JP3518816B2 - オキサジアゾール化合物およびその製造方法 - Google Patents
オキサジアゾール化合物およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、蛍光増白剤として、あ
るいは有機電界発光素子用材料、特に電子輸送材料とし
て有用な、新規オキサジアゾール化合物、及びその製造
方法に関する。
るいは有機電界発光素子用材料、特に電子輸送材料とし
て有用な、新規オキサジアゾール化合物、及びその製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機電界発光素子用の材料として種々の
オキサジアゾール化合物が知られている。例えば、日本
化学会誌，１９９１，（１１），ｐ．１５４０−１５４
８には発光材料及び電子輸送材料としてオキサジアゾー
ル化合物を使用した例が記載されている。また、特開平
３−２０５４７９号公報、特開平４−２１２２８６号公
報、特開平４−３６３８９１号公報、特開平４−３６３
８９４号公報にもオキサジアゾール化合物を使用した例
が記載されている。しかしながら、未だに薄膜の安定性
に問題があり、高輝度、高信頼性の有機電界発光素子は
得られていない。
オキサジアゾール化合物が知られている。例えば、日本
化学会誌，１９９１，（１１），ｐ．１５４０−１５４
８には発光材料及び電子輸送材料としてオキサジアゾー
ル化合物を使用した例が記載されている。また、特開平
３−２０５４７９号公報、特開平４−２１２２８６号公
報、特開平４−３６３８９１号公報、特開平４−３６３
８９４号公報にもオキサジアゾール化合物を使用した例
が記載されている。しかしながら、未だに薄膜の安定性
に問題があり、高輝度、高信頼性の有機電界発光素子は
得られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機電界発
光素子用の材料として、安定した製膜性を有し、特に発
光材料、電子輸送材料等として有用であり、しかも長期
保存によっても変質しにくい新規オキサジアゾール化合
物およびその製造方法を提供することを目的とする。
光素子用の材料として、安定した製膜性を有し、特に発
光材料、電子輸送材料等として有用であり、しかも長期
保存によっても変質しにくい新規オキサジアゾール化合
物およびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するため鋭意検討した結果、ある特定な構造を有
するオキサジアゾール化合物が有効であることを見い出
し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明によ
れば、下記一般式（Ｉ）（化１）で表わされるオキサジ
アゾール化合物が提供される。
を解決するため鋭意検討した結果、ある特定な構造を有
するオキサジアゾール化合物が有効であることを見い出
し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明によ
れば、下記一般式（Ｉ）（化１）で表わされるオキサジ
アゾール化合物が提供される。
【化１】
（式中、Ａは、各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっていても良い。又、Ｒは、水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、
置換もしくは無置換のアルコキシ基、ヒドロキシル基を
表す。） また、下記一般式（II）（化２）
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっていても良い。又、Ｒは、水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、
置換もしくは無置換のアルコキシ基、ヒドロキシル基を
表す。） また、下記一般式（II）（化２）
【化２】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ
基、ヒドロキシル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表
す。）で表される酸ハライド化合物を、下記一般式（II
I）（化３）あるいは一般式（IV）（化４）
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ
基、ヒドロキシル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表
す。）で表される酸ハライド化合物を、下記一般式（II
I）（化３）あるいは一般式（IV）（化４）
【化３】
【化４】
（式中、Ａは、各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表す。)
で表されるテトラゾール化合物とを反応させて前記一般
式（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を
製造することを特徴とするオキサジアゾール化合物の製
造方法が提供される。
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表す。)
で表されるテトラゾール化合物とを反応させて前記一般
式（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を
製造することを特徴とするオキサジアゾール化合物の製
造方法が提供される。
【０００５】前記一般式（Ｉ）において、Ａにおける芳
香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基の具体例として
は、スチリル、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、
ナフチル、アントリル、アセナフテニル、フルオレニ
ル、フェナントリル、インデニル、ピレニル、ピリジ
ル、ピリミジル、フラニル、ピロニル、チオフェニル、
キノリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、イン
ドリル、カルバゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサ
リル、ベンゾイミダゾリル、ピラゾリル、ジベンゾフラ
ニル、ジベンゾチオフェニル、オキサゾリル、オキサジ
アゾリル基等が挙げられる。
香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基の具体例として
は、スチリル、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、
ナフチル、アントリル、アセナフテニル、フルオレニ
ル、フェナントリル、インデニル、ピレニル、ピリジ
ル、ピリミジル、フラニル、ピロニル、チオフェニル、
キノリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、イン
ドリル、カルバゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサ
リル、ベンゾイミダゾリル、ピラゾリル、ジベンゾフラ
ニル、ジベンゾチオフェニル、オキサゾリル、オキサジ
アゾリル基等が挙げられる。
【０００６】これらの芳香族炭化水素基あるいは芳香族
複素環基は更に一つ以上のハロゲン原子、水酸基、シア
ノ基、ニトロ基、アミノ基、トリフルオロメチル基、炭
素数１から１２、好ましくは１から６のアルキル基、炭
素数１から１２、好ましくは１から６のアルコキシ基、
アリールオキシ基、フェニル基、スチリル基、ナフチル
基、チオフェニル基、アラルキル基、ビフェニル基、ビ
チオフェニル基、フラニル基、ビフラニル基、ピロニル
基、ビピロニル基、等の置換基を有していてもよい。
複素環基は更に一つ以上のハロゲン原子、水酸基、シア
ノ基、ニトロ基、アミノ基、トリフルオロメチル基、炭
素数１から１２、好ましくは１から６のアルキル基、炭
素数１から１２、好ましくは１から６のアルコキシ基、
アリールオキシ基、フェニル基、スチリル基、ナフチル
基、チオフェニル基、アラルキル基、ビフェニル基、ビ
チオフェニル基、フラニル基、ビフラニル基、ピロニル
基、ビピロニル基、等の置換基を有していてもよい。
【０００７】また、前記一般式（Ｉ）において、Ｒにお
ける置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数
１〜１２、好ましくは１〜６のアルキル基が挙げられ、
その置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、フェニル
基、アルコキシ基又はアミノ基等が挙げられる。置換も
しくは無置換のアルコキシ基としては、炭素数１〜１
２、好ましくは１〜６のアルコキシ基が挙げられ、その
置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基等が
挙げられる。
ける置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数
１〜１２、好ましくは１〜６のアルキル基が挙げられ、
その置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、フェニル
基、アルコキシ基又はアミノ基等が挙げられる。置換も
しくは無置換のアルコキシ基としては、炭素数１〜１
２、好ましくは１〜６のアルコキシ基が挙げられ、その
置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基等が
挙げられる。
【０００８】一般式（Ｉ）で表される本発明のオキサジ
アゾール化合物は、前記した如く、下記一般式（II）
（化２）
アゾール化合物は、前記した如く、下記一般式（II）
（化２）
【化２】
（式中、Ｒ及びＸは前記に同じ。）で表される酸ハライ
ド化合物を、下記一般式（III）（化３）あるいは一般
式（IV）（化４）
ド化合物を、下記一般式（III）（化３）あるいは一般
式（IV）（化４）
【化３】
【化４】
（式中、Ａは、前記に同じ。）で表されるテトラゾール
化合物とを反応させることにより得られる。
化合物とを反応させることにより得られる。
【０００９】一般式（II）（化２）で表される酸ハライ
ド化合物は、下記一般式（Ｖ）（化５）
ド化合物は、下記一般式（Ｖ）（化５）
【化５】
（式中、Ｒは前記に同じ。）で表されるカルボン酸化合
物を塩化チオニル、五塩化リン、ホスゲン、塩化アルミ
ニウム等のハロゲン化剤で処理することにより合成され
る。
物を塩化チオニル、五塩化リン、ホスゲン、塩化アルミ
ニウム等のハロゲン化剤で処理することにより合成され
る。
【００１０】一般式（III）（化３）及び一般式（IV）
（化４）のテトラゾール化合物は互変異性の関係にあっ
て互いに変化しやすく、別々に取り出すことが困難なも
のであり、両者が混在したものであるのが一般的であ
り、本発明でも混在したものを使用できる。ここで使用
される一般式（III）（化３）及び一般式（IV）（化
４）で表されるテトラゾール化合物は従来公知の方法で
製造される。例えば、Synthesis ７１（１９７３）に記
載の方法で合成できる。
（化４）のテトラゾール化合物は互変異性の関係にあっ
て互いに変化しやすく、別々に取り出すことが困難なも
のであり、両者が混在したものであるのが一般的であ
り、本発明でも混在したものを使用できる。ここで使用
される一般式（III）（化３）及び一般式（IV）（化
４）で表されるテトラゾール化合物は従来公知の方法で
製造される。例えば、Synthesis ７１（１９７３）に記
載の方法で合成できる。
【００１１】また、一般式（II）（化２）で表される酸
ハライドと一般式（III）（化３）及び一般式（IV）
（化４）で表されるテトラゾール化合物との反応は、R.
D.Huisgenらのオキサジアゾール合成法に準じて行われ
る。例えば、Angew.Chem.,７２，３６６（１９６０），
Chem.Ber．，９３，２１０６（１９６０），Tetrahedro
n,１１，２４１（１９６０），Chem．Ber.,９８，２９
６６（１９６５）に記載の方法を適用することができ
る。
ハライドと一般式（III）（化３）及び一般式（IV）
（化４）で表されるテトラゾール化合物との反応は、R.
D.Huisgenらのオキサジアゾール合成法に準じて行われ
る。例えば、Angew.Chem.,７２，３６６（１９６０），
Chem.Ber．，９３，２１０６（１９６０），Tetrahedro
n,１１，２４１（１９６０），Chem．Ber.,９８，２９
６６（１９６５）に記載の方法を適用することができ
る。
【００１２】反応はテトラゾール基とハロゲン化カルボ
ニル基との反応であり、一般式（II）（化２）で表され
る化合物と一般式（III）（化３）及び一般式（IV）
（化４）で表される化合物の前記官能基が交換された原
料からも一般式（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾ
ール化合物を合成することができる。すなわち下記一般
式（VI）（化６）で表されるテトラゾール化合物と一般
式（VII）（化７）との反応によっても一般式（Ｉ）
（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を合成する
ことができる。
ニル基との反応であり、一般式（II）（化２）で表され
る化合物と一般式（III）（化３）及び一般式（IV）
（化４）で表される化合物の前記官能基が交換された原
料からも一般式（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾ
ール化合物を合成することができる。すなわち下記一般
式（VI）（化６）で表されるテトラゾール化合物と一般
式（VII）（化７）との反応によっても一般式（Ｉ）
（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を合成する
ことができる。
【化６】
（式中、テトラゾール基は互変異性体を含んでもよい。
Ｒは前記に同じ。）
Ｒは前記に同じ。）
【化７】
Ａ−ＣＯＸ ・・・ （VII）
（式中、Ａは前記に同じ。Ｘはハロゲン原子を表す。）
【００１３】また、一般式（Ｉ）（化１）で表されるオ
キサジアゾール化合物は次の反応によっても合成するこ
とができる。すなわち、下記一般式（II）（化２）
キサジアゾール化合物は次の反応によっても合成するこ
とができる。すなわち、下記一般式（II）（化２）
【化２】
（式中、Ｒは前記に同じ。）で表される酸ハライド化合
物と、下記一般式（VIII）（化８）の化合物
物と、下記一般式（VIII）（化８）の化合物
【化８】
Ａ−ＣＯＮＨＮＨ2 ・・・ （VIII）
（式中、Ａは前記に同じ。）で表される化合物とを反応
させて、下記一般式（IX）（化９）
させて、下記一般式（IX）（化９）
【化９】
（式中、Ａ、Ｒは前記に同じ。）で表される化合物を製
造し、さらに脱水反応を行うことにより、前記一般式
（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を製
造することができる。
造し、さらに脱水反応を行うことにより、前記一般式
（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を製
造することができる。
【００１４】更にまた、一般式（Ｉ）（化１）で表され
るオキサジアゾール化合物は、下記一般式（VII）（化
７）
るオキサジアゾール化合物は、下記一般式（VII）（化
７）
【化７】
Ａ−ＣＯＸ ・・・ （VII）
（式中、Ａ、Ｘは前記に同じ。）で表される化合物と、
下記一般式（Ｘ）（化１０）
下記一般式（Ｘ）（化１０）
【化１０】
（式中、Ｒは前記に同じ。）で表される化合物とを反応
させて、前記一般式（IX）（化９）で表される化合物を
製造し、さらに脱水反応を行うことにより、前記一般式
（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を製
造することができる。
させて、前記一般式（IX）（化９）で表される化合物を
製造し、さらに脱水反応を行うことにより、前記一般式
（Ｉ）（化１）で表されるオキサジアゾール化合物を製
造することができる。
【００１５】出発原料として使用される一般式（Ｘ）
（化１０）で表される化合物は下記一般式（XI）（化１
１）
（化１０）で表される化合物は下記一般式（XI）（化１
１）
【化１１】
（式中、Ｒは前記に同じ、Ｒ’はアルキル基を表す。）
で表されるエステル誘導体と、ヒドラジンとの反応によ
り容易に製造することができる。
で表されるエステル誘導体と、ヒドラジンとの反応によ
り容易に製造することができる。
【００１６】前記一般式（IX）（化９）で表される化合
物の前記２種の合成工程は通常塩基性触媒の存在下で行
なわれる。塩基性触媒としては、ピリジン、及びその誘
導体、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタ
ノールアミン、キノリン、ピペラジン、モルホリンなど
の有機塩基あるいは水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基が挙げられるが、特
に有機の塩基性触媒が好ましい。該工程の反応溶媒とし
ては前記一般式（IX）（化９）で表される化合物を少し
でも溶解するものであればすべてのものが使用できる
が、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ニトロベンゼン等
の芳香族系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等が好ましい。又、前記したピリジン
等の有機の塩基性触媒を過剰に用い、溶媒としても良
い。
物の前記２種の合成工程は通常塩基性触媒の存在下で行
なわれる。塩基性触媒としては、ピリジン、及びその誘
導体、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタ
ノールアミン、キノリン、ピペラジン、モルホリンなど
の有機塩基あるいは水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基が挙げられるが、特
に有機の塩基性触媒が好ましい。該工程の反応溶媒とし
ては前記一般式（IX）（化９）で表される化合物を少し
でも溶解するものであればすべてのものが使用できる
が、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ニトロベンゼン等
の芳香族系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等が好ましい。又、前記したピリジン
等の有機の塩基性触媒を過剰に用い、溶媒としても良
い。
【００１７】また、前記一般式（IX）（化９）で表され
る化合物を脱水反応させ、閉環させる工程は、オキシ塩
化リン、塩化チオニル、ポリリン酸、ホウ酸、トルエン
スルホン酸等の脱水剤の存在下に行なう。この時の反応
溶媒としては前記工程で示した溶媒が使用できるが、ク
ロルベンゼン、ジクロルベンゼン、キシレン、ニトロベ
ンゼン等の芳香族系溶媒、トリクロルエタン、トリクロ
ルメタン等のハロゲン系溶媒等が特に好ましい。脱水剤
の使用量は出発原料化合物１モルに対して１モルから１
０モル程度が適切であるが、例えば、オキシ塩化リンを
大過剰に用い、溶媒としても良い。通常、反応は、５０
℃から３００℃で数分から１０時間で完了する。
る化合物を脱水反応させ、閉環させる工程は、オキシ塩
化リン、塩化チオニル、ポリリン酸、ホウ酸、トルエン
スルホン酸等の脱水剤の存在下に行なう。この時の反応
溶媒としては前記工程で示した溶媒が使用できるが、ク
ロルベンゼン、ジクロルベンゼン、キシレン、ニトロベ
ンゼン等の芳香族系溶媒、トリクロルエタン、トリクロ
ルメタン等のハロゲン系溶媒等が特に好ましい。脱水剤
の使用量は出発原料化合物１モルに対して１モルから１
０モル程度が適切であるが、例えば、オキシ塩化リンを
大過剰に用い、溶媒としても良い。通常、反応は、５０
℃から３００℃で数分から１０時間で完了する。
【００１８】本発明に係わる一般式（Ｉ）（化１）で表
されるオキサジアゾール化合物の具体例を表１に示す。
されるオキサジアゾール化合物の具体例を表１に示す。
【００１９】
【表１−（１）】
【００２０】
【表１−（２）】
【００２１】本発明の一般式（Ｉ）で示されるオキサジ
アゾール化合物は、有機電界発光素子の構成成分として
特に優れており、例えば、真空蒸着法、溶液塗布法等に
より薄膜化し、陽極及び陰極で直接または間接的に挟持
することにより素子を得ることができる。
アゾール化合物は、有機電界発光素子の構成成分として
特に優れており、例えば、真空蒸着法、溶液塗布法等に
より薄膜化し、陽極及び陰極で直接または間接的に挟持
することにより素子を得ることができる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に
説明する。尚、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。
説明する。尚、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。
【００２３】合成例１ 下記構造式（化１２）で表され
る化合物の合成〔一般式（II），Ｒ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃｌ〕
る化合物の合成〔一般式（II），Ｒ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃｌ〕
【化１２】
１，２，３−ベンゼントリカルボン酸の水和物を１０ｇ
と五塩化リン４４ｇを反応容器に入れ、９０℃で１５分
間加熱した後１５０℃で７時間反応させた。その後、オ
キシ塩化リンを蒸留により取り除き、ジクロルメタン４
０ｍｌを加えて析出物を濾過により取り出し、ヘキサン
３００ｍｌで洗浄して粗生成物８．２３ｇ（収率７６．
３％）を得た。これをシクロヘキサン１０５ｍｌで再結
晶し、無色針状晶の目的生成物６．７９（収率６３．０
％）を得た。この化合物の融点は１１７．５℃〜１１
８．５℃であった。
と五塩化リン４４ｇを反応容器に入れ、９０℃で１５分
間加熱した後１５０℃で７時間反応させた。その後、オ
キシ塩化リンを蒸留により取り除き、ジクロルメタン４
０ｍｌを加えて析出物を濾過により取り出し、ヘキサン
３００ｍｌで洗浄して粗生成物８．２３ｇ（収率７６．
３％）を得た。これをシクロヘキサン１０５ｍｌで再結
晶し、無色針状晶の目的生成物６．７９（収率６３．０
％）を得た。この化合物の融点は１１７．５℃〜１１
８．５℃であった。
【００２４】合成例２ 下記構造式（化１３）で表され
る化合物の合成〔一般式（III），Ａ＝ビフェニル−４
−イル〕
る化合物の合成〔一般式（III），Ａ＝ビフェニル−４
−イル〕
【化１３】
ｐ−シアノビフェニル２０．０ｇとアジ化ソーダ７．９
８ｇと塩化アンモニウム６．５７ｇを反応容器に入れ、
溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを５５ｍｌ加
え、１００℃〜１１０℃にて１５時間加熱還流した。放
冷後、水５００ｍｌに反応物を注ぎ、濾過し、水５００
ｍｌで水洗を行い、粗生成物２４．０ｇ（収率９６．８
％）を得た。これをジオキサン６５０ｍｌにて再結晶を
行い、９．９４ｇ（収率４０．１％）の白色粉末物を得
た。この化合物の分解点は２３９．５℃〜２４０．３℃
であった。赤外線吸収スペクトルは、３２００ｃｍ-1〜
２５００ｃｍ-1にかけてテトラゾールのＮ−Ｈ伸縮振動
に帰属されるブロードなピークが観察され、目的物であ
ることを確認した。
８ｇと塩化アンモニウム６．５７ｇを反応容器に入れ、
溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを５５ｍｌ加
え、１００℃〜１１０℃にて１５時間加熱還流した。放
冷後、水５００ｍｌに反応物を注ぎ、濾過し、水５００
ｍｌで水洗を行い、粗生成物２４．０ｇ（収率９６．８
％）を得た。これをジオキサン６５０ｍｌにて再結晶を
行い、９．９４ｇ（収率４０．１％）の白色粉末物を得
た。この化合物の分解点は２３９．５℃〜２４０．３℃
であった。赤外線吸収スペクトルは、３２００ｃｍ-1〜
２５００ｃｍ-1にかけてテトラゾールのＮ−Ｈ伸縮振動
に帰属されるブロードなピークが観察され、目的物であ
ることを確認した。
【００２５】合成例３ 下記構造式（化１４）で表され
る化合物の合成〔一般式（III），Ａ＝１−ナフチル〕
る化合物の合成〔一般式（III），Ａ＝１−ナフチル〕
【化１４】
α−ナフトニトリル３０ｇとアジ化ソーダ１４．０１ｇ
と塩化アンモニウム１１．５２ｇを反応容器に入れ、溶
媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８２ｍｌを加
え、１００℃〜１１０℃にて２４時間加熱還流した。そ
の後、エバポレータで溶媒を除き、水４５０ｍｌを加
え、塩酸でｐＨ＝１とした後濾過、水洗して粗生成物３
４．９５ｇを得た。これをジオキサンとトルエンの混合
溶媒で再結晶し、さらにメタノールと水で再沈殿を行
い、白色粉末状の目的生成物２５．９７ｇを得た（収率
６７．６％）。この化合物の分解点は２１５．０℃〜２
１５．６℃であった。
と塩化アンモニウム１１．５２ｇを反応容器に入れ、溶
媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８２ｍｌを加
え、１００℃〜１１０℃にて２４時間加熱還流した。そ
の後、エバポレータで溶媒を除き、水４５０ｍｌを加
え、塩酸でｐＨ＝１とした後濾過、水洗して粗生成物３
４．９５ｇを得た。これをジオキサンとトルエンの混合
溶媒で再結晶し、さらにメタノールと水で再沈殿を行
い、白色粉末状の目的生成物２５．９７ｇを得た（収率
６７．６％）。この化合物の分解点は２１５．０℃〜２
１５．６℃であった。
【００２６】合成例４ 化合物Ｎｏ．１の合成〔一般式
（Ｉ）Ａ＝フェニル，Ｒ＝Ｈ〕 合成例１で得られた酸クロリド化合物２．６５ｇ（０．
０１ｍｏｌ）と５−フェニル−テトラゾール化合物４．
３８ｇ（０．０３ｍｏｌ）を反応容器に入れ、モレキュ
ラシーブで脱水処理したピリジン６０ｍｌを溶媒として
加え、２４時間加熱還流した。放冷後、水８００ｍｌに
反応物をあけ、析出物を濾過、乾燥し、粗生成物２．０
６ｇを得た。その後、カラムクロマトグラフ（展開溶媒
ＣＨＣｌ3、ＴＨＦ＝３０：１）で精製し、さらに、ト
ルエン８０ｍｌで再結晶を行ない目的生成物０．８５ｇ
を得た。この化合物の融点は２４３．０〜２４４．５℃
であった。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図
１に示す。
（Ｉ）Ａ＝フェニル，Ｒ＝Ｈ〕 合成例１で得られた酸クロリド化合物２．６５ｇ（０．
０１ｍｏｌ）と５−フェニル−テトラゾール化合物４．
３８ｇ（０．０３ｍｏｌ）を反応容器に入れ、モレキュ
ラシーブで脱水処理したピリジン６０ｍｌを溶媒として
加え、２４時間加熱還流した。放冷後、水８００ｍｌに
反応物をあけ、析出物を濾過、乾燥し、粗生成物２．０
６ｇを得た。その後、カラムクロマトグラフ（展開溶媒
ＣＨＣｌ3、ＴＨＦ＝３０：１）で精製し、さらに、ト
ルエン８０ｍｌで再結晶を行ない目的生成物０．８５ｇ
を得た。この化合物の融点は２４３．０〜２４４．５℃
であった。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図
１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】合成例５ 化合物Ｎｏ．２２の合成〔一般
式（Ｉ）Ａ＝１−ナフチル，Ｒ＝Ｈ〕 合成例１で得られた酸クロライド化合物１．０ｇと合成
例３で得られたテトラゾール化合物２．４４ｇ反応容器
に入れ、モレキュラシーブで脱水処理したピリジン３０
ｍｌを溶媒として加え、２０時間加熱還流した。放冷
後、メタノール７０ｍｌを加え析出物をろ過、メタノー
ル洗浄して粗生成物．２６ｇを得た。その後Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドで２回再結晶し、無色針状晶の目的
生成物１．０３ｇ（収率４１．４％）を得た。この化合
物の融点は２７９．６℃〜２８０．１℃であった。赤外
線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図２に示す。
式（Ｉ）Ａ＝１−ナフチル，Ｒ＝Ｈ〕 合成例１で得られた酸クロライド化合物１．０ｇと合成
例３で得られたテトラゾール化合物２．４４ｇ反応容器
に入れ、モレキュラシーブで脱水処理したピリジン３０
ｍｌを溶媒として加え、２０時間加熱還流した。放冷
後、メタノール７０ｍｌを加え析出物をろ過、メタノー
ル洗浄して粗生成物．２６ｇを得た。その後Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドで２回再結晶し、無色針状晶の目的
生成物１．０３ｇ（収率４１．４％）を得た。この化合
物の融点は２７９．６℃〜２８０．１℃であった。赤外
線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】合成例６ 化合物Ｎｏ．２６の合成〔一般
式（Ｉ）Ａ＝４−ビフェニルイル，Ｒ＝Ｈ〕 合成例１で得られた酸クロライド化合物１．０ｇと合成
例２で得られたテトラゾール化合物２．７７ｇを反応容
器に入れ、モレキュラシーブで脱水処理したピリジン３
０ｍｌを溶媒として加え、５３時間加熱還流した。放冷
後、メタノール７０ｍｌを加え析出物をろ過、メタノー
ル洗浄して粗生成物１．７１ｇを得た。その後、ジオキ
サンとトルエンの混合溶媒で再結晶し、さらにクロロホ
ルムとＴＨＦの混合溶媒で煮沸洗浄し、さらにジオキサ
ン溶媒で再結晶して目的生成物０．６７ｇ（収率２４．
１％）を得た。この化合物の融点は２８７．０℃〜２８
７．８℃であった。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤
法）を図３に示す。
式（Ｉ）Ａ＝４−ビフェニルイル，Ｒ＝Ｈ〕 合成例１で得られた酸クロライド化合物１．０ｇと合成
例２で得られたテトラゾール化合物２．７７ｇを反応容
器に入れ、モレキュラシーブで脱水処理したピリジン３
０ｍｌを溶媒として加え、５３時間加熱還流した。放冷
後、メタノール７０ｍｌを加え析出物をろ過、メタノー
ル洗浄して粗生成物１．７１ｇを得た。その後、ジオキ
サンとトルエンの混合溶媒で再結晶し、さらにクロロホ
ルムとＴＨＦの混合溶媒で煮沸洗浄し、さらにジオキサ
ン溶媒で再結晶して目的生成物０．６７ｇ（収率２４．
１％）を得た。この化合物の融点は２８７．０℃〜２８
７．８℃であった。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤
法）を図３に示す。
【００３１】
【表３】
【００３２】応用例１
ガラス基板上に大きさ２ｍｍ×２ｍｍ、厚さ１７０ｎｍ
の酸化錫インジウム（ＩＴＯ）による陽極を形成し、そ
の上に下記式（XV）（化１５）で示されるジアミン誘導
体からなるホール輸送層４０ｎｍ、下記式（XVI）（化
１６）で示されるジアミン誘導体からなる発光層１５ｎ
ｍ、前記化合物Ｎｏ．１からなる電子輸送層２０ｎｍ、
下記式（XVII）（化１７）で示される電子輸送層３０ｎ
ｍ、１０：１原子比のＭｇＡｇ電極を３００ｎｍ、各々
真空蒸着により形成し、電界発光素子を作製した。蒸着
時の真空度は０．７×１０-6Ｔｏｒｒであり、基板温度
は室温である。このようにして作製した素子の陽極及び
陰極にリード線を介して直流電源を接続したところ、電
流密度２００ｍＡ／ｃｍ2において印加電圧が１１．５
Ｖであり、輝度２２５０ｃｄ／ｍ2の青色の発光が観測
された。なお、この素子は３カ月保存後においても明瞭
に発光が確認された。
の酸化錫インジウム（ＩＴＯ）による陽極を形成し、そ
の上に下記式（XV）（化１５）で示されるジアミン誘導
体からなるホール輸送層４０ｎｍ、下記式（XVI）（化
１６）で示されるジアミン誘導体からなる発光層１５ｎ
ｍ、前記化合物Ｎｏ．１からなる電子輸送層２０ｎｍ、
下記式（XVII）（化１７）で示される電子輸送層３０ｎ
ｍ、１０：１原子比のＭｇＡｇ電極を３００ｎｍ、各々
真空蒸着により形成し、電界発光素子を作製した。蒸着
時の真空度は０．７×１０-6Ｔｏｒｒであり、基板温度
は室温である。このようにして作製した素子の陽極及び
陰極にリード線を介して直流電源を接続したところ、電
流密度２００ｍＡ／ｃｍ2において印加電圧が１１．５
Ｖであり、輝度２２５０ｃｄ／ｍ2の青色の発光が観測
された。なお、この素子は３カ月保存後においても明瞭
に発光が確認された。
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【００３３】応用例２
前記化合物Ｎｏ．１の代りに化合物Ｎｏ．２２する以外
は応用例１と同様にして電界発光素子を作製した。作製
した素子の陽極及び陰極にリード線を介して直流電源を
接続したところ、電流密度４６０ｍＡ／ｃｍ2において
印加電圧が１３Ｖであり、輝度２３００ｃｄ／ｍ2の青
色の発光が観察された。又、初期輝度１２５ｃｄ／
ｍ2、３０ｍＡ／ｃｍ2の定電流条件で連続駆動したとこ
ろ、輝度半減時間は１００時間以上であった。なお、こ
の素子は３ケ月保存後においても明瞭に発光が確認され
た。
は応用例１と同様にして電界発光素子を作製した。作製
した素子の陽極及び陰極にリード線を介して直流電源を
接続したところ、電流密度４６０ｍＡ／ｃｍ2において
印加電圧が１３Ｖであり、輝度２３００ｃｄ／ｍ2の青
色の発光が観察された。又、初期輝度１２５ｃｄ／
ｍ2、３０ｍＡ／ｃｍ2の定電流条件で連続駆動したとこ
ろ、輝度半減時間は１００時間以上であった。なお、こ
の素子は３ケ月保存後においても明瞭に発光が確認され
た。
【００３４】応用例３
前記化合物Ｎｏ．１の代わりに化合物Ｎｏ．２６を使用
する以外は応用例１と同様にして電界発光素子を作製し
た。作製した素子の陽極及び陰極にリード線を介して直
流電源を接続したところ印加電圧が１２Ｖで電流密度が
５００ｍＡ／ｃｍ2で輝度が２２００ｃｄ／ｍ2の青色発
光が観察された。なお、この素子は３カ月保存後におい
ても明瞭な発光が確認された。
する以外は応用例１と同様にして電界発光素子を作製し
た。作製した素子の陽極及び陰極にリード線を介して直
流電源を接続したところ印加電圧が１２Ｖで電流密度が
５００ｍＡ／ｃｍ2で輝度が２２００ｃｄ／ｍ2の青色発
光が観察された。なお、この素子は３カ月保存後におい
ても明瞭な発光が確認された。
【００３５】比較例
前記化合物Ｎｏ．１の代わりに下記化合物（XVIII）
（化１８）を用いた以外は応用例１と同様にＥＬ素子を
作製した。この素子に直流電圧を印加したところ、明瞭
な青緑色の発光が認められた。しかし、１ケ月保存後に
おいては、ＥＬ発光は認められなかった。
（化１８）を用いた以外は応用例１と同様にＥＬ素子を
作製した。この素子に直流電圧を印加したところ、明瞭
な青緑色の発光が認められた。しかし、１ケ月保存後に
おいては、ＥＬ発光は認められなかった。
【化１８】
【００３６】
【発明の効果】本発明のオキサジアゾール化合物は新規
化合物であって、蒸着等によって容易に均質な透明膜を
形成することができ、有機電界発光素子用の電子輸送材
料としての優れた機能も備えており、且つ経時での変質
が少ないので高信頼性有機電界発光用材料として有用で
ある。また、本発明により、該オキサジアゾール化合物
の有利な製造法を提供することができる。
化合物であって、蒸着等によって容易に均質な透明膜を
形成することができ、有機電界発光素子用の電子輸送材
料としての優れた機能も備えており、且つ経時での変質
が少ないので高信頼性有機電界発光用材料として有用で
ある。また、本発明により、該オキサジアゾール化合物
の有利な製造法を提供することができる。
【図１】本発明のオキサジアゾール化合物〔一般式
（Ｉ）においてＡ＝フェニル，Ｒ＝Ｈ〕の赤外線吸収ス
ペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
（Ｉ）においてＡ＝フェニル，Ｒ＝Ｈ〕の赤外線吸収ス
ペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図２】本発明のオキサジアゾール化合物〔一般式
（Ｉ）においてＡ＝１−ナフチル，Ｒ＝Ｈ〕の赤外線吸
収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
（Ｉ）においてＡ＝１−ナフチル，Ｒ＝Ｈ〕の赤外線吸
収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図３】本発明のオキサジアゾール化合物〔一般式
（Ｉ）においてＡ＝４−ビフェニルイル，Ｒ＝Ｈ〕の赤
外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
（Ｉ）においてＡ＝４−ビフェニルイル，Ｒ＝Ｈ〕の赤
外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
(Ｃ０７Ｄ 413/14 Ｃ０７Ｄ 271:10
271:10 333:10
333:10） Ｃ０７Ｄ 213:16
(Ｃ０７Ｄ 413/14 209:32
213:16 Ｃ０７Ｄ 215:04
271:10） 307:79
(Ｃ０７Ｄ 413/14
209:32
271:10）
(Ｃ０７Ｄ 413/14
215:04
271:10）
(Ｃ０７Ｄ 413/14
271:10
307:79）
(56)参考文献 特開 平４−363891（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07D 271/10
C07D 413/14
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）（化１）で表されるオ
キサジアゾール化合物。 【化１】 （式中、Ａは、各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっていても良い。又、Ｒは、水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、
置換もしくは無置換のアルコキシ基、ヒドロキシル基を
表し、それぞれ同じでも異なっていても良い。） - 【請求項２】 下記一般式（II）（化２） 【化２】 （式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ
基、ヒドロキシル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表
す。）で表される酸ハライド化合物を、下記一般式（II
I）（化３）あるいは一般式（IV）（化４） 【化３】 【化４】 （式中、Ａは、各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表す。)
で表されるテトラゾール化合物とを反応させて下記一般
式（Ｉ）（化１） 【化１】 （式中、Ａは、各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水
素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっていても良い。又、Ｒは、水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、
置換もしくは無置換のアルコキシ基、ヒドロキシル基を
表し、それぞれ同じでも異なっていても良い。）で表さ
れるオキサジアゾール化合物を製造することを特徴とす
るオキサジアゾール化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15807894A JP3518816B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | オキサジアゾール化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15807894A JP3518816B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | オキサジアゾール化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083150A JPH083150A (ja) | 1996-01-09 |
| JP3518816B2 true JP3518816B2 (ja) | 2004-04-12 |
Family
ID=15663822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15807894A Expired - Fee Related JP3518816B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | オキサジアゾール化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3518816B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4590678B2 (ja) * | 2000-04-05 | 2010-12-01 | 東レ株式会社 | 発光素子 |
| JP4610918B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2011-01-12 | 保土谷化学工業株式会社 | ピリジル基で置換されたオキサジアゾール環構造を有する化合物 |
| US7812341B2 (en) | 2004-03-25 | 2010-10-12 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Compound having oxadiazole ring structure substituted with pyridyl group, and organic electroluminescent device |
| JP4879734B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2012-02-22 | 保土谷化学工業株式会社 | ピリジル基で置換されたオキサジアゾール環構造を有する化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| TW200720263A (en) * | 2005-09-12 | 2007-06-01 | Hodogaya Chemical Co Ltd | Compound having aromatic heterocycle-connected oxadiazole ring structure and organic electroluminescence device |
| JP6432124B2 (ja) * | 2012-10-22 | 2018-12-05 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、電子デバイスおよび有機エレクトロルミネッセンス素子 |
-
1994
- 1994-06-16 JP JP15807894A patent/JP3518816B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH083150A (ja) | 1996-01-09 |
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