JP3597501B2 - 半導体集積回路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、メモリーマクロを搭載した半導体集積回路に関し、特に、半導体集積回路に多数のメモリマクロを搭載する場合、複数のメモリマクロで救済用メモリマクロを共有することで、半導体集積回路の歩留りを向上させ、またヒューズ部の面積を削減する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、システムLSI等の半導体集積回路上にメモリをマクロセル化して混載することが盛んである。メモリマクロを混載する場合、システムLSIの製造歩留りを向上させるため、メモリマクロの内部に予め冗長救済用のメモリセルを保持しておき、プローブ検査時に製造段階での不良を救済していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
メモリマクロ内部に冗長救済用のメモリセルを保持して冗長救済を行うと面積効率が悪く、更に実際には救済に使用されない冗長救済セルが多数存在することになり、救済効率も悪い。また、冗長救済のためのヒューズ部が配線の妨げになり、配線の複雑化を招いていた。多数搭載されるSRAMマクロに冗長救済を導入する場合、前記の問題が顕著に現れる。このため、ウェーハあたりの取れ数が減少して製造コストが高くなってしまうという問題を有していた。
【0004】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、複数のSRAMマクロで冗長メモリマクロを共有することで、面積効率と救済効率を向上させ、さらに冗長ヒューズも共有することで、ヒューズ部の面積を削減させた半導体集積回路を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第1の半導体集積回路は、複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64)に接続されたメモリセルアレーと、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA65)に置換する手段(ヒューズ、トランジスタ、インバータ)を有し、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第1の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および冗長ビット線(BLA65)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線から切り離す第1のワード線接続回路とを備えたことを特徴とする。
【0006】
この構成によれば、冗長ワード線および冗長ビット線をそれぞれ正常なメモリマクロのワード線およびビット線から完全に切り離すことが出来るので、複数のメモリマクロにおけるワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0007】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第2の半導体集積回路は、複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64)に接続されたメモリセルアレーと、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA0)に置換する手段(ヒューズ、トランジスタ、インバータ)を有し、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第2の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および前記冗長ビット線(BLA0)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長信号線の不良情報に基づいて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線の信号をゲート回路(NAND回路)を介しタイミング調整を行って冗長ワード線に伝達し、正常なメモリマクロに対応したワード線の信号をゲート回路(NAND回路)で阻止する第2のワード線接続回路とを備えたことを特徴とする。
【0008】
この構成によれば、第1の半導体集積回路の利点に加えて、冗長メモリマクロの第2のワード線接続回路により、救済すべきメモリマクロに応じた冗長信号に対する、スイッチトランジスタのオン/オフ時間によるワード線と冗長ワード線の接続遅延を除くことが出来、また冗長ワード線に伝達されるワード線の信号の動作タイミング調整(波形の整形等)をすることが出来る。
【0009】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第3の半導体集積回路は、複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64)に接続されたメモリセルアレーと、メモリセルアレーに所定数のビット線毎に接続された複数のカラムデコーダを有し、外部入力のアドレス信号から生成される内部カラムアドレス線(CADR)の信号に基づいて、所定数のビット線のうち特定のビット線を選択し、入出力データを選択されたビット線に対応付けるカラムデコーダ部と、書き込み信号線(IR)の状態に基づき入力データを、また読み出し信号線(OR)の状態に基づき出力データを入出力データとしてカラムデコーダ部に結合するとともに、メモリセルアレーの不良ビット線に対応する入出力データ線を隣接する入出力データ線および冗長入出力データ線に置換する手段(ヒューズ、トランジスタ、インバータ)を有し、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第3の冗長/入出力回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および所定数の冗長ビット線(BLA65〜BLA68)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長カラムアドレス線(COLRA、COLRB)の信号に基づいて、所定数の冗長ビット線のうち特定の冗長ビット線を選択し、冗長書き込み信号線(WRR)および冗長読み出し信号線(RER)の状態に基づいて、冗長入出力データ線の入力または出力データを選択された冗長ビット線に対応付けるカラムデコーダと、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応した内部カラムアドレス線、書き込み信号線、および読み出し信号線をそれぞれ、冗長カラムアドレス線、冗長書き込み信号線、および冗長読み出し信号線に接続し、正常なメモリマクロに対応した内部カラムアドレス線、書き込み信号線、および読み出し信号線をそれぞれ、冗長カラムアドレス線、冗長書き込み信号線、および冗長読み出し信号線から切り離すコマンド接続回路と、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線から切り離す第1のワード線接続回路とを備えたことを特徴とする。
【0010】
この構成によれば、冗長ワード線、冗長ビット線、更に冗長カラムアドレス線、冗長書き込み信号線、冗長読み出し信号線、冗長入出力データ線までも、それぞれ、正常なメモリマクロのワード線、ビット線、内部カラムアドレス線、書き込み信号線、読み出し信号線、入出力データ線から完全に切り離すことが出来るので、ワード線、ビット線以外にも信号の動作タイミングが異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0011】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第4の半導体集積回路は、複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64)に接続されたメモリセルアレーと、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA0)に置換する手段(ヒューズ、トランジスタ、インバータ)を有し、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第2の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および冗長ビット線(BLA0)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長ロウアドレス線の信号に基づいて、特定の冗長ワード線を選択するロウデコーダと、冗長アドレス信号および冗長コマンド信号を受けて、冗長ロウアドレス線の信号を生成する周辺回路と、冗長信号線の不良情報に基づいて、救済すべきメモリマクロに対応した外部からのアドレス信号およびコマンド信号をゲート回路(NAND回路)を介しタイミング調整を行って周辺回路に出力し、正常なメモリマクロに対応した外部からのアドレス信号およびコマンド信号をゲート回路(NAND回路)で阻止する外部信号線接続回路とを備えたことを特徴とする。
【0012】
この構成によれば、接続すべき配線(ワード線)数を削減し、且つ、冗長メモリマクロ単独で冗長ワード線や冗長ビット線を制御できるので、ワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、救済効率を向上させることが出来る。更に、冗長メモリマクロの外部信号接続回路により、救済すべきメモリマクロに応じた冗長信号に対する、スイッチトランジスタのオン/オフ時間によるワード線と冗長ワード線の接続遅延を除くことが出来、また冗長ワード線に伝達されるワード線の信号の動作タイミング調整(波形の整形等)をすることが出来る。
【0013】
第1から第4の半導体集積回路において、複数のメモリマクロはそれぞれ動作タイミングが異なることを特徴とする。
【0014】
また、第1から第4の半導体集積回路において、複数のメモリマクロはそれぞれ同期式メモリマクロと非同期式メモリマクロが混在して成る。
【0015】
また、第1から第4の半導体集積回路において、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線が接続され、外部入力のアドレス信号から生成される内部ロウアドレス信号を受けて、ワード線のいずれか1本を選択するロウデコーダを備える。
【0016】
また、第1から第4の半導体集積回路において、冗長メモリマクロは、複数のメモリマクロのうちいずれか1つを救済するか、または複数のメモリマクロのうちいくつかを共に救済する。 第1から第3の半導体集積回路において、複数のメモリマクロはそれぞれワード線の数が異なり、冗長メモリマクロの使用しないワード線が接地電位に固定されることが好ましい。これにより、ワード線数が異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。
【0017】
また、第1から第3の半導体集積回路において、複数のメモリマクロはそれぞれワード線の数が異なり、冗長メモリマクロの使用しないワード線が接地電位に固定され、冗長メモリマクロは、冗長信号線の不良情報に基づいて、冗長メモリマクロのワード線が分割されて割り当てられたいくつかのメモリマクロに接続された冗長ビット線をそれぞれ接続または切り離す冗長ビット線接続回路を備え、いくつかのメモリマクロを共に救済することが好ましい。
【0018】
この構成によれば、ワード線数が異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができ、複数のメモリマクロのうち1つあるいは複数個を救済することが出来る。
【0019】
第1から第4の半導体集積回路において、複数のメモリマクロはそれぞれ冗長単位のビット線数が異なり、冗長メモリマクロは、複数のメモリマクロのうち冗長単位のビット線数が最大であるメモリマクロと同じ冗長ビット線数を有し、メモリマクロに応じて接続すべき冗長ビット線の数が変更されることが好ましい。
【0020】
この構成によれば、冗長すべきビット線数が異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができ、複数のメモリマクロのうち一つを救済することが出来る。
【0021】
第1から第3の半導体集積回路において、冗長メモリマクロは、冗長信号線の不良情報に基づいて、冗長ワード線を分断または接続し、冗長メモリセルアレーを分割または統合する第2のワード線接続回路を備え、接続されるすべてのメモリマクロを救済することが好ましい。
【0022】
この構成によれば、冗長ワード線を分割することができ、ワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができ、複数のメモリマクロのうちいずれも救済することが出来る。
【0023】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第5の半導体集積回路は、複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロのいずれか一つを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64)に接続されたメモリセルアレーと、冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号(SA1〜SA64、SB1〜SB64)に従って、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA65)に切り換え、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第4の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および冗長ビット線(BLA65)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線から切り離す第1のワード線接続回路と、複数のメモリマクロの数に対応して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断される第1のヒューズ(マクロセレクトヒューズ)と、不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズ(冗長ヒューズ)とを有し、第1および第2のヒューズの切断情報を冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする。
【0024】
この構成によれば、第1の半導体集積回路の利点に加えて、冗長救済のためのヒューズを複数のメモリマクロで共有して使用することが出来る。このため、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0025】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第6の半導体集積回路は、複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロのいずれか一つを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64)に接続されたメモリセルアレーと、冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号(SA1〜SA64、SB1〜SB64)に従って、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA65)に切り換え、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第4の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および冗長ビット線(BLA65)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線から切り離す第1のワード線接続回路と、複数のメモリマクロのうち少なくとも2つに対応して共通して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断状態または未切断状態にされる第1のヒューズ(マクロセレクトヒューズ)と、不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズ(冗長ヒューズ)とを有し、第1および第2のヒューズの切断情報を冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする。
【0026】
この構成によれば、冗長救済のためのヒューズを複数のメモリマクロで共有して使用することができ、更にマクロセレクトヒューズの個数を削減することが出来る。このため、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0027】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第7の半導体集積回路は、構成が異なる複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロのいずれか一つを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64、BLA1〜BLA65)に接続されたメモリセルアレーと、冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号(SA1〜SA64、SB1〜SB64)に従って、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA65、BLA66)に切り換え、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第4の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および冗長ビット線(BLA65、BLA66)に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線から切り離す第1のワード線接続回路と、複数のメモリマクロの数に対応して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断される第1のヒューズ(マクロセレクトヒューズ)と、複数のメモリマクロのうちの最大のビット線数に対応して設けられ、不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズ(冗長ヒューズ)とを有し、第1および第2のヒューズの切断情報を冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする。
