JP3528955B2 - 光学素子の設計方法及び製造方法並びに光学素子 - Google Patents
光学素子の設計方法及び製造方法並びに光学素子Info
- Publication number
- JP3528955B2 JP3528955B2 JP36625499A JP36625499A JP3528955B2 JP 3528955 B2 JP3528955 B2 JP 3528955B2 JP 36625499 A JP36625499 A JP 36625499A JP 36625499 A JP36625499 A JP 36625499A JP 3528955 B2 JP3528955 B2 JP 3528955B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thickness
- layer
- optical element
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
等の多層膜を有する光学素子の設計方法、その製造方法
に関するものである。
防止を行ったり、波長ごとの透過率や反射率を所定の特
性にしたり、波長ごとの位相特性を所定の特性にしたり
するために、その表面に多層膜が成膜されることが多
い。この多層膜の層数は数十層に達するものがあり、多
層膜を構成する各膜の厚さを制御することにより、所定
の光学特性を得るようになっている。
の例を示す。図2において、(a)は基板ホルダーを下か
ら見た図、(b)はA−A’位置での装置の端面図を示
す。真空チャンバー1の中には基板ホルダー2が設けら
れ、回転軸3のまわりに回転している。基板ホルダー2
の下面には、表面に成膜を施す光学素子4が同心円状に
取り付けられているが、光学素子4を取り付ける場所の
1ヶ所にはモニター基板5が取り付けられている。真空
チャンバー1の下部にはスパッター装置6が設けられ、
そこから膜を構成する成分の粒子が飛び出して、光学素
子4とモニター基板5の表面に当たって膜を形成する。
7が設けられており、投光器8より照射された光が、光
学素子4又はモニター基板5を透過して受光器9で受光
され、膜厚が測定できるようになっている。
のであり、膜厚測定のために用いられるダミー光学素子
である。すなわち、光学素子4はレンズのように一般に
その表面が曲面であるため、膜厚を正確に測定すること
ができない。そのため、平板のモニター基板5を配置
し、その上に成膜された膜の厚さを測定することによ
り、それと同条件で成膜される光学素子4上の膜厚を間
接的に測定するものである。
成膜は、以下のようにして行なわれる。まず、所定の光
学特性(反射率、透過率、位相特性等)が得られるよう
に、計算により膜の材質、層数、各層の厚さが決定され
る。このようにして設計が終了すると、まず、第1層の
成膜が行なわれる。膜厚の測定が基板ホルダー2の回転
を止めずに行なえる場合には、モニター基板5が投光器
8と受光器9の位置を通り過ぎる毎に膜厚の測定を行
う。もちろん、所定の膜厚を形成するために必要な概略
の時間は計算により求まるので、膜厚の測定は、この時
間に近い時間が経過してから実施するようにしてもよ
い。
ないと行なえない場合には、所定の膜厚を形成するため
に必要な時間に近い時間が経過してから、周期的に基板
ホルダー2の回転を止めて測定を行なう。この際、スパ
ッター装置6からの粒子が特定の光学素子4に付着しな
いようにするために、スパッター装置6とその直上の光
学素子4の間をシャッターにより遮蔽する。
を続け、膜厚が許容差以内に入ったところで第1層目の
成膜を終了する。そして、スパッターに用いる材料を変
更して、同様にして第2層目の成膜を実施する。以下、
これを繰り返して、最終膜までの成膜を行なう。
レンズ等の基本光学素子の上に多層膜を成膜するプロセ
スにおいては、各層を構成する膜厚の測定を行いながら
成膜を行っている。ところが、膜厚の選定の仕方によっ
ては、膜厚の測定誤差が大きくなってしまう場合があ
る。従来技術においては、設計段階においてこのような
ことを考慮することなく、各層の膜厚を決定していたの
で、特定の層の膜厚誤差が大きくなり、その結果、多層
膜全体として得られる光学特性が目標値から外れてしま
うことが発生するという問題があった。このことは、多
層膜の層数が30層程度以下である場合にはあまり問題
とならなかったが、層数が数十層に及ぶようになると、
深刻な問題となってきた。
もので、多層膜を構成する各層の膜厚を正確に測定する
ことができ、その結果として目標とする光学特性が確実
に得られるような光学素子の設計方法、光学素子の製造
方法を提供することを課題とする。
の第1の手段は、表面に多層膜を有し、製造工程中にお
いて、前記多層膜の分光特性を分光器により測定し、そ
の結果に基づき、フィッティング計算により成膜中の薄
膜の膜厚を測定する工程を有する光学素子の、各薄膜の
目標厚さを設計する方法であって、設計計算の途中で、
前記分光器の精度と前記フィッティング計算の精度から
決定される前記薄膜の厚さ測定精度が、前記光学素子の
光学特性から決定される前記薄膜の必要厚さ精度を満た
さない薄膜が存在したとき、当該薄膜の目標厚さを、前
記分光器の精度と前記フィッティング計算の精度から決
定される前記薄膜の厚さ測定精度が、前記光学素子の光
学特性から決定される前記薄膜の必要厚さ精度を満たす
ような厚さに変更して、設計計算を行う工程を有するこ
とを特徴とする光学素子の設計方法(請求項1)であ
る。
成膜後のモニター基板の膜厚を測定するが、本発明にお
いては、設計計算の途中で、前記分光器の精度と前記フ
ィッティング計算の精度から決定される前記薄膜の厚さ
測定精度が、前記光学素子の光学特性から決定される前
記薄膜の必要厚さ精度を満たさない薄膜が存在したと
き、当該薄膜の目標厚さを、前記分光器の精度と前記フ
ィッティング計算の精度から決定される前記薄膜の厚さ
測定精度が、前記光学素子の光学特性から決定される前
記薄膜の必要厚さ精度を満たすような厚さに変更して、
設計計算を行う。よって、成膜プロセスにおいて、成膜
された膜厚を、全ての層において所望の精度で測定でき
るので、各膜を正確な厚さとすることができ、所望の光
学特性を持った光学素子を製造することができる。な
お、「所望の精度」は、必ずしも全ての層で同一とする
必要はなく、例えば、各層ごとに、目的とする光学特性
に与える影響度を考慮して決定することができる。
前記第1の手段によって決定された多層膜を構成する各
膜の厚さを基準値として成膜を行なうプロセスを有して
なることを特徴とする光学素子の製造方法(請求項2)
である。
値としてということである。本手段においては、各膜の
基準厚さが、膜厚が所望の精度で測定できるように決定
されているので、各膜を正確な厚さとすることができ、
所望の光学的特性を持った光学素子を製造することがで
きる。「所望の精度」とは、前記第1の手段で述べたの
と同じ意味である。
前記第1の手段によって決定された多層膜を構成する各
膜の厚さを基準値として成膜を行ない、成膜を行った層
の厚さの基準値からのずれを求め、目的とする光学特性
への影響を最小限とするように、それ以後の少なくとも
1層の膜厚の基準値を変更して成膜を行うプロセスを有
してなることを特徴とする光学素子の製造方法(請求項
3)である。
膜厚に成膜することはできず、微小なずれが避けられな
い。このため、層数が数十層にもなる多層膜を成膜する
場合、各層の微小なずれが積み重なり、結果として目的
とする光学特性が得られなくなることがある。このよう
なことが起きることを防ぐために、本手段においては、
n層目の成膜を行った後で、n層目の厚さが許容値を外
れている場合には、それに応じて(n+1)層目の目標
成膜厚さ、又はこれに加えてさらにその上の層の目標成
膜厚さを当初設計の厚さより変化させ、結果として目的
とする光学的特性への影響を最小限としている。
て(n+1)層目、あるいはそれ以後の層を含めた膜厚
の目標値を変化させることを、本明細書においてはフィ
ードフォワード制御とよんでいる。フィードフォワード
制御を行えば、各層の膜厚目標値は設計膜厚と異なる値
に修正されることがあるが、この修正量は一般的に小さ
いので、この修正により膜厚測定が不能な領域に入るこ
とはない。
目標とされる光学特性が得られるようにそれ以後の膜厚
目標値を変えているので、安定して目標光学特性を有す
る光学素子を製造することができる。
するが、それに先立ち、この実施の形態で使用する膜厚
測定の方法の一例を説明する。これは、図2に示したよ
うな装置において、モニター基板の分光透過率を計測
し、それに基づいて膜厚を測定する方法であり、その原
理を図3に基づいて説明する。図3において、(a)はモ
ニター基板5の上に、多層薄膜Mが成膜されている状態
を示している。多層薄膜Mは、M1〜Mnまでのn層が
成膜された状態となっており、この状態で第n層の薄膜
Mnの厚さdnを測定するものとする。このとき測定さ
れるのは、多層薄膜M全体とモニター基板5によって決
定される分光透過率である。すなわち、このときの分光
透過率をTnとすると、Tnは
さであり、ai(i=1〜n)は第i層の材質によって
決定される値である。厳密に言えば、モニター基板5の
厚さと材質も関係するが、これは一定であるとして(1)
式では無視している。
においてd1〜d(n−1)とa1〜anは既知であ
る。ここで、dnの目標値をdn0として、(1)式にdn
0を代入して分光透過率を計算する。その結果が例えば
図3(b)のA(実線)で示される曲線になったとする。
これに対し、dnがdn0+Δ、dn0−Δとなったとし
て、これらの値を(1)式に代入して分光透過率を計算す
る。その結果は、それぞれ図3(b)のB(破線)、C
(一点鎖線)で示されるように、Δ、−Δの値に対応し
て、Aで示される曲線からずれる。
Δ(mは適当な整数)ずらせた場合に得られる分光透過
率曲線を予め計算しておき、実際に測定された分光透過
率曲線に一番近いものを選択し、それに対応する膜厚を
測定膜厚とする。具体的には、計算された分光透過率を
T(dn0+iΔ,λ)(i=−m〜m)、実測された
分光透過率をTa(λ)とすると、
