JP3694046B2

JP3694046B2 - Clean room system

Info

Publication number: JP3694046B2
Application number: JP25484694A
Authority: JP
Inventors: 正憲井上; 隆紀吉田; 弘五味; 仁稲葉
Original assignee: Takasago Thermal Engineering Co Ltd
Current assignee: Takasago Thermal Engineering Co Ltd
Priority date: 1994-09-21
Filing date: 1994-09-21
Publication date: 2005-09-14
Anticipated expiration: 2020-09-14
Also published as: JPH0889747A

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、クリーンルームの空気中に含まれるガス状不純物を除去するように構成したクリーンルームシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
クリーンルームとは、空気中における浮遊粒状物質が規定されたレベルに管理され、必要に応じて温度、湿度、圧力などの環境条件も管理された空間である。かかるクリーンルームは、例えば、ＵＬＳＩ等の精密電子部品を製造する工場、精密な部品の組立室、ＩＣ回路の作成室、アイソトープ実験室、手術室などにおいて広く利用されている。
【０００３】
ここで、従来のクリーンルームは、粒子状不純物のみを清浄化の対象としている。即ち、従来のクリーンルームにおいては、ＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡフィルタなどの高性能フィルタを用いてクリーンルームに導入される外気や還気を濾過し、粒子状不純物を除去することによりクリーンルーム内の粒子濃度を低下させ、雰囲気の清浄化を図っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年、クリーンルーム内の雰囲気について、粒子状の不純物を除去することに加え、更にＳＯ₂ガス、ＨＦガス、ＮＨ₃ガスなどといったガス状の不純物も除去することが要求されるようになってきた。ところが、従来のクリーンルームはそのようなガス状の不純物を除去する機能は備えていないため、クリーンルーム内の雰囲気中のガス状不純物の濃度を抑制することができなかった。このようなクリーンルーム内のガス状不純物の濃度を増加させる原因には、外気中に含まれるガス状不純物以外にも、例えば、クリーンルームの内装材から発生する有機系ガス、電子部品などの製造用に供される薬液蒸気や特殊ガス等がある。これらから発生するガス状不純物も、何らかの手段によって除去することによってクリーンルーム内の雰囲気を清浄に保つ必要がある。
【０００５】
本発明の目的は、粒子状不純物に加えてガス状不純物をも除去できるクリーンルームを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、サプライプレナムチャンバに供給された外気をクリーンルームの天井に複数配置したファンフィルタユニットを介してクリーンルーム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た還気を再びファンフィルタユニットを介してクリーンルーム内に導入するように構成したものにおいて、前記クリーンルーム内に、導入される空気についてガス状不純物の除去が必要な領域と、導入される空気についてガス状不純物の除去が特に必要でない領域を備え、前記導入される空気についてはガス状不純物の除去が必要な領域の天井に配置されているファンフィルタユニットのみにケミカルフィルタを装着し、前記ケミカルフィルタは、ファンフィルタユニットに設けられたファンの上方に設置され、前記ケミカルフィルタを装着したファンフィルタユニットの送風能力をインバータ制御により調節自在に構成したことを特徴とする、クリーンルームシステムが提供される。
【０００７】
また本発明によれば、クリーンルーム内を経た還気をクリーンルームの下方に設けられたレタンプレナムチャンバに供給し、その後、レタン経路を介して循環させ、再びクリーンルーム内に導入するように構成したものにおいて、前記クリーンルーム内に、ガス状不純物が発生するため還気についてガス状不純物の除去が必要な領域と、還気についてガス状不純物の除去が特に必要でない領域を備え、前記還気についてガス状不純物の除去が必要な領域にケミカルフィルタを内蔵するファンユニットを配置し、前記ファンユニットは、クリーンルーム内からの還気を取り入れるためのホッパーにケミカルフィルタを配置した構成であり、前記ケミカルフィルタを内蔵したファンユニットの送風能力をインバータ制御により調節自在に構成したことを特徴とする、クリーンルームシステムが提供される。
【０００８】
【作用】
クリーンルーム内に導入された外気や還気中に含まれている粒子状不純物に加え、外気中のガス状不純物や、クリーンルームの内装材から発生した有機系ガス、電子部品などの製造用に供された薬液蒸気や特殊ガス等の、クリーンルーム内において発生したガス状不純物をも除去することにより、近年の要求に対応したより清浄な雰囲気を作り出すことが可能となる。従って、本発明によれば、ＵＬＳＩ等の精密電子部品、精密部品、ＩＣ回路などの製造や、その他、アイソトープ実験室、手術室などに好適なクリーンルームを提供できるようになる。
【０００９】
ガス状不純物除去手段には、乾式のものと湿式のものが用いられる。乾式のガス状不純物除去手段は、外気や還気中に含まれているガス状不純物をフィルタ表面において薬剤と化学反応させることにより、ガス状不純物成分をフィルタ表面に吸着させるものである。このような乾式のガス状不純物除去手段は、通常、ケミカルフィルタと呼ばれるものであり、例えば、ＳＯ₂ガス、ＨＦガス、ＮＨ₃ガスを吸着させるケミカルフィルタなどにおいては次のような化学反応を生じることによってそれらのガス状不純物を除去するようにしている。
【００１０】
３ＳＯ₂＋２ＫＭnＯ₄＋４ＫＯＨ → ３Ｋ₂ＳＯ₄＋２ＭnＯ₂＋２Ｈ₂Ｏ
【００１１】
２ＨＦ＋Ｃa（ＯＨ）₂ → ＣaＦ₂＋２Ｈ₂Ｏ
【００１２】
３ＮＨ₃＋Ｈ₃ＰＯ₄ → （ＮＨ₄）₃ＰＯ₄
【００１３】
一方、湿式のガス状不純物除去手段は、ガス状不純物を気液接触により吸収して除去するものである。例えば、ＨＦガスは水やＮaＯＨ水溶液を用いて吸収することにより除去することができる。また、ＮＨ₃ガスは水、Ｈ₂ＳＯ₄やＨＣl水溶液などによって吸収し、除去することができる。
【００１４】
【実施例】
先ず、図１をもとにしてクリーンルームシステムの概要を説明する。外気取入経路１から、外調機２を介して系内に供給された外気は、クリーンルーム３の上方に設けられたサプライプレナムチャンバ４に一旦供給され、その後、クリーンルーム３の天井に配置されている複数のファンフィルタユニット５を介してクリーンルーム３内に導入される。クリーンルーム３の床には複数のファンユニット６が配置され、クリーンルーム３内を経た還気はそれらファンユニット６を介してクリーンルーム３の下方に設けられたレタンプレナムチャンバ７に一旦供給され、その後、レタン経路８を介して循環し、再びサプライプレナムチャンバ４に供給され、ファンフィルタユニット５を介してクリーンルーム３内に導入される。また、クリーンルーム３内を経た還気の一部は排気経路９を経て外部に排気される。
【００１５】
以上のように構成されたクリーンルームシステムにおいて、外気や還気中に含まれるガス状不純物を除去するためのガス状不純物除去手段が設けられる。図２に示すように、ファンフィルタユニット５の内部にファン１０と高性能フィルタ（ＵＬＰＡフィルタ）１１が設けられており、本実施例のものにおいては、更にファンフィルタユニット５の内部に、ガス状不純物除去手段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵している。通常、ケミカルフィルタ１２の寿命は、高性能フィルタ１１の寿命に比べて短い。従って、交換作業がし易いようにケミカルフィルタ１２はファン１０の上方（ファンフィルタユニット５の空気吸い込み側）に設置するのがよい。このように、ファンフィルタユニット５にガス状不純物除去手段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵させることによって、クリーンルーム３内に導入される空気中に含まれている粒子状の不純物とガス状の不純物を同時に除去することが可能となる。
【００１６】
一方、クリーンルーム３内においてガス状不純物が発生するような場合には、クリーンルーム３の床に配置したファンユニット６にガス状不純物除去手段を内蔵させるのがよい。このように構成することによって、クリーンルーム３内において発生したガス状不純物をファンユニット６において除去できるようになり、レタン経路８を介して循環させた還気をクリーンルーム３内へ導入させる際にガス状不純物が混入することを防止できる。
【００１７】