【0028】
この構成によれば、冗長救済のためのヒューズをビット線数の異なる複数のメモリマクロで共有して使用することが出来る。このため、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0029】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第8の半導体集積回路は、構成が異なる複数のメモリマクロと、複数のメモリマクロのいずれか一つまたはいくつかを共に救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、複数のメモリマクロはそれぞれ、ワード線(WL1〜WL32)およびビット線(BLA1〜BLA64、BLA1〜BLA58、BLA1〜BLA4)に接続されたメモリセルアレーと、冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号(SF1〜SF64、SH1〜SH58、SI1〜SI4)に従って、メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線(BLA65、BLA59、BLA5)に切り換え、不良情報を冗長信号線(RA)に出力する第4の冗長回路とを備え、冗長メモリマクロは、冗長ワード線(WLA1〜32)および冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を冗長ワード線から切り離す第1のワード線接続回路と、複数のメモリマクロの数に対応して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断される第1のヒューズ(マクロセレクトヒューズ)と、複数のメモリマクロのうちの最大のビット線数に対応して設けられ、不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズ(冗長ヒューズ)と、第1のヒューズの切断情報に基づいて、救済すべきメモリマクロの構成に応じて第2のヒューズの構成を分割または接続するヒューズ接続回路とを有し、第1および第2のヒューズの切断情報を冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする。
【0030】
この構成によれば、冗長救済のためのヒューズを構成の異なる複数のメモリマクロで共有し、構成の異なる複数のメモリマクロのうち複数個を救済することが可能になり、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、すべての図面を通じて同一の要素には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【0032】
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。
【0033】
図1において、本実施の形態の半導体集積回路は、複数のメモリマクロ1A1、1A2と、複数のメモリマクロ1A1、1A2を救済するための1つの冗長メモリマクロ2Aとで構成される。ここでは、メモリマクロが2個搭載されている例について説明するが、2個以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が、半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、複数のメモリマクロ1A1、1A2、冗長メモリマクロ2A内のワード線やビット線、データ入出力の数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0034】
複数のメモリマクロ1A1、1A2は、アドレス信号線ADR、コマンド信号線CMD、データ入出力線I/O、リセット信号線RSにより、外部回路と接続される。冗長メモリマクロ2Aは、複数のメモリマクロ1A1、1A2と、それぞれのワード線WL1〜WL32、冗長ビット線BLA65、および冗長信号線RAにより接続される。
【0035】
図2は、複数のメモリマクロ1A1、1A2の各内部構成を示すブロック図である。図2において、周辺回路1A−1が、アドレス線ADRおよびコマンド信号線CMDにより外部回路と接続される。また、I/O部1A−6の入出力回路が、データ入出力信号線IN1〜IN16、OUT1〜OUT16により外部回路と接続される。さらに、第1の冗長回路1A−4が、リセット信号線RSにより外部回路と接続される。周辺回路1A−1は、ロウデコーダ1A−2と、内部ロウアドレス信号線RADRにより接続され、ロウデコーダ1A−2は、メモリセルアレー1A−3と、ワード線WL1〜WL32により接続される。また、周辺回路1A−1は、I/O部1A−6の入出力回路と、読み出し信号線REおよび書き込み信号線WRにより接続される。更に、周辺回路1A−1は、カラムデコーダ部1A−5内のカラムデコーダと、内部カラムアドレス信号線CADRにより接続され、カラムデコーダは、入出力回路と、データ線DATA1〜DATA16により接続され、第1の冗長回路1A−4と、ビット線BL1〜BL64により接続される。
【0036】
第1の冗長回路1A−4は、メモリセルアレー1A−3と、第2のビット線BLA1〜BLA64により接続され、外部の冗長メモリマクロ2Aと、冗長ビット線BLA65および冗長信号線RAにより接続される。メモリセルアレー1A−3は、外部の冗長メモリマクロ2Aと、ワード線WL1〜WL32により接続される。
【0037】
図3は、メモリセルアレー1A−3の部分構成と、第1の冗長回路1A−4の部分構成を示す回路図である。図3において、メモリセルアレー1A−3は、64本の第2のビット線BLA1〜BLA64と、32本のワード線WL1〜WL32と、それぞれが行列状に配置された複数のメモリセル13−Aとで構成される。各メモリセル13−Aは、64本の第2のビット線BLA1〜BLA64のうちの1本、及びメモリセル13−Aをアクセス可能にする32本のワード線WL1〜WL32のうちの1本と接続されている。
【0038】
図4は、冗長メモリマクロ2Aの部分構成を示す回路図である。図4において、冗長メモリマクロ2Aは、第1のワード線接続回路2A−1と、冗長メモリセルアレー2A−2とで構成される。第1のワード線接続回路2A−1は、メモリマクロ1A1、1A2と、ワード線WL1〜WL32により接続され、冗長メモリセルアレー2A−2と、冗長ワード線WLA1〜WLA32により接続される。また、冗長メモリセルアレー2A−2は、メモリマクロ1A1、1A2内の第1の冗長回路1A−4と、冗長ビット線BLA65および冗長信号線RAにより接続される。
【0039】
以下、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0040】
最初に、複数のメモリマクロ1A1、1A2に不良がなく、冗長メモリマクロ2Aが未使用の場合について説明する。
【0041】
まず、外部からリセット信号線RSを介してリセット信号が、図3の第1の冗長回路1A−4に入力される。この時、メモリマクロ1A1、1A2のどこにも不良が無い場合は、第1の冗長回路1A−4内のヒューズ(12、22、32、42、…)が切断されていないので、図3のインバータ11から論理「H」レベルの出力信号がNMOSトランジスタ15のゲートに印加され、NMOSトランジスタ15がオンとなり、インバータ13から論理「L」レベルの出力信号がNMOSトランジスタ16のゲートに印加され、NMOSトランジスタ15がオン、NMOSトランジスタ16がオフとなり、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、NMOSトランジスタ25がオン、NMOSトランジスタ26がオフとなり、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、NMOSトランジスタ645がオン、NMOSトランジスタ646がオフとなり、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。この時、冗長メモリマクロ2Aに接続される冗長信号線RAは、論理「L」レベルとなり、NMOSトランジスタ646がオフであるので、冗長ビット線BLA65に信号は伝達されず、冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、図4の冗長メモリマクロ2A内のNOR回路53の出力信号は、論理「H」レベルとなり、トランジスタ33、43がオンして、冗長ワード線WLA1〜WLA32は全て論理「L」レベルに固定される。
【0042】
また、冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ51、52から論理「H」レベルの出力信号を受けて、スイッチトランジスタ31、32、41、42は非導通となり、各メモリマクロ1A1、1A2に接続されたワード線WL1〜WL32は、冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離される。
【0043】
次に、外部からアドレス信号が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線WL1〜WL32のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0044】
次に、外部からコマンド信号(CMD)が入力され、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路が、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間でデータ線DATA1〜DATA16を通して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5で選択したビット線と、第1の冗長回路1A−4で選択した第2のビット線を通して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0045】
次に、メモリマクロ1A1の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1A2に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0046】
メモリマクロ1A1内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、メモリマクロ1A1内の第1の冗長回路1A−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号がメモリマクロ1A1内の第1の冗長回路1A−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、図3のインバータ11からは論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、NMOSトランジスタ15がオフ、NMOSトランジスタ16がオンとなり、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続される。以降、NMOSトランジスタ25がオフ、NMOSトランジスタ26がオンとなり、ビット線BL2は第2のビット線BLA3に接続され、最後に、NMOSトランジスタ645がオフ、NMOSトランジスタ646がオンとなり、ビット線BL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0047】
一方、メモリマクロ1A2内では、不良が無くヒューズが切断されていないので、図3のインバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。
【0048】
この時、冗長メモリマクロ2A内では、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAは論理「H」レベルとなり、ビット線BL64の信号が冗長ビット線BLA65に伝達される。しかし、メモリマクロ1A2側の冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、ビット線BL64の信号は冗長ビット線BLA65に伝達されない。更に、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAが論理「H」レベルであること受けて、冗長メモリマクロ2AのNOR回路53の出力信号は、論理「L」レベルとなり、NMOSトランジスタ33、43はオフして、冗長ワード線WLA1〜WLA32は論理「L」レベルに固定されない。
【0049】
また、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAの論理「H」レベルと、インバータ51からの論理「L」レベルの出力信号を受けて、スイッチトランジスタ31、41が導通し、メモリマクロ1A1側のワード線WL1〜WL32は冗長ワード線WLA1〜WLA32に接続され、信号が伝達される。同時に、メモリマクロ1A2側の冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ52からの論理「H」レベルの出力信号を受けて、スイッチトランジスタ32、42は非導通となり、メモリマクロ1A2側ののワード線WL1〜WL32は冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離され、信号が伝達されることは無い。
【0050】
次に、外部からアドレス信号が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0051】
次に、外部からメモリマクロ1A1にコマンド信号(CMD)が入力され、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路が、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間でデータ線DATA1〜DATA16を通して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5で選択したビット線、第1の冗長回路1A−4で選択した第2のビット線BLA2〜BLA64、および冗長ビット線BLA65を通して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0052】
この様な構成をとることで、冗長ワード線および冗長ビット線をそれぞれ正常なメモリマクロのワード線およびビット線から完全に切り離すことが出来るので、複数のメモリマクロにおけるワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0053】
(実施の形態2)
図5は、本発明の実施の形態2に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。
【0054】
図5において、本実施の形態の半導体集積回路は、複数のメモリマクロ1B1、1B2と、複数のメモリマクロ1B1、1B2を救済するための1つの冗長メモリマクロ2Bとで構成される。ここでは、メモリマクロが2個搭載されている例について説明するが、2個以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が、半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、複数のメモリマクロ1B1、1B2、冗長メモリマクロ2B内のワード線やビット線、データ入出力の数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0055】
複数のメモリマクロ1B1、1B2は、アドレス信号線ADR、コマンド信号線CMD、データ入出力線I/O、およびリセット信号線RSにより、外部回路と接続される。冗長メモリマクロ2Bは、メモリマクロ1B1、1B2と、それぞれのワード線WL1〜WL2、冗長ビット線BLA65、および冗長信号線RAにより接続される。
【0056】
図6は、メモリマクロ1B1、1B2の各内部構成を示すブロック図である。図6において、メモリマクロ1B1、1B2内の周辺回路1A−1が、アドレス信号線ADRおよびコマンド信号線CMDにより、外部回路と接続される。また、I/O部1A−6の入出力回路が、データ入出力信号線IN1〜IN16、OUT1〜OUT16により、外部回路と接続される。さらに、第2の冗長回路1B−4が、リセット信号線RSにより、外部回路と接続される。周辺回路1A−1は、ロウデコーダ1A−2と、内部ロウアドレス信号線RADRにより接続され、ロウデコーダ1A−2は、メモリセルアレー1A−3と、ワード線WL1〜WL32により接続される。また、周辺回路1A−1は、I/O部1A−6の入出力回路と、読み出し信号線REおよび書き込み信号線WRにより接続される。更に、周辺回路1A−1は、カラムデコーダ部1A−5内のカラムデコーダと、内部カラムアドレス信号線CADRにより接続され、カラムデコーダは、入出力回路と、データ線DATA1〜DATA16により接続され、第2の冗長回路1B−4と、ビット線BL1〜BL64により接続される。
【0057】
第2の冗長回路1B−4は、メモリセルアレー1A−3と、第2のビット線BLA1〜BLA64により接続され、冗長メモリマクロB2Bと、冗長ビット線BLA0および冗長信号線RAにより接続される。ロウデコーダ1A−2は、外部の冗長メモリマクロ2Bと、ワード線WL1〜WL32により接続される。
【0058】
図7は、メモリセルアレー1A−3の部分構成と、第2の冗長回路1B−4の部分構成を示す回路図である。図7において、メモリセルアレー1A−3は、64本の第2のビット線BLA1〜BLA64と、32本のワード線WL1〜WL32と、それぞれが行列状に配置されたメモリセル13−Aとで構成される。各メモリセル13−Aは、64本の第2のビット線BLA1〜BLA64のうちの1本、及びメモリセル13−Aをアクセス可能にする32本のワード線WL1〜WL32のうちの1本と接続されている。
【0059】
図8は、冗長メモリマクロ2Bの部分構成を示す回路図である。図8において、冗長メモリマクロ2Bは、第2のワード線接続回路2B−1と、冗長メモリセルアレー2A−2とで構成され、第2のワード線接続回路2B−1は、複数のメモリマクロ1B1、1B2と、それぞれのワード線WL1〜32により接続され、冗長メモリセルアレー2A−2と、冗長ワード線WLA1〜WLA32により接続される。また、冗長メモリセルアレー2A−2は、各メモリマクロ1B1、1B2内の第2の冗長回路1B−4と、冗長ビット線BLA0および冗長信号線RAにより、接続される。
【0060】
以下、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0061】
最初に、複数のメモリマクロ1B1、1B2に不良がなく、冗長メモリマクロ2Bが未使用の場合について説明する。
【0062】
まず、外部からリセット信号(RS)が第2の冗長回路1B−4に入力される。この時、複数のメモリマクロ1B1、1B2のどこにも不良が無い場合は、ヒューズが切断されていないので、図7のインバータ11から論理「H」レベルの出力信号がNMOSトランジスタ15のゲートに印加され、インバータ13から論理「L」レベルの出力信号がNMOSトランジスタ16のゲートに印加され、NMOSトランジスタ15はオン、NMOSトランジスタ16はオフとなり、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。以降、NMOSトランジスタ25がオン、NMOSトランジスタ26がオフとなり、ビット線BL63は第2のビット線BLA63に接続され、最後に、NMOSトランジスタ645がオン、NMOSトランジスタ646がオフとなり、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。
【0063】
この時、冗長メモリマクロ2Bに接続される冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、NMOSトランジスタ646がオフであるので、冗長ビット線BLA0に信号は伝達されず、冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、図8のNAND回路61の出力信号は論理「H」レベルとなり、NAND回路62の出力信号も論理「H」レベルとなり、NAND回路63の出力に接続された冗長ワード線WLA1〜WLA32は全て論理「L」レベルに固定される。
【0064】
次に、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0065】
次に、外部からコマンド信号(CMD)が入力され、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路が、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間でデータ線DATA1〜DATA16を通して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5で選択したビット線と、第2の冗長回路1B−4で選択した第2のビット線を通して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0066】
次に、メモリマクロ1B1の第2のビット線BLA64が不良であり、メモリマクロ1B2に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0067】
メモリマクロ1B1内の第2のビット線BLA64が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、メモリマクロ1B1の第2の冗長回路1B−4内のヒューズ12が切断される。
【0068】
次に、外部からリセット信号(RS)がメモリマクロ1B1内の第2の冗長回路1B−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、図7のインバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、NMOSトランジスタ15がオフ、NMOSトランジスタ16がオンとなり、ビット線BL64は第2のビット線BLA63に接続される。以降、NMOSトランジスタ25がオフ、NMOSトランジスタ26がオンとなり、ビット線BL63は第2のビット線BLA62に接続され、最後に、NMOSトランジスタ645がオフ、NMOSトランジスタ646がオンとなり、ビット線BL1は冗長ビット線BLA0に接続される。
【0069】
一方、メモリマクロ1B2では、不良が無く内部のヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、NMOSトランジスタ15がオン、NMOSトランジスタ16がオフとなり、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。以降、NMOSトランジスタ25がオン、NMOSトランジスタ26がオフとなり、ビット線BL63は第2のビット線BLA63に接続され、最後に、NMOSトランジスタ645がオン、NMOSトランジスタ646がオフとなり、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。
【0070】
この時、冗長メモリマクロ2Bでは、メモリマクロ1B1側の冗長信号線RAが論理「H」レベルとなり、ビット線BL1の信号が冗長ビット線BLA0に伝達される。しかし、メモリマクロ1B2側の冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、ビット線BL1の信号は冗長ビット線BLA0に伝達されない。更に、メモリマクロ1B1側の冗長信号線RAが論理「H」レベルであることを受けて、図8のNAND回路61は、ワード線WL1の反転信号を出力する。また、メモリマクロ1B2側の冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、NAND回路62は論理「H」レベルを出力する。2つのNAND回路61、62の出力信号を受けて、NAND回路63は、ワード線WL1と同じ位相の信号を出力する。
【0071】
次に、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0072】
次に、外部からメモリマクロ1B1にコマンド信号(CMD)が入力され、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路が、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間でデータ線DATA1〜DATA16を通して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5で選択したビット線と、第2の冗長回路1B−4で選択した第2のビット線BLA63〜BLA1と、冗長ビット線BLA0を通して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0073】
この様な構成をとることで、冗長ワード線および冗長ビット線をそれぞれ正常なメモリマクロのワード線およびビット線から完全に切り離すことが出来るので、複数のメモリマクロにおけるワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0074】
更に、冗長メモリマクロ2Bの第2のワード線接続回路2B−1により、救済すべきメモリマクロに応じた冗長信号に対する、実施の形態1のスイッチトランジスタのオン/オフ時間によるワード線と冗長ワード線の接続遅延を除くことが出来、また冗長ワード線に伝達されるワード線の信号の動作タイミング調整(波形の整形等)をすることが出来る。
【0075】
(実施の形態3)
図9は、本発明の実施の形態3に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。
【0076】
図9において、本実施の形態の半導体集積回路は、複数のメモリマクロ1C1、1C2と、複数のメモリマクロ1C1、1C2を救済するための1つの冗長メモリマクロ2Cとで構成される。ここでは、メモリマクロが2個搭載されている例について説明するが、2個以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が、半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、メモリマクロ1C1、1C2、冗長メモリマクロ2C内のワード線やビット線、データ入出力の数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0077】
複数のメモリマクロ1C1、1C2は、アドレス信号線ADR、コマンド信号線CMD、データ入出力信号線I/O、およびリセット信号線RSにより、外部回路と接続される。冗長メモリマクロ2Cは、メモリマクロ1C1、1C2と、それぞれのワード線WL1〜WL32、内部カラムアドレス信号線CADR、読み出し信号線RE、書き込み信号線WR、冗長入力データ線IR、冗長出力データ線OR、および冗長信号線RAにより接続される。
【0078】
図10は、複数のメモリマクロ1C1、1C2の各内部構成を示すブロック図である。
【0079】
図11は、メモリセルアレー1A−3の部分構成と、カラムデコーダ部1A−5の部分構成を示す回路図である。
【0080】
図12は、第3の冗長/入出力回路1C−4の部分構成を示す回路図である。
【0081】
図10、図11、および図12に示すように、複数のメモリマクロ1C1、1C2内の周辺回路1A−1が、アドレス信号線ADRおよびコマンド信号線CMDにより、外部回路と接続される。また、外部入出力回路部1C−6が、外部回路と、データ入出力信号線I/Oにより接続され、第3の冗長/入出力回路1C−4と、入力データ線IN1〜IN16、出力データ線OUT1〜OUT16により接続される。さらに、第3の冗長/入出力回路1C−4は、外部回路と、リセット信号線RSにより接続される。
【0082】
周辺回路1A−1は、ロウデコーダ1A−2と、内部ロウアドレス信号線RADRにより接続され、ロウデコーダ1A−2は、メモリセルアレー1A−3と、ワード線WL1〜WL32により接続される。また、周辺回路1A−1は、第3の冗長/入出力回路1C−4と、読み出し信号線REおよび書き込み信号線WRにより接続される。更に、周辺回路1A−1は、カラムデコーダ部1A−5内のカラムデコーダ、および冗長メモリマクロ2C内のコマンド接続回路2C−3(図13)と、内部カラムアドレス信号線CADRにより接続される。カラムデコーダは、メモリセルアレー1A−3と、ビット線BL1〜BL64により接続される。メモリセルアレー1A−3は、冗長メモリマクロ2C内の第1のワード線接続回路2A−1(図13)と、ワード線WL1〜WL32により接続される。第3の冗長/入出力回路1C−4は、カラムデコーダ部1A−5内のカラムデコーダと、入出力データ線D1〜D16により接続され、冗長メモリマクロ2C内のコマンド接続回路2C−3と、読み出し信号線RE、書き込み信号線WR、冗長入力データ線IR、および冗長出力データ線ORにより接続され、冗長メモリマクロ2C内の第1のワード線接続回路2A−1と、冗長信号線RAにより接続される。
【0083】
図13は、冗長メモリマクロ2Cの部分構成を示す回路図である。冗長メモリマクロ2Cは、第1のワード線接続回路2A−1と、冗長メモリセルアレー2C−2と、コマンド接続回路2C−3とで構成される。第1のワード線接続回路2A−1は、複数のメモリマクロ1C1、1C2と、それぞれのワード線WL1〜32)および冗長信号線RAにより接続され、冗長メモリセルアレー2C−2と、冗長ワード線WLA1〜WLA32により接続される。また、冗長メモリセルアレー2C−2は、冗長メモリマクロ2C内のカラムデコーダと、冗長ビット線BLA65〜BLA68により接続される。また、コマンド接続回路2C−3とカラムデコーダとは、冗長カラムアドレス線COLRA、COLRBおよび冗長データ線DATARにより接続される。
【0084】
以下、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0085】
最初に、複数のメモリマクロ1C1、1C2に不良がなく、冗長メモリマクロ2Cが未使用の場合について説明する。
【0086】
まず、外部からリセット信号(RS)が第3の冗長/入出力回路1C−4に入力される。この時、メモリマクロ1C1、1C2のどこにも不良が無い場合は、ヒューズが切断されていないので、図12のインバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、NMOSトランジスタ111、113がオンし、NMOSトランジスタ112、114がオフする。したがって、書き込み信号線WRの状態が論理「H」レベルである場合に、入力データ線IN1は、NMOSトランジスタ111および入力トランジスタ115を介して、入出力データ線D1に接続される。一方、読み出し信号線REの状態が論理「H」レベルである場合、出力データ線OUT1は、NMOSトランジスタ113および出力トランジスタ117を介して、入出力データ線D1に接続される。
【0087】
以降、書き込み信号線WRの状態が論理「H」レベルである場合に、入力データ線IN2は、NMOSトランジスタ121および入力トランジスタ125を介して、入出力データ線D2に接続され、一方、読み出し信号線REの状態が論理「H」レベルである場合、出力データ線OUT2は、NMOSトランジスタ123および出力トランジスタ126を介して、入出力データ線D2に接続される。最後に、入力データ線IN16または出力データ線OUT16は、書き込み信号線WRまたは読み出し信号線REの状態が論理「H」レベルである場合に、入出力データ線D16に接続される。
【0088】
この時、冗長メモリマクロ2Cに接続される冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、NMOSトランジスタ1162がオフして、冗長入力データ線IR、および冗長出力データ線ORに信号は伝達されない。冗長メモリマクロ2Cでは、冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、図13のNOR回路53の出力信号は論理「H」レベルとなり、NMOSトランジスタ33、43がオンして、冗長ワード線WLA1〜WLA32は論理「L」レベルに固定される。
【0089】
また、冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ51、52から論理「H」レベルの出力信号を受けて、スイッチトランジスタ31、32、41、42は非導通となり、各メモリマクロ1C1、1C2のワード線WL1〜WL32は、冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離される。
【0090】
次に、図10に示すように、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線WL1〜WL32のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線BL1〜BL4、…、BL61〜BL64のうち1本が選択される。
【0091】
次に、外部コマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。第3の冗長/入出力回路1C−4が読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、選択した入出力データ線D1〜D16を介して、カラムデコーダに対してデータの受け渡しを行い、また外部入出力回路1C−6に対して、入力データ線IN1〜IN16または出力データ線OUT1〜OUT16を介してデータの受け渡しを行う。
【0092】
更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線を介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0093】
次に、メモリマクロ1C1のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1C2に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0094】
メモリマクロ1C1内のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、図12に示す第3の冗長/入出力回路1C−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)が第3の冗長/入出力回路1C−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号は伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、入力データ線IN1または出力データ線OUT1は、書き込み信号(WR)または読み出し信号(RE)の状態に応じて、入出力データ線D2に接続され、不良ビット線BLA1にアクセスされる代わりに正常なビット線BLA5にアクセスされる。以降、入力データ線IN2または出力データ線OUT2は、入出力データ線D3に接続され、最後に、入力データ線IN16または出力データ線OUT16は、図13に示す冗長メモリマクロ2C内のデータ線DATARに接続される。
【0095】
一方、メモリマクロ1C2内では、不良が無くヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、入力データ線IN1または出力データ線OUT1は、入出力データ線D1に接続される。以降、入力データ線IN2または出力データ線OUT2は、入出力データ線D2に接続され、最後に、入力データ線IN16または出力データ線OUT16は、入出力データ線D16に接続される。
【0096】
この時、冗長メモリマクロ2C内では、メモリマクロ1C1側の冗長信号線RAは論理「H」レベルであるので、冗長入力データ線IRまたは冗長出力データ線ORが、NMOSトランジスタ121または122を介して、冗長入出力データ線DATARに接続される。また、メモリマクロ1C1側の内部カラムアドレス信号線CADR、書き込み信号線WR、読み出し信号線RE、ワード線WL1〜WL32が、それぞれ、スイッチトランジスタ71、81、91、31−1〜31−32を介して、冗長カラムアドレス線COLRA、冗長書き込み信号線WRR、冗長読み出し信号線RER、冗長ワード線WLA1〜WLA32に接続される。
【0097】
一方、メモリマクロ1C2側の冗長信号線RAは論理「L」レベルであるので、スイッチトランジスタ72、82、92、32−1〜32−32は非導通であり、メモリマクロ1C2側の内部カラムアドレス信号線CADR、書き込み信号線WR、読み出し信号線RE、ワード線WL1〜WL32は、それぞれ、冗長カラムアドレス線COLRB、冗長書き込み信号線WRR、冗長読み出し信号線RER、冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離される。
【0098】
次に、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0099】
次に、外部コマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。第3の冗長/入出力回路1C−4は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で、入出力データ線D1〜D16を介してデータの転送を行い、外部入出力信号との間で、入力データ線IN1〜IN16または出力データ線OUT1〜OUT16を介してデータの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線を介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0100】
図14は、冗長メモリマクロの変形例を示し、スイッチトランジスタで構成された第1のワード線接続回路2A−1を、NAND回路で構成された第2のワード線接続回路2B−1で置き換え、スイッチトランジスタで構成された第1のコマンド接続回路2C−3を、NAND回路で構成された第2のコマンド接続回路2C−4で置き換えた場合の構成を示す。
【0101】
この様な構成をとることで、冗長ワード線、冗長ビット線、更に冗長カラムアドレス線、冗長書き込み信号線、冗長読み出し信号線、冗長入出力データ線までも、それぞれ、正常なメモリマクロのワード線、ビット線、内部カラムアドレス線、書き込み信号線、読み出し信号線、入出力データ線から完全に切り離すことが出来るので、ワード線、ビット線以外にも信号の動作タイミングが異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0102】
(実施の形態4)
図15は、本発明の実施の形態4に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。本実施形態において、複数のメモリマクロ(1B1、1B2)の構成は、ワード線が冗長メモリマクロ(2D)に接続されない点を除いて実施の形態2の構成と同じであり、主には冗長メモリマクロの構成が異なる。以下では、この相違点を中心に説明する。
【0103】
図16は、複数のメモリマクロ1B1、1B2の各内部構成を示すブロック図である。図16において、図6の実施の形態2と異なるのは、冗長メモリマクロに接続されるワード線を削除した点にある。
【0104】
図17は、冗長メモリマクロ2Dの部分構成を示す回路図である。図17において、冗長メモリマクロ2Dは、周辺回路1A−1と、ロウデコーダ1A−2と、外部信号接続回路2D−1と、冗長メモリセルアレー2A−2とで構成される。外部信号接続回路2D−1は、複数のメモリマクロ1B1、1B2と、それぞれのアドレス信号線ADR、コマンド信号線CMD、冗長信号線RAにより接続される。また、冗長メモリセルアレー2A−2は、ロウデコーダ1A−2と、ワード線WL1〜WL32により接続され、ロウデコーダ1A−2は、周辺回路1A−1と、内部ロウアドレス信号線RADR’により接続され、複数のメモリマクロ1B1、1B2と、冗長ビット線BLA0により接続される。
【0105】
以下、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0106】
最初に、複数のメモリマクロ1B1、1B2に不良がなく、冗長メモリマクロD2Dが未使用の場合について説明する。
【0107】
まず、図16において、外部からリセット信号(RS)が第2の冗長回路1B−4に入力される。この時、メモリマクロ1B1、1B2のどこにも不良が無い場合は、ヒューズが切断されていないので、インバータ11(図7を参照)から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。以降、ビット線BL63は第2のビット線BLA63に接続され、最後に、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。
【0108】
この時、冗長メモリマクロ2Dに接続される冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、冗長ビット線BLA0に信号は伝達されず、冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、図17のNAND回路61の出力信号は論理「H」レベルとなり、NAND回路62の出力信号も論理「H」レベルとなり、NAND回路63の出力信号である、周辺回路1A−1に入力されるコマンド信号、アドレス信号はすべて論理「L」レベルとなる。
【0109】
次に、図16において、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、メモリマクロ1B1、1B2内の周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号RADRと内部カラムアドレス信号CADRが生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、メモリマクロ1B1、1B2内のロウデーコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0110】
次に、外部からコマンド信号(CMD)を受けて、メモリマクロ1B1、1B2内の周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路が、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。
【0111】
更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第2の冗長回路1B−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0112】
次に、メモリマクロ1B1の第2のビット線BLA64が不良であり、メモリマクロ1B2に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0113】
メモリマクロ1B1内の第2のビット線BLA64が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、その第2の冗長回路1B−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)がメモリマクロ1B1内の第2の冗長回路1B−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11(図7を参照)から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、インバータ14でラッチされる。これにより、ビット線BL64は第2のビット線BLA63に接続される。以降、ビット線BL63は第2のビット線BLA62に接続され、最後に、ビット線BL1は冗長ビット線BLA0に接続される。
【0114】
一方、メモリマクロ1B2では、不良が無くヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。以降、ビット線BL63は第2のビット線BLA63に接続され、最後に、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。
【0115】
この時、冗長メモリマクロ2Dでは、メモリマクロ1B1側の冗長信号線RAは論理「H」レベルであるので、ビット線BL1の信号が冗長ビット線BLA0に伝達される。メモリマクロ1B2側の冗長信号線RAは論理「L」レベルであるので、ビット線BL1の信号は冗長ビット線BLA0に伝達されない。更に、メモリマクロ1B1側の冗長信号線RAが論理「H」レベルであることを受けて、NAND回路61は、アドレス信号(ADR)およびコマンド信号(CMD)の反転信号を出力する。また、メモリマクロ1B2側の冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、NAND回路62は論理「H」レベルを出力する。2つのNAND回路61、62の出力信号を受けて、NAND回路63は、メモリマクロ1B1のアドレス信号、コマンド信号と同じ位相の信号を出力する。
【0116】
次に、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、メモリマクロ1B1および冗長メモリマクロD2Dの周辺回路1A−1により、それぞれ、内部ロウアドレス信号(RADR)および冗長ロウアドレス信号(RADR’)が生成される。この内部ロウアドレス信号および冗長ロウアドレス信号を受けて、メモリマクロB1B1および冗長メモリマクロ2Dのロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号(RADR)を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0117】
次に、図16において、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。
【0118】
更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第2の冗長回路1B−4により選択された第2のビット線BLA61〜BLA1と、冗長ビット線BLA0とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0119】
この様な構成をとることで、接続すべき配線(ワード線)数を削減し、且つ、冗長メモリマクロ単独で冗長ワード線や冗長ビット線を制御できるので、ワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、救済効率を向上させることが出来る。
【0120】
更に、冗長メモリマクロ2Dの外部信号接続回路2D−1により、救済すべきメモリマクロに応じた冗長信号に対する、実施の形態1のスイッチトランジスタのオン/オフ時間によるワード線と冗長ワード線の接続遅延を除くことが出来、また冗長ワード線に伝達されるワード線の信号の動作タイミング調整(波形の整形等)をすることが出来る。
【0121】
(実施の形態5)
図18は、本発明の実施の形態5に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。本実施形態において、1つのメモリマクロ(1D)が冗長メモリマクロよりも少ないワード線数を有する点が、実施の形態1の構成と異なる。なお、メモリマクロ1A1の構成、冗長メモリマクロ2Aの内部構成は、実施の形態1と同じであるので、以下では、主に異なる部分について説明する。
【0122】
図18において、メモリマクロ1A1および冗長メモリマクロ2Dが32本のワード線を有するのに対し、メモリマクロ1Dは16本のワード線を有する。このため、冗長メモリマクロ2Dにおいて、メモリマクロ1D側の使用されないワード線は接地電位(VSS)に固定される。
【0123】
図19は、メモリマクロ1Dの内部構成を示すブロック図である。図19において、メモリマクロ1Dは、周辺回路1D−1と、ロウデコーダ1D−2と、16本のワード線WL1〜WL16と64本の第2のビット線BLA1〜BLA64に接続されたメモリセルアレー1D−3と、第1の冗長回路1A−4と、カラムデコーダ部1A−5と、I/O部1A−6とで構成される。
【0124】
以下では、このように構成された半導体集積回路の構成について説明するが、メモリマクロ1A1、1Dのいずれにも不良がない場合、メモリマクロ1A1の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1Dに不良が無い場合については、実施の形態1と同様である。よって、メモリマクロ1Dの第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロA1A1に不良が無い場合について説明する。
【0125】
メモリマクロ1D内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、その第1の冗長回路1A−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)が第1の冗長回路1A−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11(図3を参照)から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA3に接続され、最後に、ビット線BL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0126】
一方、メモリマクロ1A1では、不良が無くヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。
【0127】
この時、冗長メモリマクロ2Aでは、メモリマクロ1D側の冗長信号線RAは論理「H」レベルであるので、ビット線BL64の信号が冗長ビット線BLA65に伝達される。メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAは論理「L」レベルであるので、ビット線BL64の信号は冗長ビット線BLA65に伝達されない。更に、冗長メモリマクロ2Aにおいて、メモリマクロ1D側の冗長信号線RAが論理「H」レベルであることを受けて、NOR回路53(図4を参照)の出力信号は論理「L」レベルとなり、冗長ワード線WLA1〜WLA32は論理「L」レベルに固定されない。
【0128】
また、メモリマクロ1D側の冗長信号線RAの論理「H」レベルと、インバータ52からの論理「L」レベルの出力信号とを受けて、スイッチトランジスタ32、42は導通するので、使用されない冗長ワード線WLA1〜WLA16はVSSで固定され、メモリマクロ1Dのワード線WL1〜WL16は冗長ワード線WLA17〜WLA32に接続され、信号が伝達される。同時に、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ51からの論理「H」レベルの出力信号を受けて、スイッチトランジスタ31、41は非導通となるので、メモリマクロ1A1のワード線WL1〜WL32は冗長ワード線WLA1〜WLA32に接続されず、信号が伝達されることは無い。
【0129】
次に、メモリマクロ1A1において、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0130】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線BLA1〜BLA64とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0131】
同様に、メモリマクロ1Dにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1D−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1D−2により、16本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0132】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1D−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間でデータ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線BLA2〜BLA64と、冗長ビット線BLA65とを介して、メモリセルアレー1A−3および冗長メモリセルアレー1D−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0133】
この様な構成をとることで、冗長ワード線および冗長ビット線をそれぞれ正常なメモリマクロのワード線およびビット線から完全に切り離すことが出来るので、複数のメモリマクロにおいて、ワード線やビット線の動作タイミングが同じでも異なっていても、またワード線数が異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができる。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0134】
(実施の形態6)
図20は、本発明の実施の形態6に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。本実施形態の半導体集積回路は、ワード線数がそれぞれ異なる3つのメモリマクロと、これら3つのメモリマクロを救済するための1つの冗長メモリマクロとを搭載する。なお、図20において、メモリマクロ1A1は実施の形態1と同じ構成(32本のワード線)をとり、メモリマクロ1Dは実施の形態5と同じ構成(16本のワード線)をとる。メモリマクロ1Eは、8本のワード線を有する。ここでは、3つのメモリマクロが搭載されている例について説明するが、4つ以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が、半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、メモリマクロ1A1、メモリマクロ1D、メモリマクロ1E、冗長メモリマクロ2E内のワード線やビット線、入出力データの数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0135】
図20において、冗長メモリマクロE2Eとメモリマクロ1Eとは、8本のワード線WL1〜WL8、冗長ビット線BLA65、および冗長信号線RAにより接続される。また、冗長メモリマクロE2Eにおいて、メモリマクロ1Dとメモリマクロ1E側で使用されないワード線WL9〜WL16は接地電位(VSS)に接続される。
【0136】
図21は、メモリマクロ1Eの内部構成を示すブロック図である。図21において、メモリマクロ1Eは、周辺回路1E−1と、ロウデコーダ1E−2と、8本のワード線WL1〜WL8と64本の第2のビット線BLA1〜BLA64に接続されたメモリセルアレー1E−3と、第1の冗長回路1A−4と、カラムデコーダ部1A−5と、I/O部1A−6とで構成される。
【0137】
図22は、冗長メモリマクロ2Eの部分構成を示す回路図である。図22において、冗長メモリマクロ2Eは、ワード線接続回路2E−1と、冗長ビット線接続回路2E−2と、冗長メモリセルアレー2A−2とで構成される。ワード線接続回路2E−1と冗長メモリセルアレー2A−2とは、冗長ワード線WLA1〜WLA32で接続され、ワード線接続回路2E−1と冗長ビット線接続回路2E−2とは、メモリマクロ1Dからの冗長信号線RAの反転信号と、メモリマクロ1Eの冗長信号線RAの反転信号とにより接続され、冗長ビット線接続回路2E−2と冗長メモリセルアレー2A−2とは、冗長ビット線BLA65により接続される。
【0138】
以下では、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0139】
最初に、メモリマクロ1A1、1D、1Eのいずれにも不良がなく、冗長メモリマクロ2Eが未使用の場合について説明する。
【0140】
まず、外部からリセット信号(RS)がすべてのマクロメモリの第1の冗長回路1A−4に入力される。この時、メモリマクロ1A1、メモリマクロ1D、メモリマクロ1Eのどこにも不良が無い場合は、ヒューズが切断されていないので、インバータ11(図3を参照)から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。
【0141】
この時、冗長メモリマクロ2Eに接続される冗長信号線RAはすべて論理「L」レベルとなり、冗長ビット線BLA65に信号は伝達されず、冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、冗長メモリマクロ2EのNOR回路53とNOR回路54の出力信号はどちらも論理「H」レベルとなり、冗長ワード線WLA1〜WLA32は論理「L」レベルに固定される。また、冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ51、52、55からの論理「H」レベルの出力信号を受けて、ワード線接続回路2E−1内のスイッチトランジスタは非導通となり、メモリマクロ1A1のワード線WL1〜WL32と、メモリマクロ1Dのワード線WL1〜WL16と、メモリマクロ1Eのワード線WL1〜WL8とは、冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離される。
【0142】
次に、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、メモリマクロ1A1内の周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0143】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0144】
同様に、メモリマクロ1D内の周辺回路1D−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1D−2により、16本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0145】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1D−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0146】
同様に、メモリマクロ1E内の周辺回路1E−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1E−2により、8本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0147】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1E−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0148】
次に、メモリマクロ1A1の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1D、メモリマクロ1Eに不良が無い場合について説明する。
【0149】
メモリマクロ1A1内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、メモリマクロ1A1における第1の冗長回路1A−4内のヒューズ12(図3を参照)が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)がメモリマクロ1A1内の第1の冗長回路1A−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA3に接続され、最後に、ビット線BL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0150】
一方、メモリマクロ1Dおよびメモリマクロ1Eでは、不良が無くヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。
【0151】
この時、冗長メモリマクロ2Eでは、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAは論理「H」レベルとなり、ビット線BL64の信号が冗長ビット線BLA65に伝達される。メモリマクロ1Dとメモリマクロ1E側の冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、ビット線BL64の信号は冗長ビット線BLA65に伝達されない。更に、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAが論理「H」レベルであることを受けて、図22のNOR回路53とNOR回路54の出力信号は論理「L」レベルとなり、冗長ワード線WLA1〜WLA32は論理「L」レベルに固定されない。また、メモリマクロ1A1側の冗長信号線RAの論理「H」レベルと、インバータ51からの論理「L」レベルの出力信号とを受けて、メモリマクロ1A1側のワード線WL1〜WL32に接続されるスイッチトランジスタは導通するので、メモリマクロ1A1のワード線WL1〜WL32は冗長ワード線WLA1〜WLA32に接続され、信号が伝達される。
【0152】
同時に、メモリマクロ1Dおよびメモリマクロ1Eに接続される冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ52およびインバータ55からの論理「H」レベルの出力信号を受けて、メモリマクロ1D側のワード線WL1〜WL8、メモリマクロ1E側のワード線WL17〜WL32、および接地電位(VSS)に固定されたワード線WL9〜WL16に接続されるスイッチトランジスタは非導通となるので、メモリマクロ1Eのワード線WL1〜WL8、VSSレベルに固定された使用しないワード線WL9〜WL16、およびメモリマクロ1Dのワード線WL1〜WL16はそれぞれ、冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離され、信号が伝達されることは無い。
【0153】
次に、メモリマクロ1A1において、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0154】
次に、外部コマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線BLA2〜BLA64と、冗長ビット線BLA65とを介して、メモリセルアレー1A−3および冗長メモリセルアレー2A−2内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0155】
同様に、メモリマクロ1Dにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1D−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1D−2により、16本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0156】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1D−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0157】
同様に、メモリマクロ1Eにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1E−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1E−2により、8本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0158】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1E−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0159】
次に、メモリマクロ1Dの第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1A1とメモリマクロ1Eとに不良が無い場合について説明する。
【0160】
メモリマクロ1D内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、メモリマクロ1Dにおける第1の冗長回路1A−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)がメモリマクロ1D内の第1の冗長回路1A−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA3に接続され、最後に、ビット線BL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0161】
一方、メモリマクロ1A1では、不良が無くヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。
【0162】
この時、冗長メモリマクロ2Aでは、メモリマクロ1Dに接続される冗長信号線RAは論理「H」レベルとなり、ビット線BL64の信号が冗長ビット線BLA65に伝達される。メモリマクロ1A1に接続される冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、メモリマクロ1A1のビット線BL64の信号は冗長ビット線BLA65に伝達されない。また、メモリマクロ1Eに接続される冗長信号線RAも論理「L」レベルとなり、メモリマクロ1Eのビット線BL64の信号も冗長ビット線BLA65に伝達されない。
【0163】
更に、メモリマクロ1Dに接続される冗長信号線RAが論理「H」レベルであることを受けて、図22のNOR回路53の出力信号は論理「L」レベルとなり、冗長ワード線WLA17〜WLA32は論理「L」レベルに固定されない。また、メモリマクロ1A1とメモリマクロ1Eに接続されるそれぞれの冗長信号線RAが論理「L」レベルであることを受けて、図22のNOR回路54の出力信号は論理「H」レベルとなり、冗長ワード線WLA1〜WLA16は論理「L」レベルに固定される。
【0164】
また、メモリマクロ1Dに接続される冗長信号線RAの論理「H」レベルと、インバータ52からの論理「L」レベルの出力信号とを受けて、メモリマクロ1D側のワード線WL17〜WL32に接続されるスイッチトランジスタは導通するので、メモリマクロ1Dのワード線WL1〜WL16は冗長ワード線WLA17〜WLA32に接続され、信号が伝達される。
【0165】
同時に、メモリマクロ1A1に接続される冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ51からの論理「H」レベルの出力信号とを受けて、メモリマクロ1A1側のワード線WL1〜WL32に接続されるスイッチトランジスタは非導通となるので、メモリマクロ1A1のワード線WL1〜WL32は冗長ワード線WLA1〜WLA32から切り離され、信号が伝達されることは無い。
【0166】
また、メモリマクロ1Eに接続される冗長信号線RAの論理「L」レベルと、インバータ55からの論理「H」レベルの出力信号を受けて、メモリマクロ1E側のワード線WL1〜WL8に接続されるスイッチトランジスタは非導通となるので、メモリマクロ1Eのワード線WL1〜WL8は冗長ワード線WLA1〜WLA8から切り離され、信号が伝達されることは無い。
【0167】
次に、メモリマクロ1A1において、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0168】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0169】
同様に、メモリマクロ1Dにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1D−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1D−2により、16本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0170】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1D−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線BLA2〜BLA64と、冗長ビット線BLA65とを介して、メモリセルアレー1A−3および上長メモリセルアレー2A−2内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0171】
同様に、メモリマクロ1Eにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1E−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデーコーダ1E−2により、8本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0172】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1E−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線とを介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0173】
次に、メモリマクロ1Dとメモリマクロ1Eの第2のビット線BLA1が共に不良であり、メモリマクロ1A1には不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0174】
メモリマクロ1D内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、メモリマクロ1Dにおける第1の冗長回路1A−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)がメモリマクロ1D内の第1の冗長回路1A−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA3に接続され、最後に、ビット線BL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0175】
また、メモリマクロ1E内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、予めレーザートリミング装置により、メモリマクロ1Eにおける第1の冗長回路1A−4内のヒューズ12が切断される。次に、外部からリセット信号(RS)がメモリマクロ1E内の第1の冗長回路1A−4に入力されるが、ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA3に接続され、最後に、ビット線BL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0176】
一方、メモリマクロ1A1では、不良が無くヒューズが切断されていないので、インバータ11から論理「H」レベルの出力信号が伝達され、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続される。以降、ビット線BL2は第2のビット線BLA2に接続され、最後に、ビット線BL64は第2のビット線BLA64に接続される。
【0177】
この時、冗長メモリマクロ2Aでは、メモリマクロ1Dに接続される冗長信号線RAは論理「H」レベルとなり、メモリマクロ1Dのビット線BL64の信号が冗長ビット線BLA65に伝達される。また、メモリマクロ1Eに接続される冗長信号線RAも論理「H」レベルとなり、メモリマクロ1Eのビット線BL64の信号が冗長ビット線BLA65に伝達される。しかし、メモリマクロ1A1に接続される冗長信号線RAは論理「L」レベルとなり、メモリマクロ1A1のビット線BL64の信号は冗長ビット線BLA65に伝達されない。
【0178】
この時、メモリマクロ1Dに接続される冗長信号線RAの論理「H」レベルを受けて、図22のインバータ52の出力信号は論理「L」となる。同時に、メモリマクロ1Eに接続される冗長信号線RAの論理「H」レベルを受けて、図22のインバータ55の出力信号も論理「L」レベルとなる。このインバータ52とインバータ55の出力信号を受けて、冗長ビット線接続回路2E−2内のNAND回路58は論理「H」レベルを出力する。このNAND回路58は、メモリマクロ1Dとメモリマクロ1Eを共に救済する場合にのみ論理「H」レベルを出力する。NAND回路58からの論理「H」レベルを受けて、インバータ57は論理「L」レベルを出力し、スイッチトランジスタ56は非導通となる。これにより、冗長ビット線BLA65は、冗長ビット線接続回路2E−2により、メモリマクロ1Dの冗長ビット線と、メモリマクロ1Eの冗長ビット線とに電気的に分断される。
【0179】
次に、メモリマクロ1A1において、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1A−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1A−2により、32本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0180】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1A−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線を介して、メモリセルアレー1A−3内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0181】
同様に、メモリマクロ1Dにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1D−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1D−2により、16本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0182】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1D−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線WLA2〜WLA64と、冗長ビット線BLA65とを介して、メモリセルアレー1A−3および冗長メモリセルアレー2A−2内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0183】
同様に、メモリマクロ1Eにおいて、外部からアドレス信号(ADR)が入力され、周辺回路1E−1により、内部ロウアドレス信号(RADR)と内部カラムアドレス信号(CADR)が生成される。この内部ロウアドレス信号を受けて、ロウデコーダ1E−2により、8本のワード線のうち1本が選択される。また、内部カラムアドレス信号を受けて、カラムデコーダ部1A−5のカラムデコーダにより、4本のビット線のうち1本が選択される。
【0184】
次に、外部からのコマンド信号(CMD)を受けて、周辺回路1E−1により、読み出し信号(RE)あるいは書き込み信号(WR)が生成される。I/O部1A−6の入出力回路は、読み出し信号あるいは書き込み信号を受けて、カラムデコーダとの間で入出力データ線DATA1〜DATA16を介して、データの転送を行う。更に、先にカラムデコーダ部1A−5により選択されたビット線と、第1の冗長回路1A−4により選択された第2のビット線BLA2〜BLA64と、冗長ビット線BLA65とを介して、メモリセルアレー1A−3および冗長メモリセルアレー2A−2内の所望のメモリセルに対してデータの読み出しまたは書き込みが行われる。
【0185】
この様な構成をとることで、冗長ワード線および冗長ビット線をそれぞれ正常なメモリマクロのワード線およびビット線から完全に切り離すことが出来るので、複数のメモリマクロにおいて、ワード線やビット線の動作タイミングが同じでも異なっていても、またワード線数が異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができ、複数のメモリマクロのうち1つあるいは複数個を救済することが出来る。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0186】
(実施の形態7)
図23は、本発明の実施の形態7に係る半導体集積回路内の冗長メモリマクロの部分構成を示す回路図である。なお、本実施の形態の半導体集積回路装置において、この様な冗長救済の形態が半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、冗長メモリマクロ2G内のワード線やビット線の数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0187】
図23において、冗長メモリマクロ2Gは、冗長メモリセルアレー2C−2と、第1のワード線接続回路2A−1とで構成され、一方のメモリマクロとは4本の冗長ビット線BLA−1〜BLA−4により接続され、他方のメモリマクロとは1本のビット線BLA−4により接続される。
【0188】
この様な構成をとることで、冗長ワード線および冗長ビット線をそれぞれ正常なメモリマクロのワード線およびビット線から完全に切り離すことが出来るので、複数のメモリマクロにおいて、ワード線やビット線の動作タイミングが同じでも異なっていても、また冗長すべきビット線数が異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができ、複数のメモリマクロのうち一つを救済することが出来る。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0189】
(実施の形態8)
図24は、本発明の実施の形態8に係る半導体集積回路内の冗長メモリマクロ2Hの部分構成を示す回路図である。なお、本実施の形態の半導体集積回路装置において、この様な冗長救済の形態が半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、冗長メモリマクロ2H内のワード線やビット線の数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0190】
図24において、冗長メモリマクロ2Hは、冗長メモリセルアレー2C−2と、第1のワード線接続回路2A−1と、第3のワード線接続回路2H−1とで構成され、一方のメモリマクロとは2本の冗長ビット線BLA−11、BLA−12により接続され、他方のメモリマクロとは2本の冗長ビット線BLA−21、BLA−22により接続される。両方のメモリマクロを救済する場合のみ、インバータ51、52の出力信号が共に論理「L」レベルとなり、第3のワード線接続回路2H−1において、NOR回路301の出力信号が論理「H」レベルとなる。この論理「H」レベルの信号と、インバータ302からの論理「L」レベルの出力信号とを受けて、スイッチトランジスタ303、304が非導通となり、一方のメモリマクロ側と他方のメモリマクロ側の冗長ワード線を電気的に分断する。
【0191】
この様な構成をとることで、冗長ワード線を分割することができ、ワード線やビット線の動作が同じでも異なっていても、複数のメモリマクロで共有して冗長メモリマクロを使用することができ、複数のメモリマクロのうちいずれも救済することが出来る。このため、面積効率と救済効率を向上させることが出来る。
【0192】
(実施の形態9)
図25は、本発明の実施の形態7に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図である。なお、本実施の形態では、メモリマクロが2個搭載されている例について説明するが、3個以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、メモリマクロ1F1、メモリマクロ1F2、および冗長メモリマクロ2F内のワード線やビット線、入出力データ線の数は、本実施の形態の構成に限定されない。また、メモリマクロ1F1、1F2は、図2に示すメモリマクロ1A1、1A2とは、冗長回路のみが異なり、他の回路は同じである。冗長回路の違いについては、図26を参照して説明する。
【0193】
図25において、上記したようなメモリマクロ1F1、1F2は、メモリマクロ1A1、1A2とは異なり、冗長メモリマクロ2Fの第1の冗長コントロール回路と、それぞれ冗長コントロール信号線SA1〜SA64、SB1〜SB64により接続される。
【0194】
図26は、冗長メモリマクロ2Fにおける第1の冗長コントロール回路2F−1の部分構成を示す回路図である。第1の冗長コントロール回路2F−1は、64個のシフトヒューズ部2F−3を含む冗長ヒューズ部2F−2と、2個のマクロセレクトヒューズ部2F−5を含むマクロヒューズ部2F−4と、マクロセレクト回路2F−6とで構成される。
【0195】
冗長ヒューズ部2F−2内の各シフトヒューズ部2F−3は、外部のリセット信号線RSと接続され、またマクロセレクト回路2F−6と、64本のシフト信号線S1〜S64により接続される。
【0196】
マクロヒューズ部2F−4内のマクロセレクトヒューズ部2F−5も、外部のリセット信号線RSと接続され、またマクロセレクト回路2F−6と、2本のマクロセレクト信号線MS1、MS2により接続される。
【0197】
マクロセレクト回路2F−6は、メモリマクロ1F1に冗長コントロール信号線SA1〜SA64を介して信号を出力する64個のNAND回路102、112、…と、メモリマクロ1F2に冗長コントロール信号線SB1〜SB64を介して信号を出力する64個のNAND回路101、102、…とで構成される。
【0198】
64個のシフトヒューズ部2F−3からのシフト信号線S1〜S64がそれぞれ、メモリマクロ1F1に対応する64個のNAND回路102、112、…、およびメモリマクロ1F2に対応する64個のNAND回路101、111、…の一方の入力端子に接続される。また、2個のマクロセレクトヒューズ部2F−5からのマクロセレクト信号線MS1、MS2がそれぞれ、メモリマクロ1F1に対応する64個のNAND回路102、112、…、およびメモリマクロ1F2に対応する64個のNAND回路101、102、…の他方の入力端子に接続される。
【0199】
図27は、メモリマクロ1F1における第4の冗長回路1F−4とメモリセルアレー1A−3の構成を示す回路図である。なお、図27には、メモリマクロ1F1の部分構成しか示さないが、メモリマクロ1F2の部分構成についても、冗長コントロール信号線がSB1〜SB2であることを除いて同様である。図27において、第4の冗長回路1F−4と冗長メモリマクロ2Fとは、冗長コントロール信号線SA1〜SA64、冗長ビット線BLA65、および冗長信号線RAにより接続され、メモリセルアレー1A−3と第4の冗長回路1F−4とは、第2のビット線BLA1〜BLA64により接続される。
【0200】
以下では、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0201】
最初に、メモリマクロ1F1、1F2のいずれにも不良がなく、冗長メモリマクロ2Fが未使用の場合について説明する。
【0202】
まず、外部からリセット信号(RS)が第1の冗長コントロール回路2F−1に入力される。この時、メモリマクロ1F1、1F2のどこにも不良が無い場合は、ヒューズが切断されていないので、図26のシフトヒューズ部2F−3内のインバータ11から論理「L」レベルの出力信号が伝達され、インバータ13の論理「H」レベルの出力信号が以降のシフトヒューズ部2F−3に伝達され、それがインバータ14によってラッチされる。
【0203】
また、マクロセレクトヒューズ部2F−5内のインバータ211から論理「L」レベルの出力信号が伝達され、それがインバータ213、214によってラッチされる。
【0204】
したがって、マクロセレクト回路2F−6に接続された64本のシフト信号線S1〜S64と、2本のマクロセレクト信号線MS1、MS2とは、全て論理「L」レベルとなる。このため、マクロセレクト回路2F−6内のNAND回路101、111、102、112、…から、全て論理「H」レベルの信号が、冗長コントロール信号線SA1〜SA64、SB1〜SB64に出力される。
【0205】
メモリマクロF1F1、1F2において、冗長コントロール信号線SA1〜SA64、SB1〜SB64の論理「H」レベルを受けて、図27に示す第4の冗長回路1F−4内のNMOSトランジスタ15がオンし、インバータ91は論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオフする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA1と接続され、以降、BL2はBLA2と接続され、最後にBL64はBLA64に接続される。
【0206】
次に、メモリマクロ1F1の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1F2に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0207】
メモリマクロ1F1内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、冗長メモリマクロ2F内の第1の冗長コントロール回路2F−1において、予めレーザートリミング装置により、シフト信号線S1に接続されるシフトヒューズ部2F−3内のヒューズ12と、マクロセレクト信号線MS1に接続されるマクロセレクトヒューズ部2F−5内のヒューズ212が切断される。
【0208】
次に、外部からリセット信号(RS)が冗長メモリマクロ2F内の第1の冗長コントロール回路2F−1に入力されるが、上記ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。このため、シフト信号線S1は論理「H」レベルとなる。以降、シフト信号線S2〜S64も論理「H」レベルが順次伝達される。
【0209】
また、上記ヒューズ212が切断されているため、インバータ211から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ217を通してインバータ213に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ214でラッチされる。このため、マクロセレクト信号線MS1は論理「H」レベルとなる。この時、メモリマクロ1F2を選択するマクロセレクトヒューズ部2F−5内のヒューズは切断されていないため、マクロセレクト信号線MS2は論理「L」レベルとなる。
【0210】
これらの信号を受けて、マクロセレクト回路2F−6内のマクロセレクト信号線MS1に接続されたNAND回路102、112、…は全て、論理「L」レベルを冗長コントロール信号線SA1〜SA64に出力する。一方、マクロセレクト信号線MS2は論理「L」レベルであるので、マクロセレクト信号線MS2に接続されたNAND回路101、111、…は全て、論理「H」レベルを冗長コントロール信号線SB1〜SB64に出力する。
【0211】
冗長コントロール信号線SA1〜SA64が論理「L」レベルであるので、メモリマクロ1F1において、第4の冗長回路1F−4内のNMOSトランジスタ15がオフし、インバータ91は論理「H」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオンする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続され、以降、BL2はBLA3に接続され、最後にBL64はBLA65に接続される。
【0212】
一方、冗長コントロール信号線SB1〜SB64が論理「H」レベルであるので、メモリマクロ1F2において、第4の冗長回路1F−4内のNMOSトランジスタ15がオンし、インバータ91は論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオフする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続され、以降、BL2はBLA2に接続され、最後にBL64はBLA64に接続される。
【0213】
この様な構成をとることで、冗長救済のためのヒューズを複数のメモリマクロで共有して使用することが出来る。このため、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0214】
(実施の形態10)
図28は、本発明の実施の形態10に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ内の第2の冗長コントロール回路の部分構成を示す回路図である。図28に示す第2の冗長コントロール回路2F−12が図26に示す第1の冗長コントロール回路2F−1と異なるのは、2つのマクロメモリ1F1、1F2に対して1つのマクロセレクトヒューズ部2F−5しか設けられていない点にある。このマクロセレクトヒューズ部2F−5において、インバータ213の入力信号がマクロセレクト回路2F−6のマクロセレクト信号線MS1に供給され、インバータ213の出力信号がマクロセレクト信号線MS2に供給される。
【0215】
以下では、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0216】
メモリマクロ1F1、1F2のいずれにも不良がなく、冗長メモリマクロ2Fが未使用の場合については、ヒューズすべてが切断されず、実施の形態9と同様であるので、説明を省略する。
【0217】
よって、メモリマクロ1F1の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1F2に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0218】
メモリマクロF1F1内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、冗長メモリマクロ2F内の第2の冗長コントロール回路2F−12において、予めレーザートリミング装置により、シフト信号線S1に接続されるシフトヒューズ部2F−3内のヒューズ12と、マクロセレクトヒューズ部2F−5内のヒューズ212とが切断される。
【0219】
次に、外部からリセット信号(RS)が冗長メモリマクロF2F内の第2の冗長コントロール回路2F−12に入力されるが、上記ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。このため、シフト信号線S1は論理「H」レベルとなる。以降、シフト信号線S2〜S64にも論理「H」レベルが順次伝達される。
【0220】
また、上記ヒューズ212が切断されているため、インバータ211から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ217を通して、インバータ213に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ214でラッチされる。このため、マクロセレクト信号線MS1は論理「H」レベルとなる。この時、インバータ213の出力端子がマクロセレクト信号線MS2に接続されており、よってマクロセレクト信号線MS2は論理「L」レベルとなる。
【0221】
この後の動作は、実施の形態9と同じである。
【0222】
次に、メモリマクロ1F2の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1F1に不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0223】
メモリマクロ1F2内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、冗長メモリマクロ2F内の第2の冗長コントロール回路2F−12において、予めレーザートリミング装置により、シフト信号線S1に接続されるシフトヒューズ部2F−3内のヒューズ12が切断される。この時、マクロセレクトヒューズ部2F−5内のヒューズ212は切断されない。
【0224】
次に、外部からリセット信号(RS)が冗長メモリマクロ2F内の第2の冗長コントロール回路2F−12に入力されるが、上記ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。このため、シフト信号線S1は論理「H」レベルとなる。以降、シフト信号線S2〜S64にも論理「H」レベルが順次伝達される。
【0225】
また、上記ヒューズ212が切断されていないため、インバータ211から論理「L」レベルの出力信号が伝達される。このため、インバータ213に論理「L」レベルが入力され、それがインバータ214でラッチされる。このため、マクロセレクト信号線MS1は論理「L」レベルとなる。この時、インバータ213の出力端子がマクロセレクト信号線MS2に接続されており、マクロセレクト信号線MS2は論理「H」レベルとなる。
【0226】
これらの信号を受けて、マクロセレクト回路2F−6内のマクロセレクト信号線MS1に接続されたNAND回路102、112、…は全て、論理「H」レベルを冗長コントロール信号線SA1〜SA64に出力する。一方、マクロセレクト信号線MS2は論理「H」レベルであるので、マクロセレクト信号線MS2に接続されたNAND回路101、111、…は全て、論理「L」レベルを冗長コントロール信号線SB1〜SB64に出力する。
【0227】
冗長コントロール信号線SA1〜SA64が論理「H」レベルであるので、メモリマクロ1F1において、第4の冗長回路1F−4内のNMOSトランジスタ15がオンし、インバータ91は論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオフする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続され、以降、BL2はBLA2に接続され、最後にBL64はBLA64に接続される。
【0228】
一方、冗長コントロール信号線SB1〜SB64が論理「L」レベルであるので、メモリマクロ1F2において、第4の冗長回路1F−4内のNMOSトランジスタ15がオフし、インバータ91は論理「H」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオンする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続され、以降、BL2はBLA3に接続され、最後にBL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0229】
この様な構成をとることで、冗長救済のためのヒューズを複数のメモリマクロで共有して使用することができ、更にマクロセレクトヒューズの個数を削減することが出来る。このため、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0230】
なお、本実施の形態では、2つのメモリマクロで、1つのマクロセレクトヒューズを共用する構成としたが、3つのメモリマクロに対しては、2つのマクロセレクトヒューズを共用し、マクロセレクトヒューズ部において、マクロセレクト信号線への信号をデコードして供給することで、本発明を実現することができる。
【0231】
(実施の形態11)
図29は、本発明の実施の形態11に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ内の第3の冗長コントロール回路の部分構成を示す回路図である。本実施の形態の半導体集積回路は、64本のビット線を有するメモリマクロ1F1と、65本のビット線を有するメモリマクロ1Gというように、構成の異なるメモリマクロが複数搭載されている。ここでは、メモリマクロ1F1が1個、メモリマクロ1Gが1個搭載されている例について説明するが、3個以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、メモリマクロ1F1、メモリマクロ1G、冗長メモリマクロ2F内のワード線やビット線、入出力データの数は、本実施の形態の構成には限定されない。
【0232】
図29において、第3の冗長コントロール回路2F−13は、65個のシフトヒューズ部2F−3から構成される冗長ヒューズ部2F−2と、2個のマクロセレクトヒューズ部2F−5から構成されるマクロヒューズ部2F−4と、マクロセレクト回路2F−6とで構成される。冗長ヒューズ部2F−2内のそれぞれのシフトヒューズ部2F−3は、外部のリセット信号線RSと接続され、冗長ヒューズ部2F−2内のそれぞれのシフトヒューズ部2F−3とマクロセレクト回路2F−6とは、65本のシフト信号線S1〜S65により接続される。
【0233】
また、マクロヒューズ部2F−4内のマクロセレクトヒューズ部2F−5も、外部のリセット信号線RSと接続され、マクロセレクトヒューズ部2F−5とマクロセレクト回路2F−6とは、2本のマクロセレクト信号線MS1、MS2により接続される。
【0234】
マクロセレクト回路2F−6は、メモリマクロ1F1に冗長コントロール信号線SA1〜SA64を介して信号を出力する64個のNAND回路102、112、…と、メモリマクロ1Gに冗長コントロール信号線SB1〜SB65を介して信号を出力する65個のNAND回路101、102、…とで構成される。
【0235】
64個のシフトヒューズ部2F−3からのシフト信号線S1〜S64がそれぞれ、メモリマクロ1F1に対応する64個のNAND回路102、112、…、およびメモリマクロ1Gに対応する65個のNAND回路101、111、…の一方の入力端子に接続される。また、2個のマクロセレクトヒューズ部2F−5からのマクロセレクト信号線MS1、MS2がそれぞれ、メモリマクロ1F1に対応する64個のNAND回路102、112、…、およびメモリマクロ1Gに対応する65個のNAND回路101、102、…の他方の入力端子に接続される。
【0236】
図30は、メモリマクロ1Gにおける第4の冗長回路1G−4とメモリセルアレー1A−3の構成を示す回路図である。図30において、第4の冗長回路1G−4と冗長メモリマクロ2Fとは、冗長コントロール信号線SA1〜SA65、冗長ビット線BLA66、および冗長信号線RAにより接続され、メモリセルアレー1A−3と第4の冗長回路1G−4とは、第2のビット線BLA1〜BLA65により接続される。
【0237】
ここで、ビット線数が最も多い(例えば、65本)メモリマクロ1Gに合わせて、冗長ヒューズ部2F−2のシフトヒューズ部2F−3の個数、マクロセレクト回路2F−6のNAND回路の個数が設定される以外は、実施の形態9と同じ構成であるので、動作説明については省略する。
【0238】
この様な構成をとることで、冗長救済のためのヒューズをビット線数の異なる複数のメモリマクロで共有して使用することが出来る。このため、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0239】
(実施の形態12)
図31は、本発明の実施の形態12に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ内の第4の冗長コントロール回路の部分構成を示す回路図である。本実施の形態の半導体集積回路は、64本のビット線を有するメモリマクロ1F1、58本のビット線を有するメモリマクロ1H、4本のビット線を有するメモリマクロ1Iというように、構成の異なるメモリマクロが複数搭載されている。ここでは、メモリマクロ1F1が1個、メモリマクロ1Hが1個、メモリマクロ1Iが1個搭載されている例について説明するが、4個以上搭載される場合についても同様である。また、この様な冗長救済の形態が半導体集積回路内に複数存在してもよい。また、メモリマクロ1F1、メモリマクロ1H、メモリマクロ1I、冗長メモリマクロF2E内のワード線やビット線、入出力データの数は、本実施の形態の構成に限定されない。
【0240】
図31において、冗長メモリマクロ2E内の第4の冗長コントロール回路2E−14は、64個のシフトヒューズ部2F−3から構成される冗長ヒューズ部2E−2と、3個のマクロセレクトヒューズ部2F−5から構成されるマクロヒューズ部2E−4と、マクロセレクト回路2E−6と、ヒューズ接続回路2E−7とで構成される。
【0241】
冗長ヒューズ部2E−2内のそれぞれのシフトヒューズ部2F−3は、外部のリセット信号線RSと接続され、冗長ヒューズ部2E−2内のそれぞれのシフトヒューズ部2F−3とマクロセレクト回路2E−6とは、64本のシフト信号線S1〜S64により接続される。
【0242】
また、マクロヒューズ部2E−4内のマクロセレクトヒューズ部2F−も、外部のリセット信号線RSと接続され、マクロセレクトヒューズ部2F−5とマクロセレクト回路2E−6とは、3本のマクロセレクト信号線MS1〜MS3により接続される。
【0243】
マクロセレクト回路2E−6は、メモリマクロ1F1に冗長コントロール信号線SF1〜SF64を介して信号を出力する64個のNAND回路101、111、…と、メモリマクロ1Hに冗長コントロール信号線SH1〜SH58を介して信号を出力する58個のNAND回路102、112、…と、メモリマクロ1Hに冗長コントロール信号線SI1〜SI4を介して信号を出力する4個のNAND回路とで構成される。
【0244】
64個のシフトヒューズ部2F−3からのシフト信号線S1〜S64がそれぞれ、メモリマクロ1F1に対応する64個のNAND回路101、111、…、メモリマクロ1Hに対応する58個のNAND回路102、112、…、およびメモリマクロ1Iに対応する4個のNAND回路の一方の入力端子に接続される。また、3個のマクロセレクトヒューズ部2F−5からのマクロセレクト信号線MS1、MS2、MS3がそれぞれ、メモリマクロ1F1に対応する64個のNAND回路101、111、…、メモリマクロ1Hに対応する58個のNAND回路102、112、…、およびメモリマクロ1Iに対応する4個のNAND回路の他方の入力端子に接続される。また、マクロセレクト信号線MS2とマクロセレクト信号線MS3とはヒューズ接続回路2E−7に接続される。
【0245】
図32は、メモリマクロ1Hにおける第4の冗長回路1H−4とメモリセルアレー1H−3の部分構成を示す回路図である。図32において、第4の冗長回路1H−4と冗長メモリマクロ2Eとは、冗長コントロール信号線SH1〜SH58、冗長ビット線BLA59、および冗長信号線RAにより接続され、メモリセルアレー1H−3と第4の冗長回路1H−4とは、第2のビット線BLA1〜BLA58により接続される。
【0246】
図33は、メモリマクロ1Iにおける第4の冗長回路1I−4とメモリセルアレー1I−3の部分構成を示す回路図である。図33において、第4の冗長回路1I−4と冗長メモリマクロ2Eとは、冗長コントロール信号線SI1〜SI4、冗長ビット線BLA5、および冗長信号線RAにより接続され、メモリセルアレー1I−3と第4の冗長回路1I−4とは、第2のビット線BLA1〜BLA4により接続される。
【0247】
また、メモリマクロ1F1は32本のワード線、メモリマクロ1Hは16本のワード線、メモリマクロ1Iは16本のワード線を有する。
【0248】
以下では、このように構成された半導体集積回路の動作について説明する。
【0249】
最初に、メモリマクロ1F1、1H、1Iのいずれにも不良がなく、冗長メモリマクロ2Eが未使用の場合について説明する。
【0250】
まず、外部からリセット信号(RS)が第4の冗長コントロール回路2E−14に入力される。この時、メモリマクロ1F1、1H、1Iのどこにも不良が無い場合は、ヒューズが切断されていないので、第4の冗長コントロール回路2E−14のシフトヒューズ部2F−3内のインバータ11(図26を参照)から論理「L」レベルの出力信号が伝達され、インバータ13の論理「H」レベルの出力信号が以降のシフトヒューズ部2F−3に伝達され、それがインバータ14によってラッチされる。
【0251】
また、マクロセレクトヒューズ部2F−5内のインバータ211から論理「L」レベルの出力信号が伝達され、それがインバータ213、214によってラッチされる。
【0252】
したがって、マクロセレクト回路2F−6に接続された64本のシフト信号線S1〜S64と、3本のマクロセレクト信号線MS1、MS2、MS3とは、全て論理「L」レベルとなる。このため、マクロセレクト回路2F−6内のNAND回路101、111、102、112、…から、全て論理「H」レベルの信号が、冗長コントロール信号線SF1〜SF64、SH1〜SH58、SI1〜SI4に出力される。
【0253】
冗長コントロール信号線SF1〜SF64、SH1〜SH58、SI1〜SI4からの論理「L」レベルを受けて、メモリマクロ1F1の第4の冗長回路1F−4、メモリマクロ1Hの第4の冗長回路1H−4、メモリマクロ1Iの第4の冗長回路1I−4内のNMOSトランジスタ15がオンし、インバータ91は論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオフする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続され、以降、BL2はBLA2に接続され、最後に、BL64はBLA64に接続される。
【0254】
次に、メモリマクロ1F1の第2のビット線BLA1が不良であり、メモリマクロ1H、メモリマクロ1Iに不良が無い場合を例にあげて説明する。
【0255】
メモリマクロ1F1内の第2のビット線BLA1が不良であった場合、冗長メモリマクロ2E内の第4の冗長コントロール回路2E−14において、予めレーザートリミング装置により、シフト信号線S1に接続されるシフトヒューズ部2F−3内のヒューズ12と、マクロセレクト信号MS1に接続されるマクロセレクトヒューズ部2F−5(メモリマクロ1F1用)内のヒューズ212とが切断される。
【0256】
次に、外部からリセット信号(RS)が第4の冗長コントロール回路2E−14に入力されるが、上記ヒューズ12が切断されているため、インバータ11から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。このため、NMOSトランジスタ17を通してインバータ13に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ14でラッチされる。このため、シフト信号線S1は論理「H」レベルとなる。以降、シフト信号線S2〜S64も論理「H」レベルが順次伝達される。
【0257】
また、上記ヒューズ212が切断されているため、インバータ211から論理「L」レベルの出力信号が伝達されない。このため、NMOSトランジスタ217を通してインバータ213に論理「H」レベルが入力され、それがインバータ214でラッチされる。このため、マクロセレクト信号線MS1は論理「H」レベルとなる。この時、メモリマクロ1H、1I用のマクロセレクトヒューズ部2F−5内のヒューズは切断されていないため、マクロセレクト信号線MS2、MS3は論理「L」レベルとなる。
【0258】
これらの信号を受けて、マクロセレクト回路2F−6内のマクロセレクト信号線MS1に接続されるNAND回路101、111、…は論理「L」レベルを出力する。つまり、マクロセレクト回路2F−6内のマクロセレクト信号線MS1に接続されるNAND回路のうち、不良救済のため切断したヒューズを含むシフトヒューズ部2F−3以降に接続されるNAND回路は論理「L」レベルを出力する。
【0259】
一方、マクロセレクト信号線MS2、MS3は論理「L」レベルであるので、マクロセレクト信号線MS2、MS3に接続されるNAND回路は全て論理「H」レベルを出力する。
【0260】
冗長コントロール信号線SF1〜SF64の論理「L」レベルを受けて、メモリマクロ1F1における第4の冗長回路1F−4内のNMOSトランジスタ15がオフし、インバータ91は論理「H」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオンする。これにより、ビット線BL1は第2のビット線BLA2に接続され、以降、BL2はBLA3に接続され、最後にBL64は冗長ビット線BLA65に接続される。
【0261】
また、冗長コントロール信号線SH1〜SH58の論理「H」レベルを受けて、メモリマクロ1Hにおける第4の冗長回路1H−4内のNMOSトランジスタ15がオンし、インバータ91は論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオフする。これにより、メモリマクロ1H内のビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続され、以降、BL2はBLA2に接続され、最後に、BL58はBLA58に接続される。
【0262】
また、冗長コントロール信号線SI1〜SI4の論理「H」レベルを受けて、メモリマクロ1Iにおける第4の冗長回路1I−4内のNMOSトランジスタ15がオンし、インバータ91は論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ16はオフする。これにより、メモリマクロ1I内のビット線BL1は第2のビット線BLA1に接続され、以降、BL2はBLA2に接続され、最後に、BL4はBLA4に接続される。
