JP3502659B2 - マルチプリズムアレイの製造方法 - Google Patents
マルチプリズムアレイの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マルチストライプアレ
イ半導体レーザ光の形状を変換するマルチプリズムアレ
イの製造方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】比較的高出力が得られる半導体レーザ発
生素子として、マルチストライプアレイ半導体レーザが
知られている。これは１０〜１００本のストライプ状活
性層が半導体チップに刻まれており、１次元上に破線状
に配列した１０〜１００箇所の偏平な光源からレーザ光
が出射するようになっている。 【０００３】多数の偏平な光源から発せられた各ストラ
イプ光のビーム放射角は、活性層に対する垂直成分は約
４０度〜５０度と大きく、水平成分は約１０度と小さ
い。そして発光源の寸法は、垂直成分が０.１μｍ〜１
μｍであり、水平成分が１００μｍ〜２００μｍであ
る。このため、マルチストライプアレイ半導体レーザか
らの出射光をレンズを用いて集光して絞り込む場合、垂
直成分は容易に絞ることができるが、水平成分は光源の
全幅が広いために微小スポットに絞ることが困難であ
る。 【０００４】このため、各光源に対して１対１でマイク
ロレンズを対応させて配列し、各々のストライプ光を集
光してコリメートした後にレンズで絞ることが考えられ
るが、絞り込んだビームスポット径は、マイクロレンズ
〜ビームスポット間距離とストライプ〜マイクロレンズ
間距離との比で決まる倍率をストライプの幅に掛けたス
ポット径となる。従って、マイクロレンズは、光源から
なるべく離して配置した方が良いが、ストライプ光の垂
直成分の放射角が大きいことを考えると、これは困難で
ある。 【０００５】垂直成分と水平成分とを別々のレンズで集
光し、垂直成分集光用レンズは光源から至近距離に、水
平成分集光用レンズは光源から離間してそれぞれ配置す
ることも考えられるが、水平成分についても１０度とい
う放射角があるため、ある一定以上の距離をおくと隣同
士のストライプ光が重なり合うので、その距離には限度
がある。 【０００６】そこで、隣同士のストライプ光が互いに重
なり合わないようにするために、破線状に配列されたス
トライプ光を、各々見かけ上９０度回転させて梯子状の
配列に変換するとその取扱いが容易になる。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかるに、レーザ光学
系に用いられる光路変換器としては、レーザ光の進行方
向を変換するプリズムや、分光することが可能な分散プ
リズム等が知られているが、上記した偏平な光線の形状
を変換して９０度の回転を与えるプリズムを、マルチス
トライプアレイの多数の光源に対応させて製造すること
はきわめて困難であり、その製造方法の開発が望まれて
いた。 【０００８】本発明は、かかる状況に鑑みなされたもの
であり、その主な目的は、マルチストライプアレイ半導
体レーザから出射される発散角が大きい多数のビーム
を、通常のレンズ系を用いて一つのスポット状に絞り込
むことができるマルチプリズムアレイの製造方法を提供
することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】このような目的は、本発
明によれば、透光性材料にて３つの側面が研磨された正
三角柱を形成する工程と、該正三角柱の３つの側面のう
ちの一つに平行な平面に沿って該正三角柱を切断して台
形柱を形成する工程と、該台形柱の底面に垂直かつ該台
形柱の軸線と所定の角度をなす互いに平行な複数の平面
に沿って該台形柱を切断して複数のプリズム要素を形成
する工程と、該プリズム要素の底面に連なる２つの斜面
のうちの一方を同一平面内においた状態でこれら複数の
プリズム要素の上底の面と下底の面とを互いに重ね合わ
せて貼り合わせる工程と、前記複数のプリズム要素を貼
り合わせて形成されたプリズム要素列に於ける前記一方
の斜面および互いに平行に切断された一対の端面を一括
研磨する工程とを具備することを特徴とするマルチプリ
ズムアレイの製造方法を提供することによって達成され
る。 【００１０】 【作用】本発明によるマルチプリズムアレイの製造方法
によれば、予め均一な断面の角柱を作製し、これより複
数のプリズム要素を切り出し、これら複数のプリズム要
素を貼り合わせた後に一括して研磨することができる。
従って、１つ１つのプリズム要素の均一性が高められ、
きわめて高い精度のマルチプリズムアレイを製造するこ
とができる。 【００１１】 【実施例】以下に添付の図面に示された具体的な実施例
に基づいて本発明の構成について詳細の説明する。 【００１２】図１は、マルチプリズムアレイのプリズム
要素を切り出す素材となる正三角柱の正面図であり、図
２は、同底面図である。この正三角柱１は、例えば高屈
折率（ｎ＝１．７８）の光学ガラスなどの透光性材料を
研磨機を用いて研磨することにより、３つの側面２・３
・４を有する正三角形プリズムとして作製される。 【００１３】この正三角柱１の１つの頂部を、３つの側
面２・３・４のうちの一つの面２に平行な平面６から切
除することにより、図３および図４に示す台形柱５を作
製する。この台形柱５は、図４に示すように、正三角柱
１の一側面２が下底の面を、頂部を切除して現れた平面
６が上底の面を、元の正三角柱１の２つの側面３・４の
残りの部分が一対の斜面３ａ・４ａを構成する台形断面
になる。ここでこの台形柱を以下の工程で切断してでき
る斜辺の辺長とマルチストライプアレイ半導体レーザの
活性層の配列ピッチとが等しくなる寸法に、その高さｈ
を設定すると良い。 【００１４】次に、図５に示すようにして複数のプリズ
ム要素８を作製する。このプリズム要素８を作製するに
は、台形柱５の上底の面６および下底の面２のいずれに
も垂直であり、かつ台形柱５の中心軸線とのなす角θが
ｓｉｎ-1１／√３（約３５．２６度）の複数の平面９に
沿って台形柱５を切断する。なお、切り出しピッチＬ
は、次の工程で行う研磨代を加えた寸法としておく。 【００１５】 このようにして作製されたプリズム要素
８は、図６に示すように、後の工程での研磨後に半導体
レーザ光の入射面となる一方の切断面９ａ（Ａi〜Ａi+1
〜Ｅ i+1 〜Ｄ i）、第１全反射面となる一方の斜面４ａ
（Ｃi〜Ｄi〜Ｅi+1〜Ｆi+1）、第２全反射面となる下底
の面２（Ａi+1〜Ｂi+1〜Ｆi+1〜Ｅi+1）、後の工程での
研磨後に第３全反射面となる他方の斜面３ａ（Ｂi〜Ｂi
+1〜Ａi+1〜Ａi）、後の工程での研磨後に出射面となる
他方の切断面９ｂ（Ｂi〜Ｃi〜Ｆi+1〜Ｂi+1）、および
接着面となる上底の面６（Ｂi〜Ａi〜Ｄi〜Ｃi）で囲ま
れている。ここで台形柱５から複数のプリズム要素８を
切り出す角度θは均一なので、一対の切断面９ａ・９ｂ
は互いに平行となる。 【００１６】このプリズム要素８を複数個貼り合わせる
ことにより、図７に示すマルチプリズムアレイ１０の素
材としてのプリズム要素列が得られる。ここで本実施例
では、１０個のプリズム要素８の各２つの斜面３ａ・４
ａのうちの一方の斜面３ａを基準面となる同一平面上に
おいた状態で下底の面２と上底の面６とを互いに重ね合
わせ、かつ各切断面９ａ・９ｂを揃えて整列させ、重な
り合う面２・６同士間を接着剤を介して接着するものと
した。 【００１７】 このようにして、ｎ個（例えば１０個）
のプリズム要素８を接着一体化されたプリズム要素列の
基準面（一方の斜面）３ａの集合面Ｂ1〜Ｂ n+1〜Ａ n+1
〜Ａ1、一方の切断面９ａの集合面Ａ1〜Ａ n+1〜Ｅ n+1〜
Ｅ 2〜Ｄ1、および他方の切断面９ｂの集合面Ｂ1〜Ｂ n+1
〜Ｆ n+1〜Ｆ 2〜Ｃ1を一括研磨し、それぞれ第３全反射
面、入射面、および出射面を形成してマルチプリズムア
レイ１０を作製する。 【００１８】以上のようにして作製されたマルチプリズ
ムアレイ１０では、マルチストライプアレイ半導体の破
線状に並んだストライプ光が、対応するプリズム要素に
入射すると、図８に示すように、各プリズム要素８の入
射面９ａに入射した水平面に沿う光（ＰＱ）は、第１全
反射面４ａで全反射し（Ｐ'Ｑ'）、続いて第２全反射面
２（Ｐ''Ｑ''）および第３全反射面３ａ（Ｐ'''Ｑ'''）
で全反射を繰り返し、入射光線の偏平の向きが９０度だ
け回転した垂直面に沿う光（Ｐ''''Ｑ''''）となって出
射面９ｂから出射する。 【００１９】このようなマルチプリズムアレイ１０は、
例えば図９に示すレーザ集光器に用いることができる。
このレーザ集光器は、マルチストライプアレイ半導体レ
ーザ１１と、このマルチストライプアレイ半導体レーザ
１１から出射された水平方向に偏平なビーム断面を有す
るレーザ光の垂直方向の広がりを収束させる円柱レンズ