図３、図４にガス状不純物除去手段としてのケミカルフィルタ１５を内蔵させたファンユニット６を示す。図３に示すファンユニット６は、ファン１６の上方近傍にケミカルフィルタ１５を配置した実施例であり、図４に示すファンユニット６は、クリーンルーム３内からの還気を取り入れるためのホッパー１７にケミカルフィルタ１５を配置した実施例である。何れの実施例においても、クリーンルーム３内において発生したガス状不純物をファンユニット６によって十分に吸引できるように、ホッパー１７の開口面積はできるだけ広くすることが望ましい。なお、クリーンルーム３の床にケミカルフィルタ１５などのガス状不純物除去手段を配置すると、通常は、それらガス状不純物除去手段が空気抵抗となることによってクリーンルーム３内の空気の流れが阻害され、風量不足や気流の偏りといった問題を生じる。しかし、図示のように、ファンユニット６にガス状不純物除去手段を内蔵させてファン１６でクリーンルーム３内の空気を強制排気するように構成すれば、以上のような気流の偏りといった問題を解決することが可能である。
【００１８】
また、外調機２にガス状不純物除去手段を内蔵させることもできる。このように外気取入経路１においてもガス状不純物を除去する構成とすることによって、クリーンルーム３内の高清浄化を更に向上させることが可能となる。なお、外調機２に内蔵させるガス状不純物除去手段はケミカルフィルタのごとき乾式のもの、あるいは、ガス状不純物を気液接触により吸収して除去する湿式のガス状不純物除去手段の何れを用いても良い。
【００１９】
次に、図５に示すクリーンルームシステムは、間仕切り２０、２１によって三つに分割されたクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃを備えた実施例である。外調機２を介してレタンプレナムチャンバ７に外気が供給され、該外気はレタン経路８に設けられたドライコイル１９を介してサプライプレナムチャンバ４に一旦供給された後、ファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ内にそれぞれ導入される。クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ内を経た還気はレタンプレナムチャンバ７に一旦供給された後、レタン経路８を介して循環し、再びサプライプレナムチャンバ４、ファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ内にそれぞれ導入される。また、循環空気の一部は、排気装置２３等によりクリーンルームシステムの系外に排出される。
【００２０】
この実施例のクリーンルームシステムにあっては、クリーンルーム領域３ｃでは例えば精密電子部品などの製造が行われるので、クリーンルーム領域３ｃに導入される空気についてはガス状不純物の除去が必要である。また、クリーンルーム領域３ｂでは室内で使用された薬液が蒸気となってガス状不純物が発生するため、クリーンルーム領域３ｂを経た還気についてはガス状不純物の除去が必要である。一方、クリーンルーム領域３ａに導入される空気及びクリーンルーム領域３ｃを経た還気についてはガス状不純物の除去は特に必要ではない。
【００２１】
そこで、この実施例のクリーンルームシステムにあっては、クリーンルーム領域３ｃの天井に配置されているファンフィルタユニット５ｃのみにケミカルフィルタ１２を装着し、クリーンルーム領域３ｂの床にはケミカルフィルタ１５を内蔵するファンユニット６ｂを配置している。また、外調機２には乾式もしくは湿式のガス状不純物除去手段２２を内蔵させている。
【００２２】
従って、この実施例のクリーンルームシステムによれば、間仕切り２０、２１によって分割されたクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃには、天井に配置されたファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介して粒子状不純物の除去が行われた無塵の空気がそれぞれ導入される。そして特に、クリーンルーム領域３ｃにはファンフィルタユニット５ｃに設けられたケミカルフィルタ１２によってガス状不純物をも除去された、精密電子部品などの製造に好適な清浄な空気が導入される。また、クリーンルーム領域３ｂで発生したガス状不純物は、ファンユニット６ｂに内蔵したケミカルフィルタ１５によって除去され、こうして、レタンプレナムチャンバ７に供給される還気にはガス状不純物は混入しない。
【００２３】
かくして、この実施例のクリーンルームシステムによれば、導入空気や還気についてガス状不純物の除去が必要なクリーンルーム領域３ｃ、３ｂにおいては、ファンフィルタユニット５ｃやファンユニット６ｂにガス状不純物除去手段を設け、ガス状不純物の除去が必要でないクリーンルーム領域３ａにおいてはガス状不純物除去手段を設ける必要がない。従って、各ゾーン毎に最適なガス状不純物の除去が行えるようになり、必要以上の設備投資を抑えることが可能となる。更にまた、外調機２にも乾式または湿式のガス状不純物除去手段を内蔵させることによって、外気由来のガス状不純物も除去できる。
