JP3490951B2 - Magnetic head for magneto-optical disk and magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the same - Google Patents
Magnetic head for magneto-optical disk and magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the sameInfo
- Publication number
- JP3490951B2 JP3490951B2 JP2000075562A JP2000075562A JP3490951B2 JP 3490951 B2 JP3490951 B2 JP 3490951B2 JP 2000075562 A JP2000075562 A JP 2000075562A JP 2000075562 A JP2000075562 A JP 2000075562A JP 3490951 B2 JP3490951 B2 JP 3490951B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- coil
- magneto
- inner diameter
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッド、特に光
磁気ディスク用の磁気ヘッドに生じる光学的変質の改善
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvement of optical deterioration caused in a magnetic head, and more particularly in a magnetic head for a magneto-optical disk.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、コイルを備え、光磁気ディス
クにレーザ光を照射して加熱し、加熱した領域に外部磁
界を印加して情報を記録する磁気ヘッドが知られてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a magnetic head having a coil for irradiating a magneto-optical disk with laser light to heat it and applying an external magnetic field to the heated area to record information.
【０００３】図１０には、従来の光磁気ディスク用磁気
ヘッドの断面図が示されている。ガラス基板１０上に２
層のコイル１２、１６が形成され、これらのコイル１
２、１６はそれぞれレジスト１４、１８で絶縁される。
そして、コイル１２、１６を覆うようにアルミナ保護層
２０が形成される。アルミナ保護層２０表面は研磨及び
機械加工されてエアベアリング面として機能する。コイ
ル１２及び１６の中心は一致し、レーザ光はその中央開
口部を通過して光磁気ディスクに照射される。FIG. 10 shows a sectional view of a conventional magnetic head for a magneto-optical disk. 2 on the glass substrate 10
Layer coils 12, 16 are formed, these coils 1
2 and 16 are insulated by resists 14 and 18, respectively.
Then, the alumina protective layer 20 is formed so as to cover the coils 12 and 16. The surface of the alumina protective layer 20 is polished and machined to function as an air bearing surface. The centers of the coils 12 and 16 coincide with each other, and the laser light passes through the central opening of the coils and is applied to the magneto-optical disk.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、２層コ
イル構造を用いる場合、基板１０と２層コイル面との間
に大きな段差が生じるため、２層コイルを覆うアルミナ
保護層２０にも段差が生じる。このため、アルミナ保護
層２０と基板１０とのなす角θが急峻となってレーザ光
が通過する中央開口部付近のアルミナ保護層２０にクラ
ック２２が生じ易く、また光学的に変質し易い問題があ
った。もちろん、２層コイル構造だけでなく、単層コイ
ル構造とした場合でも、単にコイルを覆うようにアルミ
ナ保護層を形成するのでは中央開口部においてアルミナ
保護層に急峻な段差が生じ、同様の問題が生じ得る。そ
こで、従来においては、アルミナ保護層２０のクラック
や光学的変質を避けるようにコイルの口径を大きくして
レーザ光を通過させる必要があり、コイル口径の増大に
伴って磁界発生効率が低下する問題があった。However, when the two-layer coil structure is used, a large step is generated between the substrate 10 and the two-layer coil surface, so that the alumina protective layer 20 covering the two-layer coil also has a step. . For this reason, the angle θ formed by the alumina protective layer 20 and the substrate 10 becomes steep, so that a crack 22 is likely to occur in the alumina protective layer 20 near the central opening through which the laser light passes, and optical deterioration is likely to occur. there were. Of course, not only in the two-layer coil structure but also in the single-layer coil structure, if the alumina protective layer is simply formed so as to cover the coil, a steep step will occur in the alumina protective layer in the central opening, and the same problem will occur. Can occur. Therefore, conventionally, it is necessary to increase the diameter of the coil to pass the laser beam so as to avoid cracks and optical deterioration of the alumina protective layer 20, and the magnetic field generation efficiency decreases as the diameter of the coil increases. was there.