なるiを採用する。ただし、(2)式の積分範囲は分光透
過率の測定範囲内で、フィッティング計算(本明細書に
おいて「フィッティング計算」とは、あるパラメータに
よって決定される計算量と実際に観測された量の比較を
行い、最も観測された量に近い計算量を与えるパラメー
タを採用する計算をいい、比較の方法として最小2乗法
や、差の絶対値の和の最小を与えるパラメータを求める
方法、相互相関係数を求めてそれが最大となるものを採
用する方法等が代表的なものである)を行なう範囲とす
る。また、実際には(2)式の代わりにサンプル値を用い
た数値計算によって積分値を求めることはいうまでもな
い。
下、本発明の実施の形態の例を図を用いて説明する。図
1は本発明の実施の形態の1例を示すフローチャートで
ある。まず、ステップS1において、従来の方法を使用
して、目的とする光学特性(反射率、透過率、位相特性
等)が得られるように多層膜各層の膜厚を決定する。次
にステップS2に移り、所望精度で膜厚測定を行うこと
ができない層があるかどうかを判定する。例えば、図3
で説明したように分光透過率を使用して膜厚測定を行う
場合、ある層に必要とされる膜厚測定精度が±1nmであ
ったとする。その層の設計膜厚における分光透過率をT
(λ)とし、その層の膜厚が設計値より+1nm変化した
ときの分光透過率をT’(λ)、その層の膜厚が設計値
より−1nm変化したときの分光透過率をT”(λ)とす
ると、これらはすべて計算により求めることができる。
このとき、
精度の所定倍以下かどうかを判断する。ただし、(3)、
(4)式の積分範囲は測定器の測定範囲内でフィッテング
計算を行なう範囲とする。この値が測定器の測定精度の
所定倍以下である場合は、膜厚を測定した場合に±1nm
以内の精度で測定することができないと判断し、その層
を、所望精度で膜厚を測定することが不可能な層である
とする。「所定倍」をいくらにするかについては、積分
計算を行なう場合の近似計算のやり方等に応じて、当業
者が適当に決定することができる。
た膜厚の値が適当なものであるとして処理を終了する。
このような層が1層でもある場合は、ステップS3に移
行し、このような層のうち最下層の膜厚を、膜厚測定が
可能な膜厚に変更する。即ち、最下層の膜厚を現在の設
計値から増加方向、減少方向に交互に変化させながら所
定量ずつ変化量を増やして行き、前記(3)、(4)式で得ら
れる量が、所望精度で膜厚を測定することが可能な量で
あると判断されるまでこれを繰り返す。
と、ステップS4に移行し、多層膜全体で得られる、目
的とする光学特性が許容範囲に入っているかどうかをチ
ェックする。もし、目的とする光学特性が許容範囲に入
っている場合は、ステップS2に移行し、再び所望精度
で膜厚測定が不可能な層があるかどうかをチェックす
る。
性が許容範囲に入っていないと判断された場合は、ステ
ップS5に移行し、膜厚を変更した層より上層の膜厚を
変更して所望の光学特性が得られるようにする。この計
算には従来用いられていた膜厚決定方法が用いられる。
が得られたかどうかをステップS6においてチェックす
る。もし、最終的に所望の光学特性が得られない場合
は、ステップS7に移行して設計条件の基本変更を行
う。すなわち、層数を増したり、膜の材質を変更したり
する。その上でステップS1に移って、最初から作業を
やり直す。ステップS6で所望の光学特性が得られた場
合は、再びステップS2に戻って、所望精度で膜厚測定
が不可能な層があるかどうかをチェックする。図1に示
す処理を終了すれば、全ての層が層厚測定が可能で、か
つ、多層膜全体としては所望の光学特性が得られる多層
膜が得られる。
膜厚が決定された後は、従来の技術の欄で説明したよう
な方法により、各層の設計膜厚が得られるように成膜工
程を繰り返していき、多層膜を構成すればよい。その
際、従来の技術の欄で説明したスパッターを利用した成
膜の他に、CVDによる成膜、真空蒸着による成膜、イ
オンビームアシストによる成膜、イオンプレーティング
による成膜を行ってもよい。
方法では、各層の成膜時に発生する設計膜厚からの微小
なずれが累積してしまうので、そのまま成膜を続けると
目的とする光学的特性が得られなくなることがある。こ
のようなことが起きることを防ぐためには、フィードフ
ォワード制御を行うことが好ましい。
層目の厚さが許容値を外れている場合には、それに応じ
て(n+1)層目の目標成膜厚さを当初設計の厚さより
変化させる。どの程度変化させるかは、例えば、(n+
2)層目以後の設計膜厚を変化させなくても、最終的な
目標光学特性が得られるような値に変化させる。フィー
ドフォワード制御を行えば、各層の膜厚目標値は設計膜
厚と異なる値に修正されることがあるが、この修正量は
小さいので、この修正により膜厚測定が不能な領域に入
ることはない。
を透過率により測定して膜厚を決定したが、本発明は、
光学特性を反射率により測定して膜厚を決定する場合、
また、反射率と透過率を測定してこれらを組み合わせて
膜厚を決定するような場合をも含むことは言うまでもな
く、これらは主に、求められる分光特性が反射率特性か
透過率特性かにより決定される。
