JP3520733B2 - Manufacturing method of plasma display - Google Patents
Manufacturing method of plasma displayInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイやプラズマアドレス液晶ディスプレイなどに用いら
れる感光性ガラスペーストを用いたプラズマディスプレ
イの製造方法に関するものである。The present invention relates to relates to a manufacturing method of a plasma display using a photosensitive glass paste used such as a plasma display and a plasma addressed liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、また
大型化が容易であることからＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。さらに、高品位テレビジ
ョンの分野などでの進展が非常に期待されている。2. Description of the Related Art Plasma display panel (PDP)
Is capable of high-speed display as compared with a liquid crystal panel and is easy to be upsized, and thus has penetrated into fields such as office automation equipment and publicity display devices. Furthermore, there are great expectations for progress in the field of high-definition television.
【０００３】このような用途拡大に伴って、繊細で多数
の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。こ
のカラーＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板と
の間に備えられた放電空間内で対抗するアノードおよび
カソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空
間内に封入されているガスから発生した紫外線を放電空
間内に設けた蛍光体に当てることにより表示を行なうも
のである。この場合、放電の広がりを一定領域に押さ
え、表示を規定のセル内で行なわせると同時に、均一な
放電空間を確保するために隔壁（障壁またはリブともい
う）が設けられている。この隔壁の形状は、高精細ＰＤ
Ｐではおよそ幅２０〜８０μｍ、高さ６０〜２００μｍ
であり、この隔壁は、前面ガラス基板や背面ガラス基板
にガラスからなる感光性ガラスぺーストを塗布し、乾
燥、露光、現像および焼成を経て形成される。With the expansion of such applications, attention has been paid to a color PDP having delicate and many display cells. This color PDP causes a plasma discharge between opposing anode and cathode electrodes in a discharge space provided between a front glass substrate and a rear glass substrate, and is generated from a gas sealed in the discharge space. The display is performed by applying ultraviolet rays to a phosphor provided in the discharge space. In this case, partition walls (also referred to as barriers or ribs) are provided in order to suppress the spread of the discharge to a certain area so that the display is performed in a specified cell and to secure a uniform discharge space. The shape of this partition is high-definition PD
Width 20 to 80 μm, height 60 to 200 μm at P
This partition wall is formed by applying a photosensitive glass paste made of glass to the front glass substrate and the rear glass substrate, and drying, exposing, developing and baking the glass.
【０００４】隔壁層を形成する方法として、スクリーン
印刷法が知られている。しかしながら、この方法では１
回の塗布厚みが数十μｍのため、高さ６０〜２００μｍ
の隔壁層を形成するためには、印刷／乾燥を多数回、一
般には１０回以上も繰り返す必要があり、生産性が極め
て悪いという問題点がある。そこでこの問題を解決する
ために、１回でペーストを塗布する方法として、ドクタ
ーブレード法あるいはスリットダイコート法などによ
り、塗布する方法がある。しかしながら、この１回塗布
の場合、特にドクターブレード塗布ではペーストを塗布
し乾燥させた後、ペースト塗布層（隔壁形成層）のエッ
ジ部が約３０μｍも盛り上がり、均一な膜厚の塗布層を
形成することができないという問題点があった。A screen printing method is known as a method for forming a partition wall layer. However, this method
60-200 μm in height because the application thickness of the application is several tens of μm
In order to form the partition wall layer, it is necessary to repeat printing / drying a large number of times, generally 10 times or more, and there is a problem that productivity is extremely poor. Therefore, in order to solve this problem, as a method of applying the paste at one time, there is a method of applying the paste by a doctor blade method or a slit die coating method. However, in the case of this one-time application, particularly in the case of doctor blade application, after the paste is applied and dried, the edge portion of the paste application layer (partition wall forming layer) rises by about 30 μm to form an application layer having a uniform film thickness. There was a problem that I could not do it.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感光
性ガラスペーストを塗布してこれを乾燥させた場合、ペ
ースト塗布層のエッジ部の盛り上がりが少なく、均一な
膜厚のペースト塗布層を形成することが可能な感光性ガ
ラスペーストを用いた高品質なプラズマディスプレイの
製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to form a paste coating layer having a uniform thickness when the photosensitive glass paste is coated and dried to prevent the edge portion of the paste coating layer from rising. Of high quality plasma display using photosensitive glass paste that can be formed
Ru near to provide a production method.
【０００６】[0006]
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のプラズマディスプレイの製造方法は、ガラス
粉末、感光性有機成分および有機溶媒からなる感光性ガ
ラスペーストを基板に塗布し、乾燥後にパターン露光、
現像し、さらに焼成して隔壁を形成する工程を含むプラ
ズマディスプレイの製造方法であって、該感光性ガラス
ペーストが該有機溶媒を２種類以上含有し、かつ該有機
溶媒のうち少なくとも２種類の有機溶媒の沸点差が２０
℃以上であり、かつ該感光性ガラスペーストの塗布をド
クターブレード法またはスリットダイコート法によって
行なうことを特徴とするものであり、本発明では、さら
に次の好ましい実施態様を含んでいる。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a plasma display according to the present invention comprises applying a photosensitive glass paste consisting of glass powder, a photosensitive organic component and an organic solvent to a substrate and drying it. Pattern exposure,
A plastic process including the steps of developing and firing to form partition walls.
A method for manufacturing a Zuma display, comprising the photosensitive glass
The paste contains two or more kinds of the organic solvents, and the boiling point difference between at least two kinds of the organic solvents is 20 or less.
℃ or above and do not apply the photosensitive glass paste.
By the blade method or slit die coating method
The present invention further includes the following preferred embodiments.
【０００８】(a) 有機溶媒のうち、低沸点側と高沸点側
の有機溶媒の含有量が、有機溶媒全量に対してそれぞれ
１０〜９０重量％の範囲にあること。(A) Of the organic solvents, the content of the low-boiling-side organic solvent and the high-boiling-side organic solvent is in the range of 10 to 90% by weight with respect to the total amount of the organic solvent.
【０００９】(b) 有機溶媒の全含有量が感光性ガラスペ
ースト全体に対して１〜５０重量％の範囲にあること。(B) The total content of the organic solvent is in the range of 1 to 50% by weight based on the whole photosensitive glass paste.
【００１０】(c) 感光性有機成分の必須成分として、分
子内にカルボキシル基または／および分子内に不飽和二
重結合を有する重量分子量５００〜１００，０００のオ
リゴマーもしくはポリマーが感光性有機物量に対して１
０〜９０重量％含まれていること。(C) As an essential component of the photosensitive organic component, an oligomer or polymer having a carboxyl group in the molecule or / and an unsaturated double bond in the molecule and having a weight molecular weight of 500 to 100,000 is added to the photosensitive organic substance. To 1
Must contain 0 to 90% by weight.
【００１１】(d) 感光性有機成分中に、有機染料が感光
性有機物に対して０．０５〜２重量％含まれているこ
と。(D) The photosensitive organic component contains an organic dye in an amount of 0.05 to 2% by weight based on the photosensitive organic material.
【００１２】また、本発明のプラズマディスプレイの製
造方法においては、該感光性ガラスペーストの１回の塗
布厚みを５０μm以上とすることが好ましく、また、隔
壁を形成する該感光性ガラスペーストの塗布を１回もし
くは２回で行なうことができる。[0012] In the method of manufacturing the plasma display of the present invention, it is preferably a child and more 50μm once the coating thickness of the photosensitive glass paste, also application of the photosensitive glass paste forming the barrier ribs Can be performed once or twice.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】本発明は、ガラス粉末、感光性有
機成分および有機溶媒からなる感光性ガラスペーストに
おいて、該有機溶媒を２種類以上含有し、かつ該有機溶
媒のうち少なくとも２種類の有機溶媒の沸点差が２０℃
以上とすることにより、ペースト塗布、乾燥後におい
て、ペースト塗布層のエッジ部の盛り上がりが少ない、
均一な膜厚のペースト塗布層を形成することが可能とな
る。本発明において、感光性ガラスペーストには通常、
ガラス粉末、感光性モノマー、オリゴマー、ポリマー、
有機溶媒、光重合開始剤、増感剤、増感助剤および可塑
剤などが含まれている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive glass paste comprising a glass powder, a photosensitive organic component and an organic solvent, containing two or more kinds of the organic solvent, and at least two kinds of the organic solvents. 20 ° C difference in boiling point of solvent
By the above, after the paste coating and drying, the swelling of the edge portion of the paste coating layer is small,
It is possible to form a paste coating layer having a uniform film thickness. In the present invention, the photosensitive glass paste is usually
Glass powder, photosensitive monomer, oligomer, polymer,
It contains an organic solvent, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a sensitization aid and a plasticizer.
