JP3604924B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3604924B2 JP3604924B2 JP31343798A JP31343798A JP3604924B2 JP 3604924 B2 JP3604924 B2 JP 3604924B2 JP 31343798 A JP31343798 A JP 31343798A JP 31343798 A JP31343798 A JP 31343798A JP 3604924 B2 JP3604924 B2 JP 3604924B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- sample
- high vacuum
- vacuum vessel
- charged particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、走査電子顕微鏡やオージェ電子分光装置などの荷電粒子線装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
走査電子顕微鏡やオージェ電子分光装置においては、試料はXYステージ上に置かれ、また、XYステージは試料を傾斜させるための傾斜ステージ上に置かれている。そして、試料は目的に応じてXY方向に移動されたり傾斜される。
【0003】
これらのステージには位置精度や再現性等が要求されており、現在のステージは、これらの要求に応えるために精度良く加工されて精度良く組み立てられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、現在のステージは、上述した要求に応えるもののその構造はなかり複雑となっている。そのため、ガスやごみが出やすく、試料を汚染する原因となっている。
【0005】
ガスの発生を少なくする方法として、試料室内を高温に焼き出すベークがもっとも一般的であるが、このベークにより、ステージの構成部品に内在する歪みが出現し、ステージの精度の劣化を招いている。
【0006】
本発明はこのような点に鑑みて成されたもので、その目的は、ステージの精度を劣化させることなく、試料室内をベークすることができると共に試料のゴミによる汚染を防ぐことのできる荷電粒子線装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成する本発明の荷電粒子線装置は、低真空容器と、該低真空容器内に配置された高真空容器と、荷電粒子を導入するために該高真空容器に接続された荷電粒子光学系と、高真空容器内において試料を載置する試料ステージと、前記低真空容器内に設けられた試料ステージ駆動手段と、該試料ステージ駆動手段と前記高真空容器内の試料ステージとを連結する連結部材と、前記ステージ駆動手段による駆動に伴なう連結手段の移動に拘わらず前記高真空室と低真空室との圧力差を維持するための圧力維持手段とを備えたことを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。
【0009】
図1は本発明の一例として示した、走査電子顕微鏡の概略図である。
【0010】
図1において、1は低真空容器であり、低真空容器1には排気装置2が取り付けられている。
【0011】
低真空容器1の内部には試料容器3が配置されている。試料容器3は、円筒状の試料収容部3aと、その一端に設けられたつば部3bと、試料収容部3aの他端に設けられた筒状の試料導入管3cで構成されており、試料導入管3cは低真空容器1の側壁を貫通してその側壁に固定されている。
【0012】
前記試料収容部3aの外周にはヒータ線4が巻かれており、ヒータ線4の加熱は加熱手段5により制御される。また、試料収容部3aには電子光学系6が取り付けられており、電子光学系6は、電子銃や集束レンズや電子線偏向器などを備えている。なお、電子光学系6は前記低真空容器1を貫通している。
【0013】
7は試料交換機構であり、試料交換機構7は真空バルブ8を介して、前記低真空容器1の側壁を貫通する試料導入管3cに取り付けられている。また、その試料導入管3cに排気装置9が取り付けられている。
【0014】
10は、前記低真空容器1の側壁に取り付けられた傾斜ステージであり、傾斜ステージ10は、X軸に平行な軸Sを中心にして回転可能である。傾斜ステージ10は、低真空容器1内に設けられた駆動手段により駆動される。
【0015】
傾斜ステージ10の上にはYステージ11が構成され、そのYステージ11の上には連結部材であるXステージ12が構成されている。Yステージ11はYステージ駆動手段13によりY軸方向に移動され、Xステージ12はXステージ駆動手段14によりX軸方向に移動される。
【0016】
前記Yステージ11には回転移動板15が固定されており、この回転移動板15は、前記Xステージ12を貫通させるための筒状のステージ貫通部15aと、前記試料容器のつば部3bに対向するつば部15bで構成されている。前記試料容器3とこの回転移動板15で高真空容器が構成されており、この高真空容器をXステージ12は貫通している。試料容器3のつば部3bと回転移動板15のつば部15b間には僅かのギャップが設けられて、この部分においてオリフィスが形成されているが、回転移動板15は、Yステージ11の移動によりXステージ12と共にY軸方向に移動するが、Xステージ11がX軸方向に移動してもYステージ11に固定されていてX軸方向には移動しないので、そのギャップは常に一定に保たれる。
【0017】
16はシールド板であり、このシールド板は、電子線がステージ駆動手段等の発生する磁場の影響を受けないように設けられている。また、17は、前記Xステージ12に取り付けられた、試料を載置する試料ステージであり、この試料ステージは連結部材であるXステージ12によってステージ駆動手段と連結されている。なお、図2は、前記回転移動板15付近の斜視図である。
【0018】
以上、図1の装置の構成について説明したが、図1の装置においては、試料が配置される試料容器3の内部にはXステージ12の一部のみが配置され、ガスやごみの発生源であるXステージ駆動手段14、Yステージ11、Yステージ駆動手段13、傾斜ステージ10および傾斜ステージ駆動手段はその外に配置されるので、従来に比べて試料の汚染は著しく減少する。
【0019】
また、前記ヒータ線4を加熱して高真空容器をベークしても、その外に配置されたステージ駆動手段やステージは加熱されないので、従来発生していたベークによるステージの精度の劣化を防止することができる。
【0020】
また、図1の構成においては、高真空容器の中に傾斜ステージなどを配置しなくてすむので、高真空容器の容積を小さくできる。また、高真空容器は排気された低真空容器1の中にあるので大気圧に耐える必要もなく、試料容器3をSUSやアルミ等の放出ガスの少ない材料で薄く作ることができる。このため、このように高真空容器を作れば、ベーク時の必要電力は、大気圧に耐える厚いチャンバをベークするのに比べ非常に少なくてすみ、また高真空容器の温度を上げることができる。
【0021】
以上、図1の装置について説明したが、本発明はこの装置に限定されるものではなく、他に種々の変形が考えられる。たとえば、図3に示すように、前記つば部3bとつば部15bのギャップにシールド板18を入れてギャップを2つに分け、さらに排気装置19を設ければ、図1における高真空容器と低真空容器1の間の低真空室を低真空室と中真空室にさらに分けることができ、磁気シールド効果を持つと共に、高真空容器内に入り込むガスをより制限できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一例として示した、走査電子顕微鏡の概略図である。
【図2】図1の回転移動板15付近の斜視図である。
【図3】本発明の一例として示した、走査電子顕微鏡の概略図である。
【符号の説明】
1…低真空容器、2…排気装置、3…試料容器、3a…試料収容部、3b…つば部、3c…試料導入管、4…ヒータ線、5…加熱手段、6…電子光学系、7…試料交換機構、8…真空バルブ、9…排気装置、10…傾斜ステージ、11…Yステージ、12…Xステージ、13…Yステージ駆動手段、14…Xステージ駆動手段、15…回転移動板、15a…ステージ貫通部、15b…つば部、16…シールド板、17…試料ステージ、18…シールド板、19…排気装置
Claims (1)
- 低真空容器と、
該低真空容器内に配置された高真空容器と、
荷電粒子を導入するために該高真空容器に接続された荷電粒子光学系と、
高真空容器内において試料を載置する試料ステージと、
前記低真空容器内に設けられた試料ステージ駆動手段と、
該試料ステージ駆動手段と前記高真空容器内の試料ステージとを連結する連結部材と、
前記ステージ駆動手段による駆動に伴なう連結手段の移動に拘わらず前記高真空室と低真空室との圧力差を維持するための圧力維持手段と
を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31343798A JP3604924B2 (ja) | 1998-11-04 | 1998-11-04 | 荷電粒子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31343798A JP3604924B2 (ja) | 1998-11-04 | 1998-11-04 | 荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000149846A JP2000149846A (ja) | 2000-05-30 |
JP3604924B2 true JP3604924B2 (ja) | 2004-12-22 |
Family
ID=18041295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31343798A Expired - Fee Related JP3604924B2 (ja) | 1998-11-04 | 1998-11-04 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3604924B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7013912B2 (ja) * | 2017-02-21 | 2022-02-15 | 住友金属鉱山株式会社 | 分析用試料の作製方法、および、オージェ電子分光測定方法 |
-
1998
- 1998-11-04 JP JP31343798A patent/JP3604924B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000149846A (ja) | 2000-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7339167B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US5376791A (en) | Secondary ion mass spectometry system | |
US5399860A (en) | Electron optic column and scanning electron microscope | |
Rempfer et al. | Design and performance of a high-resolution photoelectron microscope | |
US20120132802A1 (en) | Gas field ionization ion source apparatus and scanning charged particle microscope equipped with same | |
JP2004031207A (ja) | 電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置 | |
JP3604924B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US7211806B2 (en) | Particle beam apparatus | |
JP3205663B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
US4458151A (en) | Electron microscope of a scanning type | |
JP2007188821A (ja) | ハンディ電子顕微鏡 | |
JPH10214583A (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
US5148024A (en) | Ion beam processing apparatus and gas gun therefor | |
JP2854466B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2001319610A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JPH04215240A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JPH04286843A (ja) | 走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置 | |
JP3769029B2 (ja) | X線管 | |
JP3679763B2 (ja) | 電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、x線分析装置 | |
JPH0548357Y2 (ja) | ||
CN219824335U (zh) | 用于电子束蒸镀的容纳装置、蒸镀源及真空镀膜*** | |
JP3091850B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2003234080A (ja) | 電子線照射装置 | |
JPS6321886Y2 (ja) | ||
JPH08250058A (ja) | 走査形電子顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040601 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040928 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101008 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |