JP3495356B2 - 滅菌及びドライ洗浄装置 - Google Patents
滅菌及びドライ洗浄装置Info
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- JP3495356B2 JP3495356B2 JP2001359858A JP2001359858A JP3495356B2 JP 3495356 B2 JP3495356 B2 JP 3495356B2 JP 2001359858 A JP2001359858 A JP 2001359858A JP 2001359858 A JP2001359858 A JP 2001359858A JP 3495356 B2 JP3495356 B2 JP 3495356B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、電子産
業で使用される基板、あるいは、食品容器等に適する滅
菌及びドライ洗浄装置に関する。
業で使用される基板、あるいは、食品容器等に適する滅
菌及びドライ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、表面に付着した有機物等の汚れを
取除く手段として、例えば、オゾンと紫外線ランプを用
いる方法の特開平１１−９０３７０号公報や、オゾンに
水蒸気を混合する方法の特開平５−２５９１３９号公報
のものが知られている。
取除く手段として、例えば、オゾンと紫外線ランプを用
いる方法の特開平１１−９０３７０号公報や、オゾンに
水蒸気を混合する方法の特開平５−２５９１３９号公報
のものが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】オゾンと紫外線ランプ
を用いる手段、あるいは、オゾンに水蒸気を混合する手
段は、いずれも、オゾン自体の化学的反応を用いて滅菌
等の処理を行なうため、化学反応処理に時間がかかる不
具合があり、作業性を考えると作業能率の面で望ましく
ない。
を用いる手段、あるいは、オゾンに水蒸気を混合する手
段は、いずれも、オゾン自体の化学的反応を用いて滅菌
等の処理を行なうため、化学反応処理に時間がかかる不
具合があり、作業性を考えると作業能率の面で望ましく
ない。
【０００４】そこで、この発明は、迅速に滅菌と汚れ落
しが行なえるようにした滅菌及びドライ洗浄装置を提供
することを目的としている。
しが行なえるようにした滅菌及びドライ洗浄装置を提供
することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明の請求項１にあっては、被処理物が収容さ
れる処理室と、その処理室内に酸素、あるいは、酸素を
含む混合気体を放電励起し、プラズマを発生させるプラ
ズマ発生装置と、プラズマが発生する前記処理室内へ、
ガス状の水分子を噴射する水噴射装置と、紫外線を照射
する紫外線照射装置とを備えていることを特徴とする。
に、この発明の請求項１にあっては、被処理物が収容さ
れる処理室と、その処理室内に酸素、あるいは、酸素を
含む混合気体を放電励起し、プラズマを発生させるプラ
ズマ発生装置と、プラズマが発生する前記処理室内へ、
ガス状の水分子を噴射する水噴射装置と、紫外線を照射
する紫外線照射装置とを備えていることを特徴とする。
【０００６】これにより、ガス状の水分子は、プラズマ
によって水分解する時に、同時に紫外線の照射を受ける
ことで、ヒドロキシラジカル（ＯＨ）、パーオキシド
（Ｏ2Ｈ）、酸素原子（Ｏ）等の活性種が多量に発生す
るようになる。これら多量に発生したヒドロキシラジカ
ル、パーオキシド等は汚に対して直接作用し、有機汚染
物質を迅速に燃焼灰化除去する、と同時に滅菌状態が確
保されることで、例えば、滅菌された食品容器等が迅速
に得られるようになる。
によって水分解する時に、同時に紫外線の照射を受ける
ことで、ヒドロキシラジカル（ＯＨ）、パーオキシド
（Ｏ2Ｈ）、酸素原子（Ｏ）等の活性種が多量に発生す
るようになる。これら多量に発生したヒドロキシラジカ
ル、パーオキシド等は汚に対して直接作用し、有機汚染
物質を迅速に燃焼灰化除去する、と同時に滅菌状態が確
保されることで、例えば、滅菌された食品容器等が迅速
に得られるようになる。
【０００７】また、この発明の請求項２にあっては、一
方が陽極、他方が陰極となる放電電極を有するプラズマ
発生装置において、その放電電極の内、少なくともいず
れか一方の放電電極の表面を絶縁物あるいは誘電体で被
覆することを特徴とする。
方が陽極、他方が陰極となる放電電極を有するプラズマ
発生装置において、その放電電極の内、少なくともいず
れか一方の放電電極の表面を絶縁物あるいは誘電体で被
覆することを特徴とする。
【０００８】これにより、放電電極間の電子の移動によ
ってプラズマ放電が得られるようになる。この時、放電
電極は、絶縁物あるいは誘電体で被覆されることで、誘
電体バリア放電となり、被処理物等に損傷を与えるアー
ク放電の発生が抑えられ、安定したプラズマ放電が長期
間に亘って確保されるようになる。
ってプラズマ放電が得られるようになる。この時、放電
電極は、絶縁物あるいは誘電体で被覆されることで、誘
電体バリア放電となり、被処理物等に損傷を与えるアー
ク放電の発生が抑えられ、安定したプラズマ放電が長期
間に亘って確保されるようになる。
【０００９】また、この発明の請求項３にあっては、放
電電極の電源を、パルス電源とすることを特徴とする。
電電極の電源を、パルス電源とすることを特徴とする。
【００１０】これにより、放電電極には間欠的にパルス
電圧が印加されるようになるため、被処理物に損傷を与
えるアーク放電の発生が抑えられ、安定したプラズマ放
電が長期間に亘って確保されるようになる。
電圧が印加されるようになるため、被処理物に損傷を与
えるアーク放電の発生が抑えられ、安定したプラズマ放
電が長期間に亘って確保されるようになる。
【００１１】また、この発明の請求項４にあっては、紫
外線照射装置の紫外線の波長を、１５６ナノメートルか
ら２００ナノメートルの短波長成分と、２００ナノメー
トルから２５６ナノメートルの長波長成分の組合せとす
ることを特徴とする。
外線照射装置の紫外線の波長を、１５６ナノメートルか
ら２００ナノメートルの短波長成分と、２００ナノメー
トルから２５６ナノメートルの長波長成分の組合せとす
ることを特徴とする。
【００１２】これにより、プラズマの効果に加え、短波
長成分によるオゾンの生成と、長波長成分によるオゾン
からの酸素原子、水分子と酸素原子からのヒドロキシラ
ジカルおよび、パーオキシドが高効率で生成できるよう
になる。
長成分によるオゾンの生成と、長波長成分によるオゾン
からの酸素原子、水分子と酸素原子からのヒドロキシラ
ジカルおよび、パーオキシドが高効率で生成できるよう
になる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図１と図２の図面を参照し
ながらこの発明の実施の形態について具体的に説明す
る。
ながらこの発明の実施の形態について具体的に説明す
る。
【００１４】図１は滅菌及びドライ洗浄装置全体の概要
説明図を示している。滅菌及びドライ洗浄装置１は、例
えば、基板あるいは、食品容器等の被処理物３が収容さ
れる処理室５に、プラズマ発生装置７、水噴射装置９、
紫外線照射装置１１を備える構造となっている。
説明図を示している。滅菌及びドライ洗浄装置１は、例
えば、基板あるいは、食品容器等の被処理物３が収容さ
れる処理室５に、プラズマ発生装置７、水噴射装置９、
紫外線照射装置１１を備える構造となっている。
【００１５】処理室５は、透明な石英ガラス１３によっ
て内部が上下に仕切られ、上下に仕切られた下部の部屋
５ａには、一方に排気口１５が、他方に前記プラズマ発
生装置７が設けられると共に、図２に示すようにヒンジ
１９を支点として開閉扉１７を開けることで、被処理物
３の出し入れが可能となっている。下部の部屋５ａの内
部圧力勾配は、外の大気と開放する排気口１５側が低
く、プラズマ発生装置７側が高くなっていて、プラズマ
発生装置７から排気口１５へ向う流れが確保されてい
る。
て内部が上下に仕切られ、上下に仕切られた下部の部屋
５ａには、一方に排気口１５が、他方に前記プラズマ発
生装置７が設けられると共に、図２に示すようにヒンジ
１９を支点として開閉扉１７を開けることで、被処理物
３の出し入れが可能となっている。下部の部屋５ａの内
部圧力勾配は、外の大気と開放する排気口１５側が低
く、プラズマ発生装置７側が高くなっていて、プラズマ
発生装置７から排気口１５へ向う流れが確保されてい
る。
【００１６】プラズマ発生装置７は、大気圧でプラズマ
を発生させる大気圧プラズマ発生装置となっており、装
置本体２１内には、冷却用のフィン２２を有する一対の
対向し合う放電電極２３，２４と、酸素を含む混合気体
を前記放電電極２３，２４へ向け噴射するガス供給ノズ
ル部２５とを有している。
を発生させる大気圧プラズマ発生装置となっており、装
置本体２１内には、冷却用のフィン２２を有する一対の
対向し合う放電電極２３，２４と、酸素を含む混合気体
を前記放電電極２３，２４へ向け噴射するガス供給ノズ
ル部２５とを有している。
【００１７】一対の放電電極２３，２４は一方が陽極、
他方が陰極となっていて、陽極となる放電電極２４に
は、パルス電源２７によって間欠的にパルス電圧が印加
されるようになっている。
他方が陰極となっていて、陽極となる放電電極２４に
は、パルス電源２７によって間欠的にパルス電圧が印加
されるようになっている。
【００１８】パルス電源２７としては、±６ｋＶ〜±１
２ｋＶで、周波数が１２ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの交番電圧
とすることが望ましい。また、一対の放電電極２３，２
４の内、少なくともいずれか一方は、絶縁材又は誘電体
とで被覆され、間欠的なパルスのパルス電圧の印加と相
俟ってアーク放電の発生が抑えられるようになってい
る。
２ｋＶで、周波数が１２ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの交番電圧
とすることが望ましい。また、一対の放電電極２３，２
４の内、少なくともいずれか一方は、絶縁材又は誘電体
とで被覆され、間欠的なパルスのパルス電圧の印加と相
俟ってアーク放電の発生が抑えられるようになってい
る。
【００１９】ガス供給ノズル部２５は、酸素を供給する
酸素供給管２９とヘリウム、あるいはアルゴン等の不活
性ガスを供給する不活性ガス供給管３１とそれぞれ接続
している。酸素供給管２９からの酸素と不活性ガス供給
管３１からのヘリウム、又は、アルゴン等のガスはガス
供給ノズル部２５のガス供給管３３で一緒となり、一緒
となった混合気体はガス供給ノズル部２５へ向けて供給
されるようになっている。酸素と不活性ガスの混合比を
決定する酸素の供給量は、酸素供給管２９に設けられた
流量調整器３５及び開閉弁３７の制御によって、不活性
ガスの供給量は、不活性ガス供給管３１に設けられた流
量調整器３９及び開閉弁４１の制御によってそれぞれ行
なわれるようになっている。
酸素供給管２９とヘリウム、あるいはアルゴン等の不活
性ガスを供給する不活性ガス供給管３１とそれぞれ接続
している。酸素供給管２９からの酸素と不活性ガス供給
管３１からのヘリウム、又は、アルゴン等のガスはガス
供給ノズル部２５のガス供給管３３で一緒となり、一緒
となった混合気体はガス供給ノズル部２５へ向けて供給
されるようになっている。酸素と不活性ガスの混合比を
決定する酸素の供給量は、酸素供給管２９に設けられた
流量調整器３５及び開閉弁３７の制御によって、不活性
ガスの供給量は、不活性ガス供給管３１に設けられた流
量調整器３９及び開閉弁４１の制御によってそれぞれ行
なわれるようになっている。
【００２０】なお、ガス供給ノズル部２５には、必ずし
も混合気体が供給されなくてもよく、酸素だけであって
もよい。
も混合気体が供給されなくてもよく、酸素だけであって
もよい。
【００２１】水噴射装置９は、ガス状の水分子として下
部の部屋５ａへ噴射する水供給ノズル部４３を有してい
る。
部の部屋５ａへ噴射する水供給ノズル部４３を有してい
る。
【００２２】水供給ノズル部４３は、水蒸気発生装置４
５と接続し、水蒸気発生装置４５によって生成された水
蒸気が水供給ノズル部４３に供給されるようになってい
る。水蒸気発生装置４５は、開閉弁４７及び流量調整器
４９を介して純水が送り込まれるようになっている。
５と接続し、水蒸気発生装置４５によって生成された水
蒸気が水供給ノズル部４３に供給されるようになってい
る。水蒸気発生装置４５は、開閉弁４７及び流量調整器
４９を介して純水が送り込まれるようになっている。
【００２３】紫外線照射装置１１は、石英ガラス１３に
よって仕切られた上部の部屋５ｂに配置された紫外線ラ
ンプ５１から石英ガラス１３を介して下部の部屋５ａへ
向けて紫外線を照射するようになっている。
よって仕切られた上部の部屋５ｂに配置された紫外線ラ
ンプ５１から石英ガラス１３を介して下部の部屋５ａへ
向けて紫外線を照射するようになっている。
【００２４】紫外線の波長は、２００ナノメートルから
２５６ナノメートルの長波長成分のみを用いてもよい
が、１５６ナノメートルから２００ナノメートルの短波
長成分と、２００ナノメートルから２５６ナノメートル
の長波長成分とを組合わせた手段とすることが望まし
い。これにより、短波長成分によるオゾンの生成と、長
波長成分によるオゾンからの酸素原子及び水分子と酸素
原子からのヒドロキシラジカル及びパーオキシドの生成
が高効率で得られるようになる。
２５６ナノメートルの長波長成分のみを用いてもよい
が、１５６ナノメートルから２００ナノメートルの短波
長成分と、２００ナノメートルから２５６ナノメートル
の長波長成分とを組合わせた手段とすることが望まし
い。これにより、短波長成分によるオゾンの生成と、長
波長成分によるオゾンからの酸素原子及び水分子と酸素
原子からのヒドロキシラジカル及びパーオキシドの生成
が高効率で得られるようになる。
【００２５】紫外線ランプ５１の位置は、被処理物３へ
の悪影響とヒドロキシラジカルによる洗浄及び滅菌の効
果を総合的に判断し設定される。例えば、被処理物が金
属のような紫外線の影響を受けない材料の場合には、被
処理物の表面近傍でヒドロキシラジカルが発生するよう
紫外線ランプ５１の真上に設置する。一方、被処理物が
プラスチックの材料で何回も使用される場合には、紫外
線が被処理物に直接照射されない位置に設置される。
の悪影響とヒドロキシラジカルによる洗浄及び滅菌の効
果を総合的に判断し設定される。例えば、被処理物が金
属のような紫外線の影響を受けない材料の場合には、被
処理物の表面近傍でヒドロキシラジカルが発生するよう
紫外線ランプ５１の真上に設置する。一方、被処理物が
プラスチックの材料で何回も使用される場合には、紫外
線が被処理物に直接照射されない位置に設置される。
【００２６】このように構成された滅菌及びドライ洗浄
装置１によれば、一対の放電電極２３，２４によって酸
素を含む混合気体を放電励起し、プラズマを発生させ
る。
装置１によれば、一対の放電電極２３，２４によって酸
素を含む混合気体を放電励起し、プラズマを発生させ
る。
【００２７】この時、放電電極２３，２４は、間欠的に
印加される高周波のパルス電圧と、誘電体バリア放電と
によって、アーク放電が抑えられた安定したプラズマ放
電が得られるようになる。
印加される高周波のパルス電圧と、誘電体バリア放電と
によって、アーク放電が抑えられた安定したプラズマ放
電が得られるようになる。
【００２８】一方、水供給ノズル部４３から噴射された
ガス状の水分子は、放電電極２３，２４によって発生し
たプラズマに加えて紫外線ランプ５１からの紫外線を受
けるようになる。
ガス状の水分子は、放電電極２３，２４によって発生し
たプラズマに加えて紫外線ランプ５１からの紫外線を受
けるようになる。
【００２９】この時の紫外線の照射エネルギーは、短波
長成分と長波長成分の組合せとなることで、短波長成分
によるオゾンの生成と、長波長成分によるオゾンからの
酸素原子（Ｏ）と酸素原子と水分子からの、ヒドロキシ
ラジカル（ＯＨ），パーオキシド（Ｏ2 Ｈ）の活性種が
高効率に多量に発生するようになる。
長成分と長波長成分の組合せとなることで、短波長成分
によるオゾンの生成と、長波長成分によるオゾンからの
酸素原子（Ｏ）と酸素原子と水分子からの、ヒドロキシ
ラジカル（ＯＨ），パーオキシド（Ｏ2 Ｈ）の活性種が
高効率に多量に発生するようになる。
【００３０】これは、プラズマ単独に比べてプラズマに
紫外線がプラスされることで、相乗効果が生まれたもの
と考えられる。
紫外線がプラスされることで、相乗効果が生まれたもの
と考えられる。
【００３１】多量に発生したヒドロキシラジカル、パー
オキシド、酸素原子は、被処理物３の表面に付着した汚
れに対して直接作用し、その有機汚染物質を迅速に燃焼
灰化除去する。と同時に滅菌状態が確保される。
オキシド、酸素原子は、被処理物３の表面に付着した汚
れに対して直接作用し、その有機汚染物質を迅速に燃焼
灰化除去する。と同時に滅菌状態が確保される。
【００３２】したがって、被処理物が電子部品等の基板
であれば、表面の汚れは短時間で汚れが落とせるように
なる。また、食品容器であれば、短時間で汚れが除去さ
れた滅菌状態が得られるようになり、作業能率が大幅に
向上する。
であれば、表面の汚れは短時間で汚れが落とせるように
なる。また、食品容器であれば、短時間で汚れが除去さ
れた滅菌状態が得られるようになり、作業能率が大幅に
向上する。
【００３３】
【発明の効果】以上、説明したようにこの発明の請求項
１によれば、プラズマに、紫外線をプラスさせること
で、滅菌作用と汚れを落とすヒドロキシラジカル、パー
オキシド、酸素原子等を多量に発生させることができる
ようになる。この結果、汚れが除去され滅菌された被処
理物が短時間で得られるようになり、作業能率の大幅な
向上を図ることができる。
１によれば、プラズマに、紫外線をプラスさせること
で、滅菌作用と汚れを落とすヒドロキシラジカル、パー
オキシド、酸素原子等を多量に発生させることができる
ようになる。この結果、汚れが除去され滅菌された被処
理物が短時間で得られるようになり、作業能率の大幅な
向上を図ることができる。
【００３４】また、この発明の請求項２によれば、アー
ク放電の発生が抑えられ安定したプラズマの発生が長期
間に亘って確保することができる。
ク放電の発生が抑えられ安定したプラズマの発生が長期
間に亘って確保することができる。
【００３５】また、この発明の請求項３によれば、間欠
的に印加されるパルス電圧によってアーク放電が抑えら
れ、安定したプラズマの発生が長期間にわたって確保す
ることができる。
的に印加されるパルス電圧によってアーク放電が抑えら
れ、安定したプラズマの発生が長期間にわたって確保す
ることができる。
【００３６】また、この発明の請求項４によれば、短波
長成分と長波長成分の組合せによる照射エネルギーによ
って、高効率で多量のヒドロキシラジカル、パーオキシ
ド、酸素原子等を発生させることができる。
長成分と長波長成分の組合せによる照射エネルギーによ
って、高効率で多量のヒドロキシラジカル、パーオキシ
ド、酸素原子等を発生させることができる。
【図１】この発明にかかる滅菌及びドライ洗浄装置全体
の概要説明図。
の概要説明図。
【図２】処理室の概要平面図。
３…被処理物
５…処理室
７…プラズマ発生装置
９…水噴射装置
１１…紫外線照射装置
２３，２４…放電電極
２７…パルス電源
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｎ
(72)発明者 秋津 哲也
山梨県甲府市北新１丁目２の６ 北新第
３住宅104号
(72)発明者 藤井 啓次
千葉県四街道市つくし座１丁目16番７号
(56)参考文献 特開 平５−29285（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−11629（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−72519（ＪＰ，Ａ)
特開2000−58292（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−299287（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B08B 7/00
A61L 2/10
A61L 2/14
B01J 19/08
B01J 19/12
H01L 21/3065
Claims (4)
- 【請求項１】 被処理物が収容される処理室と、その処
理室内に酸素、あるいは、酸素を含む混合気体を放電励
起し、プラズマを発生させるプラズマ発生装置と、プラ
ズマが発生する前記処理室内へ、ガス状の水分子を噴射
する水噴射装置と、紫外線を照射する紫外線照射装置と
を備えていることを特徴とする滅菌及びドライ洗浄装
置。 - 【請求項２】 プラズマ発生装置は、一方が陽極、他方
が陰極となる放電電極を有し、その放電電極の内、少な
くともいずれか一方の放電電極の表面が絶縁物あるいは
誘電体で被覆されていることを特徴とする請求項１記載
の滅菌及びドライ洗浄装置。 - 【請求項３】 放電電極の電源は、パルス電源となって
いることを特徴とする請求項２記載の滅菌及びドライ洗
浄装置。 - 【請求項４】 紫外線照射装置の紫外線の波長は、１５
６ナノメートルから２００ナノメートルの短波長成分
と、２００ナノメートルから２５６ナノメートルの長波
長成分の組合せから成ることを特徴とする請求項１記載
の滅菌の及びドライ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001359858A JP3495356B2 (ja) | 2001-11-26 | 2001-11-26 | 滅菌及びドライ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001359858A JP3495356B2 (ja) | 2001-11-26 | 2001-11-26 | 滅菌及びドライ洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003159570A JP2003159570A (ja) | 2003-06-03 |
| JP3495356B2 true JP3495356B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=19170779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001359858A Expired - Fee Related JP3495356B2 (ja) | 2001-11-26 | 2001-11-26 | 滅菌及びドライ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3495356B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
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|---|---|---|---|---|
| WO2005094907A1 (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Yuyama Mfg. Co., Ltd. | 滅菌方法及び装置 |
| EP1941912A4 (en) * | 2005-10-25 | 2009-08-05 | Ngk Insulators Ltd | STERILIZATION DEVICE |
| JP5170509B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2013-03-27 | 勝 堀 | 殺虫殺菌方法及び殺虫殺菌装置 |
| CN101156955B (zh) * | 2007-11-21 | 2010-05-19 | 中山大学 | 非平衡等离子体式喷雾杀菌消毒剂发生装置 |
| DE102008037898B4 (de) | 2008-02-13 | 2022-06-02 | The Coca-Cola Co. | Verfahren und Vorrichtung zur Sterilisation von Verpackungsmaterial und/oder Behältern, diesbezügliche Verwendung von Plasma sowie entsprechend behandeltes Material oder Behälter |
| JP6661534B2 (ja) * | 2014-06-27 | 2020-03-11 | 国立大学法人九州工業大学 | 相界面反応を用いた反応生成物製造方法及び相界面反応装置、ならびに二次反応生成物製造方法 |
| FR3024057B1 (fr) * | 2014-07-24 | 2016-08-26 | Adixen Vacuum Products | Procede et station de traitement d'une boite de transport en materiau plastique pour le convoyage et le stockage atmospherique de substrats |
| CA2970350C (en) * | 2014-12-22 | 2023-07-25 | Ivy Creative Labs, Inc. | Plasma treatment device and method of treating items |
| US20210338860A1 (en) | 2020-05-01 | 2021-11-04 | Uv Innovators, Llc | Ultraviolet (uv) light emission device employing visible light for operation guidance, and related methods of use, particularly suited for decontamination |
-
2001
- 2001-11-26 JP JP2001359858A patent/JP3495356B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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