JP3499595B2 - ２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法 - Google Patents
２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP3499595B2 JP3499595B2 JP03313894A JP3313894A JP3499595B2 JP 3499595 B2 JP3499595 B2 JP 3499595B2 JP 03313894 A JP03313894 A JP 03313894A JP 3313894 A JP3313894 A JP 3313894A JP 3499595 B2 JP3499595 B2 JP 3499595B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- reaction
- group
- imidazole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、農薬又は医薬の活性成
分として有用なイミダゾール系化合物の製造方法に関
し、より詳しくは、その中間体である２−シアノイミダ
ゾール系化合物の製造方法に関する。
分として有用なイミダゾール系化合物の製造方法に関
し、より詳しくは、その中間体である２−シアノイミダ
ゾール系化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２−シアノイミダゾール系化合物の製造
方法に関して、特開平１−１３１１６３号公報に次の記
載がある。
方法に関して、特開平１−１３１１６３号公報に次の記
載がある。
【化４】
【化５】
しかし、これら記載において２−ジメトキシメチル基を
ＨＣｌで加水分解する点が本発明と異なる。また、特開
平２−１０８６７０号公報には次の記載がある。
ＨＣｌで加水分解する点が本発明と異なる。また、特開
平２−１０８６７０号公報には次の記載がある。
【化６】
【化７】
しかし、これら記載の出発原料が本発明と異なる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、２−シアノイミ
ダゾール系化合物を得る方法としては、前記特開平２−
１０８６７０号公報に記載の方法があった。しかしなが
ら、その出発原料である２位がホルミルの化合物を工業
的に製造するためには、ブチルリチウムのような高価な
試薬並びに極低温装置といった特殊な設備が必要であっ
た。
ダゾール系化合物を得る方法としては、前記特開平２−
１０８６７０号公報に記載の方法があった。しかしなが
ら、その出発原料である２位がホルミルの化合物を工業
的に製造するためには、ブチルリチウムのような高価な
試薬並びに極低温装置といった特殊な設備が必要であっ
た。
【０００４】一方、前記特開平１−１３１１６３号公報
に記載の方法によれば高価な試薬及び特殊な設備は不要
であるものの、出発原料をＨＣｌで加水分解する工程を
含むため、反応生成物を一旦単離、精製さらに乾燥しな
ければ脱水反応を行うことができないなど、反応操作が
煩雑であり、また反応工程が長くなるために全収率の低
下が避けられなかった。
に記載の方法によれば高価な試薬及び特殊な設備は不要
であるものの、出発原料をＨＣｌで加水分解する工程を
含むため、反応生成物を一旦単離、精製さらに乾燥しな
ければ脱水反応を行うことができないなど、反応操作が
煩雑であり、また反応工程が長くなるために全収率の低
下が避けられなかった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、２−シア
ノイミダゾール系化合物の工業的製造方法を確立すべく
鋭意研究を行った結果、これまでは出発原料として２−
ホルミルイミダゾール系化合物が用いられていたオキシ
ム化反応において、２−ジアルコキシメチルイミダゾー
ル系化合物を用いても反応が進行することを見出し、本
発明を完成した。
ノイミダゾール系化合物の工業的製造方法を確立すべく
鋭意研究を行った結果、これまでは出発原料として２−
ホルミルイミダゾール系化合物が用いられていたオキシ
ム化反応において、２−ジアルコキシメチルイミダゾー
ル系化合物を用いても反応が進行することを見出し、本
発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、式（Ｉ）
【化８】
（式中、Ｚは置換されてもよいフェニル基である）で表
わされる２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法で
あって、（１）溶媒の存在下に式（II）
わされる２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法で
あって、（１）溶媒の存在下に式（II）
【化９】
（式中、Ｒは低級アルキル基であり、Ｚは前述の通りで
ある）で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反
応させ、次いで（２）（１）で得られる生成物と脱水剤
とを反応させる、前記２−シアノイミダゾール系化合物
の製造方法に関する。
ある）で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反
応させ、次いで（２）（１）で得られる生成物と脱水剤
とを反応させる、前記２−シアノイミダゾール系化合物
の製造方法に関する。
【０００７】式（Ｉ）及び式（II）において、Ｚとして
の置換されてもよいフェニル基のその置換基は、反応に
悪影響を与えないものであればフェニル基に置換するこ
とができるいずれのものであってもよい。これらＺとし
ては、具体的には低級アルキル基で置換されたフェニル
基、トリフルオロメチル基で置換されたフェニル基、低