【００１４】本発明において用いられる有機溶媒として
は、好適には、常圧における沸点が２０〜２５０℃の液
体が用いられる。添加する有機溶媒を選定する際に考慮
しなければならないことは、常圧での沸点、揮発性、感
光性有機物に対する溶解性、混和性、分散特性およびレ
オロジー特性などである。例えば、常圧での沸点があま
り高い場合、乾燥温度を高くする必要があり、それによ
って感光性有機成分が熱分解したり、あるいは熱重合を
起こすことが懸念される。また、揮発性に優れている溶
媒を用いた場合、乾燥が容易であるという利点がある一
方で、ペーストのレベリング性が悪くなり、表面平坦性
が劣ることになり、さらに溶媒蒸発のため、ペースト組
成を安定化することが困難になる。また、感光性有機物
に対する溶解性や分散性が悪い場合は、均一な膜厚のペ
ースト塗布膜を形成することができないなどの不都合が
生じる。これらの点を十分に考慮し、添加する有機溶媒
を選定する。As the organic solvent used in the present invention, a liquid having a boiling point of 20 to 250 ° C. under normal pressure is preferably used. What should be taken into consideration when selecting the organic solvent to be added are the boiling point at normal pressure, volatility, solubility in a photosensitive organic substance, miscibility, dispersion property and rheological property. For example, when the boiling point at atmospheric pressure is too high, it is necessary to raise the drying temperature, which may cause thermal decomposition of the photosensitive organic component or thermal polymerization. Further, when a solvent having excellent volatility is used, there is an advantage that the drying is easy, while the leveling property of the paste is deteriorated and the surface flatness is deteriorated. It becomes difficult to stabilize the composition. Further, when the solubility or dispersibility in the photosensitive organic substance is poor, there arises a disadvantage that a paste coating film having a uniform film thickness cannot be formed. Considering these points, the organic solvent to be added is selected.
【００１５】本発明で好ましく用いられる有機溶媒とし
ては、γ−ブチロラクトン（以下γ−ＢＬ略す）やメチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブな
どのセルソルブ類、イソプロピルアルコール、メチルア
ルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、ノル
マルプロピルアルコールなどのアルコール類、メチルエ
チルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロペンタノ
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソ
ブチルケトンなどのケトン類、乳酸エチルやメチルアセ
テート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、
ノルマルプロピルアセテート、イソブチルアセテート、
ノルマルペンチルアセテート、イオペンチルアセテー
ト、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−
メトキシ−３−メチル−ブチルアセテート、プロピレン
グリコール１−モノメチルエーテル−２−アセテートな
どのエステル類類、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、メチレンク
ロライド、クロロホルムおよびジクロロメタンなどの塩
素化炭化水素類などが挙げられる。The organic solvent preferably used in the present invention includes γ-butyrolactone (hereinafter abbreviated as γ-BL), cellsolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve, isopropyl alcohol, methyl alcohol, ethyl alcohol, butyl alcohol and normal. Alcohols such as propyl alcohol, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclopentanone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as diisobutyl ketone, ethyl lactate and methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate,
Normal propyl acetate, isobutyl acetate,
Normal pentyl acetate, iopentyl acetate, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-
Esters such as methoxy-3-methyl-butyl acetate, propylene glycol 1-monomethyl ether-2-acetate, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, chlorination of methylene chloride, chloroform and dichloromethane Examples include hydrocarbons.
【００１６】これらの有機溶媒のうち、後述の比較例１
に示すように、例えば、常圧における沸点が２００〜２
０８℃のγ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）のみを添加し
た感光性ガラスペーストをドクターブレード法で１回塗
布し、乾燥させると、ペースト塗布層（乾燥後の膜厚１
７０μm）のエッジ部が幅約２センチにわたって、約３
０μm程度盛り上がってしまう。この状態でマスクを用
いて露光し、盛り上がり部分の未露光部を現像液で洗い
流そうとすると、露光部分、すなわち隔壁部分が現像液
によって過度に浸食され、蛇行したり、剥がれるという
重大な問題が生じる。すなわち、ペースト膜厚が不均一
な場合、現像時間がまちまちとなるため、残膜や蛇行、
剥がれのないきれいな隔壁を形成することができない。
そのため、ペースト塗布厚みはできるだけ均一にするこ
とが重要である。Among these organic solvents, Comparative Example 1 described later
As shown in, for example, the boiling point at normal pressure is 200 to 2
When a photosensitive glass paste containing only γ-butyrolactone (γ-BL) at 08 ° C. was applied once by a doctor blade method and dried, a paste coating layer (film thickness after drying 1
70 μm) edge width is about 2 cm and width is about 3
It rises about 0 μm. When exposing with a mask in this state and trying to wash away the unexposed part of the raised part with the developing solution, the exposed part, that is, the partition part is excessively eroded by the developing solution, causing a serious problem of meandering or peeling. Occurs. That is, when the paste film thickness is non-uniform, the development time varies, so that the residual film or the meandering,
A clean partition wall without peeling cannot be formed.
Therefore, it is important to make the paste application thickness as uniform as possible.
【００１７】本発明の実施において、必須成分である有
機溶媒としては常圧での沸点差のある２種類以上の有機
溶媒を含有させることが必要があり、それらの低沸点側
と高沸点側の有機溶媒の常圧での沸点差は２０〜１００
℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは３０〜
６０℃の範囲である。沸点差が少ない場合は、乾燥後の
塗布面エッジ部の盛り上がり量は有機溶媒を１種類のみ
使用した場合と同様に約３０μm程度盛り上がり、盛り
上がり量を低減することができない。また、１００℃以
上の沸点差がある場合は、乾燥温度の設定が困難とな
る。というのは高沸点溶媒と低沸点溶媒の中間の温度に
乾燥温度を設定した場合、高沸点溶媒がかなり残存する
ことになるからである。また、乾燥温度を高沸点以上の
温度に設定した場合は、感光性有機物が熱分解や熱重合
を起こす恐れが大きい。そのため、有機溶媒の常圧での
沸点差はできれば２０〜１００℃の範囲であることが好
ましく、より好ましくは３０〜６０℃である。In the practice of the present invention, it is necessary to contain two or more kinds of organic solvents having different boiling points at normal pressure as the organic solvent which is an essential component. The boiling point difference of the organic solvent at normal pressure is 20 to 100.
It is preferably in the range of ℃, more preferably 30 ~
It is in the range of 60 ° C. When the difference in boiling point is small, the amount of swelling at the edge of the coated surface after drying rises by about 30 μm as in the case of using only one organic solvent, and the amount of swelling cannot be reduced. Further, if there is a boiling point difference of 100 ° C. or more, it becomes difficult to set the drying temperature. This is because if the drying temperature is set to an intermediate temperature between the high boiling point solvent and the low boiling point solvent, the high boiling point solvent will remain considerably. Further, when the drying temperature is set to a temperature higher than the high boiling point, there is a high possibility that the photosensitive organic substance will undergo thermal decomposition or thermal polymerization. Therefore, the boiling point difference at normal pressure of the organic solvent is preferably in the range of 20 to 100 ° C, and more preferably 30 to 60 ° C.
【００１８】また、有機溶媒の感光性ガラスペースト全
体に対する含有量は、好ましくは１〜６０重量％、より
好ましくは１０〜４０重量％である。有機溶媒の量は多
くなりすぎると、乾燥時間が長くなり生産性が悪くな
る。The content of the organic solvent in the whole photosensitive glass paste is preferably 1 to 60% by weight, more preferably 10 to 40% by weight. If the amount of the organic solvent is too large, the drying time becomes long and the productivity deteriorates.
【００１９】さらに、沸点差が２０℃以上である低沸点
側と高沸点側の各有機溶媒の含有量は、有機溶媒全量に
対してそれぞれ１０〜９０重量％の範囲が好ましく、よ
り好ましくは３０〜７０重量％である。有機溶媒が２種
類の場合、いずれか１種類の有機溶媒の含有量が極端に
少ない場合は、結果的にはその溶媒を添加した効果が得
られず、塗布層エッジ部の盛り上がり量は低減されな
い。また本発明において、３種類以上の有機溶媒を使用
する場合は、低沸点側と高沸点側の２種類の有機溶媒が
それぞれ上記範囲にあることが好ましく、その他の有機
溶媒は上記範囲外であってもかまわない。または、低沸
点側と高沸点側に区分しそれぞれの有機溶媒群が上記範
囲にあることが好ましい。Further, the content of each organic solvent on the low boiling point side and the high boiling point side having a boiling point difference of 20 ° C. or more is preferably in the range of 10 to 90% by weight, and more preferably 30% by weight, based on the total amount of the organic solvent. Is about 70% by weight. In the case of two kinds of organic solvents, if the content of any one kind of organic solvent is extremely low, the effect of adding the solvent is not obtained as a result, and the amount of swelling at the edge portion of the coating layer is not reduced. . In addition, in the present invention, when three or more kinds of organic solvents are used, it is preferable that the two kinds of low-boiling-side organic solvent and the high-boiling-side organic solvent are in the above ranges, and the other organic solvents are out of the above range. It doesn't matter. Alternatively, it is preferable that the organic solvent group is divided into the low boiling point side and the high boiling point side, and the respective organic solvent groups are in the above range.
【００２０】本発明における感光性有機物とは感光性モ
ノマー、感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーを意味
する。感光性ガラスペーストにはこれら感光性有機物以
外に光重合開始剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、バ
インダー、可塑剤、レべリング剤、紫外線吸収剤などを
必要に応じて含有させることができる。The photosensitive organic material in the present invention means a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer and a photosensitive polymer. In addition to these photosensitive organic substances, the photosensitive glass paste contains a photopolymerization initiator, a sensitizer, a sensitization aid, a polymerization inhibitor, a binder, a plasticizer, a leveling agent, an ultraviolet absorber, etc., if necessary. Can be made.
【００２１】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を有する化合物で、具体的にはメチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、
イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、
ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレー
ト、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シク
ロペンチニルアクリレート、シクロペンテニルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロール
アクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフ
ロロヂシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオ
クチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メト
キシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコール
アクリレート、メトキシジエチッレングリコールアクリ
レート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェニキ
シエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリ
フロロエチルアクリレート、アリル化ヘキシジアクリレ
ート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３
−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノ
ヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロ
パンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレー
ト、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリ
レート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミ
ノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１−
ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ビ
スフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−エ
チレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノ
ールアクリレートおよびベンジルメルカプタンアクリレ
ート等のアクリレート等を挙げることができる。The photosensitive monomer is a compound having a carbon-carbon unsaturated bond, specifically, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate,
Isopropyl acrylate, n-butyl acrylate,
sec-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxytriethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclopentynyl acrylate, cyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate. , Glycerol acrylate, glycidyl acrylate, heptadecafluorodisyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobonyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene Glycol acrylate, met Shi diethylene chip glycol acrylate, octa fluorosilicone pentyl acrylate, phenylene carboxyethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allylated hexane Siji acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3
-Butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, Methoxylated cyclohexyl diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, triglycerol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, acrylamide, aminoethyl acrylate, phenyl acrylate, phenoxyethyl acrylate DOO, benzyl acrylate, 1-
Examples thereof include naphthyl acrylate, 2-naphthyl acrylate, bisphenol A diacrylate, diacrylate of bisphenol A-ethylene oxide adduct, thiophenol acrylate and benzyl mercaptan acrylate.
【００２２】これら以外に不飽和カルボン酸等の不飽和
酸を加えることにより、感光後の現像性を向上すること
ができる。不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリ
ル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレ
イン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物
などが挙げられる。In addition to these, by adding an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid, the developability after exposure can be improved. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinylacetic acid, and their acid anhydrides.
【００２３】本発明において、これら感光性有機物とし
てのモノマーの含有率は、ガラス粉末と感光性有機物の
和に対して５〜３０重量％が好ましい。これら以外の範
囲ではパターン形成性の悪化、硬化後の硬化不足が発生
する傾向があるため好ましくない。In the present invention, the content of the monomer as the photosensitive organic substance is preferably 5 to 30% by weight based on the sum of the glass powder and the photosensitive organic substance. In a range other than these, pattern formability is deteriorated and insufficient curing after curing tends to occur, which is not preferable.
【００２４】また、感光性有機物である感光性オリゴマ
ーおよび感光性ポリマーとしては、上記の感光性モノマ
ーの１種類以上を合成して得られたものを用いることが
できる。これら感光性オリゴマーおよび感光性ポリマー
の含有率は、ガラス粉末と感光性有機物の和に対して５
〜３０重量％が好ましい。これら以外の範囲ではパター
ンが不可能であったり、パターンの太りが生じたり、蛇
行が大きくなる傾向があるために好ましくない。Further, as the photosensitive oligomer and photosensitive polymer which are photosensitive organic substances, those obtained by synthesizing one or more kinds of the above-mentioned photosensitive monomers can be used. The content of the photosensitive oligomer and the photosensitive polymer is 5 with respect to the sum of the glass powder and the photosensitive organic material.
-30% by weight is preferred. In the range other than these, the pattern is not possible, the pattern becomes thick, and the meandering tends to be large, which is not preferable.
【００２５】本発明において、感光性有機成分の必須成
分として、分子内にカルボキシル基または／および分子
内に不飽和二重結合を有する重量分子量５００〜１０
０，０００のオリゴマーもしくはポリマーが感光性有機
物量に対して１０〜９０重量％含まれていることが好ま
しい。本発明の感光性ガラスペースト中、感光性有機成
分の使用割合は、パターン形成性、焼成後の収縮率の点
から５〜３５重量％が好ましい。この範囲外では、パタ
ーン形成性が不可能もしくは、パターンの太りが生じる
ため、好ましくない。In the present invention, an essential component of the photosensitive organic component is a weight molecular weight of 500 to 10 having a carboxyl group in the molecule and / or an unsaturated double bond in the molecule.
It is preferable that 10 to 90% by weight of the oligomer or polymer is contained in the photosensitive organic substance. In the photosensitive glass paste of the present invention, the proportion of the photosensitive organic component used is preferably 5 to 35% by weight in terms of pattern formability and shrinkage rate after firing. Outside this range, pattern formability is impossible or the pattern becomes thick, which is not preferable.
【００２６】また、本発明で使用するガラス粉末は、５
０〜４００℃の熱膨張係数（α50〜400）が５０〜９０
×１０-7であることが好ましい。またガラス中に酸化珪
素が３〜６０重量％、酸化ホウ素が５〜５０重量％の範
囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張
係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性
を向上することができる。ガラス転移温度は４３０〜５
００℃、軟化点は４７０〜５８０℃であることが好まし
い。ガラス転移温度が５００℃、軟化点が５８０℃より
高いと、高温で焼成しなければならず、焼成の際に基板
に歪みが生じるからである。また、ガラス転移温度が４
３０℃、軟化点が４７０℃より低いガラスの場合、緻密
な隔壁層が得られず、隔壁の剥がれ、断線、蛇行の原因
となる。ガラス粉末粒子径は作製しようとする隔壁の線
幅や高さを考慮して選ばれるが、５０体積％粒子径（平
均粒子径Ｄ５０）が１〜６μｍ、最大粒子サイズが３０
μｍ以下、比表面積１．５〜４ｃｍ2 ／ｇであることが
好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ
−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチル
アミン）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェ
ノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、
ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジメトキシ
アセチフェノン、２，２−ジメトキシ−２−メチル−２
−フェニル−２−フェニルアセチフェノン、２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジ
クロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチ
ョオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルメチルケタノール、ベンジル
メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアン
トラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、
ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアント
ロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビ
ス（Ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２−
フェニル−１，２−ブタンジオン２−（ｏ−メトキシカ
ルボニル）オキシムおよび１，３−ジフェニル−プロパ
ントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム
などが挙げられる。本発明ではこれらを１種類以上使用
することができる。この光重合開始剤は感光性成分に対
して０．０５〜２０重量％の範囲で添加するのが好まし
く、より好ましくは０．１〜１５重量％の範囲である。
開始剤の量が少なすぎると光感度が低下し、硬化不足に
なる。一方、多すぎた場合、隔壁が太る。The glass powder used in the present invention is 5
Thermal expansion coefficient (α 50 to 400 ) of 0 to 400 ° C is 50 to 90
It is preferably × 10 −7 . Further, by mixing silicon oxide in the glass in an amount of 3 to 60% by weight and boron oxide in an amount of 5 to 50% by weight, electrical insulation, strength, thermal expansion coefficient, denseness of an insulating layer, electrical, mechanical and The thermal characteristics can be improved. Glass transition temperature is 430-5
The softening point is preferably 00 ° C and 470 to 580 ° C. This is because if the glass transition temperature is 500 ° C. and the softening point is higher than 580 ° C., firing must be performed at a high temperature, and the substrate will be distorted during firing. Also, the glass transition temperature is 4
In the case of glass having a softening point lower than 470 ° C. at 30 ° C., a dense partition wall layer cannot be obtained, resulting in peeling of partition walls, disconnection, and meandering. The glass powder particle size is selected in consideration of the line width and height of the partition wall to be produced, but the 50 volume% particle size (average particle size D50) is 1 to 6 μm, and the maximum particle size is 30.
It is preferably μm or less and a specific surface area of 1.5 to 4 cm 2 / g. As the photopolymerization initiator, benzophenone, o
-Methyl benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone,
Dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-dimethoxyacetylphenone, 2,2-dimethoxy-2-methyl-2
-Phenyl-2-phenylacetylphenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylchooxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl , Benzyldimethylmethyl ketanol, benzyl methoxyethyl acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone,
Benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (P-azidobenzylidene) cyclohexanone, 2-
Examples include phenyl-1,2-butanedione 2- (o-methoxycarbonyl) oxime and 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime. In the present invention, one or more of these may be used. This photopolymerization initiator is preferably added in the range of 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, based on the photosensitive component.
If the amount of the initiator is too small, the photosensitivity is lowered and the curing becomes insufficient. On the other hand, if the number is too large, the partition becomes thick.
【００２７】増感剤の具体例として、２，４−ジエチル
チオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３
−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４
−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチ
ルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデ
ンイミダノンおよびｐ−ジメチルアミノベンジルデンイ
ンダノンナ等が挙げられる。本発明ではこれら１種類以
上使用することができる。添加量は感光性成分に対して
０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重
量％である。増感剤の量が少ない場合、光感度を向上さ
せることができない。一方、多すぎた場合、光感度が敏
感になりすぎて隔壁が太る。Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone and 2,3.
-Bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4
-Methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4-
Examples thereof include bis (diethylamino) -benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone, 4,4-bis (diethylamino) chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene imidanone and p-dimethylaminobenzyldenindanone na. . In the present invention, one or more of these can be used. The addition amount is 0.05 to 10% by weight, and more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the photosensitive component. When the amount of the sensitizer is small, the photosensitivity cannot be improved. On the other hand, if the amount is too large, the photosensitivity becomes too sensitive and the partition wall becomes thick.
【００２８】重合禁止剤は、保存安定性を向上させるた
めに添加される。具体例として、ヒドロキノン、ヒドロ
キノンのモノエステル化合物、Ｎ−ニトロソジフェニル
アミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコールお
よびＮ−フェニルナフチルアミン、クロラニールなどが
挙げられる。その添加量は通常０．００１〜１重量％で
ある。The polymerization inhibitor is added to improve storage stability. Specific examples thereof include hydroquinone, a monoester compound of hydroquinone, N-nitrosodiphenylamine, phenothiazine, pt-butylcatechol and N-phenylnaphthylamine, and chloranil. The amount added is usually 0.001 to 1% by weight.
【００２９】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステルー
メタクリル酸エステル重合体、α−メチルスチレン重合
体およびブチルメタクリレート樹脂などが挙げられる。
可塑剤の具体例としては、ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート、グリセリン等が挙げられる。Examples of the binder include polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methacrylic acid ester polymers, acrylic acid ester polymers, acrylic acid ester-methacrylic acid ester polymers, α-methylstyrene polymers and butyl methacrylate resins.
Specific examples of the plasticizer include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, glycerin and the like.
【００３０】また本発明では、紫外線吸収剤を添加する
ことが好ましく、高精細、高解像度が得られる。紫外線
吸収剤としては有機系染料がよく用いられている。具体
的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン
系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アント
ラキノン系染料およびベンオフェノン系染料などが使用
できる。その添加量は、ガラス粉末に対して０．０５〜
５重量％が好ましい。添加量が少ないと紫外線吸収剤の
添加効果が減少し、多すぎると焼成後の絶縁膜特性が低
下することがあり好ましくない。より好ましくは０．０
５〜０．１８重量％である。Further, in the present invention, it is preferable to add an ultraviolet absorber to obtain high definition and high resolution. Organic dyes are often used as ultraviolet absorbers. Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, aminoketone dyes, anthraquinone dyes and benzophenone dyes can be used. The amount added is 0.05 to the glass powder.
5% by weight is preferred. If the added amount is too small, the effect of adding the ultraviolet absorber is reduced, and if the added amount is too large, the characteristics of the insulating film after firing may deteriorate, which is not preferable. More preferably 0.0
It is 5 to 0.18% by weight.
【００３１】本発明における有機染料からなる光吸収剤
の添加方法の一例を挙げる。有機染料をアセトンなどの
有機溶媒に溶解し、無機粉末と混合し、充分に撹拌す
る。次にロータリーエバポーターを用いて、有機溶媒を
蒸発させる。この方法によって無機微粒子の個々の粉末
表面に有機染料の膜をコートした、いわゆるカプセル状
の粉末が作製することができる。An example of a method of adding a light absorber composed of an organic dye in the present invention will be described. The organic dye is dissolved in an organic solvent such as acetone, mixed with the inorganic powder, and stirred well. Next, the organic solvent is evaporated using a rotary evaporator. By this method, a so-called capsule-shaped powder can be produced in which the surface of each powder of the inorganic fine particles is coated with the film of the organic dye.
【００３２】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防止するために添加される。具体例と
して２，６−ジ−ｔ−ｐ−クレゾール、ブチルカヒドロ
キシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノー
ル、２，２−メチレンビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）などが挙げられる。添加量はペースト
に対して通常０．００１〜１重量％である。The antioxidant is added to prevent oxidation of the acrylic copolymer during storage. Specific examples include 2,6-di-t-p-cresol, butylcahydroxyanisole, 2,6-di-t-4-ethylphenol, 2,2-methylenebis- (4-methyl-6-t-butylphenol). And so on. The addition amount is usually 0.001 to 1% by weight with respect to the paste.
【００３３】本発明で用いられる感光性ガラスペースト
の使用において、ペースト塗布後は当然乾燥が必要とな
るが、この乾燥時の注意点は感光性ガラスぺーストを水
平に保つことである。少しでも傾いていた場合、ぺース
トが流動し、膜厚むらが発生するからである。乾燥方法
としては熱風オーブンやホットプレート、遠赤外線、自
然乾燥および減圧乾燥など一般によく用いられている方
法を用いることができるが、重要な点は感光性ガラスぺ
ースト層を深さ方向に対して均一に乾燥させるという点
である。例えば、ホットプレートを用いて乾燥した場
合、ペースト底部から上部へと熱が伝達するため、ペー
スト底部が表面より先に乾燥するため、気泡をかみ込む
恐れがない。自然乾燥は時間がかかり、生産性が悪い。
また、減圧乾燥は減圧装置が必要となり、設備費がかか
り生産性も悪い。このような点から、感光性ガラスペー
ストの乾燥はホットプレートを用いることが好ましい。In the use of the photosensitive glass paste used in the present invention, it is naturally necessary to dry after applying the paste, but the point to be noted at the time of this drying is to keep the photosensitive glass paste horizontal. This is because if the surface is tilted even a little, the paste will flow and uneven film thickness will occur. As a drying method, a commonly used method such as a hot air oven or a hot plate, far infrared rays, natural drying and reduced pressure drying can be used, but the important point is that the photosensitive glass paste layer is formed in the depth direction. The point is that it is dried uniformly. For example, when dried using a hot plate, heat is transferred from the bottom to the top of the paste, and the bottom of the paste dries before the surface, so there is no risk of biting air bubbles. Natural drying takes time and productivity is poor.
Further, the reduced pressure drying requires a reduced pressure device, which requires equipment cost and productivity is poor. From such a point, it is preferable to use a hot plate for drying the photosensitive glass paste.
【００３４】乾燥温度は、感光性有機物が熱重合を引き
起こさない温度より低い温度であれば何度でもよいが、
一般的には４０〜１５０℃の範囲が好ましい。ここで乾
燥温度とは、例えばホットプレートを用いた乾燥の場
合、ホットプレート表面の温度のことを、熱風オーブン
の場合、熱風の温度のことを意味する。The drying temperature may be any temperature as long as it is lower than the temperature at which the photosensitive organic substance does not cause thermal polymerization.
Generally, the range of 40 to 150 ° C. is preferable. Here, the drying temperature means the temperature of the surface of the hot plate in the case of drying using a hot plate, and the temperature of hot air in the case of a hot air oven.
【００３５】次に、本発明で用いられる感光性ガラスペ
ーストの調製方法について説明する。感光性ガラスペー
ストは、通常、ガラス粉末、感光性モノマー、オリゴマ
ーやポリマー、光重合開始剤、増感剤および有機溶媒の
各種成分を所定の組成になるように調合した後、３本ロ
ーラや混練機で均一に混合・分散し、作製する。このペ
ーストの粘度は、ガラス粉末、感光性モノマー、オリゴ
マー、ポリマー、有機溶媒および可塑剤などの添加割合
によって決まるが、その範囲は好ましくは０．５〜２０
０Ｐａ・ｓである。例えば、ガラス基板への塗布は、ド
クターブレード法やスリットダイコート法では２〜５０
Ｐａ・ｓが好ましい。Next, a method for preparing the photosensitive glass paste used in the present invention will be described. The photosensitive glass paste is usually prepared by mixing glass powder, photosensitive monomers, oligomers and polymers, photopolymerization initiators, sensitizers and various components of organic solvents so as to have a predetermined composition, and then using three rollers or kneading. Machine to mix and disperse evenly. The viscosity of this paste is determined by the addition ratio of glass powder, photosensitive monomer, oligomer, polymer, organic solvent, plasticizer, etc., but the range is preferably 0.5-20.
It is 0 Pa · s. For example, application to a glass substrate, a doctor blade method or a slit die coating method 2-50
Pa · s is preferable.
【００３６】次に、感光性ガラスペーストを用いてパタ
ーン加工を行なう一例について説明する。ガラス基板や
セラミック基板、もしくはポリマー製フィルムの上に感
光性ガラスペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布
する。塗布方法としてスリットダイコートおよびドクタ
ーブレード法を用いることができる。Next, an example of pattern processing using a photosensitive glass paste will be described. The photosensitive glass paste is applied to the entire surface or a part of the glass substrate, the ceramic substrate, or the polymer film. Can be used slits die coating and doctor blade method and a coating method.
【００３７】ここで、感光性ガラスペーストを基板上に
塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるため
に、あらかじめ、基板を表面処理液で処理することがで
きる。表面処理液としては、シランカップリング、ビニ
ルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキ
シ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロパントリメト
キシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメト
キシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピル
トリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプタンプロピルトリメトキシシラン
等、あるいは有機金属、例えば、有機チタン、有機アル
ミニウムおよび有機ジルコニウムなどである。シランカ
ップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアル
コールおよびプロピルアルコールなどで、０．５〜５％
の濃度に希釈したものを用いる。次に、この表面処理液
をスピンナーなどで基板上に均一に塗布した後、８０〜
１４０℃で１０〜６０分乾燥することによって表面処理
することができる。Here, when the photosensitive glass paste is applied on the substrate, the substrate can be previously treated with a surface treatment liquid in order to enhance the adhesion between the substrate and the coating film. As the surface treatment liquid, silane coupling, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, tris- (2-methoxyethoxy) vinylsilane, γ-glycidoxypropanetrimethoxysilane, γ- (methacryloxypropyl) ) Trimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptanpropyltrimethoxysilane and the like, or organic metals such as organotitanium, organoaluminum and organozirconium. And so on. 0.5 to 5% of a silane coupling agent or an organic metal in an organic solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol.
Use the one diluted to the concentration of. Next, after applying this surface treatment liquid uniformly on the substrate with a spinner or the like,
Surface treatment can be performed by drying at 140 ° C. for 10 to 60 minutes.
【００３８】感光性ガラスペーストの塗布後、露光装置
を用いて露光を行なう。露光は通常のフォトリソグラフ
ィーで行なわれるように、フォトマスクを用いてマスク
露光する方法が一般的である。用いられるマスクは、感
光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型の
どちらかを選定する。また、フォトマスクを用い留こと
なく、赤色や青色のレーザ光などで直接描画する方法を
用いてもよい。露光装置としてはステッパー露光機やプ
ロキシミティ露光機などを用いることができる。また、
大面積の露光を行なう場合は、ガラス基板などの基板上
に感光性ペーストを塗布した後に搬送しながら露光を行
なうことによって、小さな露光面積で大面積を露光する
ことができる。この場合、使用される活性光源として
は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ
線およびレーザ光線などがあげられるが、これらの中で
も紫外線が好ましく、その光源としては、例えば、低圧
水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、
殺菌灯などが使用できる。これらの中でも超高圧水銀灯
が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、
１〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて
０．２〜３０分間露光することが好ましい。After applying the photosensitive glass paste, exposure is performed using an exposure device. The exposure is generally performed by mask exposure using a photomask, as in ordinary photolithography. The mask used is either a negative type or a positive type depending on the type of the photosensitive organic component. Alternatively, a method of directly drawing with red or blue laser light may be used without using a photomask. As the exposure device, a stepper exposure device, a proximity exposure device, or the like can be used. Also,
When a large area is exposed, a large area can be exposed with a small exposed area by applying a photosensitive paste on a substrate such as a glass substrate and then performing the exposure while conveying. In this case, the active light source used is, for example, visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray.
Examples of the light source include a line and a laser beam, and among these, ultraviolet rays are preferable, and examples of the light source thereof include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp,
A germicidal lamp can be used. Of these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferable. The exposure conditions vary depending on the coating thickness,
It is preferable to perform exposure for 0.2 to 30 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp with an output of 1 to 100 mW / cm 2 .
【００３９】塗布した感光性ガラスペースト表面には、
酸素遮断膜を設けることによってパターン形状を向上さ
せることができる。酸素遮断膜の一例としては、ＰＶＡ
やセルロース等の膜、あるいはポリエステルなどのフィ
ルムがあげられる。ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５
〜５重量％の水溶液をスピンナーなどの方法で基板上に
均一に塗布した後、７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥
することによって、水分を蒸発させて行なう。また、水
溶液中にアルコールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性
がよくなり蒸発が容易になるので好ましい。さらに好ま
しいＰＶＡ溶液濃度は１〜３重量％であり、この範囲に
あると感度を一層向上させることができる。ＰＶＡ塗布
により感度が向上する理由は次のように推定される。す
なわち、感光性成分が光反応する際に空気中の酸素があ
ると光硬化の感度を阻害すると考えられるが、ＰＶＡの
膜があると余分な酸素を遮断できるので露光時に感度が
向上すると考えられる。ポリエステルやポリプレン、ポ
リエチレンなどの透明なフィルムを用いる場合は、塗布
後の感光性ガラスペーストの上にこれらのフィルムを張
り付けて用いる方法もある。On the surface of the applied photosensitive glass paste,
The pattern shape can be improved by providing the oxygen blocking film. An example of the oxygen barrier film is PVA.
Examples thereof include a film of cellulose or cellulose, or a film of polyester. The PVA film is formed with a concentration of 0.5.
A 5% by weight aqueous solution is uniformly applied onto the substrate by a method such as a spinner, and then dried at 70 to 90 ° C. for 10 to 60 minutes to evaporate the water content. Further, it is preferable to add a small amount of alcohol to the aqueous solution because the wettability with the insulating film is improved and evaporation is facilitated. A more preferable PVA solution concentration is 1 to 3% by weight, and if it is in this range, the sensitivity can be further improved. The reason why the sensitivity is improved by applying PVA is estimated as follows. That is, it is considered that the presence of oxygen in the air when the photosensitive component undergoes a photoreaction hinders the sensitivity of photocuring, but the presence of a PVA film can block excess oxygen, and thus the sensitivity is considered to improve during exposure. . When a transparent film such as polyester, polyprene, or polyethylene is used, there is also a method of sticking these films on the photosensitive glass paste after coating.
【００４０】露光後に、感光部分と非感光部分の現像に
対する溶解度の差を利用して現像を行なうが、現像は、
浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行なわれる。用いられ
る現像液は、感光性ガラスペースト中の有機成分が溶解
可能である有機溶媒を使用できる。また、その有機溶媒
中にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよ
い。感光性ガラスペースト中に、カルボキシル基等の酸
性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現
像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭
酸ナトリウムおよび水酸化カルシウム水溶液などのよう
な金属アルカリ水溶液を使用するが、有機アルカリ水溶
液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいの
で好ましい。有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的にはテトラメチルアンモニウ
ムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒ
ドロキサイド、モノエタノールアミンおよびジエタノー
ルアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通
常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重
量％である。アルカリ濃度が低すぎる場合、可溶部が除
去されない。またアルカリ濃度が高すぎる場合、パター
ン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させる恐れがあり
好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０
℃で行なうことが工程管理上好ましい。After the exposure, the development is carried out by utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the non-exposed portion.
The immersion method, the spray method, or the brush method is used. The developing solution used may be an organic solvent capable of dissolving the organic components in the photosensitive glass paste. Further, water may be added to the organic solvent within the range in which the dissolving power is not lost. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive glass paste, it can be developed with an alkaline aqueous solution. As the alkaline aqueous solution, a metallic alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide, sodium carbonate and calcium hydroxide aqueous solution is used. However, it is preferable to use the organic alkaline aqueous solution because the alkaline component can be easily removed during firing. An amine compound can be used as the organic alkali. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine and diethanolamine. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble parts will not be removed. If the alkali concentration is too high, the pattern portion may be peeled off and the non-soluble portion may be corroded, which is not preferable. The development temperature during development is 20 to 50.
It is preferable to perform the treatment at a temperature of ° C for process control.
【００４１】次に、焼成炉にて焼成を行なう。焼成雰囲
気や温度はペーストの基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉と
してはバッチ式の焼成炉やローラーハース型などのベル
ト式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は
５００〜６１０℃の温度で、５〜６０分間保持して焼成
を行なう。特に好ましい温度は５３０〜５８０℃であ
る。Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of the paste substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen or the like. As the firing furnace, a batch firing furnace or a belt type continuous firing furnace such as a roller hearth type can be used. The firing temperature is 500 to 610 ° C., and the firing is performed for 5 to 60 minutes. A particularly preferred temperature is 530 to 580 ° C.
【００４２】また、上記の塗布や露光、現像、焼成の各
工程中に乾燥、予備反応の目的で５０〜２００℃加熱工
程を導入してもよい。プラズマディスプレイを製造する
場合、電極層を形成したガラス基板上に、本発明の感光
性ガラスペーストを用いて、上記の工程によって隔壁を
形成し、さらに蛍光体をスクリーン印刷法や感光性ガラ
スペースト法によって、形成し、背面基板を得ることが
できる。得られた背面基板と前面基板を合わせて、封
止、希ガス導入した後、駆動回路を接続することによっ
てプラズマディスプレイを製造できる。In addition, a heating step of 50 to 200 ° C. may be introduced for the purpose of drying and preliminary reaction during each of the above-mentioned coating, exposing, developing and baking steps. When manufacturing a plasma display, using the photosensitive glass paste of the present invention on the glass substrate on which the electrode layer is formed, the barrier ribs are formed by the above steps, and the phosphor is screen-printed or the photosensitive glass paste method is used. By forming, a back substrate can be obtained. A plasma display can be manufactured by combining the obtained back substrate and front substrate, sealing and introducing a rare gas, and then connecting a drive circuit.
【００４３】[0043]
【実施例】以下、本発明を実施例を用いて具体的に説明
する。ただし、本発明はこれに限定されない。なお、実
施例および比較例中の濃度は特にことわらない限り重量
％である。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The concentrations in Examples and Comparative Examples are% by weight unless otherwise specified.
【００４４】（実施例１）下記のガラス微粒子および下
記の有機成分を、下記のペースト組成割合で添加して感
光性ペーストを作製した。作製手順は、まず、有機成分
の各成分を８０℃に加熱しながら溶解し、その後、ガラ
ス微粒子を添加し、混練機で混練することによって、ペ
ーストを作成した。Example 1 The following glass fine particles and the following organic components were added in the following paste composition ratios to prepare a photosensitive paste. The preparation procedure was as follows. First, each component of the organic component was melted while being heated to 80 ° C., then glass fine particles were added and kneaded with a kneader to prepare a paste.
【００４５】エッジ部の盛り上がりは、表面粗さ計（サ
ーフコム１５００Ａ 東京精密科学（株））を用いて、
スキャン速度０．６ｍｍ／ｓで測定を行なった。また、
隔壁パターンの評価は、電子顕微鏡観察によって行なっ
た。評価基準は良好な形状（下部のほうが少し幅の広い
台形状）が得られた場合を〇、蛇行したり、剥がれた
り、残膜が残っていた場合を×とした。The swelling of the edge part was measured by using a surface roughness meter (Surfcom 1500A Tokyo Seimitsu Scientific Co., Ltd.).
The measurement was performed at a scan speed of 0.6 mm / s. Also,
The partition pattern was evaluated by electron microscope observation. The evaluation criteria were ◯ when a good shape (a trapezoidal shape with a slightly wider bottom portion) was obtained, and x when there was meandering, peeling, or residual film remaining.
【００４６】ガラス粉末：Ｌｉ2Ｏ：８．６％、Ｓｉ
Ｏ2：２０．１％、、Ｂ2Ｏ3：３１％、ＢａＯ：３．８
％、Ａｌ2Ｏ3：２０．６％、ＺｎＯ：２．１％、Ｍｇ
Ｏ：５．９％、ＣａＯ：４．２％組成（分析値）。平均
屈折率は１．５８６であった。また、このガラス粉末は
紫外線吸光剤をコーティング処理して用いた。Glass powder: Li 2 O: 8.6%, Si
O 2: 20.1% ,, B 2 O 3: 31%, BaO: 3.8
%, Al 2 O 3 : 20.6%, ZnO: 2.1%, Mg
O: 5.9%, CaO: 4.2% composition (analytical value). The average refractive index was 1.586. The glass powder was used after being coated with an ultraviolet absorber.
【００４７】 感光性モノマー（ＭＧＰ−４００）：X2-N-CH(CH3)-CH2-(O-CH2-CH(CH3))n-N-X2 Ｘ：-CH2-CH(OH)-CH2O-CO-C=CH2 ｎ：２〜１０ 感光性ポリマー（Ｘ−４００７）：４０％メタクリ酸、３０％メチルメタクリレ ート、３０％スチレンからなる共重合体のカ ルボキシル基に対して０．４当量のグリシジ ルメタクリレートを付加重合させた重量平均 分子量４３，０００、酸価９５の感光性ポリ マ。Photosensitive monomer (MGP-400): X 2 —N—CH (CH 3 ) —CH 2 — (O—CH 2 —CH (CH 3 )) n —NX 2 X: —CH 2 —CH ( OH) -CH 2 O-CO- C = CH 2 n: 2~10 photopolymer (X-4007): 40% methacrylic acid, 30% methyl methacrylate over preparative, mosquito copolymer composed of 30% styrene A photosensitive polymer having a weight average molecular weight of 43,000 and an acid value of 95, which is obtained by addition-polymerizing 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate with respect to ruboxyl group.
【００４８】
光重合開始剤（ＩＣ−３６９）：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイギー
社）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−
１
増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）：２，４−ジエチルチオキサントン
紫外線吸光剤（スダン）：アゾ系染料Ｃ24Ｈ20Ｎ4Ｏ
有機溶媒：γ−ブチロラクトン（沸点２００〜２０８℃）
：エチルセロソルブ（沸点１３５．６℃）
これら有機成分の平均屈折率の計算値は約１．５９であ
り、これはガラスの屈折率１．５８６に非常に近いもの
であった。
ペースト組成
ガラス粉末 ： ５１．９０％
感光性モノマー： １１．６４％
感光性ポリマー： ９．４６％
光重合開始剤 ： ２．６０％
増感剤 ： ２．６０％
紫外線吸光剤 ： ０．１０％
有機溶媒 ：γ−ブチロラクトン １０．８５％
：エチルセロソルブ １０．８５％
次に、１００ｍｍ角ガラス基板上に、ドクターブレード
法によりクリアランス４２０μｍにて、上記感光性ガラ
スペーストを塗布し、ホットプレートを用いて８０℃で
１２０分間乾燥させた後、ペースト塗布膜のエッジ部の
盛り上がりを測定したことろ、２μmであった。Photopolymerization initiator (IC-369): Irgacure-369 (Ciba-Geigy) 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 sensitizer (DETX-S) ): 2,4-Diethylthioxanthone UV absorber (Sudan): Azo dye C 24 H 20 N 4 O Organic solvent: γ-butyrolactone (boiling point 200 to 208 ° C.): Ethyl cellosolve (boiling point 135.6 ° C.) These organics The calculated average refractive index of the components was about 1.59, which was very close to the refractive index of glass of 1.586. Paste composition Glass powder: 51.90% Photosensitive monomer: 11.64% Photosensitive polymer: 9.46% Photopolymerization initiator: 2.60% Sensitizer: 2.60% Ultraviolet absorber: 0.10% Organic solvent: γ-butyrolactone 10.85%: Ethyl cellosolve 10.85% Next, the above-mentioned photosensitive glass paste was applied on a 100 mm square glass substrate with a clearance of 420 μm by a doctor blade method, and a hot plate was used. After drying at 80 ° C. for 120 minutes, the swelling of the edge portion of the paste coating film was measured and found to be 2 μm.
【００４９】次に、マスク露光を行なった。マスクとし
て、ピッチ２２０μｍ、線幅６０μｍ、プラズマディス
プレイにおけるストライプ状の隔壁パターン形成が可能
となるように設計したクロムマスクを用いた。露光は、
３０ｍＷ／ｃｍ2の出力で超高圧水銀灯で０．８Ｊ／ｃ
ｍ2紫外線露光を行なった。その後、モノエタノールア
ミンの０．３％水溶液を用いて、３５℃でシャワー現像
を行ない、８０℃で１０分間乾燥した。結果を以下に示
す。Next, mask exposure was performed. As the mask, a chromium mask having a pitch of 220 μm, a line width of 60 μm, and designed so as to be able to form a stripe-shaped partition pattern in a plasma display was used. Exposure is
Output of 30mW / cm 2 0.8J / c with ultra high pressure mercury lamp
m 2 UV exposure was performed. After that, shower development was performed at 35 ° C. using a 0.3% aqueous solution of monoethanolamine, and drying was performed at 80 ° C. for 10 minutes. The results are shown below.
【００５０】エッジ部の盛り上がり： ２μm
隔壁の高さ：１７９μｍ
半値幅： ６３μｍ
形状： 〇
（実施例２）次の組成のとおり、有機溶媒としてγ−ブ
チロラクトン（沸点２００〜２０８℃）および乳酸エチ
ル（沸点１５４℃）を用いた他は、実施例１と同様に実
施した。Edge rise: 2 μm Partition wall height: 179 μm Half-value width: 63 μm Shape: ◯ (Example 2) γ-butyrolactone (boiling point 200 to 208 ° C.) and ethyl lactate ( It carried out like Example 1 except having used boiling point 154 degreeC).
【００５１】 ペースト組成 ガラス粉末 ： ５１．９０％ 感光性モノマー： １１．６４％ 感光性ポリマー： ９．４６％ 光重合開始剤 ： ２．６０％ 増感剤 ： ２．６０％ 紫外線吸光剤 ： ０．１０％ 有機溶媒 ：γ−ブチロラクトン １５．８５％ ：乳酸エチル ５．８５％ 結果を以下に示す。[0051] Paste composition Glass powder: 51.90% Photosensitive monomer: 11.64% Photosensitive polymer: 9.46% Photopolymerization initiator: 2.60% Sensitizer: 2.60% Ultraviolet absorber: 0.10% Organic solvent: γ-butyrolactone 15.85% : Ethyl lactate 5.85% The results are shown below.
【００５２】エッジ部の盛り上がり： ３μm
隔壁の高さ：１８１μｍ
半値幅： ６０μｍ
形状： 〇
（実施例３）次の組成のとおり、有機溶媒としてγ−ブ
チロラクトン（沸点２００〜２０８℃）および３−メト
キシ−３−メチル−１−ブタノール（沸点１７４℃）を
用いた他は、実施例１と同様に実施した。Edge rise: 3 μm Partition wall height: 181 μm Half-value width: 60 μm Shape: ◯ (Example 3) γ-butyrolactone (boiling point 200 to 208 ° C.) and 3-methoxy as organic solvents having the following composition: It carried out like Example 1 except having used -3-methyl-1-butanol (boiling point 174 ° C).
【００５３】 ペースト組成 ガラス粉末 ： ５１．９０％ 感光性モノマー： １１．６４％ 感光性ポリマー： ９．４６％ 光重合開始剤 ： ２．６０％ 増感剤 ： ２．６０％ 紫外線吸光剤 ： ０．１０％ 有機溶媒 ：γ−ブチロラクトン １６．００％ ：３−メトキシ−３−メチル −１−ブタノール ５．７０％ 結果を以下に示す。[0053] Paste composition Glass powder: 51.90% Photosensitive monomer: 11.64% Photosensitive polymer: 9.46% Photopolymerization initiator: 2.60% Sensitizer: 2.60% Ultraviolet absorber: 0.10% Organic solvent: γ-butyrolactone 16.00% : 3-methoxy-3-methyl -1-butanol 5.70% The results are shown below.
【００５４】エッジ部の盛り上がり： ３μm
隔壁の高さ：１８０μｍ
半値幅： ６２μｍ
形状： 〇
（比較例１）実施例１のエチルセロソルブを全てγ−ブ
チロラクトンに置き換えた感光性ガラスペースト、すな
わち有機溶媒をγ−ブチロラクトン１種類のみとした以
下の組成のペーストを作成し、この感光性ガラスペース
ト用いた他は、実施例１と同様に実施した。Edge rise: 3 μm Partition wall height: 180 μm Half width: 62 μm Shape: ◯ (Comparative Example 1) A photosensitive glass paste in which all of the ethyl cellosolve of Example 1 was replaced with γ-butyrolactone, that is, an organic solvent was used. A paste having the following composition containing only one type of γ-butyrolactone was prepared, and the same procedure as in Example 1 was carried out except that this photosensitive glass paste was used.
【００５５】
ペースト組成
ガラス粉末 ： ５１．９０％
感光性モノマー： １１．６４％
感光性ポリマー： ９．４６％
光重合開始剤 ： ２．６０％
増感剤 ： ２．６０％
紫外線吸光剤 ： ０．１０％
有機溶媒 ：γ−ブチロラクトン ２１．７０％
乾燥後、ペースト塗布膜のエッジ部の盛り上がりを測定
したことろ、３０μmであった。次に、露光と現像を行
なった。エッジ部の未露光部のペーストを現像液で洗い
流そうとしたところ、現像液の隔壁部分への過度の浸食
のため、隔壁部分が蛇行した。Paste composition Glass powder: 51.90% Photosensitive monomer: 11.64% Photosensitive polymer: 9.46% Photopolymerization initiator: 2.60% Sensitizer: 2.60% UV light absorber: 0 10% organic solvent: γ-butyrolactone 21.70% After drying, the swelling of the edge portion of the paste coating film was measured and found to be 30 μm. Next, exposure and development were performed. When the unexposed portion of the edge portion was washed away with the developing solution, the partition wall portion meandered due to excessive erosion of the developing solution into the partition wall portion.
【００５６】エッジ部の盛り上がり： ３０μm
隔壁の高さ：１７２μｍ
半値幅： ６５μｍ
形状： ×（蛇行）
（比較例２）実施例１のエチルセロソルブとγ−ブチロ
ラクトンの割合を次のように変更し、すなわちエチルセ
ロソルブの量を少なくした下記組成の感光性ガラスペー
ストを作成し、これを用いた他は、実施例１と同様に実
施した。Edge rise: 30 μm Partition wall height: 172 μm Half-value width: 65 μm Shape: X (meandering) (Comparative example 2) The ratio of ethyl cellosolve and γ-butyrolactone of Example 1 was changed as follows, That is, a photosensitive glass paste having the following composition in which the amount of ethyl cellosolve was reduced was prepared, and the same procedure as in Example 1 was carried out except that this was used.
【００５７】
ペースト組成
ガラス粉末 ： ５１．９０％
感光性モノマー： １１．６４％
感光性ポリマー： ９．４６％
光重合開始剤 ： ２．６０％
増感剤 ： ２．６０％
紫外線吸光剤 ： ０．１０％
有機溶媒 ：γ−ブチロラクトン ２０．００％
：エチルセロソルブ １．７０％
乾燥後、ペースト塗布膜のエッジ部の盛り上がりを測定
したことろ、２８μmであった。次に、露光し現像を行
ない、エッジ部の未露光部のペーストを現像液で洗い流
そうとしたところ、隔壁部分が蛇行した。Paste composition Glass powder: 51.90% Photosensitive monomer: 11.64% Photosensitive polymer: 9.46% Photopolymerization initiator: 2.60% Sensitizer: 2.60% Ultraviolet absorber: 0 10% organic solvent: γ-butyrolactone 20.00%: ethyl cellosolve 1.70% After drying, the swelling of the edge portion of the paste coating film was measured and found to be 28 μm. Next, exposure and development were carried out, and when the paste of the unexposed portion at the edge portion was tried to be washed away with the developing solution, the partition wall portion meandered.
【００５８】エッジ部の盛り上がり： ２８μm 隔壁の高さ：１７４μｍ 半値幅： ６３μｍ 形状： ×（蛇行）Rise of edge: 28 μm Partition height: 174 μm Half-width: 63 μm Shape: × (Meander)
【００５９】[0059]
【発明の効果】本発明によれば、ガラス粉末、感光性有
機成分および２種類以上の有機溶媒からなる感光性ガラ
スペーストにおいて、該有機溶媒を２種類以上含有し、
かつ該有機溶媒のうち少なくとも２種類の有機溶媒の沸
点差が２０℃以上とすることにより、塗布面エッジ部の
盛り上がりが少ない均一な膜厚のペースト塗布膜を形成
することを可能とする感光性ガラスペーストが得られ
る。According to the present invention, in a photosensitive glass paste comprising glass powder, a photosensitive organic component and two or more kinds of organic solvents, two or more kinds of the organic solvents are contained,
Further, by setting the boiling point difference of at least two kinds of the organic solvents to 20 ° C. or more, it is possible to form a paste coating film having a uniform film thickness with less swelling at the edge portion of the coating surface. A glass paste is obtained.
【００６０】具体的には、ペースト塗布膜のエッジ部が
盛り上がった状態で、マスクを用いて露光し、盛り上が
り部分の未露光部を現像液で洗い流そうとすると、露光
部分、すなわち隔壁部分が現像液によって過度に浸食さ
れ、蛇行したり、剥がれるという重大な問題が生じるこ
とがあるが、本発明の感光性ガラスペーストを用いるこ
とにより、このような問題を回避でき、高品質なプラズ
マディスプレイ用基板およびプラズマディスプレイを製
造することができる。Specifically, when the edge of the paste coating film is raised, the mask is exposed to light and the unexposed portion of the raised portion is washed away with a developing solution. Although a serious problem such as excessive erosion by the developer, meandering, or peeling may occur, such problems can be avoided by using the photosensitive glass paste of the present invention, and high quality plasma display Substrates and plasma displays can be manufactured.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−230587（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−218508（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−165538（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−268870（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−310450（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/00 - 7/42 H01J 9/02 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) References JP-A-9-230587 (JP, A) JP-A-9-218508 (JP, A) JP-A-2-165538 (JP, A) JP-A-2- 268870 (JP, A) JP 10-310450 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/ 00-7/42 H01J 9/02
Claims (6)
溶媒からなる感光性ガラスペーストを基板に塗布し、乾
燥後にパターン露光、現像し、さらに焼成して隔壁を形
成する工程を含むプラズマディスプレイの製造方法であ
って、該感光性ガラスペーストが該有機溶媒を２種類以
上含有し、かつ該有機溶媒のうち少なくとも２種類の有
機溶媒の沸点差が２０℃以上であり、かつ該感光性ガラ
スペーストの塗布をドクターブレード法またはスリット
ダイコート法によって行なうことを特徴とするプラズマ
ディスプレイの製造方法。1. A photosensitive glass paste comprising glass powder, a photosensitive organic component and an organic solvent is applied to a substrate and dried.
After drying, pattern exposure, development, and baking to form partition walls.
A method of manufacturing a plasma display including the steps of:
I, photosensitive glass paste containing the organic solvent of two or more, and Ri der difference in boiling point of at least two organic solvents 20 ° C. or more of the organic solvent, and said photosensitive Gala
Apply doctor blade method or slit for space coating
Plasma characterized by being performed by a die coating method
Display manufacturing method .
側の有機溶媒の含有量が、有機溶媒全量に対してそれぞ
れ１０〜９０重量％含有することを特徴とする請求項１
記載のプラズマディスプレイの製造方法。2. The low-boiling side organic solvent and the high-boiling side organic solvent in the organic solvent are contained in an amount of 10 to 90% by weight based on the total amount of the organic solvent.
A method for manufacturing the plasma display described.
ペースト全体に対して１〜５０重量％の範囲にあること
を特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載のプラズ
マディスプレイの製造方法。3. A plasma as claimed in claim 1 or claim 2, characterized in that the total content of the organic solvent is in the range of 1 to 50% by weight relative to the total photosensitive glass paste
Manufacturing method for mobile display .
分子内にカルボキシル基または／および分子内に不飽和
二重結合を有する重量分子量５００〜１００，０００の
オリゴマーもしくはポリマーが感光性有機物量に対して
１０〜９０重量％含まれていることを特徴とする請求項
１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造
方法。4. The essential component of the photosensitive organic component,
An oligomer or polymer having a carboxyl group in the molecule and / or an unsaturated double bond in the molecule and having a weight molecular weight of 500 to 100,000 is contained in an amount of 10 to 90% by weight based on the amount of the photosensitive organic substance. The manufacture of the plasma display according to claim 1.
Way .
厚みを５０μm以上とすることを特徴とする請求項１〜
４のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方
法。 5. The one-time coating thickness of the photosensitive glass paste is 50 μm or more .
4. The method for manufacturing a plasma display according to any one of 4 above .
ストの塗布を１回もしくは２回で行なうことを特徴とす
る請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イの製造方法。6. The method of manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein the photosensitive glass paste for forming the partition walls is applied once or twice.
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