
Processing is carried out using the heat developing machine shown in FIG. The feature of this system is that the photosensitive material is conveyed on the non-woven fabric in a thermostatic bath maintained at a constant temperature without directly contacting the heat source. As a result, the photosensitive layer side is conveyed without contact with the heat source.
Details will be described with reference to the side view of the heat developing machine in FIG. The heat developing machine shown in FIG. 1 has a pair of carry-in rollers 11 (lower roller is a heat roller) that carries the photothermographic material 10 into a heating unit while correcting and preheating the photothermographic material 10 in a flat shape, and photothermographic development after heat development after heat development. It has a pair of carry-out rollers 12 that carry out the material 10 from the heating part while correcting it into a flat shape. The photothermographic material 10 is thermally developed while being conveyed from the carry-in roller pair 11 to the carry-out roller pair 12. The transporting means for transporting the photothermographic material 10 during the heat development is provided with a plurality of rollers 13 on the side in contact with the surface having the image forming layer, and on the side in contact with the back surface on the opposite side, a nonwoven fabric (for example, A smooth surface 14 on which (for example, polyphenylene sulfite or Teflon) is bonded is provided. The photothermographic material 10 is conveyed while the back surface slides on the smooth surface 14 by driving a plurality of rollers 13 that come into contact with the surface having the image forming layer. As the heating means, a heater 15 is installed at the upper part of the roller 13 and the lower part of the smooth surface 14 so as to be heated from both sides of the photothermographic material 10. In this case, a plate heater or the like is used as the heating means. The clearance between the roller 13 and the smooth surface 14 varies depending on the member of the smooth surface, but is appropriately adjusted to a clearance that allows the photothermographic material 10 to be conveyed. Preferably it is 0-1 mm.
[0080]
The material of the surface of the roller 13 and the member of the smooth surface 14 may be anything as long as they have high temperature durability and do not interfere with the transport of the photothermographic material 10, but the material of the roller surface is silicon rubber, and the member of the smooth surface is aromatic. Non-woven fabric made of a group polyamide or Teflon (PTFE) is preferred. As the heating means, it is preferable to use a plurality of heaters and freely set the heating temperature.
The preheating section upstream of the heat development processing section is set to a temperature and time that are lower than the heat development temperature (for example, about 10 to 20 ° C.) and sufficient to evaporate the amount of water in the photothermographic material. It is desirable to set the temperature so that development unevenness does not occur at a temperature higher than the glass transition temperature (Tg) of the support of the photothermographic material 10.
Further, a guide plate 16 is installed downstream of the heat development processing unit, and a slow cooling unit is further installed. The guide plate is preferably made of a material having low thermal conductivity, and cooling is preferably performed gradually.
[0081]
(2) Roll contact type heat developing machine
A thermal developing machine of the type described in Example 1 of WO95 / 30934 was used.
(3) Hot plate contact type heat developing machine
A heat developing machine of the type described in Example 1 of JP-T-7-505488 was used.
[0082]
(8-2) Evaluation of transportability of heat developing machine and photosensitive material after heat development
(1) Passing time
The time required for the photosensitive material to be carried out was measured (T1 seconds), and the ratio of delay to the set time (T0 seconds) (100 × (T1−T0) / T0) is shown in Table 4. Allowable is 6% or less. In addition, ∞ indicates that it was not discharged from the heat developing machine (jamming occurred (the photosensitive material was wrapped around the roll and entangled).
(2) Uneven development
A flat screen image after heat development was visually evaluated. Table 4 shows the cases where striped development unevenness (density unevenness) appearing at a pitch of 3 to 15 cm in the lateral direction (perpendicular to the transport direction) due to poor transport occurred, and ○ where no strip uneven development occurred. ○ is acceptable, × is not acceptable.
(3) Jamming
Table 4 shows those that were wound around the transport roll during heat development and did not come out, and those that were transported without problems were marked as ◯. ○ is acceptable, × is not acceptable.
(4) Misalignment of dragonfly
The same sensitive material was heat-developed in succession two plates, and these were superposed, and the misalignment of the registration marks on the four sides was observed with a 50 × magnifier. Table 4 shows the case where the deviation occurred and x where the deviation did not. ○ is acceptable, × is not acceptable.
[0083]
[Table 3]

[0084]
[Table 4]

[0085]
As is apparent from the results of Tables 3 and 4, the sample of the present invention having a surface elastic modulus at the heat development temperature of the photosensitive layer in the range of 0.05 to 0.8 GPa exhibits excellent heat developer transportability. On the other hand, Comparative Example 1 in which it is 0.03 GPa does not show any heat developing machine transportability.
[0086]
【The invention's effect】
The photothermographic material of the present invention is excellent in transportability in a heat developing machine.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a side view showing a configuration example of a non-contact type heat developing machine.
[Explanation of symbols]
10 Thermal development material
11 Carrying roller pair
12 Unloading roller pair
13 Roller
14 Smooth surface
15 Heating heater
16 Guide plate
A Preheating section
B Thermal development processing section
C Slow cooling part

Claims (3)

１２０℃３０秒処理に伴うＭＤ（長手方向）、ＴＤ（幅方向）の熱寸法変化が幅方向全域にわたって−０．０５％以上０．０５％以下であり、かつ感光層の熱現像温度８０℃以上１５０℃以下に於ける表面弾性率を０．０５ＧＰａ以上０．８ＧＰａ以下とし、感光層の前記熱現像温度に於ける押し込み深さを１μｍ以上１０μｍ以下とし、感光層の前記熱現像温度に於ける塑性変形エネルギーを１ｎＪ以上１０ｎＪ以下とすることを特徴とする熱現像写真感光材料。 The change in the thermal dimension of MD (longitudinal direction) and TD (width direction) accompanying the processing at 120 ° C. for 30 seconds is from −0.05% to 0.05% over the entire width direction, and the heat development temperature of the photosensitive layer is 80 ° C. The surface elastic modulus at 150 ° C. or less is 0.05 GPa or more and 0.8 GPa or less, the indentation depth of the photosensitive layer at the thermal development temperature is 1 μm or more and 10 μm or less, and the photosensitive layer is heated at the thermal development temperature. A photothermographic material having a plastic deformation energy of 1 nJ or more and 10 nJ or less. 熱現像後の２５℃７５％ＲＨにおける吸水速度が０％／時間以上０．１６％／時間以下である支持体を用いたことを特徴とする請求項１に記載の熱現像写真感光材料。Heat-developable photographic material according to claim 1, characterized in that water absorption rate at 25 ° C. 75% RH after thermal development is used a support is 0.16% / hour or less than 0% / hour. 熱現像が８０℃以上１５０℃以下で１０秒以上５分以下で実施されることを特徴とする請求項１又は２に記載の熱現像写真感光材料。Heat-developable photographic material according to claim 1 or 2, characterized in that thermal development is carried out in less than 5 minutes or 10 seconds at 80 ° C. or higher 0.99 ° C. or less.

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