【0263】
ここで、ヒューズ接続回路2E−7において、マイクロセレクト信号線MS2、MS3の論理「L」レベルを受けて、NOR回路103が論理「H」レベルを出力し、NMOSトランジスタ122をオンし、PMOSトランジスタ121をオフする。これにより、冗長ヒューズ部2E−2における64個のシフトヒューズ部2F−3がすべて接続された状態になる。
【0264】
なお、メモリマクロ1Hとメモリマクロ1Iのいずれか一つかあるいはどちらも救済する場合には、マイクロセレクト信号線MS2、MS3の少なくとも一方の論理「H」レベルを受けて、NOR回路103が論理「L」レベルを出力し、NMOSトランジスタ122をオフし、PMOSトランジスタ121をオンする。これにより、冗長ヒューズ部2E−2における64個のシフトヒューズ部2F−3が電気的に分断され、メモリマクロ1I用のシフトヒューズ部2F−3に入力される信号を論理「H」レベルにリセットする。
【0265】
この様な構成をとることで、冗長救済のためのヒューズを構成の異なる複数のメモリマクロで共有し、構成の異なる複数のメモリマクロのうち複数個を救済することが可能になり、ヒューズを削減し、面積効率を向上させることが出来る。
【0266】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、仕様や構成の異なる複数のメモリマクロと冗長メモリマクロを搭載し、仕様や構成の異なる複数のメモリマクロで冗長メモリマクロを共有して使用することで、面積効率、救済効率に優れ、ヒューズの本数を削減することが出来る、低コストな半導体集積回路を提供することができる、という格別な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図2】図1のメモリマクロ1A1、1A2の内部構成を示すブロック図
【図3】図2のメモリセルアレー1A−3と第1の冗長回路1A−4の部分構成を示す回路図
【図4】図1の冗長メモリマクロ2Aの部分構成を示す回路図
【図5】本発明の実施の形態2に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図6】図5のメモリマクロ1B1、1B2の内部構成を示すブロック図
【図7】図6のメモリセルアレー1A−3と第2の冗長回路1B−4の部分構成を示す回路図
【図8】図5の冗長メモリマクロ2Bの部分構成を示す回路図
【図9】本発明の実施の形態3に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図10】図9のメモリマクロ1C1、1C2の内部構成を示すブロック図
【図11】図10のメモリセルアレー1A−3とカラムデコーダ部1A−5の部分構成を示す回路図
【図12】図10の第3の冗長/入出力回路1C−4の部分構成を示す回路図
【図13】図9の冗長メモリマクロ2Cの部分構成を示す回路図
【図14】図9の冗長メモリマクロ2Cの変形例を示す回路図
【図15】本発明の実施の形態4に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図16】図15のメモリマクロ1B1、1B2の内部構成を示すブロック図
【図17】図15の冗長メモリマクロ2Dの部分構成を示す回路図
【図18】本発明の実施の形態5に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図19】図18のメモリマクロ1Dの内部構成を示すブロック図
【図20】本発明の実施の形態6に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図21】図20のメモリマクロ1Eの内部構成を示すブロック図
【図22】図20の冗長メモリマクロ2Eの部分構成を示す回路図
【図23】本発明の実施の形態7に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ2Gの部分構成を示す回路図
【図24】本発明の実施の形態8に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ2Hの部分構成を示す回路図
【図25】本発明の実施の形態9に係る半導体集積回路の一構成例を示すブロック図
【図26】図25の冗長メモリマクロ2Fにおける第1の冗長コントロール回路2F−1の部分構成を示す回路図
【図27】図25のメモリマクロ1F1における第4の冗長回路1F−4とメモリセルアレー1A−3の部分構成を示す回路図
【図28】本発明の実施の形態10に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ2F内の第2の冗長コントロール回路2F−12の部分構成を示す回路図
【図29】本発明の実施の形態11に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ2F内の第3の冗長コントロール回路2F−13の部分構成を示す回路図
【図30】図29のメモリマクロ1Gにおける第4の冗長回路1G−4とメモリセルアレー1A−3の部分構成を示す回路図
【図31】本発明の実施の形態12に係る半導体集積回路における冗長メモリマクロ2E内の第4の冗長コントロール回路2F−14の部分構成を示す回路図
【図32】図31のメモリマクロ1Hにおける第4の冗長回路1H−4とメモリセルアレー1H−3の部分構成を示す回路図
【図33】図31のメモリマクロ1Iにおける第4の冗長回路1I−4とメモリセルアレー1I−3の部分構成を示す回路図
【符号の説明】
1A1、1A2、1B1、1B2、1C1、1C2、1D、1E、1F1、1F2、1G、1H、1I…メモリマクロ
1A−1、1D−1、1E−1…周辺回路
1A−2、1D−2、1E−2…ロウデコーダ
1A−3、1D−3、1E−3、1H−3、1I−3…メモリセルアレー
1A−4…第1の冗長回路
1A−5…カラムデコーダ部
1A−6…I/O部
13−A…メモリセル
1B−4…第2の冗長回路
1C−4…第3の冗長/入出力回路
1C−6…外部入出力回路
1F−4、1G−4、1H−4、1I−4…第4の冗長回路
2A〜2H…冗長メモリマクロ
2A−1、2E−1…第1のワード線接続回路
2A−2…冗長メモリセルアレー
2B−1…第2のワード線接続回路
2C−2…冗長メモリセルアレー
2C−4…コマンド接続回路
2E−2…冗長ビット線接続回路
2F−1…第1の冗長コントロール回路
2E−2、2F−2…冗長ヒューズ部
2F−3…シフトヒューズ部
2E−4、2F−4…マクロヒューズ部
2F−5…マクロセレクトヒューズ部
2E−6、2F−6…マクロセレクト回路
2F−12…第2の冗長コントロール回路
2F−13…第3の冗長コントロール回路
2E−14…第4の冗長コントロール回路
2E−7…ヒューズ接続回路
2H−1…第3のワード線接続回路
Claims (17)
- 複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に置換する手段を有し、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線から切り離すワード線接続回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に置換する手段を有し、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
前記冗長信号線の不良情報に基づいて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線の信号をゲート回路を介しタイミング調整を行って前記冗長ワード線に伝達し、正常なメモリマクロに対応したワード線の信号をゲート回路で阻止するワード線接続回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記メモリセルアレーに所定数のビット線毎に接続された複数のカラムデコーダを有し、外部入力のアドレス信号から生成される内部カラムアドレス線の信号に基づいて、前記所定数のビット線のうち特定のビット線を選択し、入出力データを選択されたビット線に対応付けるカラムデコーダ部と、
書き込み信号線の状態に基づき入力データを、また読み出し信号線の状態に基づき出力データを前記入出力データとして前記カラムデコーダ部に結合するとともに、前記メモリセルアレーの不良ビット線に対応する入出力データ線を隣接する入出力データ線および冗長入出力データ線に置換する手段を有し、不良情報を冗長信号線に出力する冗長/入出力回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記所定数の冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
冗長カラムアドレス線の信号に基づいて、前記所定数の冗長ビット線のうち特定の冗長ビット線を選択し、冗長書き込み信号線および冗長読み出し信号線の状態に基づいて、前記冗長入出力データ線の入力または出力データを選択された冗長ビット線に対応付けるカラムデコーダと、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応した内部カラムアドレス線、書き込み信号線、および読み出し信号線をそれぞれ、前記冗長カラムアドレス線、前記冗長書き込み信号線、および前記冗長読み出し信号線に接続し、正常なメモリマクロに対応した内部カラムアドレス線、書き込み信号線、および読み出し信号線をそれぞれ、前記冗長カラムアドレス線、前記冗長書き込み信号線、および前記冗長読み出し信号線から切り離すコマンド接続回路と、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線から切り離すワード線接続回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に置換する手段を有し、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
冗長ロウアドレス線の信号に基づいて、特定の冗長ワード線を選択するロウデコーダと、
冗長アドレス信号および冗長コマンド信号を受けて、前記冗長ロウアドレス線の信号を生成する周辺回路と、
前記冗長信号線の不良情報に基づいて、救済すべきメモリマクロに対応した外部からのアドレス信号およびコマンド信号をゲート回路を介しタイミング調整を行って前記周辺回路に出力し、正常なメモリマクロに対応した外部からのアドレス信号およびコマンド信号をゲート回路で阻止する外部信号線接続回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記複数のメモリマクロはそれぞれ動作タイミングが異なることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記複数のメモリマクロはそれぞれ同期式メモリマクロと非同期式メモリマクロが混在して成ることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記複数のメモリマクロはそれぞれ、前記ワード線が接続され、外部入力のアドレス信号から生成される内部ロウアドレス信号を受けて、前記ワード線のいずれか1本を選択するロウデコーダを備えたことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記冗長メモリマクロは、前記複数のメモリマクロのうちいずれか1つを救済することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記冗長メモリマクロは、前記複数のメモリマクロのうちいくつかを共に救済することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記複数のメモリマクロはそれぞれワード線の数が異なり、前記冗長メモリマクロの使用しないワード線が接地電位に固定されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記複数のメモリマクロはそれぞれワード線の数が異なり、前記冗長メモリマクロの使用しないワード線が接地電位に固定され、前記冗長メモリマクロは、前記冗長信号線の不良情報に基づいて、前記冗長メモリマクロのワード線が分割されて割り当てられたいくつかのメモリマクロに接続された冗長ビット線をそれぞれ接続または切り離す冗長ビット線接続回路を備え、前記いくつかのメモリマクロを共に救済することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記複数のメモリマクロはそれぞれ冗長単位のビット線数が異なり、前記冗長メモリマクロは、前記複数のメモリマクロのうち冗長単位のビット線数が最大であるメモリマクロと同じ冗長ビット線数を有し、メモリマクロに応じて接続すべき冗長ビット線の数が変更される請求項1から4のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 前記冗長メモリマクロは、前記冗長信号線の不良情報に基づいて、前記冗長ワード線を分断または接続し、前記冗長メモリセルアレーを分割または統合する第2のワード線接続回路を備え、接続されるすべてのメモリマクロを救済することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の半導体集積回路。
- 複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロのいずれか一つを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号に従って、前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に切り換え、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線から切り離すワード線接続回路と、
前記複数のメモリマクロの数に対応して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断される第1のヒューズと、前記不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズとを有し、前記第1および前記第2のヒューズの切断情報を前記冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロのいずれか一つを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号に従って、前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に切り換え、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線から切り離すワード線接続回路と、
前記複数のメモリマクロのうち少なくとも2つに対応して共通して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断状態または未切断状態にされる第1のヒューズと、前記不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズとを有し、前記第1および前記第2のヒューズの切断情報を前記冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 構成が異なる複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロのいずれか一つを救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号に従って、前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に切り換え、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線から切り離すワード線接続回路と、
前記複数のメモリマクロの数に対応して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断される第1のヒューズと、前記複数のメモリマクロのうちの最大のビット線数に対応して設けられ、前記不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズとを有し、前記第1および前記第2のヒューズの切断情報を前記冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 構成が異なる複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロのいずれか一つまたはいくつかを共に救済するための冗長メモリマクロとを有する半導体集積回路であって、
前記複数のメモリマクロはそれぞれ、
ワード線およびビット線に接続されたメモリセルアレーと、
前記冗長メモリマクロからの冗長コントロール信号に従って、前記メモリセルアレーの不良ビット線を隣接した正常なビット線および冗長ビット線に切り換え、不良情報を冗長信号線に出力する冗長回路とを備え、
前記冗長メモリマクロは、
冗長ワード線および前記冗長ビット線に接続された冗長メモリセルアレーと、
前記冗長信号線の不良情報を受けて、救済すべきメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線に接続し、正常なメモリマクロに対応したワード線を前記冗長ワード線から切り離すワード線接続回路と、
前記複数のメモリマクロの数に対応して設けられ、不良メモリマクロに対応して切断される第1のヒューズと、前記複数のメモリマクロのうちの最大のビット線数に対応して設けられ、前記不良メモリマクロの不良ビット線に対応して切断される第2のヒューズと、前記第1のヒューズの切断情報に基づいて、救済すべきメモリマクロの構成に応じて前記第2のヒューズの構成を分割または接続するヒューズ接続回路とを有し、前記第1および前記第2のヒューズの切断情報を前記冗長コントロール信号として出力する冗長コントロール回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。
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