行なった。成膜は図2に示されるスパッタリング装置に
より行なった。このスパッタリング装置は投光器8と受
光器9を有し、400nmから850nmまでの分光透過率を測定
できる光学モニタを具えている。膜厚の測定は、実測さ
れた分光透過率と計算された膜厚における分光透過率と
の差からフィッティングにより行った。%を単位とする
透過率の値を400nmから850nmまで2nm置きに取り、これ
らの値を用いてフィッティング計算をした。この場合デ
ータ数は225である。
い、多層膜の膜構成の設計を行なった。この膜構成を、
所望精度で膜厚測定が行なえるように、図lの手順で解
析し、補正した膜構成を得た。図1のステップS2に於
ける[所望精度で膜厚測定不可能な層があるか]の判断
は以下のようにして行なった。
光透過率の計算値の2nm置きの数値をT(1)からT(225)と
し、膜厚測定に必要とされる膜厚精度だけ膜厚がずれた
場合の膜厚における分光透過率の計算値の2nmおきの数
値をT'(1)からT'(225)とする。そして、それぞれの波長
に対応して差の絶対値を求める。つまり、T(1)-T'(1)か
らT(225)-T'(225)を計算し、それらの絶対値を求める。
次に得られた225個の数値の和を取り、それをAとす
る。Aの値が100%未満のときは、特性のずれが小さす
ぎるので、十分なフィッティング精度が得られないとし
て、その層の目標膜厚を変更することにした。Aの値が
100より大きいときは、フィッティング計算が可能なも
のとしてその目標膜厚は変更しないこととした。
ては、設計特性に極力近い光学特性を得るために、膜厚
制御方式としてフィードフォワード制御法を採用した。
このフィードフォワード制御での各層の成膜手順を図4
に示す。第1層から最終層までこの成膜手順を繰り返し
た。
分光透過率特性としての設計分光透過率特性とこれに対
する成膜対象層の目標膜厚、及び目標膜厚からずらせた
場合の種々の分光透過率特性とこれらの各々に対する膜
厚を取得し、制御装置に記憶させておいた。
時間制御で成膜を行なった。時間制御を行なうために、
予め成膜対象層の成膜速度を求めて制御装置に記憶して
おき、この成膜速度と目標膜厚とから決まる時間の間成
膜を行なった。
での多層膜の分光透過率特性を測定した。ステップA4
では、ステップA3で測定された分光透過率特性とステ
ップAlで取得された分光透過率特性とのフィッティン
グを行い、この層の膜厚を決定した。本実施例で用いた
スパッタリング装置の成膜速度の不安定さは±1〜1.5
%であったので、目標膜厚からの微小な膜厚ずれが避け
られなかった。
膜厚ずれが、目標の分光透過率特性に与える影響を最小
限にするために、成膜済の各層の膜厚を固定した状態
で、再度、目標の分光透過率特性を得るための設計を行
なった。具体的に本実施例では、まだ成膜していない残
りの層の各膜厚を当業者に周知の前記多層膜の最適化設
計法により決定した。一般に、このようにして決定され
た残りの層の各膜厚は、最初の成膜対象層の成膜のステ
ップA1の時点で決定していた膜厚とは各々異なってい
た。しかしながら、各層の成膜で生じた微小な膜ずれに
よる目標の分光透過率特性への影響を最小限に抑えるた
めの再設計であるので、個々の層の膜厚は元の設計の膜
厚とそれほど大きな相違を生じていなかった。
のフィードフォワード制御のステップA1に戻り、この
ステップA1からステップA5までの過程を最終層まで
繰り返して行なうことによって多層膜の成膜を終了し
た。上記手順を用いて、Nb2O5/SiO2の28層か
らなる多層膜を石英ガラス基板上に形成した。この多層
膜は基板上にNb2O5層とSiO2層が順に28層交互に
積層された、全ての層の膜厚が異なる任意膜厚多層膜で
あった。成膜された多層膜の分光透遇率特性の測定値を
図5の実線で示す。破線は設計値である。透過率1.0は1
00%に相当する。本発明の設計手法、成膜方法にて設計
特性と非常に近い光学特性が得られていることがわか
る。
率を測定するための分光光度計等、光学測定器のS/N
比の波長依存性を軽減するために用いられた。光学測定
器のS/N比は、一般に光源の強度の波長依存性と受光
器の感度の波長依存性の積で与えられる波長依存性を持
つ。ある光学測定器では、異なった波長間での透過率測
定値の精度を一定にする必要があったので、S/N比の
波長依存性を解消する必要があった。
の波長依存性と受光器の感度の波長依存性を合成した特
性がフラット化するように調整された、即ち、光源の強
度の波長依存性と受光器の感度の波長依存性の積で与え
られる波長依存性の逆特性を持つフィルターを光源と受
光器との間に配置すればよいのである。
ップA2で時間制御の成膜を行い、ステップA3で分光
透過率測定を行い、ステップA4でフィッティングによ
る膜厚決定を行なったが、これらステップA2、ステッ
プA3、及びステップA4は、上記説明したように段階
を迫ってでなく、同時に行なってもよい。そうすると、
成膜を行ないながら分光特性を測定し、同時にフィッテ
ィングにより成膜対象層の膜厚を随時その場で決定する
ので、ステップAlで取得された目標膜厚に達した段階
で成膜を終了すればよい。よって、予め成膜対象層の成
膜速度を求めておく必要がなく、成膜速度の不安定性に
よる成膜対象層の目標膜厚からの膜厚ずれが減少する可
能性がある。
各膜の基準厚さが、膜厚が所望の精度で測定できるよう
に決定されているので、各膜を正確な厚さとすることが
できると共に、フィードフォワード制御を正確に行うこ
とができ、所望の光学的特性を持った光学素子を製造す
ることができる。
トである。
理を示す図である。
すフローチャートである。
特性の測定値を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 表面に多層膜を有し、製造工程中におい
て、前記多層膜の分光特性を分光器により測定し、その
結果に基づき、フィッティング計算により成膜中の薄膜
の膜厚を測定する工程を有する光学素子の、各薄膜の目
標厚さを設計する方法であって、設計計算の途中で、前
記分光器の精度と前記フィッティング計算の精度から決
定される前記薄膜の厚さ測定精度が、前記光学素子の光
学特性から決定される前記薄膜の必要厚さ精度を満たさ
ない薄膜が存在したとき、当該薄膜の目標厚さを、前記
分光器の精度と前記フィッティング計算の精度から決定
される前記薄膜の厚さ測定精度が、前記光学素子の光学
特性から決定される前記薄膜の必要厚さ精度を満たすよ
うな厚さに変更して、設計計算を行う工程を有すること
を特徴とする光学素子の設計方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の光学素子の設計方法に
よって決定された多層膜を構成する各膜の厚さを基準値
として成膜を行なうプロセスを有してなることを特徴と
する光学素子の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1に記載の光学素子の設計方法に
よって決定された多層膜を構成する各膜の厚さを基準値
として成膜を行ない、成膜を行った層の厚さの基準値か
らのずれを求め、目的とする光学特性への影響を最小限
とするように、それ以後の少なくとも1層の膜厚の基準
値を変更して成膜を行うプロセスを有してなることを特
徴とする光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36625499A JP3528955B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 光学素子の設計方法及び製造方法並びに光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36625499A JP3528955B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 光学素子の設計方法及び製造方法並びに光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001183505A JP2001183505A (ja) | 2001-07-06 |
JP3528955B2 true JP3528955B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=18486321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36625499A Expired - Lifetime JP3528955B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 光学素子の設計方法及び製造方法並びに光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3528955B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4587690B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-11-24 | 株式会社堀場製作所 | 超薄膜および薄膜計測方法 |
JP2007040746A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Fujifilm Corp | 全反射減衰を利用した分析における反応速度係数の測定方法 |
JP5126909B2 (ja) * | 2010-10-08 | 2013-01-23 | 株式会社シンクロン | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
JP6733231B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2020-07-29 | 三菱ケミカル株式会社 | 分光反射率設計方法、分光反射率設計装置および分光反射率設計プログラム |
-
1999