１２と、この円柱レンズ１２から出射された偏平なレー
ザ光の形状を変換して９０度の回転を与えるマルチプリ
ズムアレイ１０と、このマルチプリズムアレイ１０によ
って垂直方向に偏平な形状に変換されて出射されたレー
ザ光の垂直方向の広がりを収束させるシリンドリカルレ
ンズ１３と、このシリンドリカルレンズ１３から出射さ
れたレーザ光を集光するフォーカシングレンズ１４と、
導光用光ファイバ１５とを備えている。 【００２０】マルチプリズムアレイ１０を実際に使用す
るに当たっては、図１０〜図１２に示すように、マルチ
プリズムアレイ１０と同様な透光性材料からなる平面基
板１６に対し、マルチプリズムアレイ１０と半円柱レン
ズ１７とを一体的に固定したプリズムアレイ装置として
構成すると良い。このプリズムアレイ装置は、平面基板
１６にマルチプリズムアレイ１０の入射面を接着すると
共に、平面基板１６に固定されたスペーサ１８を介し、
マルチプリズムアレイ１０の出射面と平行に、かつ出射
面から一定距離離間して半円柱レンズ１７を取付けてな
っている。 【００２１】 【発明の効果】以上説明したように、本発明のマルチプ
リズムアレイの製造方法によれば、１つ１つのプリズム
要素の均一性を比較的容易に高めることができるため、
半導体レーザの活性層ストライプを一次元的に配列した
マルチストライプアレイ半導体レーザ光の形状を変換し
て９０度の回転を与えることにより、通常のレンズ系を
用いて複数ビームを高効率に一つのスポット状に絞り込
むことのできるマルチプリズムアレイを高精度に製造す
る上に、多大な効果を奏することができる。
イ半導体レーザ光の形状を変換するマルチプリズムアレ
イの製造方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】比較的高出力が得られる半導体レーザ発
生素子として、マルチストライプアレイ半導体レーザが
知られている。これは１０〜１００本のストライプ状活
性層が半導体チップに刻まれており、１次元上に破線状
に配列した１０〜１００箇所の偏平な光源からレーザ光
が出射するようになっている。 【０００３】多数の偏平な光源から発せられた各ストラ
イプ光のビーム放射角は、活性層に対する垂直成分は約
４０度〜５０度と大きく、水平成分は約１０度と小さ
い。そして発光源の寸法は、垂直成分が０.１μｍ〜１
μｍであり、水平成分が１００μｍ〜２００μｍであ
る。このため、マルチストライプアレイ半導体レーザか
らの出射光をレンズを用いて集光して絞り込む場合、垂
直成分は容易に絞ることができるが、水平成分は光源の
全幅が広いために微小スポットに絞ることが困難であ
る。 【０００４】このため、各光源に対して１対１でマイク
ロレンズを対応させて配列し、各々のストライプ光を集
光してコリメートした後にレンズで絞ることが考えられ
るが、絞り込んだビームスポット径は、マイクロレンズ
〜ビームスポット間距離とストライプ〜マイクロレンズ
間距離との比で決まる倍率をストライプの幅に掛けたス
ポット径となる。従って、マイクロレンズは、光源から
なるべく離して配置した方が良いが、ストライプ光の垂
直成分の放射角が大きいことを考えると、これは困難で
ある。 【０００５】垂直成分と水平成分とを別々のレンズで集
光し、垂直成分集光用レンズは光源から至近距離に、水
平成分集光用レンズは光源から離間してそれぞれ配置す
ることも考えられるが、水平成分についても１０度とい
う放射角があるため、ある一定以上の距離をおくと隣同
士のストライプ光が重なり合うので、その距離には限度
がある。 【０００６】そこで、隣同士のストライプ光が互いに重
なり合わないようにするために、破線状に配列されたス
トライプ光を、各々見かけ上９０度回転させて梯子状の
配列に変換するとその取扱いが容易になる。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかるに、レーザ光学
系に用いられる光路変換器としては、レーザ光の進行方
向を変換するプリズムや、分光することが可能な分散プ
リズム等が知られているが、上記した偏平な光線の形状
を変換して９０度の回転を与えるプリズムを、マルチス
トライプアレイの多数の光源に対応させて製造すること
はきわめて困難であり、その製造方法の開発が望まれて
いた。 【０００８】本発明は、かかる状況に鑑みなされたもの
であり、その主な目的は、マルチストライプアレイ半導
体レーザから出射される発散角が大きい多数のビーム
を、通常のレンズ系を用いて一つのスポット状に絞り込
むことができるマルチプリズムアレイの製造方法を提供
することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】このような目的は、本発
明によれば、透光性材料にて３つの側面が研磨された正
三角柱を形成する工程と、該正三角柱の３つの側面のう
ちの一つに平行な平面に沿って該正三角柱を切断して台
形柱を形成する工程と、該台形柱の底面に垂直かつ該台
形柱の軸線と所定の角度をなす互いに平行な複数の平面
に沿って該台形柱を切断して複数のプリズム要素を形成
する工程と、該プリズム要素の底面に連なる２つの斜面
のうちの一方を同一平面内においた状態でこれら複数の
プリズム要素の上底の面と下底の面とを互いに重ね合わ
せて貼り合わせる工程と、前記複数のプリズム要素を貼
り合わせて形成されたプリズム要素列に於ける前記一方
の斜面および互いに平行に切断された一対の端面を一括
研磨する工程とを具備することを特徴とするマルチプリ
ズムアレイの製造方法を提供することによって達成され
る。 【００１０】 【作用】本発明によるマルチプリズムアレイの製造方法
によれば、予め均一な断面の角柱を作製し、これより複
数のプリズム要素を切り出し、これら複数のプリズム要
素を貼り合わせた後に一括して研磨することができる。
従って、１つ１つのプリズム要素の均一性が高められ、
きわめて高い精度のマルチプリズムアレイを製造するこ
とができる。 【００１１】 【実施例】以下に添付の図面に示された具体的な実施例
に基づいて本発明の構成について詳細の説明する。 【００１２】図１は、マルチプリズムアレイのプリズム
要素を切り出す素材となる正三角柱の正面図であり、図
２は、同底面図である。この正三角柱１は、例えば高屈
折率（ｎ＝１．７８）の光学ガラスなどの透光性材料を
研磨機を用いて研磨することにより、３つの側面２・３
・４を有する正三角形プリズムとして作製される。 【００１３】この正三角柱１の１つの頂部を、３つの側
面２・３・４のうちの一つの面２に平行な平面６から切
除することにより、図３および図４に示す台形柱５を作
製する。この台形柱５は、図４に示すように、正三角柱
１の一側面２が下底の面を、頂部を切除して現れた平面
６が上底の面を、元の正三角柱１の２つの側面３・４の
残りの部分が一対の斜面３ａ・４ａを構成する台形断面
になる。ここでこの台形柱を以下の工程で切断してでき
る斜辺の辺長とマルチストライプアレイ半導体レーザの
活性層の配列ピッチとが等しくなる寸法に、その高さｈ
を設定すると良い。 【００１４】次に、図５に示すようにして複数のプリズ
ム要素８を作製する。このプリズム要素８を作製するに
は、台形柱５の上底の面６および下底の面２のいずれに
も垂直であり、かつ台形柱５の中心軸線とのなす角θが
ｓｉｎ-1１／√３（約３５．２６度）の複数の平面９に
沿って台形柱５を切断する。なお、切り出しピッチＬ
は、次の工程で行う研磨代を加えた寸法としておく。 【００１５】 このようにして作製されたプリズム要素
８は、図６に示すように、後の工程での研磨後に半導体
レーザ光の入射面となる一方の切断面９ａ（Ａi〜Ａi+1
〜Ｅ i+1 〜Ｄ i）、第１全反射面となる一方の斜面４ａ
（Ｃi〜Ｄi〜Ｅi+1〜Ｆi+1）、第２全反射面となる下底
の面２（Ａi+1〜Ｂi+1〜Ｆi+1〜Ｅi+1）、後の工程での
研磨後に第３全反射面となる他方の斜面３ａ（Ｂi〜Ｂi
+1〜Ａi+1〜Ａi）、後の工程での研磨後に出射面となる
他方の切断面９ｂ（Ｂi〜Ｃi〜Ｆi+1〜Ｂi+1）、および
接着面となる上底の面６（Ｂi〜Ａi〜Ｄi〜Ｃi）で囲ま
れている。ここで台形柱５から複数のプリズム要素８を
切り出す角度θは均一なので、一対の切断面９ａ・９ｂ
は互いに平行となる。 【００１６】このプリズム要素８を複数個貼り合わせる
ことにより、図７に示すマルチプリズムアレイ１０の素
材としてのプリズム要素列が得られる。ここで本実施例
では、１０個のプリズム要素８の各２つの斜面３ａ・４
ａのうちの一方の斜面３ａを基準面となる同一平面上に
おいた状態で下底の面２と上底の面６とを互いに重ね合
わせ、かつ各切断面９ａ・９ｂを揃えて整列させ、重な
り合う面２・６同士間を接着剤を介して接着するものと
した。 【００１７】 このようにして、ｎ個（例えば１０個）
のプリズム要素８を接着一体化されたプリズム要素列の
基準面（一方の斜面）３ａの集合面Ｂ1〜Ｂ n+1〜Ａ n+1
〜Ａ1、一方の切断面９ａの集合面Ａ1〜Ａ n+1〜Ｅ n+1〜
Ｅ 2〜Ｄ1、および他方の切断面９ｂの集合面Ｂ1〜Ｂ n+1
〜Ｆ n+1〜Ｆ 2〜Ｃ1を一括研磨し、それぞれ第３全反射
面、入射面、および出射面を形成してマルチプリズムア
レイ１０を作製する。 【００１８】以上のようにして作製されたマルチプリズ
ムアレイ１０では、マルチストライプアレイ半導体の破
線状に並んだストライプ光が、対応するプリズム要素に
入射すると、図８に示すように、各プリズム要素８の入
射面９ａに入射した水平面に沿う光（ＰＱ）は、第１全
反射面４ａで全反射し（Ｐ'Ｑ'）、続いて第２全反射面
２（Ｐ''Ｑ''）および第３全反射面３ａ（Ｐ'''Ｑ'''）
で全反射を繰り返し、入射光線の偏平の向きが９０度だ
け回転した垂直面に沿う光（Ｐ''''Ｑ''''）となって出
射面９ｂから出射する。 【００１９】このようなマルチプリズムアレイ１０は、
例えば図９に示すレーザ集光器に用いることができる。
このレーザ集光器は、マルチストライプアレイ半導体レ
ーザ１１と、このマルチストライプアレイ半導体レーザ
１１から出射された水平方向に偏平なビーム断面を有す
るレーザ光の垂直方向の広がりを収束させる円柱レンズ
１２と、この円柱レンズ１２から出射された偏平なレー
ザ光の形状を変換して９０度の回転を与えるマルチプリ
ズムアレイ１０と、このマルチプリズムアレイ１０によ
って垂直方向に偏平な形状に変換されて出射されたレー
ザ光の垂直方向の広がりを収束させるシリンドリカルレ
ンズ１３と、このシリンドリカルレンズ１３から出射さ
れたレーザ光を集光するフォーカシングレンズ１４と、
導光用光ファイバ１５とを備えている。 【００２０】マルチプリズムアレイ１０を実際に使用す
るに当たっては、図１０〜図１２に示すように、マルチ
プリズムアレイ１０と同様な透光性材料からなる平面基
板１６に対し、マルチプリズムアレイ１０と半円柱レン
ズ１７とを一体的に固定したプリズムアレイ装置として
構成すると良い。このプリズムアレイ装置は、平面基板
１６にマルチプリズムアレイ１０の入射面を接着すると
共に、平面基板１６に固定されたスペーサ１８を介し、
マルチプリズムアレイ１０の出射面と平行に、かつ出射
面から一定距離離間して半円柱レンズ１７を取付けてな
っている。 【００２１】 【発明の効果】以上説明したように、本発明のマルチプ
リズムアレイの製造方法によれば、１つ１つのプリズム
要素の均一性を比較的容易に高めることができるため、
半導体レーザの活性層ストライプを一次元的に配列した
マルチストライプアレイ半導体レーザ光の形状を変換し
て９０度の回転を与えることにより、通常のレンズ系を
用いて複数ビームを高効率に一つのスポット状に絞り込
むことのできるマルチプリズムアレイを高精度に製造す
る上に、多大な効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程を示す正三角柱の正面図。 【図２】図１と同じ工程を示す正三角柱の底面図。 【図３】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程を示す台形柱の正面図。 【図４】図３と同じ工程を示す台形柱の底面図。 【図５】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程である複数のプリズム要素を形成する工程を
示す工程図。 【図６】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程で作製されたプリズム要素の斜視図。 【図７】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程である複数のプリズム要素を貼り合わせる工
程を示すプリズム要素列の斜視図。 【図８】１つのプリズム要素について光路変換の様子を
示す斜視図。 【図９】本発明に基づいて製造されたマルチプリズムア
レイを用いた集光器の構成を示す模式的側面図。 【図１０】本発明に基づいて製造されたマルチプリズム
アレイと半円柱レンズとを平面基板に一体的に固定した
プリズムアレイ装置の正面図。 【図１１】図１０に示したプリズムアレイ装置の平面
図。 【図１２】図１０に示したプリズムアレイ装置の要部側
