JP3723350B2 - 配線基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板に関し、詳しくはフリップチップ接続方式の半導体集積回路チップを電気的に接続するための電極用パッド群(多数の電極用パッド)を有する配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子機器の小型化・薄型化および信号処理速度の高速化が急速に進むなかで、半導体集積回路チップ(以下、単にチップという)の実装技術が製品の性能を左右するまでになってきている。最近では、チップサイズパッケージ(CSP)や、パッケージを用いずにチップを基板に直接ボンディングするフリップチップ実装を用いたマルチチップモジュール(MCM)が盛んに開発されている。
【0003】
チップ実装方式のうち、フリップチップ接続方式は、一主面の所定の箇所に電極(入出力接続端子)用パッドを配置したチップを配線基板の各電極用パッドに電気的に接続するものであり、実装面積や実装高さといった点で高密度化を実現できる方式である。チップと配線基板との接続を最短距離で接続でき、また、ワイヤボンディング方式と比較してインダクタンス成分を減らすことができるため、信号処理の高速化や高周波化にも有利である。コンピューターのMPU用パッケージにおいては、フリップチップ接続方式はクロック動作周波数が300MHz以上の領域では必須の実装方式になるといわれている。具体的には、ボールグリットアレイ(BGA)、ピングリットアレイ(PGA)、ランドグリットアレイ(LGA)等の配線基板(以下、単に基板ともいう)に広く採用されている。
【0004】
このような配線基板およびその電極用パッド(以下、単にパッドともいう)は、例えば、アルミナセラミックからなるセラミック製の薄膜配線基板にあっては、次のようにして製造される。すなわち、アルミナグリーンシートに金型等を用いて表裏面を貫通するビアホールを穿設した後、タングステンやモリブデン等の高融点金属粉末を主体とするメタライズペーストをビアホール中に充填する。必要に応じてグリーンシートを積層した後、同時焼成してアルミナセラミック製の配線基板を得る(図示せず)。
【0005】
得られた基板1の両面を研磨加工して平らにした後(図示せず)、基板の一主面にスパッタ法によりチタン、銅の順で薄膜層2を形成する(図13(a))。該薄膜層2上に感光性レジストを塗布してレジスト膜3を形成し(図13(b))、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部4を形成する(図13(c))。開口部4に電気メッキにより銅、ニッケル及び金からなる配線層16を形成する(図13(d))。そして、レジスト層を除去した後(図14(a))、再びレジスト層6を形成する(図14(b))。フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部17を形成する(図14(c))。開口部17に電気スズメッキにより電極用パッド上にスズメッキ層18を形成(図14(d))した後、残ったレジスト層6を除去する(図15(a))。その後、レジスト層19を形成(図15(b))し、フォトリソ加工により配線部以外の部分のパターン抜きを行ない(図15(c))、スパッタ層2の不要な部分をエッチング除去した後(図16(a))、残ったレジスト層19を除去して、電極用パッドの形成を完了する(図16(b))。
【0006】
そして、フリップチップ接続方式によるアッセンブリーにおいては、配線基板側の各電極用パッドとチップ側の各電極用パッドに形成した金バンプとが一致するようにして重ね、リフロー炉等を用いて加熱して、配線基板側の電極パッドの最表層にあるスズメッキ層とチップ側の電極用パッドに形成した金バンプとが低融点合金を形成してハンダ付けすることにより、パッド間の電気的接続を行なっていた。
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ところが、フリップチップ接続方式の配線基板の電極用パッドの寸法は、その直径が50μm程度と微細なため、上記スズメッキ層のメッキ厚みの制御が非常に困難であった。例えば、スズメッキ厚みのねらい値が2μmの場合、実際のバラツキは1.2〜3.5μmであった。このスズメッキ厚みのバラツキが原因となって、集積回路チップ側の接続用金バンプとの接合部で生ずる金/スズ合金の組成比のバラツキも大きくなり、その結果、集積回路チップの接合強度のバラツキまでも大きくなってしまう問題が発生した。
【0008】
さらに、スズメッキ厚みのバラツキによって電極用パッドの高さバラツキが発生し、その結果、集積回路チップとの接合状態に不具合が生じる。また、スズメッキ厚みのバラツキによってスズが過剰になった場合、集積回路チップの実装時にスズの這い上がりが多くなるという問題を生じる。逆に、スズが少ない場合は集積回路チップの実装強度が劣化しやすいという問題を生じる。
【0009】
また、従来のフリップチップ接続方式の配線基板の電極用パッドの構成は、その最表層がスズメッキ層のため不安定であり、保管中にスズメッキ表面に酸化膜が発生して濡れ性が劣化したり、大気中での放置によりホイスカーが発生したり、酸やアルカリに弱いため製造プロセス上の制約が多い。更に、前述したように、従来の製造方法では、フォトリソ工程が3回も必要であり、その結果、製造コストが高くなる問題もあった。
【0010】
本発明は、かかる知見に基づいてなされたもので、その目的とするところは、フリップチップ接続用の電極用パッドをなす導体層の最表面に、厚み制御が容易なスパッタ法を用いて安定した厚みのスズ層を形成し、さらに当該スズ層を予め化学的に安定な金/スズ合金層にすることにより、経時劣化や金/スズ合金の組成比バラツキの少ないフリップチップ接続方式の配線基板を提供することにある。また、上記のように金/スズ合金化を行わない場合においても、本発明が目的とする効果を奏することが可能である。すなわち、フリップチップ接続用の電極用パッドをなす導体層の最表面に、厚み制御が容易なスパッタ法を用いて安定した厚みのスズ層を形成することにより、集積回路チップの実装時に生成する金/スズ合金の組成比バラツキの少ないフリップチップ接続方式の配線基板を提供することが可能である。この場合、合金化のための加熱工程が省略可能なため、製造コストの削減に有効である。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、
フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、基板面から順に、チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、金を主体とするメッキ層と、金/スズ合金層と、からなる多層構造の金属膜を有する配線基板を要旨とする。
最表層を金/スズ合金層とすることにより、従来問題であったスズ層表面の酸化等の経時劣化や、ホイスカーの発生、接合強度のバラツキといった種々の問題を解決することができる。
下地の薄膜層は、チタン、パラジウム、銅のうち少なくとも1種類の金属から選ばれる。薄膜層の形成方法としては公知の技術が適用可能であり、無電解メッキによる薄付けメッキ層、スパッタ法によるスパッタ層、あるいは、有機金属化合物の熱分解や光分解によるデポジット層等が用いられる。好ましい構成としては、スパッタ法を用いてチタン−パラジウム層とするのが接続信頼性の面で好適である。この場合の各スパッタ層の好ましい厚みの範囲としては、チタンでは1000〜2000Å、パラジウムでは1000〜3000Åである。
金/スズ合金層と薄膜層との間に金メッキ層が必要な理由は以下のようである。すなわち、金メッキ層が無い場合、層厚みの薄い(約3000Å)パラジウム薄膜層や銅薄膜層が金/スズ合金層に食われてしまい、下地のチタン薄膜層と金/スズ合金層との間に界面剥離が生じ易いからである。したがって、金メッキ層の厚みの範囲としては、好ましくは0.75〜10μm、より好ましくは2〜7μmである。
【0012】
請求項2に記載の発明は、
フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、基板面から順に、チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、ニッケル、銅の少なくとも1種類からなる第1メッキ層と、金を主体とする第2メッキ層と、金/スズ合金層と、からなる多層構造の金属膜を有する配線基板を要旨とする。
本発明は、請求項1に記載の配線基板のより好ましい構成を例示したものであって、金メッキ層と薄膜層との間にロー材食われに強いニッケルあるいは低ヤング率材である銅からなるメッキ層を挟むことにより、より接続信頼性の優れたフリップチップ接続方式の配線基板を得られる。
【0013】
請求項3に記載の発明は、
フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、基板面から順に、チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、金を主体とするメッキ層と、スズを主体とするスパッタ層と、からなる多層構造の金属膜を有する配線基板を要旨とする。
薄膜層の形成方法としては公知の技術が適用可能であり、無電解メッキによる薄付けメッキ層、スパッタ法によるスパッタ層、あるいは、有機金属化合物の熱分解や光分解によるデポジット層等が用いられる。好ましい構成としては、スパッタ法を用いてチタン−パラジウム層とするのが接続信頼性の面で好適である。この場合の各スパッタ層の好ましい厚みの範囲としては、チタンでは1000〜2000Å、パラジウムでは1000〜3000Åである。金メッキ層の厚みの範囲としては、好ましくは0.75〜10μm、より好ましくは2〜7μmである。
本発明では、金メッキ層上にスズを主体とするスパッタ層を形成した構成である点で請求項1に記載の発明と異なるが、ここでいう「スズを主体とするスパッタ層」とは、当該スパッタ層に金/スズ合金層が含まれる場合をもいう。なぜなら、金メッキ層上にスズをターゲット材としてスパッタを行った場合には、スパッタ工程中の加熱等によりスズと金との熱拡散が発生し、金メッキ層と当該スパッタ層との間に金/スズ合金層を形成する場合があるからである。もちろん、「スズを主体とするスパッタ層」には、まったく金/スズ合金層を含まないスズのみからなるスパッタ層を含むことはいうまでもない。
【0014】
請求項4に記載の発明は、
フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、基板面から順に、チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、ニッケル、銅の少なくとも1種類からなる第1メッキ層と、金を主体とする第2メッキ層と、スズを主体とするスパッタ層と、からなる多層構造の金属膜を有する配線基板を要旨とする。
薄膜層の形成方法としては公知の技術が適用可能であり、無電解メッキによる薄付けメッキ層、スパッタ法によるスパッタ層、あるいは、有機金属化合物の熱分解や光分解によるデポジット層等が用いられる。好ましい構成としては、スパッタ法を用いてチタン−パラジウム層とするのが接続信頼性の面で好適である。この場合の各スパッタ層の好ましい厚みの範囲としては、チタンでは1000〜2000Å、パラジウムでは1000〜3000Åである。金メッキ層の厚みの範囲としては、好ましくは0.75〜10μm、より好ましくは2〜7μmである。
本発明では、金メッキからなる第2メッキ層上にスズを主体とするスパッタ層を形成した構成である点で請求項2に記載の発明と異なるが、ここでいう「スズを主体とするスパッタ層」とは、当該スパッタ層に金/スズ合金層が含まれる場合をもいう。なぜなら、金メッキ層上にスズをターゲット材としてスパッタを行った場合には、スパッタ工程中の加熱等によりスズと金との熱拡散が発生し、金メッキ層と当該スパッタ層との間に金/スズ合金層を形成する場合があるからである。もちろん、「スズを主体とするスパッタ層」には、まったく金/スズ合金層を含まないスズのみからなるスパッタ層を含むことはいうまでもない。
【0015】
請求項5に記載の発明は、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる第1スパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない、電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に金からなるメッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記メッキ層の全面にスズからなる第2スパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、
上記電極用パッド部における上記メッキ層の少なくとも一部と上記第2スパッタ層とから金/スズ合金層を形成する合金化加熱処理工程と、を少なくとも具備する配線基板の製造方法を要旨とし、請求項1に記載の配線基板の製造方法を具体的に例示したものである。
スズ層の形成にスパッタ法を用い、且つ、メッキレジスト層上から全面に均一にスパッタするため、φ50μm程度の微細な電極用パッド上に均一な厚みでスズ層が形成できる。ちなみに、本発明のように、レジスト層上から全面にスパッタ層を形成した後、レジスト層を除去して必要な部分のスパッタ層を残す方法は、「リフトオフ法」と呼ばれている。
【0016】
請求項6に記載の発明は、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる第1スパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に、ニッケル、銅のうち少なくとも1種類の金属からなる第1メッキ層を形成後、次いで、金からなる第2メッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記第2メッキ層の全面にスズからなる第2スパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、
上記電極用パッド部に形成された上記第2メッキ層の少なくとも一部と上記第2スパッタ層とから金/スズ合金層を形成する合金化加熱処理工程と、を少なくとも具備する配線基板の製造方法を要旨とし、請求項2に記載の配線基板の製造方法を具体的に例示したものである。
スズ層の形成にスパッタ法を用い、且つ、メッキレジスト層上から全面に均一にスパッタするため、φ50μm程度の微細な電極用パッド上に均一な厚みでスズ層が形成できるとともに、金メッキ層と薄膜層との間にロー材食われに強いニッケルあるいは低ヤング率材である銅からなるメッキ層を挟むことにより、より接続信頼性の優れたフリップチップ接続方式の配線基板を得られる。
【0017】
請求項7に記載の発明は、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる第1スパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない、電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に金からなるメッキ層を形成するメッキ工程と、上記メッキレジスト層及び露出した上記メッキ層の全面にスズを主体とする第2スパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、を少なくとも具備する配線基板の製造方法を要旨とし、請求項3に記載の配線基板の製造方法を具体的に例示したものである。
スズ層の形成にスパッタ法を用い、且つ、メッキレジスト層上から全面に均一にスパッタするため、φ50μm程度の微細な電極用パッド上に均一な厚みでスズ層が形成できるとともに、金メッキ層と薄膜層との間にロー材食われに強いニッケルあるいは低ヤング率材である銅からなるメッキ層を挟むことにより、より接続信頼性の優れたフリップチップ接続方式の配線基板を得られる。
本発明が奏する効果は、前述した請求項5に記載の発明と基本的に同様であるが、金/スズ合金化の加熱処理を行わないことにより工程の短縮が可能である。特には、スズのウイスカーが発生するような長期保管を行わない場合において有効である。
【0018】
請求項8に記載の発明は、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなるスパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に、ニッケル、銅のうち少なくとも1種類の金属からなる第1メッキ層を形成後、次いで、金からなる第2メッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記第2メッキ層の全面にスズを主体とするスパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、を少なくとも具備する配線基板の製造方法を要旨とし、請求項4に記載の配線基板の製造方法を具体的に例示したものである。
スズ層の形成にスパッタ法を用い、且つ、メッキレジスト層上から全面に均一にスパッタするため、φ50μm程度の微細な電極用パッド上に均一な厚みでスズ層が形成できるとともに、金メッキ層と薄膜層との間にロー材食われに強いニッケルあるいは低ヤング率材である銅からなるメッキ層を挟むことにより、より接続信頼性の優れたフリップチップ接続方式の配線基板を得られる。
本発明が奏する効果は、前述した請求項6に記載の発明と基本的に同様であるが、金/スズ合金化の加熱処理を行わないことにより工程の短縮が可能である。特には、スズのウイスカーが発生するような長期保管を行わない場合において有効である。
【0019】
本願発明の配線基板には、セラミック配線基板を用いることができる。セラミックの材質は特に限定されるものではないが、アルミナ、窒化アルミニウム、セラミックフィラーをガラスに添加したセラミック−ガラス複合材料(いわゆるガラスセラミックあるいは低温焼成材料)、各種誘電体材料、炭化珪素あるいは窒化珪素といったものを用いることができる。
配線基板として更には、BT(ビスマレイミド−トリアジン)系、エポキシ系、PPE(ポリフェニレンエーテル)系、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)系といった耐熱性樹脂を主成分とするプリント配線基板を用いることができるが、樹脂材料としては、金/スズ合金化時の加熱温度に耐えうる耐熱特性の特に優れたものが好ましい。したがって、金/スズ合金化時の加熱温度を少しでも下げるために、金/スズ合金化層の組成比としては、金80%/スズ20%(融点280℃)となり得るように各層の厚みと加熱処理の温度と時間をコントロールする必要がある。
【0020】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法の例を、以下に詳細に説明する。
請求項5に係る配線基板の製造方法の例(図1〜図3を参照)
両面を研磨加工して平らにしたアルミナ基板1の一主面にスパッタ法によりチタン(層厚:2000Å)、パラジウム(層厚:3000Å)の順で薄膜層2を形成した(図1(a))。該薄膜層2上に感光性レジストを塗布してレジスト膜3を形成し(図1(b))、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部4を形成した(図1(c))。開口部4に電気金メッキにより配線層5(層厚;3μm)を形成した(図1(d))。その後、残ったレジスト層3を除去した後(図2(a))、薄膜層2の不要な部分を、ウエットエッチングで除去した(図2(b))。再びレジスト層6を形成(図2(c))した後、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない、電極パッド用の開口部7(直径;50μm)を形成した(図2(d))。開口部7及びパターン抜きしたレジスト層6の全面にスパッタ法によりスズ層8,9を形成した(図3(a))。当該スズ層の厚みは、0.5μmと2μmの2種類とした。その後、スズ層8の付着したレジスト層6を除去して、電極用パッド部分のみスズ層9を残した後(図3(b))、窒素/水素の還元雰囲気下で280℃×5分の条件で加熱処理を行い、スズ層9と金メッキによる配線層5とを合金化して、金/スズ合金からなる電極用パッド10を形成した(図3(c))。