- 1999-12-24 JP JP36625499A patent/JP3528955B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001183505A (ja) | 2001-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20070115486A1 (en) | Film forming device, and production method for optical member | |
US5425964A (en) | Deposition of multiple layer thin films using a broadband spectral monitor | |
Sullivan et al. | Deposition error compensation for optical multilayer coatings. II. Experimental results—sputtering system | |
JP2008512730A (ja) | 薄膜干渉フィルタ及び干渉フィルタの堆積工程制御のためのブートストラップ法 | |
JP2003050311A (ja) | 紫外線用の減衰フィルタ | |
JP2007113091A (ja) | 多層膜の形成方法 | |
JP3528955B2 (ja) | 光学素子の設計方法及び製造方法並びに光学素子 | |
US20020027665A1 (en) | Optical filter and a method for producing the same | |
JP7303701B2 (ja) | 光学膜厚制御装置、薄膜形成装置、光学膜厚制御方法および薄膜形成方法 | |
KR20190028515A (ko) | 광대역 광학 모니터링 | |
US8268385B2 (en) | Optical monitor with computed compensation | |
JP2006071402A (ja) | 多層膜の膜厚制御方法及び成膜装置 | |
EP2068325B1 (en) | Optical element for X-ray | |
US6933001B2 (en) | Optical filter and method of manufacturing the same | |
JP2005154804A (ja) | 光学薄膜成膜装置及び光学薄膜成膜方法 | |
JP2001174226A (ja) | 光学素子の膜厚測定方法及び光学素子の製造方法 | |
JP3744003B2 (ja) | 光学素子の膜厚測定方法及び光学素子の製造方法 | |
KR20160093080A (ko) | 하프늄 산화물 또는 지르코늄 산화물 코팅 | |
Groß et al. | Systematic errors in broadband optical monitoring | |
JP2008158258A (ja) | 光干渉フィルタ及びその作製方法 | |
Weber et al. | UV coatings by IAD and PARMS technology for Sentinel-5 mission | |
Prokashev | Correction of spectral characteristics in the manufacture of bandpass multilayer dielectric filters | |
Goury et al. | Design and realization of multispectral bandpass filters for space applications | |
JP2008009117A (ja) | 誘電体多層膜の製造方法 | |
Stenzel et al. | A hybrid in situ monitoring strategy for optical coating deposition: application to the preparation of chirped dielectric mirrors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20031226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040218 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3528955 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100305 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 9 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 9 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140305 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |