JP3592765B2 - 光学機能性フィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、低屈折率層を塗布により形成できる樹脂を用いて、最表面に低屈折率層を形成した光学機能性フィルム及びその製造方法に関する。特に、本発明の光学機能性フィルムは反射防止機能を有し、該光学機能性フィルムは偏光板、液晶表示装置に有用である。
【０００２】
【従来の技術】
従来、紫外線遮断効果、帯電防止効果、反射防止効果等の特定の性質を有する機能性超微粒子が分散された透明樹脂組成物を透明プラスチック基材フィルムに塗布して機能性塗膜を形成することにより、紫外線遮断性、帯電防止性又は反射防止性等の機能が付与された透明機能性フィルムを製造することが知られている。特に、反射防止フィルム等の光学機能性フィルムにおいては、最表面層には低屈折率層を設けることが従来行われている。
【０００３】
従来、光の反射防止技術には、例えば、次のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチック表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ２ 等の極薄膜や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その上に蒸着によりＳｉＯ２ やＭｇＦ２ の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜を形成する方法があった。
【０００４】
前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ２ の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ０ とし、この波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ０ 、反射防止膜の厚みをｈ、および基板の屈折率をｎｇ とすると、反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過するための条件は、次の式（１）および式（２）の関係を満たすことが必要であることは既に知られている（サイエンスライブラリ 物理学＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年，株式会社サイエンス社発行）。
【０００５】
【数１】
ガラスの屈折率ｎｇ ＝約１．５であり、ＭｇＦ２ 膜の屈折率ｎ０ ＝１．３８、入射光の波長λ０ ＝５５００Å（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μｍが最適であると計算される。
【０００６】
前記式（１）によれば、光の反射を１００％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すればよいことが分かり、このような原理を利用して、上層塗膜の屈折率を、その下層塗膜の屈折率よりも若干低い値として光の反射防止を行なうことが従来行なわれていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
反射防止フィルム等の光学機能性フィルムの最表面に、樹脂の塗布により低屈折率層を設ける場合には、前記条件を満たすような十分に薄い薄膜を形成することが困難であり、得られた低屈折率層の塗膜は耐擦傷性が十分でなく、しかも、十分に低い低屈折率とすること、十分な透明度とすることは困難であり、これら全ての条件を満足するものは従来存在していなかった。
【０００８】
そこで、本発明は、樹脂の塗布により低屈折率層を形成した光学機能性フィルムの製造において、その低屈折率層を十分な薄膜とすることができ、十分な耐擦傷性を持ち、その屈折率を十分に低い値とすることができ、得られる光学機能性フィルムを十分な透明とすることができる光学機能性フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
光学機能性フィルム：
本発明の光学機能性フィルムには、タイプＩとタイプＩＩがある。
【００１０】
本発明のタイプＩの光学機能性フィルムは、透明基材フィルム上に、１層以上からなる他の層を介して、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満の低屈折率層が形成されており、前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、前記低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムは、前記本発明のタイプＩの光学機能性フィルムにおける、他の層のうち、低屈折率層に直接接する層が、該低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されていることを特徴とする。本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムは、上記特徴に加えて、前記微粒子が極在化して固定されていない部分の他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈折率であることが望ましい。
【００１２】
本発明の光学機能性フィルムのタイプＩ及びタイプＩＩにおいては、低屈折率層が、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて形成されているので、特に、そのフッ素含有共重合体中においてヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％のモノマー成分を含んでいるので、この樹脂組成物の塗布により形成される低屈折率層において１．４５以下の低屈折率を実現することができ、また、特に、そのフッ素含有共重合体中においてフッ化ビニリデン３０〜９０重量％のモノマー成分を含んでいるため、得られる樹脂組成物の溶剤溶解性が増し、塗布適性が良好となり、その膜厚を反射防止に適した２００ｎｍ以下の薄膜とすることができる。さらに、塗布される樹脂組成物中に、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部が含まれているため、得られる塗膜は耐擦傷性の機械的強度の優れたものとなる。また、各樹脂成分は透明性が高いため、これらの成分を含有した樹脂組成物を用いて形成された低屈折率層は、透明性に優れている。
【００１３】
図１は本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの断面図である。その光学機能性フィルムは、透明基材フィルム１上に、主として樹脂からなる他の層２が塗布により形成されており、さらに、この他の層２の上に、前記した低屈折率層用の溶剤溶解性の樹脂組成物が塗布されて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜の屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層３を形成している。
【００１４】
本発明のタイプＩの光学機能性フィルムは、接する空気から光学機能性フィルムの内部に至るまで、空気層（屈折率１．０）、低屈折率層３（屈折率１．６０未満、好ましくは、１．４５以下）、他の層２（屈折率１．６０以上）、透明基材フィルム１（他の層２より低い屈折率）となっているので、効率のよい反射防止を行うことができる。他の層２の屈折率が透明基材フィルム１の屈折率よりも高く構成されることが望ましく、このような場合には、透明基材フィルム１と他の層２との間の界面における反射を防止する効果がさらに付加される。
【００１５】
図２及び図３は本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの断面図を示す。図２及び図３の光学機能性フィルムは、図１の本発明のタイプＩの光学機能性フィルムにおいて、透明基材フィルム１上に塗布された他の層２の表面から内部にかけて形成された微粒子層４が存在している点において相違しており、その他の構成は本発明のタイプＩの光学機能性フィルムと同じである。本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいて、微粒子層４は、各微粒子７自身の結着力により、或いは微粒子７が完全に埋没されない程度の量のバインダー樹脂の結着力により相互に結着されて形成されている。図２は、特に、微粒子層４が他の層２中に完全に埋没されている場合であり、図３は、特に、微粒子層４が他の層２に完全に埋没されておらず、その一部が露出している場合である。
【００１６】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムは、その機能は前記のタイプＩとほぼ同様であるが、微粒子層４が挿入されているので、微粒子７を樹脂中に均一に分散させるよりも微粒子７の機能を高めることができ、また、微粒子層４を極在化して固定させているので、特に微粒子７として高屈折率微粒子を使用し、低屈折率層３と接する周辺に極在化させたときには、反射防止効果が高まる利点がある。
【００１７】
本発明のタイプＩ及びタイプＩＩの光学機能性フィルムの最表面には、微細な凹凸が形成されていてもよく、このような場合には、光学機能性フィルムに、反射防止効果及び防眩効果をさらに高める機能が付与される。
【００１８】
低屈折率層：
本発明の光学機能性フィルムの低屈折率層に使用される樹脂組成物について、次に詳述する。
【００１９】
本発明において用いられる低屈折率層用の樹脂組成物は、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物であることを特徴とする。この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層を形成する。
【００２０】
この低屈折率層に用いられる前記フッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体であり、当該モノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、またヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、さらにテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。
【００２１】
また、このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、本発明の目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。ここに、当該他の共重合成分の具体例としては、例えばフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸などのフッ素原子を含有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００２２】
このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０重量％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。
【００２３】
このフッ素含有共重合体は、特にそのフッ素含有割合が上述の特定の範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。また、本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物は、このようなフッ素含有共重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、基材の表面の耐傷性などの機械的特性を十分に高いものとすることができ、反射防止膜形成にきわめて好適である。
【００２４】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。
【００２５】
さらに、フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、さらに１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなり、十分に良好な反射防止膜を形成することができない場合が生ずる。
【００２６】
本発明において用いられる重合性化合物は、光重合開始剤の存在下または非存在下で活性エネルギー線が照射されることにより、または熱重合開始剤の存在下で加熱されることにより、付加重合を生ずるエチレン性不飽和基を有する化合物である。
【００２７】
このような重合性化合物の具体例としては、例えば次の（ａ）〜（ｖ）に挙げるものを使用することができる。
【００２８】
（ａ）スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、１、１−ジフェニルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族ビニル化合物類；
（ｂ）（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリルなどの不飽和ニトリル類；
（ｃ）メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル−（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｄ）２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｅ）クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸プロピル、クロトン酸ブチル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、ケイ皮酸ブチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル類；
（ｆ）２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｇ）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル類；
（ｈ）シアノエチル（メタ）アクリレート、シアノプロピル（メタ）アクリレートなどのシアノ基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｉ）２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリーロキシアルキルエステル類；
（ｊ）メトキシポリエチレングリコール、エトキシポリエチレングリコール、メトキシポリプロピレングリコール、エトキシポリプロピレングリコールなどのアルコキシポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル類；
（ｋ）フェノキシポリエチレングリコール、フェノキシポリプロピレングリコールなどのアリーロキシポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル類；
（ｌ）エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどのアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
（ｍ）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール（アルキレングリコール単位数が例えば２〜２３のもの）の（メタ）アクリル酸ジエステル、両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシブタジエン−アクリロニトリル共重合体、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端に水酸基を有する重合体の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
（ｎ）グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン（アルカンの炭素数は例えば１〜３である。）、テトラメチロールアルカン（アルカンの炭素数は例えば１〜３である。）、ペンタエリスリトールの如き３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル、（メタ）アクリル酸トリエステルまたは（メタ）アクリル酸テトラエステルなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステル類；
（ｏ）３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物の（メタ）アクリル酸トリエステルまたは（メタ）アクリル酸テトラエステルなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステル類；
（ｐ）１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール、１，４−ジヒドロキシエチルベンゼンなどの環式多価アルコールの（メタ）アクリル酸オリゴエステル類；
（ｑ）ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステルプレポリマー類；
（ｒ）（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸などの不飽和カルボン酸類；
（ｓ）イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸の如き不飽和多価カルボン酸のモノメチルエステル、モノエチルエステル、モノプロピルエステル、モノブチルエステル、モノヘキシルエステル、モノオクチルエステルなどの遊離カルボキシル基含有エステル類；
（ｔ）イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸の如き不飽和多価カルボン酸のジメチルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル、ジブチルエステル、ジヘキシルエステル、ジオクチルエステルなどの多価エステル類；
（ｕ）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミドなどの不飽和アミド類；
（ｖ）酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ビバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル類。
【００２９】
以上のうち、好ましい重合性化合物は、エチレン性不飽和基を１分子中に３以上、特に４以上、さらには４〜１５含有するものである。このような重合性化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、「Ｕ−１５ＨＡ」（商品名、新中村化学社製）などを挙げることができる。
【００３０】
さらに、これらの化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３１】
用いる重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１分子中に３個以上含有するものである場合には、得られるフッ素系樹脂組成物は、特に、基材に対する密着性および基材の表面の耐傷性などの機械的特性がきわめて良好な薄膜を形成するものとなる。
【００３２】
重合性化合物の使用量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。
【００３３】
この重合性化合物の使用割合が過小であると、得られる塗料によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなり、一方、使用割合が過大であると、形成される薄膜は屈折率の高いものとなって良好な反射防止効果を得ることが困難となる。
【００３４】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物においては、フッ素含有共重合体および重合性化合物を含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、特に３５〜５０重量％であることが好ましい。このような条件が満足される場合には、本発明の目的及び効果をさらに十分に達成する薄膜を確実に形成することができる。フッ素含有割合が過大であるフッ素系樹脂組成物によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなる傾向と共に、基材の表面の耐傷性などの機械的特性が若干低下するものとなり、一方、フッ素含有割合が過小であるフッ素系樹脂組成物により形成される薄膜は、屈折率が大きいものとなって反射防止効果が低下する傾向が生じる。
【００３５】
本発明の光学機能性フィルムに使用される溶剤は、当該フッ素系樹脂組成物の塗布性及び形成される薄膜の基材に対する密着性の点から、７６０ヘクトパスカルの圧力下における沸点が５０〜２００℃の範囲内のものが好ましい。
【００３６】
このような溶剤の具体例としては、例えばアセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類よりなる溶剤を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成分以上の混合物でもよく、さらに上記に例示したもの以外の溶剤を、樹脂組成物の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