【0021】
請求項6に係る配線基板の製造方法の例(図4〜図6を参照)
両面を研磨加工して平らにした基板1の一主面にスパッタ法によりチタン(層厚:2000Å)、銅(層厚:3000Å)の順で薄膜層2を形成した(図4(a))。該薄膜層2上に感光性レジストを塗布してレジスト膜3を形成し(図4(b))、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部4を形成した(図4(c))。開口部4に電気メッキにより基板側から銅(層厚:3μm)、ニッケル(層厚:1μm)の順に第1メッキ層11、次いで、電解金メッキ(層厚:2μm)により第2メッキ層12を形成した(図4(d))。そして、残ったレジスト層を除去した後(図5(a))、薄膜層2の不要な部分を、ウエットエッチングで除去した(図5(b))。再びレジスト層6を形成(図5(c))した後、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部7を形成した(図5(d))。開口部7及びパターン抜きしたレジスト層6の全面にスパッタ法によりスズ層13、14を、0.5μmと2μmの2種類の厚みで形成(図6(a))した後、スズ層13の付着したレジスト層6を除去して、金メッキによる第2メッキ層14の上の電極用パッド部分のみスズ層を残した(図6(b))。その後、窒素/水素の還元雰囲気下で280℃×5分の条件で加熱処理を行い、スズ層14と金メッキによる第2メッキ層12とを合金化して金/スズ合金層15を形成し、電極用パッドの形成を完了した(図6(c))。
【0022】
(3)請求項7に係る配線基板の製造方法の例(図7〜図9を参照)
両面を研磨加工して平らにしたアルミナ基板1の一主面にスパッタ法によりチタン(層厚:2000Å)、パラジウム(層厚:3000Å)の順で薄膜層2を形成した(図7(a))。該薄膜層2上に感光性レジストを塗布してレジスト膜3を形成し(図7(b))、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部4を形成した(図7(c))。開口部4に電気金メッキにより配線層5(層厚;3μm)を形成した(図7(d))。その後、残ったレジスト層3を除去した後(図8(a))、薄膜層2の不要な部分を、ウエットエッチングで除去した(図8(b))。再びレジスト層6を形成(図8(c))した後、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない、電極パッド用の開口部7(直径;50μm)を形成した(図8(d))。開口部7及びパターン抜きしたレジスト層6の全面にスパッタ法によりスズ層8,9を形成した(図9(a))。当該スズ層の厚みは、0.5μmと2μmの2種類とした。その後、スズ層8の付着したレジスト層6を除去して、スズを主体とする電極用パッド9を形成した(図9(b))。
【0023】
(4)請求項8係る配線基板の製造方法の例(図10〜図12を参照)
両面を研磨加工して平らにした基板1の一主面にスパッタ法によりチタン(層厚:2000Å)、銅(層厚:3000Å)の順で薄膜層2を形成した(図10(a))。該薄膜層2上に感光性レジストを塗布してレジスト膜3を形成し(図10(b))、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部4を形成した(図10(c))。開口部4に電気メッキにより基板側から銅(層厚:3μm)、ニッケル(層厚:1μm)の順に第1メッキ層11、次いで、電解金メッキ(層厚:2μm)により第2メッキ層12を形成した(図10(d))。そして、残ったレジスト層を除去した後(図11(a))、薄膜層2の不要な部分を、ウエットエッチングで除去した(図11(b))。再びレジスト層6を形成(図11(c))した後、フォトリソ加工によりパターン抜きを行ない開口部7を形成した(図11(d))。開口部7及びパターン抜きしたレジスト層6の全面にスパッタ法によりスズ層13、14を、0.5μmと2μmの2種類の厚みで形成(図12(a))した後、スズ層13の付着したレジスト層6を除去して、金メッキによる第2メッキ層14の上の電極用パッド部分のみスズ層を残して、スズを主体とする電極用パッド14の形成を完了した(図12(b))。
【0024】
(5)電極用パッド高さのバラツキの評価
本願の請求項5に記載の製造方法(以下、「リフトオフ法」とも称する)により形成された電極用パッドの高さと、比較例として、従来のスズメッキを用いて形成された電極用パッドの高さを表面粗度計を用いて測定し、その高さバラツキを比較した。測定条件の詳細を以下に示す。
電極用パッドの直径;50μm
電極用パッドの高さ;2μm、0.5μmの2種類
測定パッド数;各50個
バラツキの算出方法;各50個の測定値から電極用パッドの高さ平均値および標準偏差σを求め、平均値に対する±3σの比(単位;%)で表示した。結果を表1に示した。
【0025】
【表1】
【0026】
表1の結果より、電極用パッド高さの狙い値が0.5μmと薄い場合、本発明のリフトオフ法を用いた時のバラツキ値は±10%と良好であるが、従来方法のメッキ法を用いた時のバラツキ値は再現性がなく、実質高さの制御が不可能であった。電極用パッド高さの狙い値が2μmの場合、本発明のリフトオフ法を用いた時のバラツキ値は±7.5%と良好であるが、従来方法のメッキ法を用いた時のバラツキ値は±75%と、本発明の10倍のバラツキ値を示した。これらの結果より、本発明のスズスパッタ法を用いた方法によれば、従来のスズメッキ方法と比較して高さバラツキを著しく低減できる効果が得られることがわかる。特に、電極パッドの寸法が100μm以下の微細なものに対して1μm以下の薄いスズ層を形成する場合に極めて好適である。また、(1)、(2)において前述したように、本発明では、いわゆる「リフトオフ法」を用いるため、フォトリソ工程が2回と、従来方法の3回より工数が減少しており、製造コストの面でも有利である。
【0027】
【発明の効果】
以上に説明したように本願発明によれば、フリップチップ接続する電極用パッドの最表面に、厚み制御が容易なスパッタ法を用いて安定した厚みのスズ層を形成できる。さらに当該スズ層を予め化学的に安定な金/スズ合金層にすることにより、経時劣化や金/スズ合金の組成比バラツキの少ないフリップチップ接続方式の配線基板を提供できる。さらに、スズ層の形成にリフトオフ法を用いることで、フォトリソ工程の回数をメッキ法を用いた従来方法の半分以下にすることができる。
【0028】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の請求項5に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図2】本発明の請求項5に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図3】本発明の請求項5に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図4】本発明の請求項6に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図5】本発明の請求項6に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図6】本発明の請求項6に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図7】本発明の請求項7に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図8】本発明の請求項7に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図9】本発明の請求項7に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図10】本発明の請求項8に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図11】本発明の請求項8に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図12】本発明の請求項8に記載の配線基板の製造工程の説明図。
【図13】従来方法の配線基板の製造工程の説明図。
【図14】従来方法の配線基板の製造工程の説明図。
【図15】従来方法の配線基板の製造工程の説明図。
【図16】従来方法の配線基板の製造工程の説明図。
【符号の説明】
1 配線基板
2 チタンスパッタ層と銅スパッタ層とからなる薄膜層
5 金メッキ層
6 レジスト層
8 レジスト層6上に形成されたスズスパッタ層
9 金メッキ層5上に形成されたスズスパッタ層からなる電極用パッド
10 金/スズ合金からなる電極用パッド
Claims (8)
- フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、
基板面から順に、
チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、
金を主体とするメッキ層と、
金/スズ合金層と、からなる多層構造の金属膜を有することを特徴とする配線基板。 - フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、
基板面から順に、
チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、
ニッケル、銅の少なくとも1種類からなる第1メッキ層と、
金を主体とする第2メッキ層と、
金/スズ合金層と、からなる多層構造の金属膜を有することを特徴とする配線基板。 - フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、
基板面から順に、
チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、
金を主体とするメッキ層と、
スズを主体とするスパッタ層と、からなる多層構造の金属膜を有することを特徴とする配線基板。 - フリップチップ接続方式の集積回路チップを電気的に接続するための電極パッド群を備えた配線基板であって、
基板面から順に、
チタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなる1層以上の薄膜層と、
ニッケル、銅の少なくとも1種類からなる第1メッキ層と、
金を主体とする第2メッキ層と、
スズを主体とするスパッタ層と、からなる多層構造の金属膜を有することを特徴とする配線基板。 - 請求項1に記載の配線基板の製造方法であって、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなるスパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない、電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に金からなるメッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記メッキ層の全面にスズからなるスパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、
上記電極用パッド部における上記メッキ層の少なくとも一部と上記第2スパッタ層とから金/スズ合金層を形成する合金化加熱処理工程と、を少なくとも具備することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 請求項2に記載の配線基板の製造方法であって、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなるスパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に、ニッケル、銅のうち少なくとも1種類の金属からなる第1メッキ層を形成後、次いで、金からなる第2メッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記第2メッキ層の全面にスズからなるスパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、
上記電極用パッド部に形成された上記第2メッキ層の少なくとも一部と上記第2スパッタ層とから金/スズ合金層を形成する合金化加熱処理工程と、を少なくとも具備することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 請求項3に記載の配線基板の製造方法であって、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなるスパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない、電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に金からなるメッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記メッキ層の全面にスズからなるスパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、を少なくとも具備することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 請求項4に記載の配線基板の製造方法であって、
基板表面にチタン、パラジウム、銅、クロム、モリブデン、ジルコニウム、白金、ニッケル、タンタルのうち、少なくとも1種類の金属及び/又は少なくとも1種類の金属を主成分とする合金金属からなるスパッタ層を形成する第1スパッタ層形成工程と、
上記第1スパッタ層上にメッキレジスト層を形成後、パターニングを行ない電極パッド用開口部を形成する露光・現像工程と、
上記電極パッド用開口部に、ニッケル、銅のうち少なくとも1種類の金属からなる第1メッキ層を形成後、次いで、金からなる第2メッキ層を形成するメッキ工程と、
上記メッキレジスト層及び露出した上記第2メッキ層の全面にスズからなるスパッタ層を形成する第2スパッタ層形成工程と、
上記電極用パッド部以外の第2スパッタ層を除去する工程と、を少なくとも具備することを特徴とする配線基板の製造方法。
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