【００２４】
次に、図６に間仕切りが無いクリーンルームシステムの実施例を示す。この実施例のクリーンルームシステムはクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃの間に間仕切りが設けられていないこと以外は、先に図５で説明したクリーンルームシステムとほぼ同様の構成を備えており、図６において図５と同様の構成要素については同じ符号を付し、説明は省略する。しかして、この実施例のクリーンルームシステムにおいても、クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにはファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介して粒子状不純物の除去が行われた無塵の空気がそれぞれ導入される。そして、クリーンルーム領域３ｃにはファンフィルタユニット５ｃのケミカルフィルタ１２によってガス状不純物をも除去された清浄な空気が導入され、クリーンルーム領域３ｂで発生したガス状不純物はファンユニット６ｂのケミカルフィルタ１５によって除去されることとなる。但し、この実施例のように間仕切りを省略した場合は、クリーンルームの天井や床の一部分のみにケミカルフィルタなどのガス状不純物除去手段が設置されることによって、各クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにおける空気流速が不均一となり、室内気流の偏りが発生しやすくなるといった問題を生じる。そこで、この実施例のように間仕切りを省略した場合は、ケミカルフィルタ１２を設けたファンフィルタユニット５ｃやケミカルフィル１５を内蔵させたファンユニット６ｂの送風能力を調節自在に構成し、それらファンフィルタユニット５ｃやファンユニット６ｂの送風量を適宜調整することにより、室内気流の偏りをなくして気流形状の乱れや循環空気量のばらつき、部分的な流量不足などを解消するように制御することが望ましい。具体的には、ファンフィルタユニット５に内蔵されたファン１０やファンユニット６に内蔵されたファン１６の回転稼働量をインバータ２３、２４などを用いて制御するのがよい。
【００２５】
【発明の効果】
本発明によればクリーンルームにおいて粒子状不純物に加えてガス状不純物をも除去できるようになる。また、いわゆるゾーニングを行ってガス状不純物を除去することにより、目的に応じた最適な清浄化を行うことができ、過剰な設備を必要とせず、合理的かつ経済的である。
【図面の簡単な説明】
【図１】クリーンルームシステムの概要を示す図面
【図２】ケミカルフィルタを内蔵するファンフィルタユニットの説明図
【図３】ファンの上方近傍にケミカルフィルタを配置したファンユニットの説明図
【図４】ホッパーにケミカルフィルタを配置したファンユニットの説明図
【図５】間仕切りによって分割されたクリーンルーム領域を備えたクリーンルームシステムの実施例を示す図面
【図６】間仕切りが無いクリーンルームシステムの実施例を示す図面
【符号の説明】
１外気取入経路
２外調機
３クリーンルーム
４サプライプレナムチャンバ
５ファンフィルタユニット
６ファンユニット
７レタンプレナムチャンバ
８レタン経路
９排気経路[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a clean room system configured to remove gaseous impurities contained in the air of a clean room.
[0002]
[Prior art]
A clean room is a space in which suspended particulate matter in the air is controlled to a prescribed level, and environmental conditions such as temperature, humidity, and pressure are controlled as necessary. Such clean rooms are widely used in, for example, factories that manufacture precision electronic components such as ULSI, precision component assembly rooms, IC circuit creation rooms, isotope laboratories, and operating rooms.
[0003]
Here, the conventional clean room is intended to clean only particulate impurities. In other words, in a conventional clean room, high-performance filters such as ULPA filters and HEPA filters are used to filter outside air and return air introduced into the clean room, thereby removing particulate impurities, thereby reducing the particle concentration in the clean room. , To clean the atmosphere.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
In recent years, in addition to removing particulate impurities, it has been required to remove gaseous impurities such as SO ₂ gas, HF gas, NH ₃ gas and the like in the atmosphere in a clean room. However, since the conventional clean room does not have a function of removing such gaseous impurities, the concentration of gaseous impurities in the atmosphere in the clean room cannot be suppressed. In addition to the gaseous impurities contained in the outside air, the cause of increasing the concentration of gaseous impurities in the clean room is, for example, for the production of organic gases and electronic components generated from clean room interior materials. There are chemical vapor and special gas to be provided. It is necessary to keep the atmosphere in the clean room clean by removing the gaseous impurities generated from these by some means.
[0005]
An object of the present invention is to provide a clean room capable of removing gaseous impurities in addition to particulate impurities.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, the outside air supplied to the supply plenum chamber is introduced into the clean room via a plurality of fan filter units arranged on the ceiling of the clean room, and the return air passing through the clean room is again passed through the fan filter unit. What is configured to be introduced into a clean room, the clean room includes a region where removal of gaseous impurities is necessary for the introduced air and a region where removal of gaseous impurities is not particularly necessary for the introduced air. For the introduced air, a chemical filter is attached only to the fan filter unit disposed on the ceiling of the area where the removal of gaseous impurities is necessary, and the chemical filter is located above the fan provided in the fan filter unit. is installed in, attached to the chemical filter Characterized in that the blowing capacity of the fan filter unit to adjust freely an inverter control, clean room system is provided.
[0007]
Further, according to the present invention, the return air that has passed through the clean room is supplied to the retan plenum chamber provided below the clean room, and then is circulated through the retan route and re-introduced into the clean room. The clean room has a region where gaseous impurities are required to be removed for the return air because gaseous impurities are generated, and a region where removal of the gaseous impurities is not particularly necessary for the return air, the gaseous impurities for the return air A fan unit containing a chemical filter is arranged in an area where it is necessary to remove the chemical filter, and the fan unit has a structure in which a chemical filter is arranged in a hopper for taking in return air from the clean room. The fan unit's ventilation capacity is adjustable by inverter control. Characterized the door, clean room system is provided.
[0008]
[Action]
In addition to particulate impurities contained in the outside air and return air introduced into the clean room, it is used for the production of gaseous impurities in the outside air, organic gases generated from clean room interior materials, electronic parts, etc. By removing gaseous impurities generated in the clean room, such as chemical vapor and special gas, it is possible to create a cleaner atmosphere that meets recent requirements. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a clean room suitable for the manufacture of precision electronic parts such as ULSI, precision parts, IC circuits, and the like, as well as isotope laboratories and operating rooms.
[0009]
As the gaseous impurity removing means, a dry type and a wet type are used. The dry-type gaseous impurity removing means adsorbs gaseous impurity components on the filter surface by chemically reacting gaseous impurities contained in the outside air or return air with chemicals on the filter surface. Such a dry-type gaseous impurity removing means is usually called a chemical filter. For example, a chemical filter that adsorbs SO ₂ gas, HF gas, NH ₃ gas causes the following chemical reaction. Thus, these gaseous impurities are removed.
[0010]
3SO ₂ + 2KMnO ₄ + 4KOH → 3K ₂ SO ₄ + 2MnO ₂ + 2H ₂ O
[0011]
2HF + Ca (OH) ₂ → CaF ₂ + 2H ₂ O
[0012]
3NH ₃ + H ₃ PO ₄ → (NH ₄ ) ₃ PO ₄
[0013]
On the other hand, the wet gaseous impurity removing means absorbs and removes gaseous impurities by gas-liquid contact. For example, HF gas can be removed by absorption using water or an aqueous NaOH solution. NH ₃ gas can be absorbed and removed by water, H ₂ SO ₄ , HCl aqueous solution, or the like.
[0014]
【Example】
First, the outline of the clean room system will be described with reference to FIG. The outside air supplied from the outside air intake path 1 into the system via the external air conditioner 2 is once supplied to the supply plenum chamber 4 provided above the clean room 3 and then disposed on the ceiling of the clean room 3. It is introduced into the clean room 3 through a plurality of fan filter units 5. A plurality of fan units 6 are arranged on the floor of the clean room 3, and the return air that has passed through the clean room 3 is temporarily supplied to the retan plenum chamber 7 provided below the clean room 3 via the fan units 6, and then the retan It circulates through the path 8, is supplied again to the supply plenum chamber 4, and is introduced into the clean room 3 through the fan filter unit 5. A part of the return air passing through the clean room 3 is exhausted to the outside through the exhaust path 9.
[0015]
In the clean room system configured as described above, a gaseous impurity removing means is provided for removing gaseous impurities contained in the outside air or return air. As shown in FIG. 2, a fan 10 and a high-performance filter (ULPA filter) 11 are provided inside the fan filter unit 5, and in the present embodiment, a gaseous state is further provided inside the fan filter unit 5. A chemical filter 12 as a means for removing impurities is incorporated. Usually, the lifetime of the chemical filter 12 is shorter than the lifetime of the high-performance filter 11. Therefore, the chemical filter 12 is preferably installed above the fan 10 (on the air suction side of the fan filter unit 5) so that the replacement work is easy. Thus, by incorporating the chemical filter 12 as a gaseous impurity removing means in the fan filter unit 5, the particulate impurities and the gaseous impurities contained in the air introduced into the clean room 3 are simultaneously removed. It can be removed.
[0016]
On the other hand, when gaseous impurities are generated in the clean room 3, it is preferable to incorporate a gaseous impurity removing means in the fan unit 6 arranged on the floor of the clean room 3. With this configuration, gaseous impurities generated in the clean room 3 can be removed in the fan unit 6, and when the return air circulated through the retan passage 8 is introduced into the clean room 3, Impurities can be prevented from being mixed.
[0017]
3 and 4 show a fan unit 6 in which a chemical filter 15 as a gaseous impurity removing means is incorporated. The fan unit 6 shown in FIG. 3 is an embodiment in which a chemical filter 15 is disposed in the vicinity of the upper side of the fan 16. The fan unit 6 shown in FIG. 4 has a chemical in a hopper 17 for taking in return air from the clean room 3. This is an embodiment in which a filter 15 is arranged. In any of the embodiments, it is desirable that the opening area of the hopper 17 be as large as possible so that the gaseous impurities generated in the clean room 3 can be sufficiently sucked by the fan unit 6. In addition, when gaseous impurity removing means such as the chemical filter 15 is arranged on the floor of the clean room 3, normally, the gaseous impurity removing means becomes air resistance, thereby obstructing the air flow in the clean room 3 and insufficient air volume. And problems such as uneven airflow. However, as shown in the figure, if the fan unit 6 has a built-in gaseous impurity removal means and the fan 16 forcibly exhausts the air in the clean room 3, the above-described problem of airflow bias is solved. It is possible.
[0018]
Also, the external impurity device 2 can incorporate a gaseous impurity removing means. As described above, the configuration in which the gaseous impurities are removed also in the outside air intake path 1 can further improve the cleanliness in the clean room 3. The gaseous impurity removing means incorporated in the external air conditioner 2 is either a dry type such as a chemical filter or a wet gaseous impurity removing means that absorbs and removes gaseous impurities by gas-liquid contact. Also good.
[0019]
Next, the clean room system shown in FIG. 5 is an embodiment provided with clean room regions 3 a, 3 b, 3 c divided into three by partitions 20, 21. Outside air is supplied to the lettanus plenum chamber 7 via the external air conditioner 2, and the outside air is once supplied to the supply plenum chamber 4 via the dry coil 19 provided in the letan path 8, and then the fan filter units 5 a, 5 b. Are introduced into the clean room areas 3a, 3b, 3c through 5c, respectively. The return air that has passed through the clean room areas 3a, 3b, and 3c is temporarily supplied to the retane plenum chamber 7, and then circulated through the retane path 8, and again through the supply plenum chamber 4 and the fan filter units 5a, 5b, and 5c. They are introduced into the clean room areas 3a, 3b and 3c, respectively. A part of the circulating air is discharged out of the clean room system by the exhaust device 23 or the like.
[0020]
In the clean room system of this embodiment, for example, precision electronic components are manufactured in the clean room region 3c, so that it is necessary to remove gaseous impurities from the air introduced into the clean room region 3c. Further, in the clean room region 3b, the chemical solution used in the room is converted into vapor to generate gaseous impurities. Therefore, it is necessary to remove the gaseous impurities from the return air that has passed through the clean room region 3b. On the other hand, it is not particularly necessary to remove gaseous impurities for the air introduced into the clean room region 3a and the return air that has passed through the clean room region 3c.
[0021]
Therefore, in the clean room system of this embodiment, the chemical filter 12 is attached only to the fan filter unit 5c disposed on the ceiling of the clean room region 3c, and the fan having the chemical filter 15 built in the floor of the clean room region 3b. Unit 6b is arranged. The external air conditioner 2 incorporates dry or wet gaseous impurity removal means 22.
[0022]
Therefore, according to the clean room system of this embodiment, the clean room regions 3a, 3b, and 3c divided by the partitions 20 and 21 have particulate impurities via the fan filter units 5a, 5b, and 5c arranged on the ceiling. Dust-free air that has been removed is introduced. In particular, clean air suitable for manufacturing precision electronic components and the like from which gaseous impurities have also been removed by the chemical filter 12 provided in the fan filter unit 5c is introduced into the clean room region 3c. Further, the gaseous impurities generated in the clean room region 3b are removed by the chemical filter 15 built in the fan unit 6b, and thus the gaseous impurities are not mixed into the return air supplied to the retane plenum chamber 7.
[0023]
Thus, according to the clean room system of this embodiment, in the clean room regions 3c and 3b where it is necessary to remove gaseous impurities from the introduced air and return air, the gaseous filter removing means is provided in the fan filter unit 5c and the fan unit 6b. In the clean room region 3a where removal of gaseous impurities is not necessary, there is no need to provide gaseous impurity removal means. Accordingly, it is possible to remove the gaseous impurities optimal for each zone, and it is possible to suppress unnecessary capital investment. Furthermore, by incorporating a dry or wet gaseous impurity removing means in the external air conditioner 2, gaseous impurities derived from outside air can also be removed.
[0024]
Next, FIG. 6 shows an embodiment of a clean room system having no partition. The clean room system of this embodiment has substantially the same configuration as the clean room system described above with reference to FIG. 5 except that no partition is provided between the clean room areas 3a, 3b, and 3c. Constituent elements similar to those in FIG. Thus, also in the clean room system of this embodiment, the clean room regions 3a, 3b, 3c are respectively introduced with dust-free air from which particulate impurities have been removed through the fan filter units 5a, 5b, 5c. . Then, clean air from which gaseous impurities are also removed by the chemical filter 12 of the fan filter unit 5c is introduced into the clean room region 3c, and gaseous impurities generated in the clean room region 3b are removed by the chemical filter 15 of the fan unit 6b. Will be. However, when the partition is omitted as in this embodiment, the gaseous impurity removing means such as a chemical filter is installed only in a part of the ceiling or floor of the clean room, so that the air in each of the clean room regions 3a, 3b, 3c A problem arises in that the flow velocity becomes non-uniform and the air flow in the room tends to be biased. Therefore, when the partition is omitted as in this embodiment, the fan filter unit 5c provided with the chemical filter 12 and the fan unit 6b incorporating the chemical filter 15 are configured to be adjustable so that these fan filter units can be adjusted. It is desirable to control the air flow rate of 5c and the fan unit 6b as appropriate so as to eliminate the bias of the air flow in the room and eliminate the disturbance of the air flow shape, the variation of the circulating air amount, and the partial shortage of the flow rate. Specifically, the rotational operation amount of the fan 10 built in the fan filter unit 5 or the fan 16 built in the fan unit 6 is preferably controlled using inverters 23 and 24.
[0025]
【The invention's effect】
According to the present invention, gaseous impurities can be removed in addition to particulate impurities in a clean room. In addition, by performing so-called zoning to remove gaseous impurities, it is possible to perform optimum cleaning according to the purpose, and it is rational and economical without requiring excessive equipment.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a clean room system. FIG. 2 is an explanatory diagram of a fan filter unit incorporating a chemical filter. FIG. 3 is an explanatory diagram of a fan unit in which a chemical filter is disposed in the vicinity of the upper portion of the fan. FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of a clean room system having a clean room area divided by partitions. FIG. 6 is a diagram showing an embodiment of a clean room system having no partitions. Explanation of]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Outside air intake path 2 Outside air conditioner 3 Clean room 4 Supply plenum chamber 5 Fan filter unit 6 Fan unit 7 Retan plenum chamber 8 Retan path 9 Exhaust path

Claims

サプライプレナムチャンバに供給された外気をクリーンルームの天井に複数配置したファンフィルタユニットを介してクリーンルーム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た還気を再びファンフィルタユニットを介してクリーンルーム内に導入するように構成したものにおいて、
前記クリーンルーム内に、導入される空気についてガス状不純物の除去が必要な領域と、導入される空気についてガス状不純物の除去が特に必要でない領域を備え、
前記導入される空気についてはガス状不純物の除去が必要な領域の天井に配置されているファンフィルタユニットのみにケミカルフィルタを装着し、
前記ケミカルフィルタは、ファンフィルタユニットに設けられたファンの上方に設置され、
前記ケミカルフィルタを装着したファンフィルタユニットの送風能力をインバータ制御により調節自在に構成したことを特徴とする、クリーンルームシステム。The outside air supplied to the supply plenum chamber is introduced into the clean room through a plurality of fan filter units arranged on the ceiling of the clean room, and the return air that has passed through the clean room is again introduced into the clean room through the fan filter unit. In what is configured in
In the clean room, a region where removal of gaseous impurities is necessary for the introduced air and a region where removal of gaseous impurities is not particularly necessary for the introduced air are provided,
For the introduced air, a chemical filter is attached only to the fan filter unit arranged on the ceiling of the area where the removal of gaseous impurities is necessary,
The chemical filter is installed above the fan provided in the fan filter unit,
A clean room system characterized in that the air blowing capacity of a fan filter unit equipped with the chemical filter is adjustable by inverter control .

クリーンルーム内を経た還気をクリーンルームの下方に設けられたレタンプレナムチャンバに供給し、その後、レタン経路を介して循環させ、再びクリーンルーム内に導入するように構成したものにおいて、In what is configured to supply the return air that has passed through the clean room to the retan plenum chamber provided below the clean room, and then circulate it through the retan route and introduce it again into the clean room.
前記クリーンルーム内に、ガス状不純物が発生するため還気についてガス状不純物の除去が必要な領域と、還気についてガス状不純物の除去が特に必要でない領域を備え、  In the clean room, a gaseous impurity is generated, a region where the removal of gaseous impurity is necessary for the return air, and a region where the removal of the gaseous impurity is not particularly necessary for the return air,
前記還気についてガス状不純物の除去が必要な領域にケミカルフィルタを内蔵するファンユニットを配置し、  A fan unit with a built-in chemical filter is disposed in an area where gaseous impurities need to be removed with respect to the return air,
前記ファンユニットは、クリーンルーム内からの還気を取り入れるためのホッパーにケミカルフィルタを配置した構成であり、  The fan unit has a configuration in which a chemical filter is arranged in a hopper for taking in return air from the clean room.
前記ケミカルフィルタを内蔵したファンユニットの送風能力をインバータ制御により調節自在に構成したことを特徴とする、クリーンルームシステム。  A clean room system characterized in that the air blowing capacity of a fan unit incorporating the chemical filter is adjustable by inverter control.