JP3648791B2 - 多層膜反射鏡の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明はX線望遠鏡、X線レーザー、X線リソグラフィー、その他各種X線分析装置等にて用いられる多層膜反射鏡の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
X線領域の光に対する物質の複素屈折率は、n=1−δ−ik(δ、k:実数、kはX線の吸収を示す)で表され、δ、kとも1に比べて非常に小さい。そのため、X線領域では可視光領域のような屈折を利用したレンズは利用できない。そこで、反射を利用した光学系が用いられる。
【0003】
しかし、全反射臨界角θc(波長10nmで20゜程度以下)よりも垂直に近い入射角では、反射率が非常に小さいので、界面の振幅反射率がなるべく高い物質の組み合わせを何層も積層することにより、反射面を多数(例えば数百層も)設けて、それぞれの反射波の位相が合うように、光学干渉理論に基づいて各層の厚さを調整した多層膜反射鏡が用いられる。
【0004】
より具体的に説明すれば、多層膜反射鏡は、使用するX線波長における屈折率と真空の屈折率(=1)との差が小さい物質層(第1層)と、差の大きい物質層(第2層)とを交互に多数回積層することによって得られる。
その代表例として、W(タングステン)/C(炭素)、Mo(モリブデン)/Si(シリコン)などの組み合わせが従来から知られており、スパッタリング、真空蒸着、CVD(Chemical Vapor Deposition)などの薄膜形成技術により形成されている。
【0005】
多層膜反射鏡は、X線を垂直に反射することもできるので、全反射を利用した斜入射光学系よりも収差の小さい光学系を構成することができる。また、多層膜反射鏡は、ブラッグの式:2dsinθ=mλ(d:多層膜の周期長、θ:斜入射角、λ:X線の波長、m:正の整数)を満たすときのみX線を強く反射するので、波長選択性を有する。なお、dは前記屈折率の差が小さい物質層と大きい物質層を各1層ずつ積層した積層体の層厚(膜厚)に相当する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
多くの薄膜は内部応力を有しており、反射鏡に用いる多層膜も例外ではない。即ち、基板に多層膜を形成すると、多層膜の内部応力により基板が変形してしまい、多層膜反射鏡の光学特性が劣化するという問題点があった。
円板状の基板に薄膜を形成する場合、その内部応力σは
σ=E・ts 2 ・δ/{3(1−ν)tf ・(D/2)2 }
と表される。ここで、Eは基板のヤング率、νは基板のポアソン比、ts は基板の厚さ、tf は薄膜の厚さ、Dは基板の直径、δは薄膜形成前後での基板のそりの変化量である。
【0007】
例えば、基板として石英を用いた場合には、E/(1−ν)=93.7GPaとなり、基板としてSi(100)を用いた場合には、E/(1−ν)=180 GPaとなる。
ここで、基板の厚さを15mm、直径を80mmとし、該基板に厚さ300
nmの多層膜を形成したとする。多層膜の内部応力が500MPaのとき、該基板中央部での突出、またはへこみといった基板のそり変化量は、石英基板の場合に約35nm、Si(100)基板の場合に約20nmとなる。
【0008】
このような基板形状の変化は、多層膜反射鏡の光学特性を劣化させてしまうので大きな問題点となる。
本発明は、かかる問題点に鑑みて成されたものであり、多層膜反射鏡の光学特性劣化の原因となる、多層膜の内部応力による基板変形を低減または解消した多層膜反射鏡を製造する方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
【0010】
そのため、本発明は第一に「基板上に、軟X線領域の光に対する屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質の層と大きい物質の層とを交互に複数回積層して、引張り応力を有する交互多層膜を形成することにより、多層膜反射鏡を製造する方法において、
前記基板として、前記多層膜の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有する材料からなる基板を使用し、かつ該基板を加熱しながら前記多層膜を形成した後、これを冷却して多層膜使用時の状態とすることにより、製造される多層膜反射鏡の基板変形を解消または低減することを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法(請求項1)」を提供する。
【0011】
また、本発明は第二に「前記屈折率の差が小さい物質としてSiまたはSi化合物を用い、大きい物質としてMoを用いることを特徴とする請求項1記載の多層膜反射鏡の製造方法(請求項2)」を提供する。
【0012】
【作用】
ある物体を加熱すると、該物体は膨張してその体積が増加する。その増加量は温度変化量および該物体を構成する物質の熱膨張率の値に依存する。
熱膨張率が相対的に小さい物質からなる板(以下、第1板と称する)と熱膨張率が相対的に大きい物質からなる板(以下、第2板と称する)を貼り合わせて合板とし、これを加熱すると、第1板よりも第2板の方が大きく体積変化するので、第2板を外側に第1板を内側にして、合板は反ってしまう。
【0013】
また、第1板及び第2板を加熱した状態で貼り合わせて合板とした後、これを冷却すれば、熱膨張率が相対的に大きい第2板の方が第1板よりも温度低下(冷却)による収縮量が大きいので、第2板を内側に第1板を外側にして、合板は反ってしまう。この現象はバイメタル効果と呼ばれ、この熱膨張率の差により発生する応力を熱応力という。
【0014】
多層膜反射鏡は、基板上に異なる2種類の物質を交互に複数回積層して交互多層膜(以下、単に多層膜と称する)を形成したものであり、基板形状は多層膜が有する応力により元(多層膜成膜前)の形状から変化する。
多層膜が圧縮応力を有する場合には、基板は多層膜成膜前の形状と比べて凸に変化し、多層膜が引っ張り応力をを有する場合には、基板は多層膜成膜前の形状と比べて凹に変化する。
【0015】
そこで、多層膜が圧縮応力を有する場合には、基板として、多層膜の熱膨張率よりも小さい熱膨張率を有する材料からなる基板を使用し、かつ該基板を加熱しながら前記多層膜を形成した後、これを冷却して多層膜使用時の状態とすることにより、多層膜反射鏡を製造することとした。
このようにして多層膜反射鏡を製造すると、室温・大気状態にしたとき、多層膜の方が基板よりも温度低下(加熱状態→温度低下時、冷却状態、多層膜使用環境など)による収縮量が大きいので基板側を外側にして反る引っ張り応力が発生し、多層膜の有する圧縮応力を相殺または緩和することができる。即ち、基板の変形を解消または低減することができる。
【0016】
また、本発明では、多層膜が引っ張り応力を有する場合には、基板として、多層膜の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有する材料からなる基板を使用し、かつ該基板を加熱しながら前記多層膜を形成した後、これを冷却して多層膜使用時の状態とすることにより、多層膜反射鏡を製造することとした(請求項1)。
このようにして多層膜反射鏡を製造すると、室温・大気状態にしたとき、基板の方が多層膜よりも温度低下(加熱状態→温度低下時、冷却状態、多層膜使用環境など)による収縮量が大きいので基板側を内側にして反る圧縮応力が発生し、多層膜の有する引っ張り応力を相殺することができる。即ち、基板の変形を解消または低減することができる。
【0017】
一般にスパッタリング法により多層膜の成膜を行った場合には、多層膜が有する応力は圧縮応力になりやすく、また真空蒸着法にて多層膜の成膜を行った場合には、引っ張り応力になりやすい。また、基板としては一般に、石英などのガラス基板やシリコン単結晶などが用いられている。
Mo、SiおよびSi化合物の熱膨張率を表1に示す。
【0018】
MoはSiやSi化合物よりも熱膨張率が大きいので、基板加熱を行いながらMo/SiまたはMo/Si化合物の多層膜をSiまたはSi化合物基板にスパッタリング法により成膜すると、Mo層によるバイメタル効果により、引っ張り応力が発生するので、多層膜の圧縮応力を緩和することができる。
また、真空蒸着法により多層膜の成膜を行う場合には、基板に例えばクラウンガラスを用いると、クラウンガラスはMo、SiまたはSi化合物よりも熱膨張率が大きいので圧縮応力が発生する。よって、この圧縮応力により多層膜の引っ張り応力を緩和することができる。
【0019】
以上のように、多層膜の熱膨張率及び多層膜が有する応力の種類に応じて選択した材料からなる基板を使用し、かつ該基板を加熱しながら前記多層膜を形成した後、これを室温・大気状態にすることにより、製造される多層膜反射鏡の基板変形を解消または低減することができる。
また、その結果、製造される多層膜反射鏡の基板形状の変化による光学特性の劣化をふせぎ、良好な光学系を得ることができる。
【0020】
本発明にかかる屈折率の差が小さい物質としてSiまたはSi化合物を用い、大きい物質としてMoを用いると、軟X線領域において(特に、X線縮小投影露光において有望視される波長13nmの軟X線において)高反射率が得られるので好ましい。
なお、Si化合物としては、例えばSiCやSiNなどが使用できる。
【0021】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0022】
【表1】
【0023】
【実施例1】
本実施例では、Mo/Si多層膜を石英基板(基板の厚さ15mm、直径80mm)上に成膜した。
MoとSiの各ターゲットを用いて、イオンビームスパッタリング法により基板1上にSi層2とMo層3を交互に積層して多層膜を形成した。このとき、成膜前に基板を55℃に加熱し、温度が安定した後、55℃に保持した状態にて成膜を行った。成膜終了後、基板を室温まで冷却して大気雰囲気下においた。
【0024】
Mo/Si多層膜の周期長は、6.7 nm、Γ(=Mo層の厚さ/周期長)は
1/3、積層数は50ペアとした。図1に多層膜反射鏡の概略断面図を示す(図1では多層膜の層数を実際よりも少なく描いてある)。
作製した多層膜反射鏡の応力は、約3MPa(圧縮応力)であり、基板の反り変化量は約0.2 nmであった。これに対して、基板加熱を行わずに作製した多層膜反射鏡の場合には、応力が約385MPa(圧縮応力)、基板の反り変化量が約29nmであり、本実施例の基板加熱を行った多層膜反射鏡と比較して基板の変形量が大きいことが判った。
【0025】
また、本実施例の多層膜反射鏡の垂直入射軟X線反射率を放射光を用いて測定したところ、波長13nmで約68%であり、基板加熱を行わずに作製した前記多層膜反射鏡とほぼ同じ値であった。
【0026】
【実施例2】
本実施例では、Mo/SiC多層膜をSi(100)基板(基板の厚さ15
mm、直径80mm)上に成膜した。
MoとSiCの各ターゲットを用いて、イオンビームスパッタリング法により基板1上にSiC層2とMo層3を交互に積層して多層膜を形成した。このとき、成膜前に基板を250℃に加熱し、温度が安定した後、250℃に保持した状態にて成膜を行った。成膜終了後、基板を室温まで冷却して大気雰囲気下においた。
【0027】
Mo/SiC多層膜の周期長は6.7 nm、Γ(=Mo層の厚さ/周期長)は
1/3、積層数は50ペアとした。図1に多層膜反射鏡の概略断面図を示す(図1では、多層膜の層数は実際よりも少なく描いてある)。
作製した多層膜反射鏡の応力は、約2MPa(引っ張り応力)であり、基板の反り変化量は約0.08nmであった。これに対して、基板加熱を行わずに作製した多層膜反射鏡の場合には、応力が約363MPa(圧縮応力)、基板の反り変化量が約14nmであり、本実施例の基板加熱を行った多層膜反射鏡と比較して基板の変形量が大きいことが判った。
【0028】
また、本実施例の多層膜反射鏡の垂直入射軟X線反射率を放射光を用いて測定したところ、波長13nmで約51%であり、基板加熱を行わずに作製した前記多層膜反射鏡とほぼ同じ値であった。
【0029】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、多層膜反射鏡の光学特性劣化の原因となる、多層膜の内部応力による基板変形を低減または解消した多層膜反射鏡を製造することができる。
また、その結果、製造される多層膜反射鏡の基板形状の変化による光学特性の劣化をふせぎ、良好な光学系を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる多層膜反射鏡(一例)の概略断面図である。
【主要部分の符号の説明】
1・・・基板
2・・・SiまたはSi化合物層
3・・・Mo層 以 上
Claims (2)
- 基板上に、軟X線領域の光に対する屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質の層と大きい物質の層とを交互に複数回積層して、引張り応力を有する交互多層膜を形成することにより、多層膜反射鏡を製造する方法において、
前記基板として、前記多層膜の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有する材料からなる基板を使用し、かつ該基板を加熱しながら前記多層膜を形成した後、これを冷却して多層膜使用時の状態とすることにより、製造される多層膜反射鏡の基板変形を解消または低減することを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。 - 前記屈折率の差が小さい物質としてSiまたはSi化合物を用い、大きい物質としてMoを用いることを特徴とする請求項1記載の多層膜反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18957795A JP3648791B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 多層膜反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18957795A JP3648791B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 多層膜反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0933699A JPH0933699A (ja) | 1997-02-07 |
JP3648791B2 true JP3648791B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=16243665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP (1) | JP3648791B2 (ja) |
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