面図。 【符号の説明】 １ 正三角柱 ２〜４ 側面 ５ 台形柱 ６ 平面 ８ プリズム要素 ９ 切断面 １０ マルチプリズムアレイ １１ マルチストライプアレイ半導体レーザ １２ 円柱レンズ １３ シリンドリカルレンズ １４ フォーカシングレンズ １５ 光ファイバ １６ 平面基板 １７ 半円柱レンズ １８ スペーサ
法の一工程を示す正三角柱の正面図。 【図２】図１と同じ工程を示す正三角柱の底面図。 【図３】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程を示す台形柱の正面図。 【図４】図３と同じ工程を示す台形柱の底面図。 【図５】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程である複数のプリズム要素を形成する工程を
示す工程図。 【図６】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程で作製されたプリズム要素の斜視図。 【図７】本発明に基づくマルチプリズムアレイの製造方
法の一工程である複数のプリズム要素を貼り合わせる工
程を示すプリズム要素列の斜視図。 【図８】１つのプリズム要素について光路変換の様子を
示す斜視図。 【図９】本発明に基づいて製造されたマルチプリズムア
レイを用いた集光器の構成を示す模式的側面図。 【図１０】本発明に基づいて製造されたマルチプリズム
アレイと半円柱レンズとを平面基板に一体的に固定した
プリズムアレイ装置の正面図。 【図１１】図１０に示したプリズムアレイ装置の平面
図。 【図１２】図１０に示したプリズムアレイ装置の要部側
面図。 【符号の説明】 １ 正三角柱 ２〜４ 側面 ５ 台形柱 ６ 平面 ８ プリズム要素 ９ 切断面 １０ マルチプリズムアレイ １１ マルチストライプアレイ半導体レーザ １２ 円柱レンズ １３ シリンドリカルレンズ １４ フォーカシングレンズ １５ 光ファイバ １６ 平面基板 １７ 半円柱レンズ １８ スペーサ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平７−43508（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−154203（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−167502（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−66303（ＪＰ，Ａ)
特許3071360（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/04
G02B 27/00
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 透光性材料にて３つの側面が研磨された
正三角柱を形成する工程と、 該正三角柱の３つの側面のうちの一つに平行な平面に沿
って該正三角柱を切断して台形柱を形成する工程と、 該台形柱の底面に垂直かつ該台形柱の軸線と所定の角度
をなす互いに平行な複数の平面に沿って該台形柱を切断
して複数のプリズム要素を形成する工程と、 該プリズム要素の底面に連なる２つの斜面のうちの一方
を同一平面内においた状態でこれら複数のプリズム要素
の上底の面と下底の面とを互いに重ね合わせて貼り合わ
せる工程と、 前記複数のプリズム要素を貼り合わせて形成されたプリ
ズム要素列に於ける前記一方の斜面および互いに平行に
切断された一対の端面を一括研磨する工程とを具備する
ことを特徴とするマルチプリズムアレイの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9923294A JP3502659B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | マルチプリズムアレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP9923294A JP3502659B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | マルチプリズムアレイの製造方法 |
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