級アルコキシ基で置換されたフェニル基、低級アルキル
チオ基で置換されたフェニル基、置換フェニル基などが
含まれる。Ｒとしての低級アルキル基、又はこの明細書
で用いられるその他の低級アルキル基及び低級アルキル
部分は、炭素数１〜６のアルキルを意味する。これらＲ
としては、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルが挙げられ、それらは直鎖又は
枝分れ鎖のアルキルであってよく、なかでも、メチル、
エチルが望ましい。
の置換されてもよいフェニル基のその置換基は、反応に
悪影響を与えないものであればフェニル基に置換するこ
とができるいずれのものであってもよい。これらＺとし
ては、具体的には低級アルキル基で置換されたフェニル
基、トリフルオロメチル基で置換されたフェニル基、低
級アルコキシ基で置換されたフェニル基、低級アルキル
チオ基で置換されたフェニル基、置換フェニル基などが
含まれる。Ｒとしての低級アルキル基、又はこの明細書
で用いられるその他の低級アルキル基及び低級アルキル
部分は、炭素数１〜６のアルキルを意味する。これらＲ
としては、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルが挙げられ、それらは直鎖又は
枝分れ鎖のアルキルであってよく、なかでも、メチル、
エチルが望ましい。
【０００８】前記式（II）の化合物としては、具体的に
は次のものが挙げられる。 ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジメトキシメチル）−４（５）−（４−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３−トリフ
ルオロメチルフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−メトキ
シフェニル）イミダゾール ・２−（ジメトキシメチル）−４（５）−フェニルイミ
ダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３，４−ジ
メチルフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−エチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３−メトキ
シフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−イソプ
ロピルフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−メチル
チオフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（２−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジメトキシメチル）−４（５）−（４−エチル
フェニル）イミダゾール
は次のものが挙げられる。 ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジメトキシメチル）−４（５）−（４−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３−トリフ
ルオロメチルフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−メトキ
シフェニル）イミダゾール ・２−（ジメトキシメチル）−４（５）−フェニルイミ
ダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３，４−ジ
メチルフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−エチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（３−メトキ
シフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−イソプ
ロピルフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４−メチル
チオフェニル）イミダゾール ・２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（２−メチル
フェニル）イミダゾール ・２−（ジメトキシメチル）−４（５）−（４−エチル
フェニル）イミダゾール
【０００９】本発明の２−シアノイミダゾール系化合物
の製造方法は、前記式（II）の化合物を出発原料とし、
（１）オキシム化反応及び（２）脱水反応の２工程から
なる。
の製造方法は、前記式（II）の化合物を出発原料とし、
（１）オキシム化反応及び（２）脱水反応の２工程から
なる。
【００１０】オキシム化反応は、溶媒の存在下に式（I
I）の化合物とヒドロキシルアミンとを反応させる。こ
の反応に使用される溶媒としては、例えばメタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、モノ
グライム、ジグライム、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チレングリコール等のエーテル類、ジクロロエタン、ク
ロロホルム、テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、モノクロロベンゼン、ニトロベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、アセトニトリル
などのニトリル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ピリジンなどが挙げられ、なかでもジメチ
ルホルムアミドが好ましい。さらにはこれらから選択さ
れる溶媒を組合せた混合溶媒を使用してもよい。混合溶
媒を使用して二相反応を行う場合には、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアン
モニウムクロライドなどの相間移動触媒を使用すること
もできる。溶媒は式（II）の化合物に対して通常６倍容
量以上使用することが望ましく、６倍容量未満の場合で
あって使用量が少くなればなるほど収率の低下をまね
く。一方その上限は１０倍容量以下であることが望まし
い。１０倍容量を越える量の溶媒を使用しても極端な場
合を除いては、収率の低下をまねくわけではないが、利
点も認められない。ヒドロキシルアミンはそれ自体単独
で使用しても良いし、或はその塩酸塩、硫酸塩などの鉱
酸塩として使用しても良いが、その鉱酸塩を使用する方
が望ましい。その鉱酸塩を使用する場合には、反応系に
塩基を加えることが望ましい。塩基は鉱酸塩をヒドロキ
シルアミンに戻す能力のあるものであればいずれのもの
でもよい。塩基としては、具体的には無機塩基或は有機
塩基を使用することができ、例えば無機塩基としては炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水
素ナトリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の炭酸塩、及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム、水素化リチウムなどのアルカリ金属又
はアルカリ土類金属の水酸化物又は水素化物が挙げられ
る。有機塩基としては、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙
げられ、なかでも、ピリジンが好ましい。ヒドロキシル
アミンは式（II）の化合物に対して理論上は１当量消費
されるが、その損失などを考慮して通常１．２から１．
３当量使用されることが望ましい。また、塩基の使用量
はヒドロキシルアミンと同当量である。この反応の反応
温度は通常５０〜１５０℃、望ましくは７０〜９０℃で
あり、普通０．１〜２４時間で反応が終了する。この反
応により、式（III)
I）の化合物とヒドロキシルアミンとを反応させる。こ
の反応に使用される溶媒としては、例えばメタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、モノ
グライム、ジグライム、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チレングリコール等のエーテル類、ジクロロエタン、ク
ロロホルム、テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、モノクロロベンゼン、ニトロベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、アセトニトリル
などのニトリル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ピリジンなどが挙げられ、なかでもジメチ
ルホルムアミドが好ましい。さらにはこれらから選択さ
れる溶媒を組合せた混合溶媒を使用してもよい。混合溶
媒を使用して二相反応を行う場合には、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアン
モニウムクロライドなどの相間移動触媒を使用すること
もできる。溶媒は式（II）の化合物に対して通常６倍容
量以上使用することが望ましく、６倍容量未満の場合で
あって使用量が少くなればなるほど収率の低下をまね
く。一方その上限は１０倍容量以下であることが望まし
い。１０倍容量を越える量の溶媒を使用しても極端な場
合を除いては、収率の低下をまねくわけではないが、利
点も認められない。ヒドロキシルアミンはそれ自体単独
で使用しても良いし、或はその塩酸塩、硫酸塩などの鉱
酸塩として使用しても良いが、その鉱酸塩を使用する方
が望ましい。その鉱酸塩を使用する場合には、反応系に
塩基を加えることが望ましい。塩基は鉱酸塩をヒドロキ
シルアミンに戻す能力のあるものであればいずれのもの
でもよい。塩基としては、具体的には無機塩基或は有機
塩基を使用することができ、例えば無機塩基としては炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水
素ナトリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の炭酸塩、及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム、水素化リチウムなどのアルカリ金属又
はアルカリ土類金属の水酸化物又は水素化物が挙げられ
る。有機塩基としては、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙
げられ、なかでも、ピリジンが好ましい。ヒドロキシル
アミンは式（II）の化合物に対して理論上は１当量消費
されるが、その損失などを考慮して通常１．２から１．
３当量使用されることが望ましい。また、塩基の使用量
はヒドロキシルアミンと同当量である。この反応の反応
温度は通常５０〜１５０℃、望ましくは７０〜９０℃で
あり、普通０．１〜２４時間で反応が終了する。この反
応により、式（III)
【化１０】
（式中、Ｚは前述の通りである）で表わされる化合物が
生成する。
生成する。
【００１１】前記式（III)の化合物としては、具体的に
は次のものが挙げられる。 ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
メチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３−
トリフルオロメチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
メトキシフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−フェニ
ルイミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３−
メチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３，
４−ジメチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
エチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３−
メトキシフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
イソプロピルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
メチルチオフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（２−
メチルフェニル）イミダゾール
は次のものが挙げられる。 ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
メチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３−
トリフルオロメチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
メトキシフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−フェニ
ルイミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３−
メチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３，
４−ジメチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
エチルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（３−
メトキシフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
イソプロピルフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（４−
メチルチオフェニル）イミダゾール ・２−（ヒドロキシイミノメチル）−４（５）−（２−
メチルフェニル）イミダゾール
【００１２】脱水反応は、前記オキシム化反応で得られ
る生成物と脱水剤とを反応させる。前記オキシム化反応
で得られる生成物は、単離、精製された上で脱水反応に
供されてもよいが、この脱水反応は、前記オキシム化反
応の後生成物を単離、精製することなく、そのまま連続
して行うこともでき、そのような連続反応が有利な結果
をもたらすことが期待できる。脱水剤としては、例えば
無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、トリクロロアセトニト
リル、トリクロロアセチルクロライド、オキサリルクロ
ライド、塩化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、
五酸化リン、ホスホニトリリッククロライド、ホスゲン
（二量体）、シアヌルクロライド、四塩化チタン、ギ酸
などを使用することができ、なかでも、無水酢酸が好ま
しい。脱水剤は式（II）の化合物に対して通常１．５か
ら２．５当量、望ましくは１．５〜２当量使用する。こ
の反応の反応温度は通常５０〜１５０℃、望ましくは８
０〜１００℃であり、普通１〜２４時間で反応が終了す
る。反応終了後、通常の後処理操作、例えば反応混合物
を水中に投入し、析出した固体を濾取し、洗浄すること
により、高純度の式（Ｉ）で表わされる２−シアノイミ
ダゾール系化合物を取得することができる。
る生成物と脱水剤とを反応させる。前記オキシム化反応
で得られる生成物は、単離、精製された上で脱水反応に
供されてもよいが、この脱水反応は、前記オキシム化反
応の後生成物を単離、精製することなく、そのまま連続
して行うこともでき、そのような連続反応が有利な結果
をもたらすことが期待できる。脱水剤としては、例えば
無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、トリクロロアセトニト
リル、トリクロロアセチルクロライド、オキサリルクロ
ライド、塩化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、
五酸化リン、ホスホニトリリッククロライド、ホスゲン
（二量体）、シアヌルクロライド、四塩化チタン、ギ酸
などを使用することができ、なかでも、無水酢酸が好ま
しい。脱水剤は式（II）の化合物に対して通常１．５か
ら２．５当量、望ましくは１．５〜２当量使用する。こ
の反応の反応温度は通常５０〜１５０℃、望ましくは８
０〜１００℃であり、普通１〜２４時間で反応が終了す
る。反応終了後、通常の後処理操作、例えば反応混合物
を水中に投入し、析出した固体を濾取し、洗浄すること
により、高純度の式（Ｉ）で表わされる２−シアノイミ
ダゾール系化合物を取得することができる。
【００１３】なお、出発原料の式（II）で表わされる化
合物は、次の方法によって製造することができる。
合物は、次の方法によって製造することができる。
【化１１】
（式中、Ｚ及びＲは前述の通りであり、Ａは低級アルキ
ル基である）
ル基である）
【００１４】式（II）の鉱酸塩としては塩酸塩、硫酸塩
が含まれる。式（IV）の化合物と式（Ｖ）の化合物との
量比は化学量論的には１：１であるが、例えば公知の方
法により合成した式（Ｖ）の化合物を単離することなく
上記反応に用いるような場合には、式（Ｖ）の化合物は
式（IV）の化合物に対して１当量以上用いてもよい。
が含まれる。式（IV）の化合物と式（Ｖ）の化合物との
量比は化学量論的には１：１であるが、例えば公知の方
法により合成した式（Ｖ）の化合物を単離することなく
上記反応に用いるような場合には、式（Ｖ）の化合物は
式（IV）の化合物に対して１当量以上用いてもよい。
【００１５】上記反応は溶媒及び酸受容体の存在下に行
われる。酸受容体の使用量は式（IV）の化合物に対して
１当量以上であればよい。この反応の反応温度は通常２
０〜１５０℃、望ましくは５０〜１２０℃であり反応時
間は普通１〜２４時間である。上記式（II）で表わされ
る化合物の製造例を参考例として記載する。
われる。酸受容体の使用量は式（IV）の化合物に対して
１当量以上であればよい。この反応の反応温度は通常２
０〜１５０℃、望ましくは５０〜１２０℃であり反応時
間は普通１〜２４時間である。上記式（II）で表わされ
る化合物の製造例を参考例として記載する。
【００１６】参考例１ ２−（ジエトキシメチル）−４
（５）−（４−メチルフェニル）イミダゾールの合成 メタノール１２ｍｌに２８％ナトリウムメチラートメタ
ノール溶液０．７７ｇを加え、室温でジエトキシアセト
ニトリル２．５８ｇ（０．０２モル）を滴下した。滴下
終了後室温で１時間反応させてメチルジエトキシアセト
イミデートのメタノール溶液を得、これに、室温で４−
メチルフェナシルアミン塩酸塩１．８５ｇ（０．０１モ
ル）を少量ずつ加えた。次に２８％ナトリウムメチラー
トメタノール溶液１．９３ｇを滴下し、更にメタノール
１８ｍｌを加えた。反応混合物を室温で１時間反応させ
た後、加熱還流下２時間反応させた。反応終了後反応混
合物を冷却し、減圧下溶媒を留去した。残留物を塩化メ
チレンで抽出し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残留物をヘキサン洗浄し、固
体をろ取し、融点１０３〜１０５℃の目的物１．６５ｇ
（収率６４％）を得た。
（５）−（４−メチルフェニル）イミダゾールの合成 メタノール１２ｍｌに２８％ナトリウムメチラートメタ
ノール溶液０．７７ｇを加え、室温でジエトキシアセト
ニトリル２．５８ｇ（０．０２モル）を滴下した。滴下
終了後室温で１時間反応させてメチルジエトキシアセト
イミデートのメタノール溶液を得、これに、室温で４−
メチルフェナシルアミン塩酸塩１．８５ｇ（０．０１モ
ル）を少量ずつ加えた。次に２８％ナトリウムメチラー
トメタノール溶液１．９３ｇを滴下し、更にメタノール
１８ｍｌを加えた。反応混合物を室温で１時間反応させ
た後、加熱還流下２時間反応させた。反応終了後反応混
合物を冷却し、減圧下溶媒を留去した。残留物を塩化メ
チレンで抽出し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残留物をヘキサン洗浄し、固
体をろ取し、融点１０３〜１０５℃の目的物１．６５ｇ
（収率６４％）を得た。
【００１７】参考例２ ２−（ジメトキシメチル）−４
（５）−（４−メチルフェニル）イミダゾールの合成 原料のジエトキシアセトニトリル２．５８ｇの代わりに
ジメトキシアセトニトリル２．０２ｇ（０．０２モル）
を使用した以外は参考例１の場合と同様に反応、後処理
して、融点１２７〜１２９℃の目的物１．４２ｇ（収率
６１％）を得た。次に上記参考例によって得られる式
（II）で表わされる化合物を出発原料とする本発明の実
施例を記載するが、本発明はそれらのみに限定されるも
のではない。
（５）−（４−メチルフェニル）イミダゾールの合成 原料のジエトキシアセトニトリル２．５８ｇの代わりに
ジメトキシアセトニトリル２．０２ｇ（０．０２モル）
を使用した以外は参考例１の場合と同様に反応、後処理
して、融点１２７〜１２９℃の目的物１．４２ｇ（収率
６１％）を得た。次に上記参考例によって得られる式
（II）で表わされる化合物を出発原料とする本発明の実
施例を記載するが、本発明はそれらのみに限定されるも
のではない。
【００１８】
実施例１ ２−シアノ−４（５）−（４−メチルフェニ
ル）イミダゾールの製造２−（ジエトキシメチル）−４
（５）−（４−メチルフェニル）イミダゾール０．５ｇ
（０．００１９２ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド５ｍ
ｌに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．１６ｇ
（０．００２３ｍｏｌ）とピリジン０．１８３ｇ（０．
００２３ｍｏｌ）とを加え、８０℃で１時間反応させ
た。次いで無水酢酸０．３９３ｇ（０．００３８４ｍｏ
ｌ）を滴下し、滴下終了後９０℃で３時間反応させた。
反応終了後、室温まで冷却した反応物を水３０ｍｌに投
入し、析出した固体を濾取し、水及びヘキサンで洗浄
し、目的物０．３０６ｇ（０．００１６７ｍｏｌ，収率
８７％）を得た。
ル）イミダゾールの製造２−（ジエトキシメチル）−４
（５）−（４−メチルフェニル）イミダゾール０．５ｇ
（０．００１９２ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド５ｍ
ｌに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．１６ｇ
（０．００２３ｍｏｌ）とピリジン０．１８３ｇ（０．
００２３ｍｏｌ）とを加え、８０℃で１時間反応させ
た。次いで無水酢酸０．３９３ｇ（０．００３８４ｍｏ
ｌ）を滴下し、滴下終了後９０℃で３時間反応させた。
反応終了後、室温まで冷却した反応物を水３０ｍｌに投
入し、析出した固体を濾取し、水及びヘキサンで洗浄
し、目的物０．３０６ｇ（０．００１６７ｍｏｌ，収率
８７％）を得た。
【００１９】実施例２ ２−シアノ−４（５）−（４−
メチルフェニル）イミダゾールの製造 原料として２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４
−メチルフェニル）イミダゾール０．５ｇの代わりに、
２−（ジメトキシメチル）−４（５）−（４−メチルフ
ェニル）イミダゾール０．４４６ｇ（０．００１９２ｍ
ｏｌ）を使用した以外は実施例１の場合と同様にして反
応を行ない、後処理して、目的物０．２７ｇを得た。
メチルフェニル）イミダゾールの製造 原料として２−（ジエトキシメチル）−４（５）−（４
−メチルフェニル）イミダゾール０．５ｇの代わりに、
２−（ジメトキシメチル）−４（５）−（４−メチルフ
ェニル）イミダゾール０．４４６ｇ（０．００１９２ｍ
ｏｌ）を使用した以外は実施例１の場合と同様にして反
応を行ない、後処理して、目的物０．２７ｇを得た。
Claims (11)
- 【請求項１】式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｚは低級アルキル基、トリフルオロメチル基、
低級アルコキシ基若しくは低級アルキルチオ基により置
換されてもよいフェニル基である）で表わされる２−シ
アノイミダゾール系化合物の製造方法であって、（１）
溶媒の存在下に式（II） 【化２】 （式中、Ｒは低級アルキル基であり、Ｚは前述の通りで
ある）で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反
応させ、次いで（２）（１）で得られる生成物と脱水剤
とを反応させることを特徴とする、前記２−シアノイミ
ダゾール系化合物の製造方法。 - 【請求項２】 式（Ｉ）の化合物及び式（II）の化合物
中Ｚが低級アルキル基で置換されたフェニル基である、
請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】 溶媒がジメチルホルムアミドである請求
項１に記載の製造方法。 - 【請求項４】 ヒドロキシルアミンとしてその鉱酸塩を
使用し、かつ塩基を使用する請求項１に記載の製造方
法。 - 【請求項５】 塩基がピリジンである請求項４に記載の
製造方法。 - 【請求項６】 （１）の反応が、式（II）の化合物に対
して６から１０倍容量の溶媒の存在下に、式（II) の化
合物と、式（II）の化合物に対して１．２から１．３当
量のヒドロキシルアミン鉱酸塩及びその塩と同当量の塩
基とを、５０から１５０℃の温度範囲で混合することに
より達成される請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項７】 （１）で得られる生成物が式（III) 【化３】 （式中、Ｚは前述の通りである）で表わされる化合物で
ある請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項８】 脱水剤が無水酢酸である請求項１に記載
の製造方法。 - 【請求項９】 （２）の反応が、（１）の反応の後連続
して行われる請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項１０】 （２）の反応が、（１）で得られる生
成物と式（II）の化合物に対して１．５〜２．５当量の
無水酢酸とを、５０〜１５０℃の温度範囲で混合するこ
とにより達成される請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項１１】 溶媒の存在下に式（II） 【化４】 （式中、Ｒは低級アルキル基であり、Ｚは低級アルキル
基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基若しくは
低級アルキルチオ基により置換されてもよいフェニル基
である）で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを
反応させることを特徴とする式（III) 【化５】 （式中、Ｚは前述の通りである）で表わされる化合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03313894A JP3499595B2 (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | ２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03313894A JP3499595B2 (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | ２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07215946A JPH07215946A (ja) | 1995-08-15 |
| JP3499595B2 true JP3499595B2 (ja) | 2004-02-23 |
Family
ID=12378242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03313894A Expired - Fee Related JP3499595B2 (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | ２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3499595B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104292166B (zh) * | 2014-10-14 | 2016-04-27 | 西安近代化学研究所 | 4-氯-2-氰基-n,n-二甲基-5-对甲苯基咪唑-1-磺酰胺合成方法 |
| CN110981813A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-10 | 西安近代化学研究所 | 一种2-氰基-5-芳基-1h-咪唑类化合物的合成方法 |
| CN111100071A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-05-05 | 西安近代化学研究所 | 一种合成2-氰基-5-芳基-1h-咪唑类化合物的方法 |
-
1994
- 1994-02-04 JP JP03313894A patent/JP3499595B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07215946A (ja) | 1995-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0730031B2 (ja) | ２―ピラゾリン―５―オン類の製造法 | |
| JP3499595B2 (ja) | ２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法 | |
| JP2001518460A (ja) | 塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法 | |
| JPH05112526A (ja) | ３−置換４−シアノピロール化合物の製造法 | |
| JP4512100B2 (ja) | 置換ベンゾピラン化合物の製造方法 | |
| JP3810858B2 (ja) | ４−トリフルオロメチルニコチン酸の製造方法 | |
| JP3002791B2 (ja) | ベンジルフェニルケトン誘導体 | |
| US7385062B2 (en) | Process for the preparation of phenyltetrazole derivatives | |
| US5278312A (en) | Derivatives of benzeneborinic acid, preparation thereof and use thereof as synthetic intermediates | |
| JPS63303960A (ja) | 医・農薬中間原料の製造方法 | |
| EP0811612B1 (en) | Process for preparing dithiocarbonimide derivatives | |
| US4374067A (en) | Intermediates for the preparation of 4-phenyl-1,3-benzodiazepins and methods for preparing the intermediates | |
| HU207718B (en) | Process for producing 3,5,6-trichloropyridin-2-ol | |
| SK168996A3 (en) | Method for preparation o-chloromethylphenylglyoxylic acid derivatives | |
| KR100317832B1 (ko) | 4-할로-5-(히드록시메틸)이미다졸화합물의합성방법및신규이미다졸화합물 | |
| JP2005154420A (ja) | アルコキシ−５−（５−トリフルオロメチル−テトラゾール−１−イル）ベンズアルデヒドの製造方法 | |
| US4461728A (en) | Preparation of 4-phenyl-1,3-benzodiazepins | |
| JP4663105B2 (ja) | ２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体の製造方法 | |
| JP3855686B2 (ja) | ３，３−ジアルコキシ−２−ヒドロキシイミノ誘導体及びその製造法 | |
| JP2002512210A (ja) | ２−ヒドロキシアルキルハロフェノンの製造方法 | |
| JPH0657698B2 (ja) | ピラゾ−ルオキシム誘導体及びその製造方法 | |
| JP3961049B2 (ja) | ３−アミノ−４−（１−ヒドロキシアルキル）ピラゾリン化合物、その製造方法およびそれを使用した製造方法 | |
| CA1208233A (en) | Intermediates for the preparation of 4-phenyl-1,3- benzodiazepins and methods for preparing the intermediates | |
| JP2784920B2 (ja) | １，３−シクロヘキサンジオン誘導体 | |
| JP2762555B2 (ja) | １，４，５，６―テトラヒドロピリダジンの合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091205 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101205 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101205 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131205 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |