JP3675355B2 - Magnetic disk polishing fabric - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気ティスク研磨用の織物に関し、さらに詳しくは磁気ティスク製造工程においてディスク基板の表面に微細な凹凸溝を付けるテクスチャー加工に使用することのできる研磨用織物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子機器における磁気ヘッドは、磁気ディスク（磁気記憶媒体）に僅少な距離で対峙して、磁気ディスクに記憶された記録を読み取るように構成されている。
【０００３】
磁気ディスクの記憶容量は、磁気ヘッドとの間の距離、すなわち磁気ヘッドの磁気ディスク表面に対する浮上距離を極力小さくすることが技術課題の一つになっている。しかし、高速回転する磁気ディスクに磁気ヘッドを接近させ過ぎると、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触し、ヘッドクラッシュを起こしやすくなるという問題がある。
【０００４】
従来、上記ヘッドクラッシュを発生させることなく、磁気ヘッドの浮上距離を極力小さくする方法として、ディスク基板に磁気膜等を形成する前に、その基板面に微細な凹凸溝を付ける所謂テクスチャー加工をすることが行われている。
【０００５】
かかるテクスチャー加工は、一般に、ダイヤモンド、アルミナあるいはジルコニア等の砥粒を配合したスラリーを研磨用織物（研磨用テープ）を介して押圧することにより行われるが、この加工で得られる凹凸溝の表面粗さ（Ｒａ）が小さくなるほど、磁気ヘッドの浮上距離を小さくすることができるため、砥粒の粒径が次第に微細化し、平均粒径が０．５μｍ以下や、さらには０．２５μｍ以下のものが使用されるようになっている。
【０００６】
しかしながら、砥粒の粒度が微細になるにしたがって、従来から使用されていた研磨用織物（織物テープ）では、微小粒の砥粒を保持することが難しいため、十分な削り量（ＳＲ）が得られなくなり、凹凸溝が均一に分布した微細な表面粗さ（Ｒａ）を得ることが困難になっている。
【０００７】
このために磁気ヘッドの浮上距離の縮小にも限界があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、砥粒の粒度の大小にかかわらず十分な削り量（ＳＲ）を確保し得て、均一で微細な表面粗さ（Ｒａ）を呈するテクスチャー加工を可能にする磁気ディスクの研磨用織物を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の磁気ディクス研磨用織物は、以下の構成からなる。
【００１０】
すなわち、本発明の磁気ディクス研磨用織物は、少なくともヨコ糸が丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸からなり、該ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとともに、下記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）が２８００〜３８００である５枚以上の朱子織からなることを特徴とする磁気ディスク研磨用織物である。
【００１１】
ＣＦ＝√［タテ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×タテ糸密度（本／２５．４ｍｍ）＋√［ヨコ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×ヨコ糸密度（本／２５．４ｍｍ）……(1)
かかる本発明のように少なくともヨコ糸に実質的に丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする捲縮糸を使用し、特定のカバーファクター（ＣＦ）を有する５枚以上の朱子織に織製したことにより、粒度が微細な砥粒であっても研磨用織物表面に均一に保持することができるようになるのである。
【００１２】
したがって、十分な削り量（ＳＲ）の研磨が可能になり、ディスク基板の表面全体を均一で微細な表面粗さ（Ｒａ）に加工することができるようになったのである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の磁気ディクス研磨用織物は、少なくともヨコ糸が丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸からなり、該ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとともに、下記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）が２８００〜３８００ある５枚以上の朱子織からなる。
【００１４】
ＣＦ＝√［タテ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×タテ糸密度（本／２５．４ｍｍ）＋√［ヨコ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×ヨコ糸密度（本／２５．４ｍｍ）……(1)
ここで、極細フィラメント繊維とは、単繊維繊度０．８ｄｔｅｘ以下のものであることをいう。また、主体とするとは、ポリエステル極細フィラメント繊維が８０％以上を占めることであることを言う。
【００１５】
また、本発明において、非捲縮糸とは、未延伸糸を延伸したもので、仮ヨリ加工等の捲縮加工を実質的に施していないものである糸を言う。
【００１６】
また、ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとは、該織物表面上にヨコ糸がタテ糸よりも多い状態であることを言い、該状態は、該織物の表面において、光沢があり、かつ滑らかとなる効果となって表れるものである。
【００１７】
また、タテ糸総繊度とは、織物１インチ間のタテ糸本数×タテ糸１本の繊度であり、ヨコ糸総繊度とは、織物１インチ間のヨコ糸本数×ヨコ糸１本の繊度である。
【００１８】
図１は、本発明にかかる研磨用織物を用いて磁気ディスク用の基板をテクスチャー加工する場合を例示したモデル外観図であり、同図において、（Ａ）は正面外観図、（Ｂ）は側面外観図である。
【００１９】
磁気ディスク用の基板１は、駆動軸に支持され、矢印方向に回転駆動されるようになっている。このように駆動軸に支持された基板１の両側面に、本発明のテープ状にした研磨用織物Ｆがゴムローラ２を介して押圧され、かつその研磨用織物Ｆと基板１との間に砥粒配合のスラリーを介在させるようにしてテクスチャー加工がされる。基板１は、磁気ディスクに使用されるものであれば良く、特に限定されないが、一般にアルミニウムを基板とし、その表面がニッケルメッキにより硬化され、さらにその上が研磨されて平滑化されたものを使用することが通常である。
【００２０】
テープ状の研磨用織物Ｆは、特に限定されないが、例えば、広幅の織物からタテ糸方向に一定幅に裁断されてなるものであり、供給リール３にロール状に巻き上げられて使用される。研磨用織物Ｆは、供給リール３から一定速度で引き出されながらゴムローラ２に至る途中で、スラリー供給ノズル５から砥粒を配合したスラリーを塗布され、次いでゴムローラ２により基板１の表面に押圧されることにより、回転する基板１の表面に微細な凹凸溝を研磨形成して、回収ローラ４に巻き取られる。
【００２１】
本発明にかかる磁気ディスク研磨用織物は、ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うように５枚以上のバックサテン（朱子織）に織製されている。
【００２２】
好ましくは５〜１１枚の朱子織が使用される。５枚以上の朱子織は、ヨコ糸が表面に長く浮いた状態になって布面を覆うため、このヨコ糸がタテ糸との組織点を隠して平滑化表面を形成し、砥粒を全面に均一分布するように保持することができる。すなわち、ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆っている状態は、朱子織物組織にすることにより、実現することができる。
【００２３】
このように５枚以上の朱子織からなる研磨用織物は、長手方向（タテ糸方向）に沿って所定幅のテープ状に切り出されて使用され、図１に例示したように、その長手方向（タテ糸方向）をディスク基板の周方向に沿わせるように配置され、ヨコ糸が基板の回転方向に対して略直交した関係にする。
【００２４】
このようにヨコ糸を基板の回転方向に略直交する配置にして用いることによれば、微細な粒度の砥粒を織物表面に保持し、かつヨコ糸の長さ方向全体に均一に分布させることができるのである。
【００２５】
所定幅に切り出されたテープの幅は、特に限定されるものではないが、一般的にはディスク基板の大きさに応じて３８ｍｍ幅や４５ｍｍ幅にしたものが使用される。一般に、テープの長さは５０ｍから１５０ｍのものが使用され、図１に例示したように供給リールにロール状に巻き上げられ、その供給リールから一定速度で繰り出しながら研磨加工に供される。
【００２６】
研磨織物は５枚以上の朱子織の構成であるため、ヨコ糸に砥粒配合のスラリーをしっかりと保持しやすくすることができる。また、このスラリーの保持効果を良好にするために、該朱子織物は前記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）を２８００〜３８００の範囲にすることが重要である。
【００２７】
さらに好ましくは、ヨコ糸の総繊度をタテ糸の総繊度の１．５〜１０倍にするとよい。カバーファクターを上記範囲にすることにより、ヨコ糸の配列を隙間のない状態にし、実質的にヨコ糸によって織物全体を覆った状態にするため、砥粒の保持が織物全体により均一になり、ディスク基板の研磨により有効に作用させることができるからである。
【００２８】
カバーファクター（ＣＦ）が２８００よりも小さいと、スラリーをヨコ糸がしっかりと保持させることが難しくなり、またカバーファクター（ＣＦ）が３８００よりも大きいと、スラリーがヨコ糸に均一に保持されなくなるため、ディスク基板を均一で微細な表面粗さＲａにテクスチャー加工することが難しくなる。
【００２９】
本発明において、タテ糸に使用される繊維は、特に限定されず、通常の衣料用等に使用されるポリエステル繊維やナイロン繊維も使用可能である。また、繊維の繊度や断面形状も任意であってもよい。もちろん、ヨコ糸と同一繊維を使用するようにしてもよい。
【００３０】
しかし、少なくてもヨコ糸は、実質的に丸形断面を有し、かつポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸を使用する必要がある。実質的に丸形断面を有するとは、丸形口金で紡糸したものである。
【００３１】
ここで、ポリエステル極細フィラメント繊維が主体の非捲縮糸とは、ポリエステル極細フィラメント繊維単独からなる非捲縮糸はもちろんであるが、ポリエステル極細フイラメント繊維を主成分として他の極細フィラメント繊維を混繊した糸条からなる非捲縮糸も含むことを意味する。混繊糸を使用する場合は、特にポリエステル繊維とナイロン繊維との混繊糸が好ましい。
【００３２】
ポリエステル繊維は、ナイロン繊維等に比べて大きな弾性率を有するため、ディスク基板に押圧した際の摩擦力に対して砥粒を保持し、その砥粒をディスク基板に対して大きな圧力で押し付けることができるので、研磨効率を増大することができる。
【００３３】
本発明の研磨用織物では、少なくてもヨコ糸の繊維断面は丸形であることにより、次のような作用効果を奏する。
【００３４】
すなわち、例えば、粒経分布が０．０１〜１μｍの砥粒を配合したスラリ−を使用する場合、０．１１ｄｔｅｘのポリエステル極細フィラメント繊維の径は３．２μｍであり、０．０１１ｄｔｅｘでは１０μｍであるから、砥粒の径は繊維径よりもはるかに小さい関係になっている。他方、スラリーが塗布された研磨用織物でディスク基板を研磨する工程を観察すると、砥粒は繊維にせき止められて研磨するのではなく、繊維とディスク基板との隙間にくさびが打ち込まれたように挟まれ、その隙間を押しのけて通過することにより基板表面を研磨する。
【００３５】
したがって、ヨコ糸を構成する繊維の断面が丸形であること、砥粒が繊維とディスク基板との隙間に挟持されやすくなり、基板表面の研磨効果がよい。
【００３６】
また、ヨコ糸に用いられるポリエステル極細フィラメント繊維は非捲縮糸であるが、割繊前の複合繊維は十分にリラックス熱水処理によって、充分に収縮させられた状態にあり、その状態で割繊するのがよい。割繊後にピンテンターにより適度な幅出ししながらセットすることにより、割繊の促進と極細フィラメント繊維のヨコ糸によって織物表面をより広い面積にて覆うことができる。割繊処理は液流染色機内で酸処理を行い、その後アルカリ処理により割繊するとよい。
【００３７】
また、ヨコ糸に用いるポリエステル極細フィラメント繊維は、実質的に無撚糸を使用することが好ましい。実撚糸であると、その螺旋によって砥粒が繊維の長手方向に流れやすくなり、上記と同様の問題があるからである。また、スラリーの含浸性が低下するため、砥粒の保持能力が低下するためである。ここで、実質的に無撚糸とは、延伸機で挿入される２０Ｔ／Ｍ以下の撚数しか持たない糸であることをいう。
【００３８】
上記極細フィラメント繊維の単繊維繊度としては、０．６ｄｔｅｘ以下がよく、さらに好ましくは０．１１ｄｔｅｘ以下であるのがよい。このような極細繊度のフィラメント繊維を使用することにより、粒度０．５μｍ以下の微細砥粒であってもヨコ糸に効率よく保持することができ、良好なテクスチャー加工を可能にする。
【００３９】
本発明において、該極細フィラメント繊維の製造方法は、特に限定されないが、好ましくは複合繊維の割繊糸を用いるのがよい。割繊される複合繊維としては、海島型繊維が好ましい。海島型繊維は、海成分を溶解除去して島成分を極細フィラメント繊維とするものであるが、海島型繊維は類似のポリマーを用いることで紡糸性を保持しながら、島成分を極細化しやすくする利点があるからである。
【００４０】
海島型繊維に用いるポリマーは、島成分にポリエステル、海成分に共重合ポリエステルを用いるのが好ましい。割繊後の島成分から得られる極細フィラメント繊維は、前述の如く断面は丸形がよいものである。
【００４１】
さらに、本発明に使用する研磨用織物には、タテ糸およびヨコ糸の少なくとも一方に制電性繊維を含ませることが好ましい。
【００４２】
すなわち、織物の製造過程では、摩擦帯電によって環境周辺の異物、ごみ、ほこりなどを吸い寄せ、織物表面や織物内部に抱き込むことがある。このような異物等はテクスチャー加工において均一な研磨を阻害する場合がある。しかし、上記のような制電性繊維を含有させておくと、摩擦帯電による異物の混入を大幅に低減することができる。
【００４３】
また、本発明に使用する研磨用織物は、表面をできるだけ平滑化することが好ましい。このように表面を平滑化することにより、研磨加工時の繊維とディスク基板との隙間に砥粒を保持しやすくし、一層優れたテクスチャー加工を可能にする。
【００４４】
このように織物表面を一層平滑にする方法としては、織物表面にカレンダー加工を施すことが好ましく、かつそのカレンダー加工の加工温度としては室温（２０℃）〜８０℃が好ましい。加工温度が１００℃を越えると織物表面に融着が発生するようになり、かえって平滑化が悪化する場合もあるので注意をするのがよい。
【００４５】
一般にカレンダー加工には、加熱、加圧により表面を平滑化するものであるが、本発明の研磨用織物の場合には、室温下で加圧するだけであっても十分に効果のある平滑化を行うことができる。これは、ヨコ糸の極細フィラメント繊維がタテ糸に拘束されずに織物表面により多く存在している（言わば「浮いている」）ので、該繊維群を平滑化することが少しのカレンダー加工で効果的に実現できるからである。上述のカレンダー加工は、織物の研磨面となるサイドにおいて加工効果が主として発揮される加工方式をとることが効果的であり好ましい。
【００４６】
【実施例】
以下に実施例と比較例を示すが、テクスチャー加工の研磨評価は次の方法にて行った。
（１）テクスチャー加工の研磨評価方法：
ハードディスク用アルミ基板を用い、その基板の回転数３００ｒｐｍ、研磨用織物テープの移動速度２ｃｍ／分とし、最大出現粒度０．５μｍのダイヤモンドを配合したスラリーを２０ｃｃ／分の条件で滴下しながら３０秒間研磨加工を行い、その加工後のディスク基板の表面粗さＲａ（平均）とスクラッチの有無を調べた。表面粗さ（Ｒａ）は＜次の基準に従い分類し評価した。
【００４７】
◎：表面粗さＲａが６オングストローム以下。
【００４８】
◯：表面粗さＲａが６オングストローム超で１０オングストローム以下。
【００４９】
×：表面粗さＲａが１０オングストローム超。
実施例１
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（生糸（なま糸）：捲縮のないストレートな糸）、丸断面、３３ｄｔｅｘ、総繊度１２フィラメントを用い、一方、ヨコ糸には、海島型繊維（海成分：テレフタル酸と５ナトリウムスルホイソフタル酸の共重合ポリエステル、島成分：ポリエステル１００％、７０本、海成分／島成分＝２０／８０）１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃えヨコ打ち込みして８枚バックサテン（朱子織）に製織した。
【００５０】
次いで、該８枚朱子織物を精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％の存在下にて８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００５１】
該海成分除去後の海島型繊維は７０本のポリエステル極細フィラメント繊維の割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘで、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００５２】
次いで、上記織物をピンテンターで１８０℃の条件でヒ−トセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１７４本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１３６本／２５．４ｍｍ、カバーファクターＣＦ＝３２３３）に仕上げた。
【００５３】
この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示した通り、表面粗さＲａは７オングストロームであり、結果は良好（○）であった。
実施例２
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（生糸（なま糸）、丸断面）５６ｄｔｅｘ、１８フィラメントを用い、またヨコ糸に実施例１と同じ組成の海島型繊維１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃え、ヨコ打ち込みして５枚バックサテン（朱子織）に製織した。
【００５４】
次いで、該５枚朱子織物を精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％の存在下にて８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００５５】
海成分除去後の海島型繊維は、７０本のポリエステル極細フィラメント糸繊維からなる割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘで、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００５６】
次いで、実施例と同じ条件でヒートセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１３７本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１１９本／２５．４ｍｍ、カバーファクター（ＣＦ）値＝２９８０）に仕上げた。
【００５７】
この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さＲａは８オングストロームであり、結果は良好（〇）であった。
実施例３
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（制電性生糸（なま糸）、丸形断面）５６ｄｔｅｘ、１８フィラメントを用い、ヨコ糸に実施例１と同じ組成の海島型繊維１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃えてヨコ打ち込みして１１枚バックサテン（朱子織）に製織した。
【００５８】
次いで該１１枚朱子織物を精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％存在下に８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００５９】
海成分除去後の海島型繊維は７０本のポリエステル極細フィラメント繊維からなる割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘで、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００６０】
次いで、上記織物を実施例１と同じ条件でヒートセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１４２本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１５９本／２５．４ｍｍ、カバーファクターＣＦ＝３６７４）に仕上げた。
【００６１】
この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さＲａは５オングストロームであった。結果は極めて良好（◎）であった。
比較例１
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（生糸、丸形断面）５６ｄｔｅｘ、１８フィラメントを用い、またヨコ糸に実施例１と同じ組成の海島型繊維１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃えてヨコ打ち込みし、５枚バックサテン（朱子織）に製織した。次いで精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％存在下に８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００６２】
海成分除去後の海島型繊維は７０本のポリエステル極細フィラメント繊維からなる割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘ（０．０７デニール）で、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００６３】
次いで、上記織物を実施例１と同じ条件でヒ−トセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１１０本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１００本／２５．４ｍｍ、カバーファクター（ＣＦ）値＝２４６６）に仕上げた。この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さ（Ｒａ）は１２オングストロームもあり、結果は良好なものとは言えなかった（×）。
比較例２
タテ糸とヨコ糸に、それぞれ実施例１と同じ組成の海島型繊維５６ｄｔｅｘ、９フィラメントの生糸を用いて、平織の製織した。次いで精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％存在下に、８０℃で３０分間アルカリ処理して海島型繊維の海成分を除去した。
【００６４】
次いで、上記平織物を実施例１と同じ条件でヒートセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１６８本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１２７本／２５．４ｍｍ、カバーファクター（ＣＦ）値＝２２０７）に仕上げた。この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さＲａは２４オングストロームもあり、結果は良好と言えず（×）、かつ多数のスクラッチが多発した。
【００６５】
【表１】

【００６６】
実施例４、５、６
実施例１で得られた布帛を、さらにローラ圧力３０ｔｏｎ／本、布速度１０ｍ／分として、加工温度をそれぞれ室温（２０℃）、６０℃および８０℃の３水準に異ならせてカレンダー加工した。
【００６７】
加工後の布帛表面は平滑化が向上し、それぞれテクスチャ−加工用研磨織物に使用して評価したところ、表２に示したとおりの結果が得られた。
【００６８】
いずれも加工後のディスク表面粗さ（Ｒａ）は、実施例１よりもさらに向上していて良好な研磨が実現できていた。
【００６９】
【表２】

【００７０】
【発明の効果】
上述したように本発明の研磨用織物によれば、磁気ディスク基板の面全体にわたり均一で微細な表面粗さ（Ｒａ）にテクスチャー加工することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明にかかる研磨用織物を用いて磁気ディスク用の基板をテクスチャー加工する場合を例示したモデル外観図であり、同図において、（Ａ）は正面外観図、（Ｂ）は側面外観図である。
【符号の説明】
１：基板
２：ゴムローラ
３：供給リール
４：回収リール
５：供給ノズル
Ｆ：研磨用織物[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a magnetic fabric for polishing a magnetic disk, and more particularly to a polishing fabric that can be used for texture processing in which fine concave and convex grooves are formed on the surface of a disk substrate in a magnetic disk manufacturing process.
[0002]
[Prior art]
A magnetic head in an electronic device is configured to face a magnetic disk (magnetic storage medium) at a small distance and read a record stored on the magnetic disk.
[0003]
As for the storage capacity of the magnetic disk, one of the technical problems is to minimize the distance from the magnetic head, that is, the flying distance of the magnetic head with respect to the magnetic disk surface. However, if the magnetic head is brought too close to the magnetic disk rotating at a high speed, there is a problem that the magnetic head comes into contact with the magnetic disk and head crushing easily occurs.
[0004]
Conventionally, as a method for reducing the flying distance of a magnetic head as much as possible without causing the head crash, so-called texture processing is performed in which a minute concave and convex groove is formed on a substrate surface before forming a magnetic film or the like on a disk substrate. Things have been done.
[0005]
Such texturing is generally performed by pressing a slurry containing abrasive grains such as diamond, alumina or zirconia through a polishing fabric (polishing tape). Since the flying height of the magnetic head can be reduced as the thickness (Ra) is reduced, the grain size of the abrasive grains is gradually refined, and the average grain size is 0.5 μm or less, or even 0.25 μm or less. It has come to be used.
[0006]
However, as the grain size of the abrasive grains becomes finer, it has been difficult to hold the fine abrasive grains in the conventionally used polishing fabric (woven tape), so that a sufficient amount of cutting (SR) can be obtained. It is difficult to obtain a fine surface roughness (Ra) in which uneven grooves are uniformly distributed.
[0007]
For this reason, there is a limit in reducing the flying distance of the magnetic head.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to polish a magnetic disk that can ensure a sufficient amount of cutting (SR) regardless of the grain size of the abrasive grains and enables texture processing that exhibits uniform and fine surface roughness (Ra). It is to provide a woven fabric.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The magnetic disk polishing fabric of the present invention that achieves the above object has the following configuration.
[0010]
That is, the magnetic disk polishing fabric of the present invention comprises at least a non-crimped yarn mainly composed of polyester ultrafine filament fibers having a round cross section, and the weft yarn covers the surface in a wider area than the warp yarn. A magnetic disk polishing fabric comprising five or more satin weaves having a cover factor (CF) defined by the following formula (1) of 2800 to 3800.
[0011]
CF = √ [total fineness of warp yarn (dtex)] × warp yarn density (main / 25.4 mm) + √ [total fineness of weft yarn (dtex)] × weft yarn density (main / 25.4 mm) …… (1)
As in the present invention, a crimped yarn mainly composed of polyester filaments having a substantially round cross section is used as at least the weft yarn, and woven into five or more satin weaves having a specific cover factor (CF). As a result, even if the grain size is fine, it can be held uniformly on the surface of the polishing fabric.
[0012]
Therefore, a sufficient amount of grinding (SR) can be polished, and the entire surface of the disk substrate can be processed into a uniform and fine surface roughness (Ra).
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The magnetic disk polishing fabric of the present invention comprises at least a non-crimped yarn mainly composed of polyester ultrafine filament fibers having a round cross section, and the weft yarn covers the surface in a wider area than the warp yarn, It consists of five or more satin weaves with a cover factor (CF) defined by equation (1) of 2800-3800.
[0014]
CF = √ [total fineness of warp yarn (dtex)] × warp yarn density (main / 25.4 mm) + √ [total fineness of weft yarn (dtex)] × weft yarn density (main / 25.4 mm) …… (1)
Here, the ultrafine filament fiber means a fiber having a single fiber fineness of 0.8 dtex or less. Further, “mainly” means that the polyester extra fine filament fiber occupies 80% or more.
[0015]
Further, in the present invention, the non-crimped yarn refers to a yarn obtained by drawing an undrawn yarn and substantially not subjected to crimping processing such as temporary twisting.
[0016]
Further, the fact that the weft yarn covers the surface with a larger area than the warp yarn means that there are more weft yarns on the surface of the fabric than the warp yarn, and this state indicates that the surface of the fabric is glossy. There is a smooth and smooth effect.
[0017]
The total warp yarn fineness is the number of warp yarns per inch of fabric x the warp size of one warp yarn. The total weft yarn size is the number of weft yarns per inch of the fabric x the size of one weft yarn. is there.
[0018]
FIG. 1 is a model external view illustrating a case where a magnetic disk substrate is textured using the polishing fabric according to the present invention, in which (A) is a front external view, and (B) is a side view. It is an external view.
[0019]
The magnetic disk substrate 1 is supported by a drive shaft and is driven to rotate in the direction of the arrow. Thus, the tape-like polishing fabric F of the present invention is pressed through the rubber roller 2 on both side surfaces of the substrate 1 supported by the drive shaft, and an abrasive is provided between the polishing fabric F and the substrate 1. Texture processing is performed so as to interpose a slurry containing grains. The substrate 1 is not particularly limited as long as it is used for a magnetic disk. Generally, aluminum is used as a substrate, the surface of which is hardened by nickel plating, and the surface thereof is polished and smoothed. It is normal to do.
[0020]
The tape-like polishing fabric F is not particularly limited, and is, for example, cut from a wide-width fabric into a certain width in the warp yarn direction, and is wound on the supply reel 3 in a roll shape and used. The polishing fabric F is applied with a slurry mixed with abrasive grains from the slurry supply nozzle 5 while being pulled out from the supply reel 3 at a constant speed, and then pressed against the surface of the substrate 1 by the rubber roller 2. As a result, fine concave and convex grooves are polished and formed on the surface of the rotating substrate 1 and wound around the collection roller 4.
[0021]
The magnetic disk polishing fabric according to the present invention is woven into five or more back satins (a satin weave) so that the weft yarn covers the surface with a larger area than the warp yarn.
[0022]
Preferably 5 to 11 satin weaves are used. 5 or more satin weaves have a weft that floats on the surface for a long time to cover the fabric surface, so that the weft yarn hides the texture points of the warp yarn and forms a smooth surface, and the abrasive grains are spread over the entire surface. So that it can be uniformly distributed. That is, the state in which the weft yarn covers the surface with a larger area than the warp yarn can be realized by forming a satin fabric structure.
[0023]
In this way, the polishing fabric composed of five or more satin weaves is cut into a tape having a predetermined width along the longitudinal direction (warp yarn direction) and used as illustrated in FIG. The warp yarn direction) is arranged along the circumferential direction of the disk substrate so that the weft yarn is substantially orthogonal to the rotation direction of the substrate.
[0024]
By using the weft in an arrangement substantially orthogonal to the rotation direction of the substrate in this way, it is possible to hold fine-grained abrasive grains on the surface of the fabric and distribute it uniformly throughout the length of the weft. Can do it.
[0025]
The width of the tape cut out to a predetermined width is not particularly limited, but generally a tape having a width of 38 mm or 45 mm is used depending on the size of the disk substrate. In general, tapes having a length of 50 to 150 m are used, and are wound on a supply reel in a roll shape as illustrated in FIG. 1, and are subjected to polishing while being fed out from the supply reel at a constant speed.
[0026]
Since the abrasive woven fabric has a structure of five or more satin weaves, it is possible to easily hold the slurry containing the abrasive grains in the weft. In order to improve the holding effect of the slurry, it is important that the satin fabric has a cover factor (CF) defined by the above formula (1) in the range of 2800 to 3800.
[0027]
More preferably, the total fineness of the weft yarn is 1.5 to 10 times the total fineness of the warp yarn. By setting the cover factor within the above range, the arrangement of the weft yarn is free of gaps, and the weft yarn is substantially covered with the entire weaving yarn, so that the retention of the abrasive grains becomes uniform throughout the fabric, and the disk This is because the substrate can be effectively worked by polishing.
[0028]
If the cover factor (CF) is smaller than 2800, it will be difficult to hold the slurry firmly on the weft, and if the cover factor (CF) is larger than 3800, the slurry will not be uniformly held on the weft. It becomes difficult to texture the disk substrate to a uniform and fine surface roughness Ra.
[0029]
In the present invention, the fibers used for the warp yarn are not particularly limited, and polyester fibers and nylon fibers used for ordinary clothing and the like can also be used. Further, the fineness and cross-sectional shape of the fiber may be arbitrary. Of course, the same fiber as the weft may be used.
[0030]
However, at least the weft yarn has a substantially round cross section, and it is necessary to use a non-crimped yarn mainly composed of polyester extra fine filament fibers. Having a substantially round cross section means spinning with a round die.
[0031]
Here, the non-crimped yarn mainly composed of polyester extra-fine filament fibers is not limited to non-crimped yarns made of polyester extra-fine filament fibers alone, but is mixed with other extra-fine filament fibers based on polyester extra-fine filament fibers. It also means that non-crimped yarns consisting of finished yarns are included. When using a mixed fiber, a mixed fiber of polyester fiber and nylon fiber is particularly preferable.
[0032]
Polyester fiber has a larger elastic modulus than nylon fiber, etc., so that it can hold abrasive grains against the frictional force when pressed against the disk substrate and press the abrasive grains against the disk substrate with a large pressure. Therefore, the polishing efficiency can be increased.
[0033]
In the polishing fabric of the present invention, at least the cross section of the weft yarn is round, so that the following effects can be obtained.
[0034]
That is, for example, when using a slurry in which abrasive grains having a particle size distribution of 0.01 to 1 μm are used, the diameter of the 0.11 dtex polyester ultrafine filament fiber is 3.2 μm, and 0.011 dtex is 10 μm. Therefore, the diameter of the abrasive grains is much smaller than the fiber diameter. On the other hand, when observing the process of polishing the disk substrate with the polishing fabric coated with the slurry, the abrasive grains were not damped by the fibers and polished, but a wedge was driven into the gap between the fibers and the disk substrate. The substrate surface is polished by being sandwiched and passing through the gap.
[0035]
Therefore, the cross-section of the fibers constituting the weft yarn is round, and the abrasive grains are easily sandwiched between the fibers and the disk substrate, so that the substrate surface is effectively polished.
[0036]
The polyester ultrafine filament fiber used for the weft is a non-crimped yarn, but the composite fiber before splitting is sufficiently shrunk by a relaxed hot water treatment, and the split fiber is in that state. It is good to do. By setting the fibers while splitting them appropriately with a pin tenter after splitting, the surface of the fabric can be covered in a wider area with the promotion of splitting and the weft of ultrafine filament fibers. The split fiber treatment is preferably performed by acid treatment in a liquid dyeing machine and then split by alkali treatment.
[0037]
Moreover, it is preferable that the polyester extra fine filament fiber used for the weft is substantially a non-twisted yarn. This is because when the yarn is a real twisted yarn, the abrasive grains easily flow in the longitudinal direction of the fiber due to the spiral, and there is a problem similar to the above. Moreover, since the impregnation property of the slurry is lowered, the holding ability of the abrasive grains is lowered. Here, the substantially non-twisted yarn means a yarn having only a twist number of 20 T / M or less inserted by a drawing machine.
[0038]
The single fiber fineness of the ultrafine filament fiber is preferably 0.6 dtex or less, more preferably 0.11 dtex or less. By using filament fibers having such an ultrafine fineness, even fine abrasive grains having a particle size of 0.5 μm or less can be efficiently held on the weft yarn, and good texture processing is possible.
[0039]
In the present invention, the method for producing the ultrafine filament fiber is not particularly limited, but it is preferable to use a split fiber of a composite fiber. As the composite fiber to be split, a sea-island type fiber is preferable. Sea-island fibers are those that dissolve and remove sea components to make island components ultrafine filament fibers, but sea-island fibers use a similar polymer to make the island components easy to ultrafine while maintaining spinnability. Because there is an advantage.
[0040]
The polymer used for the sea-island fiber preferably uses polyester for the island component and copolymer polyester for the sea component. The ultrafine filament fiber obtained from the island component after splitting has a good cross-section as described above.
[0041]
Furthermore, it is preferable that the polishing fabric used in the present invention contains antistatic fibers in at least one of the warp yarn and the weft yarn.
[0042]
In other words, in the process of manufacturing a fabric, there are cases where foreign matter, dust, dust, and the like around the environment are sucked up by frictional charging and are held in the fabric surface or inside the fabric. Such foreign matters may hinder uniform polishing in texture processing. However, if the antistatic fiber as described above is contained, contamination of foreign matters due to frictional charging can be greatly reduced.
[0043]
The polishing fabric used in the present invention is preferably as smooth as possible on the surface. By smoothing the surface in this way, it becomes easier to hold the abrasive grains in the gap between the fiber and the disk substrate at the time of polishing, and a more excellent texture processing is possible.
[0044]
Thus, as a method of further smoothing the surface of the fabric, it is preferable to calender the surface of the fabric, and the calendering processing temperature is preferably room temperature (20 ° C.) to 80 ° C. When the processing temperature exceeds 100 ° C., fusion occurs on the surface of the woven fabric, and smoothing may be worsened.
[0045]
In general, the calendering process involves smoothing the surface by heating and pressing. However, in the case of the polishing fabric of the present invention, smoothing that is sufficiently effective even by pressing at room temperature is sufficient. It can be carried out. This is because there are more weft filament fibers on the surface of the fabric without being bound by the warp yarn (in other words, “floating”), so smoothing the fiber group is effective with little calendering. This is because it can be realized. The above-described calendar processing is effective and preferable to adopt a processing method in which the processing effect is mainly exhibited on the side that becomes the polishing surface of the fabric.
[0046]
【Example】
Although an Example and a comparative example are shown below, polishing evaluation of texture processing was performed by the following method.
(1) Polishing evaluation method for texture processing:
Using an aluminum substrate for a hard disk, rotating the substrate at 300 rpm, moving the polishing fabric tape at a speed of 2 cm / min, and dropping a slurry containing diamond having a maximum appearance particle size of 0.5 μm at a rate of 20 cc / min for 30 seconds. Polishing was performed, and the surface roughness Ra (average) of the disk substrate after the processing and the presence or absence of scratches were examined. The surface roughness (Ra) was classified and evaluated according to the following criteria.
[0047]
A: Surface roughness Ra is 6 angstroms or less.
[0048]
◯: Surface roughness Ra is more than 6 angstrom and less than 10 angstrom.
[0049]
X: Surface roughness Ra is more than 10 angstroms.
Example 1
Polyester multifilament yarn (raw yarn: straight yarn without crimp), round cross section, 33 dtex, total fineness 12 filaments are used for warp yarn, while sea island type fiber (sea component: sea component: Copolyester of terephthalic acid and 5-sodium sulfoisophthalic acid, island component: 100% polyester, 70 pieces, sea component / island component = 20/80) 135 dtex, 18 filaments are aligned and 8 pieces are back-filled Weaved into (shoku weave).
[0050]
Next, the eight satin woven fabrics were refined and then subjected to an alkali treatment at 80 ° C. for 30 minutes in the presence of 30% by weight of sodium hydroxide to remove sea components of sea-island type fibers.
[0051]
The sea-island fiber after removal of the sea component was a split fiber of 70 polyester ultrafine filament fibers, the single fiber fineness was 0.08 dtex, and the single fiber cross-sectional shape was round.
[0052]
The fabric is then heat-set with a pin tenter under conditions of 180 ° C., and finished to a fabric with a width of 152 cm (warp yarn density: 174 yarns / 25.4 mm, weft yarn density of 136 yarns / 25.4 mm, cover factor CF = 3233). It was.
[0053]
Table 1 shows the evaluation results of using this fabric as a textured abrasive fabric. As shown in Table 1, the surface roughness Ra was 7 Å, and the result was good (◯).
Example 2
Polyester multifilament yarn (raw yarn, round cross section) 56 dtex, 18 filaments are used for warp yarn, and sea island type fibers 135 dtex, 18 filaments of the same composition as Example 1 are aligned on the weft yarn. It was driven and woven into 5 back satin (shushi weave).
[0054]
Next, the five satin woven fabrics were refined and then subjected to an alkali treatment at 80 ° C. for 30 minutes in the presence of 30% by weight of sodium hydroxide to remove sea components of sea-island type fibers.
[0055]
The sea-island fiber after removal of the sea component was a split fiber composed of 70 polyester ultrafine filament yarn fibers, the single fiber fineness was 0.08 dtex, and the single fiber cross-sectional shape was round.
[0056]
Subsequently, heat setting was performed under the same conditions as in the example, and a fabric having a width of 152 cm (warp yarn density: 137 yarns / 25.4 mm, weft yarn density of 119 yarns / 25.4 mm, cover factor (CF) value = 2980) was finished.
[0057]
Table 1 shows the evaluation results of using this fabric as a textured abrasive fabric. As shown in Table 1, the surface roughness Ra was 8 Å, and the result was good (◯).
Example 3
Polyester multifilament yarn (antistatic raw yarn (round yarn), round cross section) 56 dtex, 18 filament is used for warp yarn, and sea island type fiber 135 dtex, 18 filament of the same composition as Example 1 is drawn on the horizontal yarn. We knitted and knitted into 11 back satin (shoku weave).
[0058]
Next, the eleven pieces of satin woven fabric were refined, and then subjected to an alkali treatment at 80 ° C. for 30 minutes in the presence of 30% by weight of sodium hydroxide to remove sea components of sea-island type fibers.
[0059]
The sea-island fiber after removal of the sea component was a split fiber composed of 70 polyester ultrafine filament fibers, the single fiber fineness was 0.08 dtex, and the single fiber cross-sectional shape was round.
[0060]
Next, the woven fabric was heat-set under the same conditions as in Example 1, and finished into a fabric having a width of 152 cm (warp yarn density 142 / 25.4 mm, weft yarn density 159 / 25.4 mm, cover factor CF = 3674). .
[0061]
Table 1 shows the evaluation results of using this fabric as a textured abrasive fabric. As shown in Table 1, the surface roughness Ra was 5 angstroms. The result was very good (◎).
Comparative Example 1
Polyester multifilament yarn (raw yarn, round cross-section) 56 dtex, 18 filaments is used for the warp yarn, and sea island-type fibers 135 dtex, 18 filaments having the same composition as in Example 1 are drawn on the weft yarn, and the yarns are driven in a horizontal direction. Weaved into a sheet back satin (shoku weave). Then, after refining, it was subjected to an alkali treatment at 80 ° C. for 30 minutes in the presence of 30% by weight of sodium hydroxide to remove sea components of sea-island type fibers.
[0062]
The sea-island fiber after removal of the sea component was a split fiber composed of 70 polyester ultrafine filament fibers, the single fiber fineness was 0.08 dtex (0.07 denier), and the single fiber cross-sectional shape was round.
[0063]
Next, the woven fabric was heat set under the same conditions as in Example 1, and a fabric having a width of 152 cm (warp yarn density: 110 yarns / 25.4 mm, weft yarn density of 100 yarns / 25.4 mm, cover factor (CF) value = 2466. ) Finished. Table 1 shows the evaluation results of using this fabric as a textured abrasive fabric. As shown in Table 1, the surface roughness (Ra) was 12 angstroms, and the result was not good (×).
Comparative Example 2
Plain warp and weft yarn were woven using plain and plain sea-island fibers 56 dtex and 9 filaments having the same composition as in Example 1, respectively. Then, after refining, the sea component of the sea-island fiber was removed by alkali treatment at 80 ° C. for 30 minutes in the presence of 30% by weight of sodium hydroxide.
[0064]
Next, the above plain woven fabric was heat-set under the same conditions as in Example 1, and a fabric having a width of 152 cm (warp yarn density: 168 yarns / 25.4 mm, weft yarn density of 127 yarns / 25.4 mm, cover factor (CF) value = 2207 ) Finished. Table 1 shows the evaluation results of using this fabric as a textured abrasive fabric. As shown in Table 1, the surface roughness Ra was 24 angstroms, the result was not good (x), and many scratches occurred frequently.
[0065]
[Table 1]

[0066]
Examples 4, 5, and 6
The fabric obtained in Example 1 was further calendered with a roller pressure of 30 ton / cloth, a fabric speed of 10 m / min, and processing temperatures of 3 levels of room temperature (20 ° C.), 60 ° C. and 80 ° C., respectively.
[0067]
The surface of the fabric after processing was improved in smoothness, and each of the fabric surfaces was evaluated using a textured abrasive fabric. As a result, the results shown in Table 2 were obtained.
[0068]
In both cases, the disk surface roughness (Ra) after processing was further improved as compared with Example 1, and good polishing could be realized.
[0069]
[Table 2]

[0070]
【The invention's effect】
As described above, according to the polishing fabric of the present invention, the entire surface of the magnetic disk substrate can be textured to have a uniform and fine surface roughness (Ra).
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a model external view illustrating a case where a magnetic disk substrate is textured using the polishing fabric according to the present invention, in which FIG. 1 (A) is a front external view; B) is a side external view.
[Explanation of symbols]
1: Substrate 2: Rubber roller 3: Supply reel 4: Collection reel 5: Supply nozzle F: Polishing fabric

Claims (8)

少なくともヨコ糸が丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸からなり、該ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとともに、下記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）が２８００〜３８００である５枚以上の朱子織からなることを特徴とする磁気ディスク研磨用織物。
ＣＦ＝√［タテ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×タテ糸密度（本／２５．４ｍｍ）＋√［ヨコ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×ヨコ糸密度（本／２５．４ｍｍ）……(1)At least the weft yarn is a non-crimped yarn mainly composed of polyester microfilament fibers with a round cross section, and the weft yarn covers the surface in a larger area than the warp yarn, and the cover factor defined by the following formula (1) ( A magnetic disk polishing fabric comprising 5 or more satin weaves having a CF) of 2800 to 3800.
CF = √ [total fineness of warp yarn (dtex)] × warp yarn density (main / 25.4 mm) + √ [total fineness of weft yarn (dtex)] × weft yarn density (main / 25.4 mm) …… (1) 前記ヨコ糸が、実質的に無撚糸であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク研磨用織物。2. The magnetic disk polishing fabric according to claim 1, wherein the weft yarn is substantially a non-twisted yarn. 前記ヨコ糸の総繊度が前記タテ糸の総繊度の１．５〜１０倍であることを特徴とする請求項１または２記載の磁気ディスク研磨用織物。3. The magnetic disk polishing fabric according to claim 1, wherein the total fineness of the weft yarn is 1.5 to 10 times the total fineness of the warp yarn. 前記ポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸が複合繊維の割繊糸からなり、割繊後の単繊維繊度が０．６ｄｔｅｘ以下であることを特徴とする請求項１、２または３に記載の磁気ディスク研磨用織物。The non-crimped yarn mainly composed of the polyester ultrafine filament fiber is composed of a split fiber of a composite fiber, and the single fiber fineness after split fiber is 0.6 dtex or less. The magnetic disk polishing fabric as described. 前記複合繊維が海島型の割繊糸であることを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク研磨用織物。The magnetic disk polishing fabric according to claim 4, wherein the composite fiber is a sea-island type split fiber. 前記ポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸が、ポリエステル繊維単独であるかまたはポリエステル繊維とナイロン繊維との混繊糸であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ディスク研磨用織物。The non-crimped yarn mainly composed of the polyester ultrafine filament fiber is a polyester fiber alone or a mixed yarn of polyester fiber and nylon fiber, according to any one of claims 1 to 5. Fabric for polishing magnetic disks. 前記タテ糸およびヨコ糸の少なくとも一方が制電性繊維を含んでいることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の磁気ディスク研磨用織物。The magnetic disk polishing fabric according to any one of claims 1 to 6, wherein at least one of the warp yarn and the weft yarn includes antistatic fibers. 研磨面である織物表面がカレンダー加工で平滑化されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の磁気ディスク研磨用織物。8. The magnetic disk polishing fabric according to claim 1, wherein the surface of the fabric that is a polishing surface is smoothed by calendering.

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