【００３７】
溶剤の使用量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計量１００重量部に対して、通常２００〜１００００重量部、好ましくは１０００〜１００００重量部、特に好ましくは１２００〜４０００重量部である。
【００３８】
溶剤の使用量をこの範囲とすることにより、フッ素系樹脂組成物の粘度の大きさを、樹脂組成物として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、特に０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが容易であり、その結果、当該フッ素系樹脂組成物により、可視光線の反射防止膜として実用上好適な均一で塗布ムラのない厚さ１００〜２００ｎｍの薄膜を容易に形成することができ、しかも基材に対する密着性が特に優れた薄膜を形成することができる。
【００３９】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物は、含有される重合性化合物のエチレン性不飽和基が重合反応することによって硬化するものであり、従って、当該樹脂組成物が塗布されて形成された塗膜に対し、当該重合性化合物を重合反応させる硬化処理が施されて固体状の薄膜が形成される。
【００４０】
このような硬化処理の手段として、当該フッ素樹脂系組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射する手段または塗膜を加熱する手段が利用され、これにより、本発明が目的とする硬化状態の薄膜を確実にかつ容易に形成することができるので、実際上きわめて有利であり、薄膜形成操作の点においても便利である。
【００４１】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物を活性エネルギー線の照射によって硬化処理する場合において、活性エネルギー線として電子線を用いるときは、当該フッ素系樹脂組成物には特に重合開始剤を添加することなしに、所期の硬化処理を行うことができる。
【００４２】
また、硬化処理のための活性エネルギー線として、紫外線あるいは可視光線の如き光線を用いる場合には、当該活性エネルギー線の照射を受けて分解して例えばラジカルを発生し、それによって重合性化合物の重合反応を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【００４３】
このような光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、カルバゾール、キサントン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，１−ジメトキシデオキシベンゾイン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、トリフェニルアミン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、３−メチルアセトフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル−１−ブタノン、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル、またはＢＴＴＢとキサンチン、チオキサンチン、クマリン、ケトクマリン、その他の色素増感剤との組合せなどを挙げることができる。
【００４４】
これら光重合開始剤のうち、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−
〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノンなどが好ましく、さらに好ましくは、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノンなどを挙げることができる。
【００４５】
さらに、硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【００４６】
熱重合開始剤の具体例としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などを挙げることができる。
【００４７】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物における光重合開始剤または熱重合開始剤の添加量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計１００重量部に対し、通常、０．５〜１０重量部、好ましくは１〜８重量部、特に好ましくは２〜７重量部である。この添加量が１０重量部を越えると樹脂組成物の取り扱い並びに形成される薄膜の機械的強度などに悪影響を及ぼすことがあり、一方、添加量が０．５重量部未満では硬化速度が小さいものとなる。
【００４８】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の目的および効果が損なわれない範囲において、各種添加剤、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン系化合物から成る増感剤もしくは重合促進剤；エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンスチレンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどの重合禁止剤；その他にレベリング剤、漏れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔料、染料などを配合することができる。
【００４９】
他の層：
本発明のタイプＩ及びタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいて、透明基材フィルムと低屈折率層との間の１層以上の他の層において、低屈折率層と直接接している他の層の屈折率は、低屈折率微粒子の屈折率よりも高く、かつ透明プラスチック基材フィルムの屈折率よりも高くすることが好ましい。このような屈折率を持つ層構成とすることにより、反射防止効果を高め、他の層と接する層の間の界面の反射を防ぐことができる。この低屈折率層と直接接している他の層の屈折率は、好ましくは１．６０以上である。
【００５０】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいては、他の層のうち、低屈折率層に直接接する層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されているため、微粒子が樹脂中に分散されている場合に比べ微粒子を多量に使用することなく、少量で微粒子の機能を発現し易いという利点が生じ、さらに、微粒子が他の層中に埋め込まれているため、他の層の上に微粒子層を形成するよりも、微粒子と他の層との密着性が良いという効果がある。
【００５１】
また、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいて、他の層のうち、微粒子が存在していない部分の他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈折率とすることが、透明基材フィルムと他の層との間の界面の反射を防止するために好ましい。
【００５２】
低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて極在化して固定されている屈折率１．６０以上の微粒子は、その光学膜厚が、λ／４又はλ／２（４５０ｎｍ＜λ＜６００ｎｍ）であることが反射防止効果を上げるために好ましい。
【００５３】
他の層の屈折率を高める方法には、高屈折率を持つバインダー樹脂を他の層に使用するか、他の層の屈折率より高い屈折率を持つ高屈折率微粒子を他の層に添加するか、高屈折率微粒子層を他の層中に極在化させるか、或いはこれらの方法を併用して行う。
【００５４】
前記高屈折率微粒子を他の層中に添加する方法又は他の層中に極在化させる方法に用いられる高屈折率の微粒子の例には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２ （屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ２ （屈折率１．９５）、Ｓｂ２ Ｏ５ （屈折率１．７１）、ＳｎＯ２ 、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ２ Ｏ３ （屈折率１．８７）、Ｌａ２ Ｏ３ （屈折率１．９５）、ＺｒＯ２ （屈折率２．０５）、Ａｌ２ Ｏ３ （屈折率１．６３）等が挙げられる。
【００５５】
これらの高屈折率微粒子のうち、ＺｎＯ、ＴｉＯ２ 、ＣｅＯ２ 、Ｓｂ２ Ｏ５ 等を用いることにより、本発明の光学機能性フィルムにＵＶ遮蔽効果がさらに付与されるので好ましい。また、アンチモンがドープされたＳｎＯ２ 或いはＩＴＯを用いることにより、電子伝導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防止、或いは本発明の光学機能性フィルムをＣＲＴに用いた場合の電磁波シールド効果が得られるので好ましい。高屈折率微粒子の粒径は、他の層を透明とするためには４００ｎｍ以下であることが好ましい。特に、反射防止性を付与するにはＭｇＦ２ やＳｉＯ２ 等の低屈折率微粒子やＳｂ２ Ｏ５ 、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２ 、ＴｉＯ２ 等の高屈折率微粒子が使用される。
【００５６】
微粒子層に使用される微粒子には、２００ｎｍ以下の超微粒子で、紫外線遮断性、導電性、帯電防止性、反射防止性等の機能を有するものが挙げられる。
【００５７】
これらの機能性を有する微粒子は、その表面がカップリング剤で疎水化処理されていてもよく、このような疎水化処理により微粒子表面への疎水性基の導入が行われるので、電離放射線硬化型樹脂に馴染みやすくなり、電離放射線硬化型樹脂との結合がより強固となる。このようなカップリング剤には、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミナ系カップリング剤等が用いられる。そのカップリング剤の添加量は０（０を含まず）〜３０重量部、望ましくは０（０を含まず）〜１０重量部である。
【００５８】
また、微粒子がＭｇＦ２ のように表面が不活性な場合、予めＳｉＯ２ ゾルを添加し、微粒子の表面をＳｉＯ２ でコーティングした後、カップリング剤で処理してもよい。このようなＳｉＯ２ の皮膜処理により、微粒子の表面に親水性基を多く導入させることができ、その後のカップリング剤での処理により疎水性基を確実により多く導入でき、したがって、微粒子が樹脂へさらに馴染みやすくなり結合性が増す。
【００５９】
前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、▲１▼芳香環を含む樹脂、▲２▼Ｆ以外のハロゲン化元素、例えば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、▲３▼Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む樹脂等があげられ、これらの少なくとも一つの条件を満足する樹脂が高屈折率となるために望ましい。前記▲１▼の樹脂の例には、ポリスチレン等のスチロール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルカルバゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネート等が挙げられる。前記▲２▼の樹脂の例には、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル等が挙げられる。前記▲３▼の樹脂の例には、ポリビスフェノールＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が挙げられる。
【００６０】
他の層に用いることができる樹脂には、透明性のあるものであればどのような樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂）でも使用することができる。しかしながら、本発明の光学機能性フィルムにおいて、低屈折率層を形成する樹脂に、電離放射線硬化型樹脂が混入されているので、他の層の樹脂に電離放射線硬化型樹脂を使用した場合には、各塗膜の硬化を電離放射線により同時に硬化できるという利点がある。
【００６１】
他の層にハード性能を付与するためには、或いは複数層の他の層のうちある層にハード性能を付与するためには、層の厚みは０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上とすることにより、硬度を維持することができ、ハード性能を付与することができる。
【００６２】
なお、本発明において、「ハード性能を付与する」とは、ＪＩＳ Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を与えることをいう。
【００６３】
また、他の層の硬度をより向上させるために、そのバインダー樹脂には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。前記熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用する。
【００６４】
前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【００６５】
特に好適には、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。その理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆くなるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポリウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアクリレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレートの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越えると塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうからである。
【００６６】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【００６７】
他の層に、特に、屈曲性を付与するためには、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し溶剤乾燥型樹脂を１０重量部以上１００重量部以下含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができる。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において有利である。
【００６８】
また、透明基材フィルムとして、特にトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるときには、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び透明性の点で有利である。
【００６９】
その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶媒としてトルエンを使用した場合、透明基材フィルムであるトリアセチルセルロースの非溶解性の溶剤であるトルエンを用いるにもかかわらず、透明基材フィルムにこの溶剤乾燥型樹脂を含む樹脂組成物の塗布を行っても、透明基材フィルムと塗膜樹脂との密着性を良好にすることができ、しかもこのトルエンは、透明基材フィルムであるトリアセチルセルロースを溶解しないので、透明プラスチック基材フィルムの表面は白化せず、透明性が保たれる利点があるからである。
【００７０】
他の層にバインダー樹脂として電離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００７１】
他の層に使用される前記した微粒子は、カップリング剤によりその表面に疎水性が付与されていてもよい。
【００７２】
他の層が複数層ある場合にはそのうちの一つの層は、透明基材フィルムと接する接着剤層としてもよい。
【００７３】
微粒子層の形成方法：
微粒子層の形成方法は、微粒子のゾル自体又は微粒子のゾルにバインダー樹脂を含有させたものを塗布して形成する。例えば、工程紙上に微粒子層を形成する場合には、バインダー樹脂を使用しなくても、微粒子自身の持つ結着作用により形成することができるが、その結着作用が弱いような場合には必要に応じて、バインダー樹脂を混合使用してもよい。そのバインダー樹脂の量は、微粒子がバインダー樹脂中に完全に埋没されない程度の量とすることが、微粒子の表面が露出された状態で微粒子相互が結着されるので、微粒子の機能性を発現するのに、特に、反射防止膜に利用する場合に好ましい。
【００７４】
このようなバインダー樹脂には、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の一般的なものが用いられるが、本発明における低屈折率層に電離放射線硬化型樹脂が含まれているので、この低屈折率層との密着性を考慮すると電離放射線硬化型樹脂が望ましく、その電離放射線硬化型樹脂は溶剤乾燥半硬化型樹脂であることが望ましい。また、このようなバインダー樹脂に着色剤を混入してもよい。
【００７５】
透明基材フィルム：
本発明の光学機能性フィルムの透明基材フィルムに適した材料は、透明性のあるフィルムであればよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使用できるが、特に、トリアセチルセルロースフィルム、及び一軸延伸ポリエステルが透明性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
【００７６】
光学機能性フィルムの製造方法：
本発明の前記タイプＩの光学機能性フィルムについての製造方法には、次の５つの製造方法が挙げられる。
【００７７】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法は、（１）透明基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、（２）樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーし、（４）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００７８】
図４は上記タイプＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法を示すフロー図である。図４（ａ）は、透明基材フィルム１上に、接着剤層、機能性材料を含んだ層等を介すか、介さずして、他の層２を形成した状態である。図４（ｂ）は、他の層２の塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーする状態を示す。図４（ｃ）は、他の層２上に本発明に使用される低屈折率層用樹脂組成物を塗布して低屈折率層３を形成した状態を示す。図４（ｄ）は、溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の層２の塗膜を含めてフルキュアーする状態を示す。
【００７９】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（２）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上又は透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、（４）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、該工程紙を剥離し、（５）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（６）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００８０】
図５は、上記タイプＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。図５（ａ）は、工程紙５上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して、他の層２の塗膜を形成した状態である。図５（ｂ）は、他の層２の塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を完全に硬化させた状態を示す。図５（ｃ）は、他の層２側或いは透明基材フィルム１側の何れかに接着剤層６を設け、接着剤層６を介して工程紙５上の他の層２と透明基材フィルム１をラミネートしている状態を示す。図５（ｄ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。図５（ｅ）は、他の層２上にさらに本発明に使用される低屈折率層用樹脂組成物を塗布して低屈折率層３の塗膜を設け、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の層２の塗膜を含めてフルキュアーしている状態を示す。
【００８１】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（２）一方、透明基材フィルムを用意し、前記工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートし、（３）得られたラミネート物をハーフキュアー又はフルキュアーさせた後、前記工程紙を剥離し、（４）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、（５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００８２】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーさせ、（３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い、樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（４）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めフルキュアーさせ、（５）工程紙上に形成されたフルキュアーされた塗膜上、又は別に用意した透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、（６）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする。
【００８３】
図６は、上記タイプＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。図６（ａ）は、工程紙５上に、本発明に使用される低屈折率層用樹脂組成物を塗装して、低屈折率層３の塗膜を形成し、塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーしている状態を示す。図６（ｂ）は、この低屈折率層３上に、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工して、他の層２の塗膜を形成し、さらに該塗膜をフルキュアーしている状態を示す。図６（ｃ）は、工程紙５上に形成された低屈折率層３及び他の層２と、透明基材フィルム１とを接着剤層６を介してラミネートした状態を示す。図６（ｄ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００８４】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーさせ、（３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（４）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする。
【００８５】
本発明の前記タイプＩＩの光学機能性フィルムについての製造方法には、次の６つの製造方法が挙げられる。
【００８６】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、前記一番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、溶剤で希釈した前記本発明で使用される低屈折率樹脂組成物を用いて塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、この塗膜を他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、（５）得られた工程紙に形成されたフルキュアーされた樹脂層上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成して、（６）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする。
【００８７】
図７は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法のフロー図である。図７（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。図７（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体とした微粒子層４を形成した状態を示す。図７（ｃ）は、この微粒子層４上に樹脂を塗布して他の層２の塗膜を形成し、この塗膜をフルキュアーしている状態を示す。図７（ｄ）は、前記（ｃ）で得られたフィルムの他の層２側と、透明基材フィルム１とを接着剤層６を介してラミネートした状態を示す。図７（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００８８】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、前記二番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、溶剤で希釈した前記本発明で使用される低屈折率樹脂組成物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（４）一方、透明基材フィルム上に樹脂を主体とする塗膜を形成し、（５）前記工程紙上に形成された低屈折率層及び微粒子層と、前記透明基材フィルム上の樹脂層が接するように工程紙と透明基材フィルム両者を圧着してラミネートすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（６）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、次いで工程紙を剥離して低屈折率層及び高屈折率微粒子層を転写することを特徴とする。
【００８９】
図８は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。図８（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。図８（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体とした微粒子層４を形成した状態を示す。図８（ｃ）は、透明基材フィルム１を用意し、この透明基材フィルム１上に樹脂を主体とした塗膜（他の層２）を形成した状態である。図８（ｄ）は、前記（ｃ）で得られた透明基材フィルム１上の他の層２側と、工程紙５上の微粒子層４側とを合わせてラミネートし、他の塗膜２の硬化も含めてフルキュアーしている状態を示す。微粒子層４は他の層２中に完全に埋没するか又は微粒子層４の一部が埋没している。図８（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００９０】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法であり、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、溶剤で希釈した前記本発明で使用される低屈折率樹脂組成物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、（５）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートし、（６）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、次いで工程紙を剥離することを特徴とする。
【００９１】
図９は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法のフロー図である。図９（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。図９（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体とした微粒子層４を形成した状態を示す。図９（ｃ）は、この微粒子層４上に樹脂を塗布して樹脂を主体とする他の層２の塗膜を形成している状態を示し、この塗膜は未だフルキュアーされていない。図９（ｄ）は、前記（ｃ）で得られた工程紙５上の他の層２側と、別に用意した透明基材フィルム１とを合わせてラミネートし、他の層の硬化も含めてフルキュアーしている状態を示す。図９（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００９２】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの前記一番目〜三番目の製造方法において使用される低屈折率樹脂組成物は、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物であることが、屈折率１．６０未満、好ましくは１．４５以下の十分に低い屈折率を実現でき、またその樹脂組成物が溶剤溶解性であるので膜厚が２００ｎｍ以下の十分に薄い薄膜とすることができ、しかもこの低屈折率樹脂組成物により製造された低屈折率層は耐擦傷性で透明性に優れる。
【００９３】
本発明の前記タイプＩＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（２）一方、透明基材フィルム上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、（３）前記工程紙上に形成された上記微粒子層と、前記透明基材フィルム上に形成された樹脂層が接するように前記工程紙と前記透明基材フィルムを圧着してラミネートすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（４）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってこの塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーし、（５）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされたラミネート物から工程紙を剥離して微粒子層を透明基材フィルムに転写し、（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（７）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００９４】
図１０は本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。図１０（ａ）は、工程紙５上に、屈折率１．６０以上の微粒子層４を形成したものを、透明基材フィルム１上に樹脂を塗布して他の層２が形成された上に、微粒子層４が他の層２内に埋め込まれるようにして圧着してラミネートしようとする状態を示す。図１０（ｂ）はラミネートされた状態である。図１０（ｂ）において、微粒子層４は、他の層２内に完全に埋没されていてもよく、また、微粒子層４の一部が他の層２から露出していてもよい。図１０（ｃ）は、そのラミネート物から工程紙５を剥離している状態である。図１０（ｄ）は、微粒子層４の上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成された状態を示す。
【００９５】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、ハーフキュアー又はフルキュアーし、（４）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成し、（５）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、該工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルムに転写し、（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００９６】
図１１は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法のフロー図である。図１１（ａ）は、工程紙５上に微粒子層４を形成し、さらにその上に他の層２を形成し、フルキュアー又はハーフキュアーしている状態を示す。図１１（ｂ）は、この工程紙５上の他の層２側、或いは透明基材フィルム１側の何れか一方に接着剤層６を形成し、接着剤層６を介して両フィルムをラミネートした状態を示す。図１１（ｃ）は、接着剤層６のフルキュアー後に工程紙５を剥離している状態を示す。図１１（ｄ）は、さらに微粒子層４上に、本発明で使用される低屈折率層用樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアーされた状態を示す。
【００９７】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、六番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（３）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネートし、（４）前記ラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフルキュアーした後、工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルム上に転写し、（５）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００９８】
上記の各光学機能性フィルムの製造方法において、塗膜を形成した後にハーフキュアーとし、さらに塗膜を形成する意義は、各塗膜間の密着性を増加させるためである。
【００９９】
上記の各光学機能性フィルムの各製造方法において、特に、微粒子層が他の層中に完全に埋没しておらず、微粒子層の一部が他の層から露出している光学機能性フィルムを製造するためには、他の層に用いる樹脂の粘度、該樹脂の種類、該樹脂の表面張力、さらには、微粒子の粒径、該微粒子の充填率、他の層に用いる樹脂と微粒子との濡れ性等を考慮することによって、達成することができる。
【０１００】
具体的には、他の層に用いる樹脂の粘度が高く、或いは塗工時に指触乾燥性（後述）を有するもの（指触乾燥状態のこと）を選択することにより、微粒子の一部が露出しやすい。又、その他、該樹脂の表面張力が低いものを選択するか、微粒子の粒径が小さく、充填率が高いものを選択することによってもいい。また、該樹脂と該微粒子を選択するにあたり、濡れ性が悪いものを選択することによってもよい。
【０１０１】
工程紙：
離型フィルムとも呼ばれ、一般的にシート上にシリコン、フッ素、アクリル−メラミンなど離型処理を施したもの、または、未処理のものが使用される。その表面は平滑でも凹凸を有していてもよく、凹凸を有している場合、最終製品の表面に凹凸が形成されるので、得られる光学機能性フィルムに、反射防止効果又は防眩効果を付与することができる。
【０１０２】
ハーフキュアー：
本発明の透明機能性フィルムの製造方法において、ハーフキュアーとは、次のａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフキュアー、ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂（又は熱可塑性樹脂）ブレンド型ハーフキュアー、及びｃ．溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合ハーフキュアーが挙げられる。
【０１０３】
ａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフキュアー
通常の電離放射線硬化型樹脂を用いて塗布し、塗膜に紫外線又は電子線等の電離放射線の照射条件を調整して半架橋を行うことにより形成されるハーフキュアーの状態をいう。
【０１０４】
ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂（又は熱可塑性樹脂）ブレンド型ハーフキュアー
電離放射線硬化型樹脂に、熱硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂を混合して樹脂組成物を塗布し、熱硬化型樹脂を用いた場合、塗膜に熱を加えることにより形成されるハーフキュアーの状態をいう。
【０１０５】
ｃ．溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合ハーフキュアー
通常の電離放射線硬化型樹脂に溶剤を加えたものを塗布し、溶剤を乾燥させることによって形成される塗膜に、さらに電離放射線を照射してハーフキュアーする状態をいう。このハーフキュアーの状態は、特開平１−２０２４９号公報に説明されている半硬化状態と同じである。
【０１０６】
指触乾燥状態：
本発明の二番目の透明機能性フィルムを製造するにあたっては、機能性微粒子層の一部をハードコート層から露出させる必要がある。そのためには、塗工されたハードコート層用樹脂組成物の塗膜が指触乾燥状態のときにはその粘度が高いので、機能性微粒子層を接触させることにより、機能性微粒子層の全部がハードコート層内に完全に埋没せずに機能性微粒子層の一部が露出するようになる。また、ハードコート層を指触乾燥状態とすることにより、このハードコート層と機能性微粒子層の密着性がよくなるという利点がある。
【０１０７】
このハードコート層用樹脂組成物の塗膜を指触乾燥状態とするためには、▲１▼指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂を使用する方法、及び▲２▼電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混入する方法が挙げられる。
【０１０８】
上記の▲１▼指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂を使用する方法には、例えば、次の（イ）、（ロ）に示す指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂を使用することができる。
【０１０９】
（イ）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。
【０１１０】
具体的には次に列挙した単量体を重合又は共重合させたものに対し、後述するａ）〜ｄ）の方法によりラジカル共重合性不飽和基を導入した樹脂である。
【０１１１】
水酸基を有する単量体：例えば、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等がある。
【０１１２】
カルボキシル基を有する単量体：例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等がある。
【０１１３】
エポキシ基を有する単量体：例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等がある。
【０１１４】
アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリル等がある。
【０１１５】
アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等がある。
【０１１６】
スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等がある。
【０１１７】
イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの１モル対１モルの付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジカル共重合体の付加物等がある。
【０１１８】
さらに，共重合体のガラス転移温度を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記に列挙した各単量体と次に示す化合物を共重合させることができる。このような共重合可能な単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｇｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１９】
上記の各単量体を重合、もしくは共重合させたものに対して、次のａ）〜ｄ）の方法により、ラジカル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂が得られる。
【０１２０】
ａ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。
【０１２１】
ｂ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
【０１２２】
ｃ）エポキシ基、イソシアネート基又はアジリジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体又はカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
【０１２３】
ｄ）水酸基又はカルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体又はアジリジニル基を有する単量体又はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させる。
【０１２４】
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行うことが望ましい。
【０１２５】
（ロ）融点が常温（２０℃）〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。
【０１２６】
具体的には、ステアリルアクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、トリアクリルイソシアネート、シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコール（メタ）アクリレート等がある。
【０１２７】
上記の▲２▼の電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混入する方法に使用される粘着性を有する樹脂は、電離放射線硬化型樹脂に粘性を付与するものである。一般的には、粘着剤と電離放射線硬化型樹脂との混合物から形成することできるが、電離放射線硬化型樹脂が未架橋状態で液状ではなく且つ粘着性を有していればそのまま使用することができる。特に、塗膜の硬度を高く保つためにはポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂が、電離放射線硬化型樹脂への粘性の付与のために好適に使用できる。
【０１２８】
その他、電離放射線硬化型樹脂への粘性付与に適した樹脂には、従来公知の粘着テープや粘着シールに使用されているものでもよく、例えば、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム等のゴム系樹脂、（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル／酢酸ビニル共重合系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩素化オレフィン系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等に適当な粘着付与剤、例えば、ロジン、ダンマル、重合ロジン、部分水添ロジン、エステルロジン、ポリテルペン系樹脂、テルペン変性体、石油系樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、フェノール系樹脂、クマロン−インデン系樹脂を適宜添加したもの、さらに必要に応じて軟化剤、充填剤、老化防止剤等を添加したものが挙げられる。
【０１２９】
電離放射線硬化型樹脂に対する粘着性を有する樹脂の混合割合は、電離放射線硬化型樹脂が１００重量部に対して、５０重量部以下とすることが、塗膜を指触乾燥状態とする目的のためには好ましい。
【０１３０】
本発明の光学機能性フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いることができる。
【０１３１】
偏光板及び液晶表示装置：
本発明の光学機能性フィルムは、偏光素子にラミネートすることによって、反射防止性の改善された偏光板とすることができる。この偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。このラミネート処理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、光学機能性フィルムの基材フィルムが例えば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行う。このケン化処理はトリアセチルセルロースフィルムにハードコートを施す前または後のどちらでもよい。
【０１３２】
図１２に本発明の光学機能性フィルムが使用された偏光板の一例を示す。図中１４は反射防止性を有する本発明の光学機能性フィルムであり、該光学機能性フィルム１４が偏光素子１１上にラミネートされており、一方、偏光素子１１の他面にはトリアセチルセルロースフィルム（略：ＴＡＣフィルム）１２がラミネートされている。また偏光素子１１の両面に本発明の光学機能性フィルム１４がラミネートされてもよい。
【０１３３】
図１３に本発明の光学機能性フィルムが使用された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子１３上に、図１２に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム／偏光素子／光学機能性フィルムからなる層構成の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子１３の他方の面には、ＴＡＣフィルム／偏光素子／ＴＡＣフィルムからなる層構成の偏光板がラミネートされている。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入される。
【０１３４】
【実施例】
〔実施例１〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。
【０１３５】
一方、トリアセチルセルロースフィルム上に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）を膜厚５μ／ｄｒｙになるように塗工し、このフィルムの樹脂面を上記超微粒子面とラミネートし、得られたラミネートフィルムに対して電子線を２Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。上記ラミネートフィルムから離型フィルムを剥離し、この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）〔即ち、フッ化ビニリデン６０重量部、ヘキサフルオロプロピレン２０重量部、テトラフルオロエチレン２０重量部からなるフッ素含有共重合体６０重量部に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０重量部を混合してなる電離放射線硬化型フッ素系樹脂組成物〕を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め樹脂層をフルキュアーした。
【０１３６】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１３７】
〔実施例２〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を１Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。
【０１３８】
この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。
【０１３９】
上記の方法で形成された超微粒子膜上に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照射し、下層の樹脂を含め全樹脂層をフルキュアーした。この硬化樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。
【０１４０】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１４１】
〔実施例３〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。
【０１４２】
上記超微粒子膜上に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂層をハーフキュアーした。
【０１４３】
この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。
【０１４４】
この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め樹脂層をフルキュアーした。
【０１４５】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１４６】
〔実施例４〕
屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：１の割合で配合した溶液（屈折率１．６５）を膜厚４μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂をハーフキュアーした。
【０１４７】
この樹脂層上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め全樹脂層をフルキュアーした。
【０１４８】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１４９】
〔実施例５〕
屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）上に、屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：１の割合で配合した溶液（屈折率１．６５）を膜厚４μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂を完全硬化した。
【０１５０】
この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、トリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、樹脂層を硬化した。
【０１５１】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１５６】
〔実施例６〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。
【０１５７】
この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工する。
【０１５８】
この超微粒子層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：１の割合で混合した屈折率１．６５の樹脂を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照射して樹脂を完全に硬化した。
【０１５９】
この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。
【０１６０】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．８％であり、５５０ｎｍの反射率は０．１％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１６１】
【発明の効果】
本発明の光学機能性フィルムに用いられる低屈折率層用の樹脂組成物は、十分に低い屈折率であり、溶剤溶解性で十分な薄膜とすることができ、形成される薄膜は耐擦傷性を持つので、本発明により得られる光学機能性フィルムは反射防止性に優れ、耐擦傷性に優れており、しかも本発明の光学機能性フィルムは塗装により形成することができるので、その製造は簡単な方法で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの断面図である。
【図２】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの断面図である。
【図３】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの断面図である。
【図４】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法を示すフロー図である。
【図５】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。
【図６】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。
【図７】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法のフロー図である。
【図８】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。
【図９】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法のフロー図である。
【図１０】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。
【図１１】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法のフロー図である。
【図１２】本発明の光学機能性フィルムが使用された偏光板の一例を示す。
【図１３】本発明の光学機能性フィルムが使用された液晶表示装置の一例を示す。
【符号の説明】
１ 透明基材フィルム
２ 他の層
３，１０ 低屈折率層
４ 微粒子層
５ 工程紙
６ 接着剤層
７ 微粒子
８ ＴＡＣフィルム
９ 高屈折率ハードコート層
１１ 偏光素子
１２ ＴＡＣフィルム
１３ 液晶表示素子
１４ 光学機能性フィルム
【産業上の利用分野】
本発明は、低屈折率層を塗布により形成できる樹脂を用いて、最表面に低屈折率層を形成した光学機能性フィルム及びその製造方法に関する。特に、本発明の光学機能性フィルムは反射防止機能を有し、該光学機能性フィルムは偏光板、液晶表示装置に有用である。
【０００２】
【従来の技術】
従来、紫外線遮断効果、帯電防止効果、反射防止効果等の特定の性質を有する機能性超微粒子が分散された透明樹脂組成物を透明プラスチック基材フィルムに塗布して機能性塗膜を形成することにより、紫外線遮断性、帯電防止性又は反射防止性等の機能が付与された透明機能性フィルムを製造することが知られている。特に、反射防止フィルム等の光学機能性フィルムにおいては、最表面層には低屈折率層を設けることが従来行われている。
【０００３】
従来、光の反射防止技術には、例えば、次のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチック表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ２ 等の極薄膜や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その上に蒸着によりＳｉＯ２ やＭｇＦ２ の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜を形成する方法があった。
【０００４】
前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ２ の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ０ とし、この波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ０ 、反射防止膜の厚みをｈ、および基板の屈折率をｎｇ とすると、反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過するための条件は、次の式（１）および式（２）の関係を満たすことが必要であることは既に知られている（サイエンスライブラリ 物理学＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年，株式会社サイエンス社発行）。
【０００５】
【数１】
【０００６】
前記式（１）によれば、光の反射を１００％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すればよいことが分かり、このような原理を利用して、上層塗膜の屈折率を、その下層塗膜の屈折率よりも若干低い値として光の反射防止を行なうことが従来行なわれていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
反射防止フィルム等の光学機能性フィルムの最表面に、樹脂の塗布により低屈折率層を設ける場合には、前記条件を満たすような十分に薄い薄膜を形成することが困難であり、得られた低屈折率層の塗膜は耐擦傷性が十分でなく、しかも、十分に低い低屈折率とすること、十分な透明度とすることは困難であり、これら全ての条件を満足するものは従来存在していなかった。
【０００８】
そこで、本発明は、樹脂の塗布により低屈折率層を形成した光学機能性フィルムの製造において、その低屈折率層を十分な薄膜とすることができ、十分な耐擦傷性を持ち、その屈折率を十分に低い値とすることができ、得られる光学機能性フィルムを十分な透明とすることができる光学機能性フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
光学機能性フィルム：
本発明の光学機能性フィルムには、タイプＩとタイプＩＩがある。
【００１０】
本発明のタイプＩの光学機能性フィルムは、透明基材フィルム上に、１層以上からなる他の層を介して、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満の低屈折率層が形成されており、前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、前記低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムは、前記本発明のタイプＩの光学機能性フィルムにおける、他の層のうち、低屈折率層に直接接する層が、該低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されていることを特徴とする。本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムは、上記特徴に加えて、前記微粒子が極在化して固定されていない部分の他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈折率であることが望ましい。
【００１２】
本発明の光学機能性フィルムのタイプＩ及びタイプＩＩにおいては、低屈折率層が、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて形成されているので、特に、そのフッ素含有共重合体中においてヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％のモノマー成分を含んでいるので、この樹脂組成物の塗布により形成される低屈折率層において１．４５以下の低屈折率を実現することができ、また、特に、そのフッ素含有共重合体中においてフッ化ビニリデン３０〜９０重量％のモノマー成分を含んでいるため、得られる樹脂組成物の溶剤溶解性が増し、塗布適性が良好となり、その膜厚を反射防止に適した２００ｎｍ以下の薄膜とすることができる。さらに、塗布される樹脂組成物中に、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部が含まれているため、得られる塗膜は耐擦傷性の機械的強度の優れたものとなる。また、各樹脂成分は透明性が高いため、これらの成分を含有した樹脂組成物を用いて形成された低屈折率層は、透明性に優れている。
【００１３】
図１は本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの断面図である。その光学機能性フィルムは、透明基材フィルム１上に、主として樹脂からなる他の層２が塗布により形成されており、さらに、この他の層２の上に、前記した低屈折率層用の溶剤溶解性の樹脂組成物が塗布されて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜の屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層３を形成している。
【００１４】
本発明のタイプＩの光学機能性フィルムは、接する空気から光学機能性フィルムの内部に至るまで、空気層（屈折率１．０）、低屈折率層３（屈折率１．６０未満、好ましくは、１．４５以下）、他の層２（屈折率１．６０以上）、透明基材フィルム１（他の層２より低い屈折率）となっているので、効率のよい反射防止を行うことができる。他の層２の屈折率が透明基材フィルム１の屈折率よりも高く構成されることが望ましく、このような場合には、透明基材フィルム１と他の層２との間の界面における反射を防止する効果がさらに付加される。
【００１５】
図２及び図３は本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの断面図を示す。図２及び図３の光学機能性フィルムは、図１の本発明のタイプＩの光学機能性フィルムにおいて、透明基材フィルム１上に塗布された他の層２の表面から内部にかけて形成された微粒子層４が存在している点において相違しており、その他の構成は本発明のタイプＩの光学機能性フィルムと同じである。本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいて、微粒子層４は、各微粒子７自身の結着力により、或いは微粒子７が完全に埋没されない程度の量のバインダー樹脂の結着力により相互に結着されて形成されている。図２は、特に、微粒子層４が他の層２中に完全に埋没されている場合であり、図３は、特に、微粒子層４が他の層２に完全に埋没されておらず、その一部が露出している場合である。
【００１６】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムは、その機能は前記のタイプＩとほぼ同様であるが、微粒子層４が挿入されているので、微粒子７を樹脂中に均一に分散させるよりも微粒子７の機能を高めることができ、また、微粒子層４を極在化して固定させているので、特に微粒子７として高屈折率微粒子を使用し、低屈折率層３と接する周辺に極在化させたときには、反射防止効果が高まる利点がある。
【００１７】
本発明のタイプＩ及びタイプＩＩの光学機能性フィルムの最表面には、微細な凹凸が形成されていてもよく、このような場合には、光学機能性フィルムに、反射防止効果及び防眩効果をさらに高める機能が付与される。
【００１８】
低屈折率層：
本発明の光学機能性フィルムの低屈折率層に使用される樹脂組成物について、次に詳述する。
【００１９】
本発明において用いられる低屈折率層用の樹脂組成物は、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物であることを特徴とする。この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層を形成する。
【００２０】
この低屈折率層に用いられる前記フッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体であり、当該モノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、またヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、さらにテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。
【００２１】
また、このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、本発明の目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。ここに、当該他の共重合成分の具体例としては、例えばフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸などのフッ素原子を含有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００２２】
このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０重量％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。
【００２３】
このフッ素含有共重合体は、特にそのフッ素含有割合が上述の特定の範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。また、本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物は、このようなフッ素含有共重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、基材の表面の耐傷性などの機械的特性を十分に高いものとすることができ、反射防止膜形成にきわめて好適である。
【００２４】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。
【００２５】
さらに、フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、さらに１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなり、十分に良好な反射防止膜を形成することができない場合が生ずる。
【００２６】
本発明において用いられる重合性化合物は、光重合開始剤の存在下または非存在下で活性エネルギー線が照射されることにより、または熱重合開始剤の存在下で加熱されることにより、付加重合を生ずるエチレン性不飽和基を有する化合物である。
【００２７】
このような重合性化合物の具体例としては、例えば次の（ａ）〜（ｖ）に挙げるものを使用することができる。
【００２８】
（ａ）スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、１、１−ジフェニルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族ビニル化合物類；
（ｂ）（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリルなどの不飽和ニトリル類；
（ｃ）メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル−（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｄ）２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｅ）クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸プロピル、クロトン酸ブチル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、ケイ皮酸ブチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル類；
（ｆ）２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｇ）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル類；
（ｈ）シアノエチル（メタ）アクリレート、シアノプロピル（メタ）アクリレートなどのシアノ基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（ｉ）２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリーロキシアルキルエステル類；
（ｊ）メトキシポリエチレングリコール、エトキシポリエチレングリコール、メトキシポリプロピレングリコール、エトキシポリプロピレングリコールなどのアルコキシポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル類；
（ｋ）フェノキシポリエチレングリコール、フェノキシポリプロピレングリコールなどのアリーロキシポリアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸モノエステル類；
（ｌ）エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどのアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
（ｍ）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール（アルキレングリコール単位数が例えば２〜２３のもの）の（メタ）アクリル酸ジエステル、両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシブタジエン−アクリロニトリル共重合体、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端に水酸基を有する重合体の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
（ｎ）グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン（アルカンの炭素数は例えば１〜３である。）、テトラメチロールアルカン（アルカンの炭素数は例えば１〜３である。）、ペンタエリスリトールの如き３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル、（メタ）アクリル酸トリエステルまたは（メタ）アクリル酸テトラエステルなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステル類；
（ｏ）３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物の（メタ）アクリル酸トリエステルまたは（メタ）アクリル酸テトラエステルなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステル類；
（ｐ）１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール、１，４−ジヒドロキシエチルベンゼンなどの環式多価アルコールの（メタ）アクリル酸オリゴエステル類；
（ｑ）ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸オリゴエステルプレポリマー類；
（ｒ）（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸などの不飽和カルボン酸類；
（ｓ）イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸の如き不飽和多価カルボン酸のモノメチルエステル、モノエチルエステル、モノプロピルエステル、モノブチルエステル、モノヘキシルエステル、モノオクチルエステルなどの遊離カルボキシル基含有エステル類；
（ｔ）イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸の如き不飽和多価カルボン酸のジメチルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル、ジブチルエステル、ジヘキシルエステル、ジオクチルエステルなどの多価エステル類；
（ｕ）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミドなどの不飽和アミド類；
（ｖ）酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ビバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル類。
【００２９】
以上のうち、好ましい重合性化合物は、エチレン性不飽和基を１分子中に３以上、特に４以上、さらには４〜１５含有するものである。このような重合性化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、「Ｕ−１５ＨＡ」（商品名、新中村化学社製）などを挙げることができる。
【００３０】
さらに、これらの化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３１】
用いる重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１分子中に３個以上含有するものである場合には、得られるフッ素系樹脂組成物は、特に、基材に対する密着性および基材の表面の耐傷性などの機械的特性がきわめて良好な薄膜を形成するものとなる。
【００３２】
重合性化合物の使用量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。
【００３３】
この重合性化合物の使用割合が過小であると、得られる塗料によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなり、一方、使用割合が過大であると、形成される薄膜は屈折率の高いものとなって良好な反射防止効果を得ることが困難となる。
【００３４】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物においては、フッ素含有共重合体および重合性化合物を含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、特に３５〜５０重量％であることが好ましい。このような条件が満足される場合には、本発明の目的及び効果をさらに十分に達成する薄膜を確実に形成することができる。フッ素含有割合が過大であるフッ素系樹脂組成物によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなる傾向と共に、基材の表面の耐傷性などの機械的特性が若干低下するものとなり、一方、フッ素含有割合が過小であるフッ素系樹脂組成物により形成される薄膜は、屈折率が大きいものとなって反射防止効果が低下する傾向が生じる。
【００３５】
本発明の光学機能性フィルムに使用される溶剤は、当該フッ素系樹脂組成物の塗布性及び形成される薄膜の基材に対する密着性の点から、７６０ヘクトパスカルの圧力下における沸点が５０〜２００℃の範囲内のものが好ましい。
【００３６】
このような溶剤の具体例としては、例えばアセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類よりなる溶剤を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成分以上の混合物でもよく、さらに上記に例示したもの以外の溶剤を、樹脂組成物の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
【００３７】
溶剤の使用量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計量１００重量部に対して、通常２００〜１００００重量部、好ましくは１０００〜１００００重量部、特に好ましくは１２００〜４０００重量部である。
【００３８】
溶剤の使用量をこの範囲とすることにより、フッ素系樹脂組成物の粘度の大きさを、樹脂組成物として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、特に０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが容易であり、その結果、当該フッ素系樹脂組成物により、可視光線の反射防止膜として実用上好適な均一で塗布ムラのない厚さ１００〜２００ｎｍの薄膜を容易に形成することができ、しかも基材に対する密着性が特に優れた薄膜を形成することができる。
【００３９】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物は、含有される重合性化合物のエチレン性不飽和基が重合反応することによって硬化するものであり、従って、当該樹脂組成物が塗布されて形成された塗膜に対し、当該重合性化合物を重合反応させる硬化処理が施されて固体状の薄膜が形成される。
【００４０】
このような硬化処理の手段として、当該フッ素樹脂系組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射する手段または塗膜を加熱する手段が利用され、これにより、本発明が目的とする硬化状態の薄膜を確実にかつ容易に形成することができるので、実際上きわめて有利であり、薄膜形成操作の点においても便利である。
【００４１】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物を活性エネルギー線の照射によって硬化処理する場合において、活性エネルギー線として電子線を用いるときは、当該フッ素系樹脂組成物には特に重合開始剤を添加することなしに、所期の硬化処理を行うことができる。
【００４２】
また、硬化処理のための活性エネルギー線として、紫外線あるいは可視光線の如き光線を用いる場合には、当該活性エネルギー線の照射を受けて分解して例えばラジカルを発生し、それによって重合性化合物の重合反応を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【００４３】
このような光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、カルバゾール、キサントン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，１−ジメトキシデオキシベンゾイン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、トリフェニルアミン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、３−メチルアセトフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル−１−ブタノン、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル、またはＢＴＴＢとキサンチン、チオキサンチン、クマリン、ケトクマリン、その他の色素増感剤との組合せなどを挙げることができる。
【００４４】
これら光重合開始剤のうち、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−
〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノンなどが好ましく、さらに好ましくは、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノンなどを挙げることができる。
【００４５】
さらに、硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【００４６】
熱重合開始剤の具体例としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などを挙げることができる。
【００４７】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物における光重合開始剤または熱重合開始剤の添加量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計１００重量部に対し、通常、０．５〜１０重量部、好ましくは１〜８重量部、特に好ましくは２〜７重量部である。この添加量が１０重量部を越えると樹脂組成物の取り扱い並びに形成される薄膜の機械的強度などに悪影響を及ぼすことがあり、一方、添加量が０．５重量部未満では硬化速度が小さいものとなる。
【００４８】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の目的および効果が損なわれない範囲において、各種添加剤、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン系化合物から成る増感剤もしくは重合促進剤；エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンスチレンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどの重合禁止剤；その他にレベリング剤、漏れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔料、染料などを配合することができる。
【００４９】
他の層：
本発明のタイプＩ及びタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいて、透明基材フィルムと低屈折率層との間の１層以上の他の層において、低屈折率層と直接接している他の層の屈折率は、低屈折率微粒子の屈折率よりも高く、かつ透明プラスチック基材フィルムの屈折率よりも高くすることが好ましい。このような屈折率を持つ層構成とすることにより、反射防止効果を高め、他の層と接する層の間の界面の反射を防ぐことができる。この低屈折率層と直接接している他の層の屈折率は、好ましくは１．６０以上である。
【００５０】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいては、他の層のうち、低屈折率層に直接接する層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されているため、微粒子が樹脂中に分散されている場合に比べ微粒子を多量に使用することなく、少量で微粒子の機能を発現し易いという利点が生じ、さらに、微粒子が他の層中に埋め込まれているため、他の層の上に微粒子層を形成するよりも、微粒子と他の層との密着性が良いという効果がある。
【００５１】
また、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムにおいて、他の層のうち、微粒子が存在していない部分の他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈折率とすることが、透明基材フィルムと他の層との間の界面の反射を防止するために好ましい。
【００５２】
低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて極在化して固定されている屈折率１．６０以上の微粒子は、その光学膜厚が、λ／４又はλ／２（４５０ｎｍ＜λ＜６００ｎｍ）であることが反射防止効果を上げるために好ましい。
【００５３】
他の層の屈折率を高める方法には、高屈折率を持つバインダー樹脂を他の層に使用するか、他の層の屈折率より高い屈折率を持つ高屈折率微粒子を他の層に添加するか、高屈折率微粒子層を他の層中に極在化させるか、或いはこれらの方法を併用して行う。
【００５４】
前記高屈折率微粒子を他の層中に添加する方法又は他の層中に極在化させる方法に用いられる高屈折率の微粒子の例には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２ （屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ２ （屈折率１．９５）、Ｓｂ２ Ｏ５ （屈折率１．７１）、ＳｎＯ２ 、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ２ Ｏ３ （屈折率１．８７）、Ｌａ２ Ｏ３ （屈折率１．９５）、ＺｒＯ２ （屈折率２．０５）、Ａｌ２ Ｏ３ （屈折率１．６３）等が挙げられる。
【００５５】
これらの高屈折率微粒子のうち、ＺｎＯ、ＴｉＯ２ 、ＣｅＯ２ 、Ｓｂ２ Ｏ５ 等を用いることにより、本発明の光学機能性フィルムにＵＶ遮蔽効果がさらに付与されるので好ましい。また、アンチモンがドープされたＳｎＯ２ 或いはＩＴＯを用いることにより、電子伝導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防止、或いは本発明の光学機能性フィルムをＣＲＴに用いた場合の電磁波シールド効果が得られるので好ましい。高屈折率微粒子の粒径は、他の層を透明とするためには４００ｎｍ以下であることが好ましい。特に、反射防止性を付与するにはＭｇＦ２ やＳｉＯ２ 等の低屈折率微粒子やＳｂ２ Ｏ５ 、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２ 、ＴｉＯ２ 等の高屈折率微粒子が使用される。
【００５６】
微粒子層に使用される微粒子には、２００ｎｍ以下の超微粒子で、紫外線遮断性、導電性、帯電防止性、反射防止性等の機能を有するものが挙げられる。
【００５７】
これらの機能性を有する微粒子は、その表面がカップリング剤で疎水化処理されていてもよく、このような疎水化処理により微粒子表面への疎水性基の導入が行われるので、電離放射線硬化型樹脂に馴染みやすくなり、電離放射線硬化型樹脂との結合がより強固となる。このようなカップリング剤には、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミナ系カップリング剤等が用いられる。そのカップリング剤の添加量は０（０を含まず）〜３０重量部、望ましくは０（０を含まず）〜１０重量部である。
【００５８】
また、微粒子がＭｇＦ２ のように表面が不活性な場合、予めＳｉＯ２ ゾルを添加し、微粒子の表面をＳｉＯ２ でコーティングした後、カップリング剤で処理してもよい。このようなＳｉＯ２ の皮膜処理により、微粒子の表面に親水性基を多く導入させることができ、その後のカップリング剤での処理により疎水性基を確実により多く導入でき、したがって、微粒子が樹脂へさらに馴染みやすくなり結合性が増す。
【００５９】
前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、▲１▼芳香環を含む樹脂、▲２▼Ｆ以外のハロゲン化元素、例えば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、▲３▼Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む樹脂等があげられ、これらの少なくとも一つの条件を満足する樹脂が高屈折率となるために望ましい。前記▲１▼の樹脂の例には、ポリスチレン等のスチロール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルカルバゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネート等が挙げられる。前記▲２▼の樹脂の例には、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル等が挙げられる。前記▲３▼の樹脂の例には、ポリビスフェノールＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が挙げられる。
【００６０】
他の層に用いることができる樹脂には、透明性のあるものであればどのような樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂）でも使用することができる。しかしながら、本発明の光学機能性フィルムにおいて、低屈折率層を形成する樹脂に、電離放射線硬化型樹脂が混入されているので、他の層の樹脂に電離放射線硬化型樹脂を使用した場合には、各塗膜の硬化を電離放射線により同時に硬化できるという利点がある。
【００６１】
他の層にハード性能を付与するためには、或いは複数層の他の層のうちある層にハード性能を付与するためには、層の厚みは０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上とすることにより、硬度を維持することができ、ハード性能を付与することができる。
【００６２】
なお、本発明において、「ハード性能を付与する」とは、ＪＩＳ Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を与えることをいう。
【００６３】
また、他の層の硬度をより向上させるために、そのバインダー樹脂には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。前記熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用する。
【００６４】
前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【００６５】
特に好適には、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。その理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆くなるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポリウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアクリレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレートの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越えると塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうからである。
【００６６】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【００６７】
他の層に、特に、屈曲性を付与するためには、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し溶剤乾燥型樹脂を１０重量部以上１００重量部以下含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができる。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において有利である。
【００６８】
また、透明基材フィルムとして、特にトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるときには、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び透明性の点で有利である。
【００６９】
その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶媒としてトルエンを使用した場合、透明基材フィルムであるトリアセチルセルロースの非溶解性の溶剤であるトルエンを用いるにもかかわらず、透明基材フィルムにこの溶剤乾燥型樹脂を含む樹脂組成物の塗布を行っても、透明基材フィルムと塗膜樹脂との密着性を良好にすることができ、しかもこのトルエンは、透明基材フィルムであるトリアセチルセルロースを溶解しないので、透明プラスチック基材フィルムの表面は白化せず、透明性が保たれる利点があるからである。
【００７０】
他の層にバインダー樹脂として電離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００７１】
他の層に使用される前記した微粒子は、カップリング剤によりその表面に疎水性が付与されていてもよい。
【００７２】
他の層が複数層ある場合にはそのうちの一つの層は、透明基材フィルムと接する接着剤層としてもよい。
【００７３】
微粒子層の形成方法：
微粒子層の形成方法は、微粒子のゾル自体又は微粒子のゾルにバインダー樹脂を含有させたものを塗布して形成する。例えば、工程紙上に微粒子層を形成する場合には、バインダー樹脂を使用しなくても、微粒子自身の持つ結着作用により形成することができるが、その結着作用が弱いような場合には必要に応じて、バインダー樹脂を混合使用してもよい。そのバインダー樹脂の量は、微粒子がバインダー樹脂中に完全に埋没されない程度の量とすることが、微粒子の表面が露出された状態で微粒子相互が結着されるので、微粒子の機能性を発現するのに、特に、反射防止膜に利用する場合に好ましい。
【００７４】
このようなバインダー樹脂には、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の一般的なものが用いられるが、本発明における低屈折率層に電離放射線硬化型樹脂が含まれているので、この低屈折率層との密着性を考慮すると電離放射線硬化型樹脂が望ましく、その電離放射線硬化型樹脂は溶剤乾燥半硬化型樹脂であることが望ましい。また、このようなバインダー樹脂に着色剤を混入してもよい。
【００７５】
透明基材フィルム：
本発明の光学機能性フィルムの透明基材フィルムに適した材料は、透明性のあるフィルムであればよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使用できるが、特に、トリアセチルセルロースフィルム、及び一軸延伸ポリエステルが透明性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
【００７６】
光学機能性フィルムの製造方法：
本発明の前記タイプＩの光学機能性フィルムについての製造方法には、次の５つの製造方法が挙げられる。
【００７７】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法は、（１）透明基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、（２）樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーし、（４）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００７８】
図４は上記タイプＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法を示すフロー図である。図４（ａ）は、透明基材フィルム１上に、接着剤層、機能性材料を含んだ層等を介すか、介さずして、他の層２を形成した状態である。図４（ｂ）は、他の層２の塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーする状態を示す。図４（ｃ）は、他の層２上に本発明に使用される低屈折率層用樹脂組成物を塗布して低屈折率層３を形成した状態を示す。図４（ｄ）は、溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の層２の塗膜を含めてフルキュアーする状態を示す。
【００７９】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（２）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上又は透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、（４）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、該工程紙を剥離し、（５）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（６）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００８０】
図５は、上記タイプＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。図５（ａ）は、工程紙５上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して、他の層２の塗膜を形成した状態である。図５（ｂ）は、他の層２の塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を完全に硬化させた状態を示す。図５（ｃ）は、他の層２側或いは透明基材フィルム１側の何れかに接着剤層６を設け、接着剤層６を介して工程紙５上の他の層２と透明基材フィルム１をラミネートしている状態を示す。図５（ｄ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。図５（ｅ）は、他の層２上にさらに本発明に使用される低屈折率層用樹脂組成物を塗布して低屈折率層３の塗膜を設け、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の層２の塗膜を含めてフルキュアーしている状態を示す。
【００８１】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（２）一方、透明基材フィルムを用意し、前記工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートし、（３）得られたラミネート物をハーフキュアー又はフルキュアーさせた後、前記工程紙を剥離し、（４）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、（５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００８２】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーさせ、（３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い、樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（４）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めフルキュアーさせ、（５）工程紙上に形成されたフルキュアーされた塗膜上、又は別に用意した透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、（６）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする。
【００８３】
図６は、上記タイプＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。図６（ａ）は、工程紙５上に、本発明に使用される低屈折率層用樹脂組成物を塗装して、低屈折率層３の塗膜を形成し、塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーしている状態を示す。図６（ｂ）は、この低屈折率層３上に、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工して、他の層２の塗膜を形成し、さらに該塗膜をフルキュアーしている状態を示す。図６（ｃ）は、工程紙５上に形成された低屈折率層３及び他の層２と、透明基材フィルム１とを接着剤層６を介してラミネートした状態を示す。図６（ｄ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００８４】
前記タイプＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーさせ、（３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（４）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする。
【００８５】
本発明の前記タイプＩＩの光学機能性フィルムについての製造方法には、次の６つの製造方法が挙げられる。
【００８６】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、前記一番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、溶剤で希釈した前記本発明で使用される低屈折率樹脂組成物を用いて塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、この塗膜を他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、（５）得られた工程紙に形成されたフルキュアーされた樹脂層上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成して、（６）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする。
【００８７】
図７は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法のフロー図である。図７（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。図７（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体とした微粒子層４を形成した状態を示す。図７（ｃ）は、この微粒子層４上に樹脂を塗布して他の層２の塗膜を形成し、この塗膜をフルキュアーしている状態を示す。図７（ｄ）は、前記（ｃ）で得られたフィルムの他の層２側と、透明基材フィルム１とを接着剤層６を介してラミネートした状態を示す。図７（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００８８】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、前記二番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、溶剤で希釈した前記本発明で使用される低屈折率樹脂組成物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（４）一方、透明基材フィルム上に樹脂を主体とする塗膜を形成し、（５）前記工程紙上に形成された低屈折率層及び微粒子層と、前記透明基材フィルム上の樹脂層が接するように工程紙と透明基材フィルム両者を圧着してラミネートすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（６）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、次いで工程紙を剥離して低屈折率層及び高屈折率微粒子層を転写することを特徴とする。
【００８９】
図８は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。図８（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。図８（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体とした微粒子層４を形成した状態を示す。図８（ｃ）は、透明基材フィルム１を用意し、この透明基材フィルム１上に樹脂を主体とした塗膜（他の層２）を形成した状態である。図８（ｄ）は、前記（ｃ）で得られた透明基材フィルム１上の他の層２側と、工程紙５上の微粒子層４側とを合わせてラミネートし、他の塗膜２の硬化も含めてフルキュアーしている状態を示す。微粒子層４は他の層２中に完全に埋没するか又は微粒子層４の一部が埋没している。図８（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００９０】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法であり、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、溶剤で希釈した前記本発明で使用される低屈折率樹脂組成物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、（５）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートし、（６）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、次いで工程紙を剥離することを特徴とする。
【００９１】
図９は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法のフロー図である。図９（ａ）は、工程紙５上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーした状態を示す。図９（ｂ）は、この低屈折率層３上に微粒子７を主体とした微粒子層４を形成した状態を示す。図９（ｃ）は、この微粒子層４上に樹脂を塗布して樹脂を主体とする他の層２の塗膜を形成している状態を示し、この塗膜は未だフルキュアーされていない。図９（ｄ）は、前記（ｃ）で得られた工程紙５上の他の層２側と、別に用意した透明基材フィルム１とを合わせてラミネートし、他の層の硬化も含めてフルキュアーしている状態を示す。図９（ｅ）は、ラミネート物から工程紙５を剥離している状態を示す。
【００９２】
本発明のタイプIIの光学機能性フィルムの前記一番目〜三番目の製造方法において使用される低屈折率樹脂組成物は、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物であることが、屈折率１．６０未満、好ましくは１．４５以下の十分に低い屈折率を実現でき、またその樹脂組成物が溶剤溶解性であるので膜厚が２００ｎｍ以下の十分に薄い薄膜とすることができ、しかもこの低屈折率樹脂組成物により製造された低屈折率層は耐擦傷性で透明性に優れる。
【００９３】
本発明の前記タイプＩＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（２）一方、透明基材フィルム上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、（３）前記工程紙上に形成された上記微粒子層と、前記透明基材フィルム上に形成された樹脂層が接するように前記工程紙と前記透明基材フィルムを圧着してラミネートすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（４）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってこの塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーし、（５）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされたラミネート物から工程紙を剥離して微粒子層を透明基材フィルムに転写し、（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、（７）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００９４】
図１０は本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。図１０（ａ）は、工程紙５上に、屈折率１．６０以上の微粒子層４を形成したものを、透明基材フィルム１上に樹脂を塗布して他の層２が形成された上に、微粒子層４が他の層２内に埋め込まれるようにして圧着してラミネートしようとする状態を示す。図１０（ｂ）はラミネートされた状態である。図１０（ｂ）において、微粒子層４は、他の層２内に完全に埋没されていてもよく、また、微粒子層４の一部が他の層２から露出していてもよい。図１０（ｃ）は、そのラミネート物から工程紙５を剥離している状態である。図１０（ｄ）は、微粒子層４の上に、本発明で使用される低屈折率樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成された状態を示す。
【００９５】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用する方法であり、（１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、ハーフキュアー又はフルキュアーし、（４）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成し、（５）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、該工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルムに転写し、（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００９６】
図１１は、本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法のフロー図である。図１１（ａ）は、工程紙５上に微粒子層４を形成し、さらにその上に他の層２を形成し、フルキュアー又はハーフキュアーしている状態を示す。図１１（ｂ）は、この工程紙５上の他の層２側、或いは透明基材フィルム１側の何れか一方に接着剤層６を形成し、接着剤層６を介して両フィルムをラミネートした状態を示す。図１１（ｃ）は、接着剤層６のフルキュアー後に工程紙５を剥離している状態を示す。図１１（ｄ）は、さらに微粒子層４上に、本発明で使用される低屈折率層用樹脂組成物の薄膜である低屈折率層３が塗布により形成され、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアーされた状態を示す。
【００９７】
本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、六番目の製造方法は、透明基材フィルムと他の層との接着に接着剤を使用しない方法であり、（１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、（３）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネートし、（４）前記ラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフルキュアーした後、工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルム上に転写し、（５）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする。
【００９８】
上記の各光学機能性フィルムの製造方法において、塗膜を形成した後にハーフキュアーとし、さらに塗膜を形成する意義は、各塗膜間の密着性を増加させるためである。
【００９９】
上記の各光学機能性フィルムの各製造方法において、特に、微粒子層が他の層中に完全に埋没しておらず、微粒子層の一部が他の層から露出している光学機能性フィルムを製造するためには、他の層に用いる樹脂の粘度、該樹脂の種類、該樹脂の表面張力、さらには、微粒子の粒径、該微粒子の充填率、他の層に用いる樹脂と微粒子との濡れ性等を考慮することによって、達成することができる。
【０１００】
具体的には、他の層に用いる樹脂の粘度が高く、或いは塗工時に指触乾燥性（後述）を有するもの（指触乾燥状態のこと）を選択することにより、微粒子の一部が露出しやすい。又、その他、該樹脂の表面張力が低いものを選択するか、微粒子の粒径が小さく、充填率が高いものを選択することによってもいい。また、該樹脂と該微粒子を選択するにあたり、濡れ性が悪いものを選択することによってもよい。
【０１０１】
工程紙：
離型フィルムとも呼ばれ、一般的にシート上にシリコン、フッ素、アクリル−メラミンなど離型処理を施したもの、または、未処理のものが使用される。その表面は平滑でも凹凸を有していてもよく、凹凸を有している場合、最終製品の表面に凹凸が形成されるので、得られる光学機能性フィルムに、反射防止効果又は防眩効果を付与することができる。
【０１０２】
ハーフキュアー：
本発明の透明機能性フィルムの製造方法において、ハーフキュアーとは、次のａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフキュアー、ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂（又は熱可塑性樹脂）ブレンド型ハーフキュアー、及びｃ．溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合ハーフキュアーが挙げられる。
【０１０３】
ａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフキュアー
通常の電離放射線硬化型樹脂を用いて塗布し、塗膜に紫外線又は電子線等の電離放射線の照射条件を調整して半架橋を行うことにより形成されるハーフキュアーの状態をいう。
【０１０４】
ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂（又は熱可塑性樹脂）ブレンド型ハーフキュアー
電離放射線硬化型樹脂に、熱硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂を混合して樹脂組成物を塗布し、熱硬化型樹脂を用いた場合、塗膜に熱を加えることにより形成されるハーフキュアーの状態をいう。
【０１０５】
ｃ．溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合ハーフキュアー
通常の電離放射線硬化型樹脂に溶剤を加えたものを塗布し、溶剤を乾燥させることによって形成される塗膜に、さらに電離放射線を照射してハーフキュアーする状態をいう。このハーフキュアーの状態は、特開平１−２０２４９号公報に説明されている半硬化状態と同じである。
【０１０６】
指触乾燥状態：
本発明の二番目の透明機能性フィルムを製造するにあたっては、機能性微粒子層の一部をハードコート層から露出させる必要がある。そのためには、塗工されたハードコート層用樹脂組成物の塗膜が指触乾燥状態のときにはその粘度が高いので、機能性微粒子層を接触させることにより、機能性微粒子層の全部がハードコート層内に完全に埋没せずに機能性微粒子層の一部が露出するようになる。また、ハードコート層を指触乾燥状態とすることにより、このハードコート層と機能性微粒子層の密着性がよくなるという利点がある。
【０１０７】
このハードコート層用樹脂組成物の塗膜を指触乾燥状態とするためには、▲１▼指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂を使用する方法、及び▲２▼電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混入する方法が挙げられる。
【０１０８】
上記の▲１▼指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂を使用する方法には、例えば、次の（イ）、（ロ）に示す指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂を使用することができる。
【０１０９】
（イ）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。
【０１１０】
具体的には次に列挙した単量体を重合又は共重合させたものに対し、後述するａ）〜ｄ）の方法によりラジカル共重合性不飽和基を導入した樹脂である。
【０１１１】
水酸基を有する単量体：例えば、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等がある。
【０１１２】
カルボキシル基を有する単量体：例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等がある。
【０１１３】
エポキシ基を有する単量体：例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等がある。
【０１１４】
アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリル等がある。
【０１１５】
アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等がある。
【０１１６】
スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等がある。
【０１１７】
イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの１モル対１モルの付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジカル共重合体の付加物等がある。
【０１１８】
さらに，共重合体のガラス転移温度を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記に列挙した各単量体と次に示す化合物を共重合させることができる。このような共重合可能な単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｇｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１９】
上記の各単量体を重合、もしくは共重合させたものに対して、次のａ）〜ｄ）の方法により、ラジカル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂が得られる。
【０１２０】
ａ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。
【０１２１】
ｂ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
【０１２２】
ｃ）エポキシ基、イソシアネート基又はアジリジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体又はカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
【０１２３】
ｄ）水酸基又はカルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体又はアジリジニル基を有する単量体又はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させる。
【０１２４】
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行うことが望ましい。
【０１２５】
（ロ）融点が常温（２０℃）〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。
【０１２６】
具体的には、ステアリルアクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、トリアクリルイソシアネート、シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコール（メタ）アクリレート等がある。
【０１２７】
上記の▲２▼の電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混入する方法に使用される粘着性を有する樹脂は、電離放射線硬化型樹脂に粘性を付与するものである。一般的には、粘着剤と電離放射線硬化型樹脂との混合物から形成することできるが、電離放射線硬化型樹脂が未架橋状態で液状ではなく且つ粘着性を有していればそのまま使用することができる。特に、塗膜の硬度を高く保つためにはポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂が、電離放射線硬化型樹脂への粘性の付与のために好適に使用できる。
【０１２８】
その他、電離放射線硬化型樹脂への粘性付与に適した樹脂には、従来公知の粘着テープや粘着シールに使用されているものでもよく、例えば、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム等のゴム系樹脂、（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル／酢酸ビニル共重合系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩素化オレフィン系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等に適当な粘着付与剤、例えば、ロジン、ダンマル、重合ロジン、部分水添ロジン、エステルロジン、ポリテルペン系樹脂、テルペン変性体、石油系樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、フェノール系樹脂、クマロン−インデン系樹脂を適宜添加したもの、さらに必要に応じて軟化剤、充填剤、老化防止剤等を添加したものが挙げられる。
【０１２９】
電離放射線硬化型樹脂に対する粘着性を有する樹脂の混合割合は、電離放射線硬化型樹脂が１００重量部に対して、５０重量部以下とすることが、塗膜を指触乾燥状態とする目的のためには好ましい。
【０１３０】
本発明の光学機能性フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いることができる。
【０１３１】
偏光板及び液晶表示装置：
本発明の光学機能性フィルムは、偏光素子にラミネートすることによって、反射防止性の改善された偏光板とすることができる。この偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。このラミネート処理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、光学機能性フィルムの基材フィルムが例えば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行う。このケン化処理はトリアセチルセルロースフィルムにハードコートを施す前または後のどちらでもよい。
【０１３２】
図１２に本発明の光学機能性フィルムが使用された偏光板の一例を示す。図中１４は反射防止性を有する本発明の光学機能性フィルムであり、該光学機能性フィルム１４が偏光素子１１上にラミネートされており、一方、偏光素子１１の他面にはトリアセチルセルロースフィルム（略：ＴＡＣフィルム）１２がラミネートされている。また偏光素子１１の両面に本発明の光学機能性フィルム１４がラミネートされてもよい。
【０１３３】
図１３に本発明の光学機能性フィルムが使用された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子１３上に、図１２に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム／偏光素子／光学機能性フィルムからなる層構成の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子１３の他方の面には、ＴＡＣフィルム／偏光素子／ＴＡＣフィルムからなる層構成の偏光板がラミネートされている。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入される。
【０１３４】
【実施例】
〔実施例１〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。
【０１３５】
一方、トリアセチルセルロースフィルム上に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）を膜厚５μ／ｄｒｙになるように塗工し、このフィルムの樹脂面を上記超微粒子面とラミネートし、得られたラミネートフィルムに対して電子線を２Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。上記ラミネートフィルムから離型フィルムを剥離し、この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）〔即ち、フッ化ビニリデン６０重量部、ヘキサフルオロプロピレン２０重量部、テトラフルオロエチレン２０重量部からなるフッ素含有共重合体６０重量部に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０重量部を混合してなる電離放射線硬化型フッ素系樹脂組成物〕を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め樹脂層をフルキュアーした。
【０１３６】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１３７】
〔実施例２〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を１Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。
【０１３８】
この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。
【０１３９】
上記の方法で形成された超微粒子膜上に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照射し、下層の樹脂を含め全樹脂層をフルキュアーした。この硬化樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。
【０１４０】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１４１】
〔実施例３〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工した。
【０１４２】
上記超微粒子膜上に屈折率１．５０の電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名、大日精化工業製）を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂層をハーフキュアーした。
【０１４３】
この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。
【０１４４】
この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め樹脂層をフルキュアーした。
【０１４５】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．３％であり、５５０ｎｍの反射率は０．３％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１４６】
〔実施例４〕
屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：１の割合で配合した溶液（屈折率１．６５）を膜厚４μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂をハーフキュアーした。
【０１４７】
この樹脂層上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、下層の樹脂を含め全樹脂層をフルキュアーした。
【０１４８】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１４９】
〔実施例５〕
屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）上に、屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：１の割合で配合した溶液（屈折率１．６５）を膜厚４μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射し、樹脂を完全硬化した。
【０１５０】
この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、トリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。この剥離面に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して、樹脂層を硬化した。
【０１５１】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９４．７％であり、５５０ｎｍの反射率は１．０％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１５６】
〔実施例６〕
離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている）上に屈折率１．４３の電離放射線硬化型フッ素系樹脂（ＫＺ：商品名、日本合成ゴム製）を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を２Ｍｒａｄ照射して樹脂をハーフキュアーした。
【０１５７】
この樹脂層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で４５：１の割合で配合した溶液を膜厚７２ｎｍ／ｄｒｙになるように塗工する。
【０１５８】
この超微粒子層上に屈折率１．９０のＺｎＯ超微粒子分散液（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント製、粒径１０ｎｍ）と屈折率１．５３の電子線硬化型樹脂（ＨＮ−５Ａ：商品名、三菱油化製）を重量比で２：１の割合で混合した屈折率１．６５の樹脂を膜厚３μ／ｄｒｙになるように塗工し、電子線を５Ｍｒａｄ照射して樹脂を完全に硬化した。
【０１５９】
この樹脂層上に接着剤（タケラック：商品名、武田薬品製、硬化剤：１４％添加）を４μ／ｄｒｙになるように塗工し、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（ＦＦＵＶ−８０：商品名、富士フィルム製、膜厚８０μ）とラミネートし、４０℃で３日間エージングした後、離型フィルムを剥離した。
【０１６０】
このようにして得られた反射防止フィルムの全光線透過率は９５．８％であり、５５０ｎｍの反射率は０．１％であった。また、鉛筆硬度は２Ｈ、耐スチールウール試験の結果は２５０ｇ荷重で１０回ラビングしても傷つかなかった。また、密着性試験については、１ｍｍ角のごばん目を入れ、透明粘着テープで同一箇所を５回急速剥離後、塗膜の剥離は無かった。
【０１６１】
【発明の効果】
本発明の光学機能性フィルムに用いられる低屈折率層用の樹脂組成物は、十分に低い屈折率であり、溶剤溶解性で十分な薄膜とすることができ、形成される薄膜は耐擦傷性を持つので、本発明により得られる光学機能性フィルムは反射防止性に優れ、耐擦傷性に優れており、しかも本発明の光学機能性フィルムは塗装により形成することができるので、その製造は簡単な方法で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの断面図である。
【図２】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの断面図である。
【図３】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの断面図である。
【図４】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法を示すフロー図である。
【図５】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。
【図６】本発明のタイプＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。
【図７】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、一番目の製造方法のフロー図である。
【図８】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、二番目の製造方法のフロー図である。
【図９】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、三番目の製造方法のフロー図である。
【図１０】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、四番目の製造方法のフロー図である。
【図１１】本発明のタイプＩＩの光学機能性フィルムの、五番目の製造方法のフロー図である。
【図１２】本発明の光学機能性フィルムが使用された偏光板の一例を示す。
【図１３】本発明の光学機能性フィルムが使用された液晶表示装置の一例を示す。
【符号の説明】
１ 透明基材フィルム
２ 他の層
３，１０ 低屈折率層
４ 微粒子層
５ 工程紙
６ 接着剤層
７ 微粒子
８ ＴＡＣフィルム
９ 高屈折率ハードコート層
１１ 偏光素子
１２ ＴＡＣフィルム
１３ 液晶表示素子
１４ 光学機能性フィルム
Claims (24)
- （１）透明基材フィルム上に、
（２）１層以上からなる他の層を介して、
（３）フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満の低屈折率層が形成されており、
（４）前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、前記低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を有することを特徴とする光学機能性フィルム。 - 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、主として熱硬化性樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂からなることを特徴とする請求項１記載の光学機能性フィルム。
- 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈折率を有することを特徴とする請求項１又は２記載の光学機能性フィルム。
- 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、微粒子及びバインダー樹脂を含み、該層の屈折率が１．６０以上であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の光学機能性フィルム。
- 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、該低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されていることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の光学機能性フィルム。
- 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、該低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されており、且つ前記微粒子が存在していない部分の他の層の屈折率は、１．６０未満であることを特徴とする請求項５記載の光学機能性フィルム。
- 前記他の層のうち、前記低屈折率層に直接接する層は、該低屈折率層との界面から該他の層の内部にかけて屈折率１．６０以上の微粒子が極在化して固定されており、且つ前記微粒子が存在していない部分の他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率よりも高い屈折率であることを特徴とする請求項５又は６記載の光学機能性フィルム。
- 前記低屈折率層との界面から他の層の内部にかけて極在化して固定されている屈折率１．６０以上の微粒子は、その光学膜厚が、λ／４又はλ／２（４５０ｎｍ＜λ＜６００ｎｍ）の微粒子層を形成していることを特徴とする請求項５、６又は７記載の光学機能性フィルム。
- 前記他の層のうちの一つの層が、透明基材フィルムと接する接着剤層であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学機能性フィルム。
- 前記光学機能性フィルムの光学機能が反射防止能であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光学機能性フィルム。
- 前記光学機能性フィルムの最表面に微細な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学機能性フィルム。
- （１）透明基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、 （２）樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、
（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーし、
（４）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、 （５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、
（２）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフルキュアーさせ、
（３）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上又は透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、
（４）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、該工程紙を剥離し、
（５）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、
（６）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも、高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、
（２）一方、透明基材フィルムを用意し、前記工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートし、
（３）得られたラミネート物をハーフキュアー又はフルキュアーさせた後、前記工程紙を剥離し、
（４）前記透明基材フィルム上に形成されたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、
（５）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、
（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーさせ、
（３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が、最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い、樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、
（４）前記工程で得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜の硬化も含めフルキュアーさせ、
（５）フルキュアーされた工程紙上に形成された塗膜上、又は別に用意した透明基材フィルム上の何れか一方に接着剤層を形成し、
（６）前記接着剤層を介して、工程紙上の塗膜側を内側にして工程紙と透明基材フィルムをラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、
（２）得られた塗膜を未硬化状態のまま、又は塗膜を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーさせ、
（３）得られた塗膜上に、樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、
（４）一方、透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネートし、
（５）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜を含めてフルキュアーさせた後、工程紙を剥離することを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - 前記樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成物は、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であることを特徴とする請求項１２、１３、１４、１５又は１６記載の光学機能性フィルムの製造方法。
- （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤希釈物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、
（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、
（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、
（４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、この塗膜を他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、
（５）得られた工程紙に形成されたフルキュアーされた樹脂層上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成して、
（６）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽 和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤希釈物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、
（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、
（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、
（４）一方、透明基材フィルム上に樹脂を主体とする塗膜を形成し、
（５）前記工程紙上に形成された低屈折率層及び微粒子層と、前記透明基材フィルム上の樹脂層が接するように工程紙と透明基材フィルム両者を圧着してラミネートすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、
（６）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、次いで工程紙を剥離して低屈折率層及び高屈折率微粒子層を転写することを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤希釈物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の低屈折率層を形成し、
（２）得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、
（３）得られた低屈折率層上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、
（４）得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、
（５）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートし、
（６）得られたラミネート物に対して、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、次いで工程紙を剥離することを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、
（２）一方、透明基材フィルム上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、
（３）前記工程紙上に形成された上記微粒子層と、前記透明基材フィルム上に形成された樹脂層が接するように前記工程紙と前記透明基材フィルムを圧着してラミネートすることにより、微粒子層を樹脂層中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、
（４）得られたラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行ってこの塗膜をフルキュアー又はハーフキュアーし、
（５）得られたフルキュアー又はハーフキュアーされたラミネート物から工程紙を剥離して微粒子層を透明基材フィルムに転写し、
（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、
（７）前記溶剤を乾燥させた塗膜に、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜を含めてフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、
（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、
（３）得られた塗膜に加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って、ハーフキュアー又はフルキュアーし、
（４）得られたハーフキュアー又はフルキュアーされた塗膜上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成し、
（５）前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、該工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルムに転写し、
（６）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - （１）工程紙上に、屈折率１．６０以上の微粒子層を光学膜厚がλ／４又はλ／２（４５０＜λ＜６００ｎｍ）となるように形成し、
（２）得られた工程紙上に形成された前記微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を前記微粒子層の膜厚以上となるように形成して、前記微粒子層を該塗膜中に埋没させるか又は微粒子層の一部を埋没させ、
（３）別に透明基材フィルムを用意し、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上の塗膜を内側にしてラミネートし、
（４）前記ラミネート物に対して加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜をハーフキュアー又はフルキュアーした後、工程紙を剥離して樹脂層及び微粒子層を透明基材フィルム上に転写し、
（５）転写された層上に、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物の溶剤混合物を塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚２００ｎｍ以下の薄膜で且つ屈折率１．６０未満の塗膜を形成し、加熱処理及び／又は電離放射線処理を行って該塗膜を他の塗膜も含めてフルキュアーさせることを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。 - 前記、樹脂を主体とする塗膜は、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品としての光学機能性フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下層に直接接する層の屈折率よりも高い樹脂組成物からなるものであることを特徴とする請求項１８乃至２３の何れか１項記載の光学機能性フィルムの製造方法。
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