【０００５】本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑
みなされたものであり、その目的は、コイルの保護層に
生じるクラックや光学的変質を抑制し、これにより従来
よりも小口径のコイルを作成することができ、もって磁
界発生効率を向上させて効率的に情報を記録することが
できる光磁気ディスク用磁気ヘッド及びこれを備えた光
磁気ディスク記録再生装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object thereof is to suppress cracks and optical deterioration that occur in the protective layer of the coil, thereby making it possible to realize a coil having a smaller diameter than the conventional one. It is an object of the present invention to provide a magnetic head for a magneto-optical disk, which can be created, thereby improving the magnetic field generation efficiency and efficiently recording information, and a magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the same.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光磁気ディスク用磁気ヘッドであって、
基板と、前記基板上に設けられ、内径部の厚さが外径部
の厚さよりも小さいコイルと、前記基板上に設けられた
コイルを覆うように形成されたレジスト層と、前記レジ
スト層上に積層される保護層とを有することを特徴とす
る。コイルの内径部の厚さを外径部より小さくすること
で、コイル上に形成される保護層のコイルに接する面に
はコイル内径にいくに従って徐々に基板面に近づくよう
な傾斜が形成される。したがって、コイル中心開口にお
いて保護層が基板面と接触する角度は、コイルの厚さが
径によらず一定で保護層が急峻にコイル中心開口におい
て基板面と接触する場合に比べて小さくなり、保護層と
基板との急峻な界面において生じ易いクラックなどを抑
制することができる。また、クラックや光学的変質部位
を避けてレーザ光を入射させる必要がなくなり、コイル
内径を小さくして効率的に光磁気ディスクに磁界を印加
することができる。なお、コイルの厚さは、外径から内
径に向かって徐々に（連続的に）小さくしてもよく、コ
イル層の厚さを小さくするとコイル抵抗値が増大するこ
とに鑑みて厚みを小さくする内径のコイルを１ピッチ分
あるいは数ピッチ分に限定し、不連続的に厚さを変化さ
せてもよい。In order to achieve the above object, the present invention provides a magnetic head for a magneto-optical disk,
A substrate, a coil provided on the substrate and having an inner diameter portion smaller than an outer diameter portion, and the coil provided on the substrate.
And a resist layer formed to cover the coil, the cashier
A protective layer laminated on the strike layer . By making the inner diameter portion of the coil smaller than the outer diameter portion, the surface of the protective layer formed on the coil in contact with the coil is inclined so that it gradually approaches the substrate surface as the inner diameter of the coil increases. . Therefore, the angle at which the protective layer contacts the substrate surface at the coil center opening becomes smaller than that when the coil thickness is constant regardless of the diameter and the protective layer steeply contacts the substrate surface at the coil center opening. It is possible to suppress cracks that are likely to occur at a steep interface between the layer and the substrate. Further, it is not necessary to enter the laser beam while avoiding a crack or an optically altered portion, and it is possible to efficiently apply a magnetic field to the magneto-optical disk by reducing the inner diameter of the coil. The thickness of the coil may be gradually (continuously) reduced from the outer diameter to the inner diameter, and the thickness is reduced in view of the fact that the coil resistance value increases when the thickness of the coil layer is reduced. The inner diameter coil may be limited to one pitch or several pitches, and the thickness may be changed discontinuously.
【０００７】ここで、前記コイルは、その中心が互いに
一致する第１層コイル及び第２層コイルの２層構造を有
することが好適である。２層構造は比較的容易に製造で
き、２層とすることでコイル巻数を増やし発生磁界を増
大させることができる。なお、第１層コイルと第２層コ
イルの巻数は同数でもよいが、第２層コイルの巻数を第
１層コイルの巻数より少なくすることもできる。Here, it is preferable that the coil has a two-layer structure of a first layer coil and a second layer coil whose centers coincide with each other. The two-layer structure can be manufactured relatively easily, and the number of coil turns can be increased and the generated magnetic field can be increased by using two layers. The number of turns of the first layer coil and the number of turns of the second layer coil may be the same, but the number of turns of the second layer coil may be smaller than that of the first layer coil.
【０００８】コイルを第１層及び第２層からなる２層構
造とした場合、第２層コイルは内径部の幅が外径部の幅
よりも狭くすることが好適である。第１層コイルと第２
層コイルの幅を同一とすると、積層される第１層コイル
と第２層コイルの最内径が基板の鉛直方向に対してほぼ
等しい位置となって第１層と第２層の層厚が加算され２
層分の段差を生じてしまうが、第２層コイルの内径部の
幅を狭くすることで、第２層コイルの最内径部を第１層
コイルの最内径部よりも外側に位置させ、すなわち第２
層コイルの最内径を第１層コイルの最内径より大きくし
て階段状の段差を形成し、これにより第２層コイル上に
形成される保護層の基板面に対する接触角を小さくする
ことができる。なお、第２層コイルの幅は、外径から内
径に向かって徐々に狭くしてもよく、コイル中心開口に
おける急峻な段差を緩和し、かつコイル抵抗値を低減さ
せる観点から内径の１ピッチあるいは数ピッチ分だけ幅
を狭くしてもよい。When the coil has a two-layer structure consisting of the first layer and the second layer, it is preferable that the width of the inner diameter portion of the second layer coil is narrower than the width of the outer diameter portion. First layer coil and second layer
If the widths of the layer coils are the same, the innermost diameters of the first layer coil and the second layer coil to be laminated are at positions substantially equal to the vertical direction of the substrate, and the layer thicknesses of the first layer and the second layer are added. Done 2
Although a level difference is generated, by narrowing the width of the inner diameter portion of the second layer coil, the innermost diameter portion of the second layer coil is positioned outside the innermost diameter portion of the first layer coil, that is, Second
The innermost diameter of the layer coil is made larger than the innermost diameter of the first layer coil to form a step-like step, whereby the contact angle of the protective layer formed on the second layer coil with respect to the substrate surface can be reduced. . The width of the second layer coil may be gradually narrowed from the outer diameter to the inner diameter. From the viewpoint of alleviating a steep step in the coil center opening and reducing the coil resistance value, one pitch of the inner diameter or The width may be narrowed by several pitches.
【０００９】また、前記第１層コイルと第２層コイルと
の間に第２保護層を設けることも好適である。第２保護
層により、第１層コイルの段差を緩和し（ステップカバ
レージ）、保護層と基板面との接触角を一層小さくする
ことができる。なお、第２保護層と基板面との接触角自
体も、第１層コイルの内径部の厚さが外径部より小さく
設定されているため小さくなる。第２保護層は、第１層
コイルと第２層コイルとの間に介在すればよく、コイル
を保護する機能を有する保護層に比べて薄く設定でき
る。したがって、ステップカバレージを考慮した成膜速
度、すなわち十分小さい成膜速度での成膜も可能とな
り、基板と第１層コイル間の段差を効果的に緩和でき
る。第２保護層はコイルを保護する保護層と同一材質で
形成する必要は必ずしもないが、コイル中心開口におけ
る第２保護層と保護層との界面での光学特性変化を防止
するために、同一材質で形成することが好適である。It is also preferable to provide a second protective layer between the first layer coil and the second layer coil. The second protective layer can reduce the step difference of the first layer coil (step coverage) and further reduce the contact angle between the protective layer and the substrate surface. The contact angle itself between the second protective layer and the substrate surface is also small because the thickness of the inner diameter portion of the first layer coil is set smaller than the outer diameter portion. The second protective layer may be interposed between the first layer coil and the second layer coil and can be set thinner than the protective layer having a function of protecting the coil. Therefore, it is possible to form a film at a film formation speed that takes into consideration the step coverage, that is, at a sufficiently small film formation speed, and it is possible to effectively mitigate the step difference between the substrate and the first layer coil. The second protective layer does not necessarily have to be formed of the same material as the protective layer for protecting the coil, but in order to prevent a change in optical characteristics at the interface between the second protective layer and the protective layer in the coil center opening, the same material is used. It is suitable to form.
【００１０】本発明の光磁気ディスク用磁気ヘッドは光
磁気ディスク記録再生装置に組み込むことができる。こ
の場合、コイル中心開口には基板及び保護層（あるいは
第２保護層）が存在し、基板及び保護層をレーザ光の波
長にとり透明な材質、例えばガラスやアルミ酸化物で構
成することで、光磁気ディスクに対して前記磁気ヘッド
と同一の側に配置された光ヘッドからコイル中心開口を
通過してレーザ光を照射することができる。The magnetic head for a magneto-optical disk of the present invention can be incorporated in a magneto-optical disk recording / reproducing apparatus. In this case, the substrate and the protective layer (or the second protective layer) are present in the coil center opening, and the substrate and the protective layer are made of a transparent material such as glass or aluminum oxide depending on the wavelength of the laser light, and It is possible to irradiate a laser beam from an optical head disposed on the same side as the magnetic head with respect to the magnetic disk, passing through the coil center opening.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の実施
形態について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１２】図１には、本実施形態に係る磁気ヘッドの
断面図が示されている。基本構造は、図１０に示された
従来技術と同様の２層コイルを有する構造である。FIG. 1 is a sectional view of the magnetic head according to this embodiment. The basic structure is a structure having a two-layer coil similar to the conventional technique shown in FIG.
【００１３】図１において、ガラス基板１０上に第１層
コイル１２が形成され、さらに第１層コイル１２上に第
２層コイル１６が形成される。第１層コイル１２及び第
２層コイル１６はそれぞれレジスト１４、１８で絶縁さ
れる。また、第２層コイル１６上にはアルミナ保護層２
０が形成され、光磁気ディスク１に対向する面はエアベ
アリング面に研磨加工される。第１層コイル１２及び第
２層コイル１６の中心は互いに一致し、図示しない光ヘ
ッドから両コイルの中央開口部にレーザ光を照射し、磁
気ヘッドを通過させて光磁気ディスク１に集光する。In FIG. 1, a first layer coil 12 is formed on a glass substrate 10, and a second layer coil 16 is further formed on the first layer coil 12. The first layer coil 12 and the second layer coil 16 are insulated by resists 14 and 18, respectively. Further, the alumina protective layer 2 is formed on the second layer coil 16.
0 is formed, and the surface facing the magneto-optical disk 1 is ground into an air bearing surface. The centers of the first-layer coil 12 and the second-layer coil 16 are aligned with each other, and laser light is irradiated from an optical head (not shown) to the central openings of both coils, and passes through the magnetic head to be focused on the magneto-optical disk 1. .
【００１４】従来においては、第１層コイル１２上に直
接第２層コイル１６を形成しているが、本実施形態では
第１層コイル１２と第２層コイル１６との間にアルミナ
層１５が形成されている。アルミナ層１５は第１層コイ
ル１２全体、すなわち第１層コイル１２のコイル中心部
も覆い、このコイル中心部で基板１０に接する。したが
って、コイル中心開口では、基板１０／アルミナ層１５
／アルミナ保護層２０の順に積層されることになる。Conventionally, the second layer coil 16 is formed directly on the first layer coil 12, but in the present embodiment, the alumina layer 15 is provided between the first layer coil 12 and the second layer coil 16. Has been formed. The alumina layer 15 also covers the entire first layer coil 12, that is, the coil center portion of the first layer coil 12, and contacts the substrate 10 at this coil center portion. Therefore, at the coil center opening, the substrate 10 / alumina layer 15
/ Alumina protective layer 20 is laminated in this order.
【００１５】また、本実施形態における第１層コイル１
２と第２層コイル１６はその厚さが従来のように均一で
はなく、内径側と外径側で異なっている。具体的には、
アルミナ層１５及びアルミナ保護層２０に傾斜を傾斜す
べく、内径の厚さを外径に比べて小さく設定している。
図２（ａ）には、第１層コイル１２の配置説明図が示さ
れている。なお、説明の都合上、コイルの内径３ピッチ
分のみ示している。外径側から順に第１層コイル１２の
厚さをｔ１、ｔ２、ｔ３とすると、図に示すように、ｔ
１＞ｔ２＞ｔ３となるように形成される。このように、
第１層コイル１２の厚さが内径にいくに従い減少する
と、第１層コイル１２の上に形成されるアルミナ層１５
も内径にいくに従って基板１０に向かうように緩やかに
傾斜し、アルミナ層１５と基板１０とのなす角θが従来
に比べて減少する。また、アルミナ層１５上に形成され
る第２層コイル１６についても、第１層コイル１２と同
様に内径のコイル厚を外径のコイル厚よりも小さく設定
することで、アルミナ保護層２０にも緩やかな傾斜を形
成でき、コイル中央開口部において緩やかにアルミナ層
１５に接するように形成できる。アルミナ層１５はアル
ミナ保護層２０に対して基板１０に対するバッファ層と
して機能し、アルミナ層１５により第１層コイル１２を
絶縁するレジスト層１４の段差を緩和することで、アル
ミナ保護層２０のクラック発生や光学的変質を効果的に
抑制することができる。Further, the first layer coil 1 in this embodiment
The second and second layer coils 16 are not uniform in thickness as in the conventional case, but are different on the inner diameter side and the outer diameter side. In particular,
In order to incline the alumina layer 15 and the alumina protective layer 20, the thickness of the inner diameter is set smaller than the outer diameter.
FIG. 2A shows a layout explanatory view of the first layer coil 12. For convenience of explanation, only the inner diameter of the coil of 3 pitches is shown. Assuming that the thicknesses of the first layer coil 12 are t1, t2, and t3 from the outer diameter side, as shown in the figure, t
It is formed so that 1>t2> t3. in this way,
When the thickness of the first layer coil 12 decreases toward the inner diameter, the alumina layer 15 formed on the first layer coil 12
Also gradually inclines toward the substrate 10 as it goes to the inner diameter, and the angle θ formed between the alumina layer 15 and the substrate 10 decreases as compared with the conventional one. As for the second-layer coil 16 formed on the alumina layer 15, the inner-layer coil thickness is set smaller than the outer-diameter coil thickness in the same manner as the first-layer coil 12, so that the alumina protective layer 20 is also formed. A gentle inclination can be formed, and the coil can be formed so as to come into contact with the alumina layer 15 gently in the central opening of the coil. The alumina layer 15 functions as a buffer layer for the substrate 10 with respect to the alumina protective layer 20, and the alumina layer 15 relaxes the step of the resist layer 14 that insulates the first-layer coil 12, so that the alumina protective layer 20 cracks. And optical deterioration can be effectively suppressed.
【００１６】一方、図２（ｂ）には、第２層コイル１６
の配置説明図が示されている。第２層コイル１６も、上
述したように外径側から順に厚さをｍ１、ｍ２、ｍ３と
するとｍ１＞ｍ２＞ｍ３となるように形成される。ま
た、コイルの幅を外径から順にｄ１、ｄ２、ｄ３とする
と、内径ほどコイル幅が狭くなるように、すなわちｄ１
＞ｄ２＞ｄ３となるように形成される。第２層コイル１
６の内径コイル幅を狭くすることで、第２層コイル１６
の最内径を第１層コイル１２の最内径よりも増大させ、
第２層コイル１６を絶縁するレジスト１８のコイル中心
側端部と第１層コイル１２を絶縁するレジスト１４のコ
イル中心側端部とが基板１０の同一鉛直線上に位置しな
いように、すなわち階段状の段差となるように設定でき
る。これにより、第１層コイル１２と第２層コイル１６
の段差をより確実に緩和し、アルミナ保護層２０と基板
１０とのなす角を小さな値に設定することが可能とな
る。On the other hand, FIG. 2B shows the second layer coil 16
The layout explanatory drawing of is shown. The second layer coil 16 is also formed such that m1>m2> m3 when the thicknesses are m1, m2, and m3 from the outer diameter side in this order as described above. Further, if the coil width is d1, d2, and d3 in order from the outer diameter, the coil width becomes narrower toward the inner diameter, that is, d1.
>D2> d3. Second layer coil 1
By narrowing the inner diameter coil width of 6, the second layer coil 16
The innermost diameter of the first layer coil 12 is made larger than the innermost diameter of the first layer coil 12,
The end portion of the resist 18 that insulates the second layer coil 16 on the coil center side and the end portion of the resist 14 that insulates the first layer coil 12 on the coil center side are not positioned on the same vertical line of the substrate 10, that is, in a stepped shape It can be set so that there is a step. Thereby, the first layer coil 12 and the second layer coil 16
It is possible to more surely mitigate the level difference and set the angle formed between the alumina protective layer 20 and the substrate 10 to a small value.
【００１７】なお、アルミナ保護層２０と基板１０との
なす角θは小さいほどよいが、４５度以下が好適であ
り、３０度以下がさらに好適であろう。The smaller the angle θ between the alumina protective layer 20 and the substrate 10 is, the better, but it is preferably 45 degrees or less, more preferably 30 degrees or less.
【００１８】図３には、図１における第１層コイル１２
及び第２層コイル１６の平面図が示されている。図３
（ａ）は第２層コイル１６であり、図３（ｂ）は第１層
コイル１２である。図１には示されていないが、コイル
中心近傍のアルミナ層１５及びレジスト層１４にはスル
ーホールが形成されており、第１層コイル１２と第２層
コイル１６はこのスルーホールを介して互いに接続され
る。第１層コイル１２には外径から内径に向かって励磁
用電流が流れ、第２層コイル１６には内径から外径に向
かって第１層コイル１２と同一回りで励磁用電流が流れ
る。第１層コイル１２と第２層コイル１６で磁界を発生
させることで、第１層コイル１２のみの場合に比べて強
い磁界を光磁気ディスク１に印加することができる。FIG. 3 shows the first layer coil 12 shown in FIG.
And a plan view of the second layer coil 16 is shown. Figure 3
FIG. 3A shows the second layer coil 16, and FIG. 3B shows the first layer coil 12. Although not shown in FIG. 1, through holes are formed in the alumina layer 15 and the resist layer 14 near the center of the coil, and the first layer coil 12 and the second layer coil 16 are mutually connected through this through hole. Connected. An exciting current flows through the first layer coil 12 from the outer diameter to the inner diameter, and an exciting current flows through the second layer coil 16 from the inner diameter to the outer diameter in the same direction as the first layer coil 12. By generating a magnetic field in the first layer coil 12 and the second layer coil 16, a stronger magnetic field can be applied to the magneto-optical disc 1 as compared with the case where only the first layer coil 12 is used.
【００１９】図４〜図８には、図１に示された磁気ディ
スクの製造方法が示されている。まず、図４に示される
ように、厚み０．０５〜０．３ｍｍのガラス基板１０上
にスパッタ法などでメッキ電極となる下地銅薄膜３０を
形成する。その後、薄いレジスト絶縁膜３２を形成し、
所望のコイル厚みに応じた幅にパターニングする。本実
施形態では、内径にいくほどコイル厚みを小さく設定す
るため、下地銅薄膜３０の幅が内径にいくほど狭くなる
ように（図において内径から順にｒ１、ｒ２、ｒ３とす
るとｒ１＜ｒ２＜ｒ３となるように）パターニングす
る。次に、図５に示されるように、薄いレジスト絶縁膜
３２上に厚いレジスト膜を形成し、パターニングして銅
メッキのフレーム３４を形成する。下地の電極に所定時
間通電し、第１層コイル１２を形成する。下地銅薄膜
（電極）３０の内径部分は外径に比べて幅が狭くなって
おり、内径ほど通電量が少ないためコイル内径の厚さは
外径に比べて小さくなる。その後、図６に示されるよう
に、第１層コイル１２のフレームとなったレジスト３４
を除去し、第１層コイル１２のショートを防止するため
に下地銅薄膜３０をエッチング除去する。4 to 8 show a method of manufacturing the magnetic disk shown in FIG. First, as shown in FIG. 4, an underlying copper thin film 30 serving as a plating electrode is formed on a glass substrate 10 having a thickness of 0.05 to 0.3 mm by a sputtering method or the like. After that, a thin resist insulating film 32 is formed,
Patterning is performed in a width according to a desired coil thickness. In the present embodiment, the coil thickness is set smaller toward the inner diameter, so that the width of the base copper thin film 30 becomes narrower toward the inner diameter (r1 <r2 <r3 where r1, r2, and r3 in this order from the inner diameter). Patterning). Next, as shown in FIG. 5, a thick resist film is formed on the thin resist insulating film 32 and patterned to form a copper-plated frame 34. The underlying electrode is energized for a predetermined time to form the first layer coil 12. The inner copper foil (electrode) 30 has a narrower inner diameter than the outer diameter, and the inner diameter has a smaller amount of energization, so the inner diameter of the coil is smaller than the outer diameter. After that, as shown in FIG. 6, the resist 34 serving as the frame of the first layer coil 12 is formed.
And the underlying copper thin film 30 is removed by etching in order to prevent a short circuit of the first layer coil 12.
【００２０】次に、図７に示されるように、第１層コイ
ル１２を絶縁するためにレジスト１４を形成する。レジ
スト１４は第１層コイル１２が存在する領域のみに形成
し、コイル中心開口には形成されない。レジスト形成
後、コイル中心開口を含む第１層コイル１２の全面にア
ルミナ層１５を例えばスパッタ法により形成する。この
アルミナ層１５はアルミナ保護層２０よりも薄く形成で
き、したがってその成膜速度を十分遅くしてレジスト１
４端部での廻り込み、すなわちステップカバレージを向
上させることができる。アルミナ層１５を形成した後、
アルミナ層１５の所定位置に第１層コイル１２と第２層
コイル１６との接続用スルーホールをエッチングで形成
する。Next, as shown in FIG. 7, a resist 14 is formed to insulate the first layer coil 12. The resist 14 is formed only in the region where the first layer coil 12 is present, and is not formed in the coil center opening. After forming the resist, an alumina layer 15 is formed on the entire surface of the first layer coil 12 including the coil center opening by, for example, a sputtering method. The alumina layer 15 can be formed thinner than the alumina protective layer 20, and therefore, the film formation rate thereof should be sufficiently slowed down.
It is possible to improve the wraparound at the four ends, that is, the step coverage. After forming the alumina layer 15,
A through hole for connection between the first layer coil 12 and the second layer coil 16 is formed at a predetermined position of the alumina layer 15 by etching.
【００２１】以上のようにして第１層コイル１２及びア
ルミナ層１５を形成した後、図８に示されるように第１
層コイル１２の形成手順と同様の手順で第２層コイル１
６及びレジスト１８を形成する。第２層コイル１６を形
成する際には、第２層コイル１６の中心を第１層コイル
１２の中心に一致させ、第２層コイル１６の内径の幅を
外径よりも狭くして最内径を第１層コイル１２の最内径
よりも大きくし、第２層コイル１６を絶縁するレジスト
１８の端部がレジスト１４の端部よりも外径側に位置す
るようにしてコイル中心開口において緩やかな傾斜を形
成する。その後、コイル中心開口を含むコイル層全面に
アルミナ保護層２０を形成し、アルミナ保護層２０表面
をエアベアリング加工する。After forming the first layer coil 12 and the alumina layer 15 as described above, the first layer coil 12 and the alumina layer 15 are formed as shown in FIG.
The second layer coil 1 is formed in the same procedure as the layer coil 12 is formed.
6 and the resist 18 are formed. When forming the second layer coil 16, the center of the second layer coil 16 is made to coincide with the center of the first layer coil 12, and the width of the inner diameter of the second layer coil 16 is made narrower than the outer diameter to make the innermost diameter. Is larger than the innermost diameter of the first layer coil 12, and the end of the resist 18 that insulates the second layer coil 16 is located on the outer diameter side of the end of the resist 14 so that the coil center opening is gentle. Form a slope. Thereafter, the alumina protective layer 20 is formed on the entire surface of the coil layer including the coil center opening, and the surface of the alumina protective layer 20 is air-bearing processed.
【００２２】このように、本実施形態の磁気ヘッドは、
レーザ光が通過するコイル中心開口においてアルミナ保
護層２０と基板１０との接触角を小さく設定できるた
め、アルミナ保護層２０のクラック発生や光学的変質を
確実に防止することができる。従って、本実施形態で
は、従来のようにクラック発生や光学的変質を見越して
コイル内径を大きく設定する必要がなくなり、コイル内
径を十分小さくして磁界発生効率を向上させることがで
きる。As described above, the magnetic head of this embodiment is
Since the contact angle between the alumina protective layer 20 and the substrate 10 can be set to be small in the coil central opening through which the laser light passes, it is possible to reliably prevent cracking and optical deterioration of the alumina protective layer 20. Therefore, in the present embodiment, it is not necessary to set the coil inner diameter large in consideration of crack generation and optical deterioration as in the conventional case, and the coil inner diameter can be made sufficiently small to improve the magnetic field generation efficiency.
【００２３】なお、本実施形態では２層構造のコイルを
用いる場合について説明したが、単層コイルを用いる場
合でも同様にアルミナ保護層のクラック発生を防止する
ことができる。In the present embodiment, the case of using a coil having a two-layer structure has been described, but even in the case of using a single-layer coil, it is possible to prevent cracking of the alumina protective layer.
【００２４】図９には、他の実施形態に係る磁気ヘッド
の断面図が示されている。ガラス基板１０上にコイル２
２が形成される。コイル２２は第１層コイル１２と同様
に、内径のコイル厚が外径のコイル厚よりも小さく設定
される。コイル２２はレジスト１４で絶縁され、コイル
中心開口を含む全面にアルミナ保護層２０が形成され
る。コイル２２は内径にいくに従ってその厚さが小さく
なっているため、アルミナ保護層２０も内径に向かって
傾斜し、基板１０との接触角θを小さくすることができ
る。FIG. 9 shows a sectional view of a magnetic head according to another embodiment. Coil 2 on glass substrate 10
2 is formed. Similar to the first layer coil 12, the coil 22 has an inner diameter coil thickness smaller than an outer diameter coil thickness. The coil 22 is insulated by the resist 14, and the alumina protective layer 20 is formed on the entire surface including the coil center opening. Since the thickness of the coil 22 becomes smaller toward the inner diameter, the alumina protective layer 20 also inclines toward the inner diameter, and the contact angle θ with the substrate 10 can be made smaller.
【００２５】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明はこれに限定されることなく種々の変更が可
能である。例えば、図１あるいは図２においては内径に
位置する３ピッチ分のコイルについて徐々に厚さを変化
させているが、最内径の１ピッチ分のみ厚さを小さくす
ることもできる。また、図１においては２層構造のコイ
ルを示したが、必要に応じて３層構造あるいはそれ以上
の多層構造とすることもできる。但し、コイル高さが増
大すると、その厚さ分だけコイル内径を増大させる必要
があるため磁界発生効率が低下する。もちろん、巻数に
比例して発生磁界強度は増大するため、多層による磁界
強度増大と、コイル内径増大による磁界強度減少とのト
レードオフで最適の多層構造を選択することが好適であ
る。Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made. For example, in FIG. 1 or FIG. 2, the thickness of the coil for three pitches located in the inner diameter is gradually changed, but the thickness can be reduced by one pitch of the innermost diameter. Although the coil having a two-layer structure is shown in FIG. 1, a three-layer structure or a multi-layer structure having more layers can be used as required. However, if the coil height increases, the coil inner diameter needs to be increased by the thickness, and the magnetic field generation efficiency decreases. Of course, since the generated magnetic field strength increases in proportion to the number of turns, it is preferable to select the optimum multilayer structure by the trade-off between the increase in magnetic field strength due to multiple layers and the decrease in magnetic field strength due to increase in coil inner diameter.
【００２６】[0026]
【発明の効果】本発明によれば、コイルの保護層に生じ
るクラックや光学的変質を抑制することができ、これに
より小口径のコイルを作成して磁界発生効率を向上させ
ることができる。According to the present invention, it is possible to suppress cracks and optical deterioration that occur in the protective layer of the coil, and by doing so, it is possible to create a coil having a small diameter and improve the magnetic field generation efficiency.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】 実施形態に係る磁気ヘッドの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a magnetic head according to an embodiment.
【図２】 図１の第１層コイル及び第２層コイルの配置
説明図である。FIG. 2 is a layout explanatory view of a first layer coil and a second layer coil of FIG.
【図３】 図１の第１層コイル及び第２層コイルの平面
図である。3 is a plan view of the first layer coil and the second layer coil of FIG. 1. FIG.
【図４】 実施形態の製造方法を示す断面図（その１）
である。FIG. 4 is a sectional view showing the manufacturing method according to the embodiment (No. 1).
Is.
【図５】 実施形態の製造方法を示す断面図（その２）
である。FIG. 5 is a sectional view showing the manufacturing method according to the embodiment (No. 2).
Is.
【図６】 実施形態の製造方法を示す断面図（その３）
である。FIG. 6 is a sectional view showing the manufacturing method according to the embodiment (No. 3).
Is.
【図７】 実施形態の製造方法を示す断面図（その４）
である。FIG. 7 is a cross-sectional view (4) showing the manufacturing method according to the embodiment.
Is.
【図８】 実施形態の製造方法を示す断面図（その５）
である。FIG. 8 is a cross-sectional view (5) showing the manufacturing method according to the embodiment.
Is.
【図９】 他の実施形態の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of another embodiment.
【図１０】 従来の磁気ヘッドの断面図である。FIG. 10 is a sectional view of a conventional magnetic head.
１０ 基板、１２ 第１層コイル、１４，１８ レジス
ト、１５ アルミナ層、１６ 第２層コイル、２０ ア
ルミナ保護層。10 substrate, 12 first layer coil, 14, 18 resist, 15 alumina layer, 16 second layer coil, 20 alumina protective layer.
Claims (5)
りも小さいコイルと、前記基板上に設けられたコイルを覆うように形成された
レジスト層と、 前記レジスト層上に積層される保護層とを有することを
特徴とする光磁気ディスク用磁気ヘッド。 1. A substrate, a coil provided on the substrate and having an inner diameter portion having a thickness smaller than an outer diameter portion, and a coil provided on the substrate.
A magnetic head for a magneto-optical disk , comprising a resist layer and a protective layer laminated on the resist layer .
は、内径にいくに従い前記基板に向かうように傾斜して
いることを特徴とした請求項１の光磁気ディスク用磁気
ヘッド。 2. A boundary surface between the protective layer and the resist layer
Is inclined toward the substrate as it goes to the inner diameter
The magnetic for a magneto-optical disk according to claim 1, characterized in that
head.
りも小さい第１層コイルと、First layer coil which is much smaller, 前記基板上に設けられた第１層コイルを覆うように形成Formed to cover the first layer coil provided on the substrate
された第１のレジスト層と、The formed first resist layer, 前記第１のレジスト上に積層される第１の保護層と、A first protective layer laminated on the first resist; 前記第１の保護層上に設けられ、内径部の厚さが外径部The thickness of the inner diameter portion provided on the first protective layer is equal to the outer diameter portion.
の厚さよりも小さい第２層コイルと、A second layer coil smaller than the thickness of 前記第１の保護層上に設けられた第２層コイルを覆うよCover the second layer coil provided on the first protective layer.
うに形成された第２のレジスト層と、A second resist layer formed as described above, 前記第２のレジスト層上に積層された第２の保護層とをA second protective layer laminated on the second resist layer,
有し、Have, 前記第２層コイルの中心は前記第１層コイルの中心と一The center of the second layer coil is aligned with the center of the first layer coil.
致し、I will 前記第２層コイルの最内径は、前記第１層コイルの最内The innermost diameter of the second layer coil is the innermost of the first layer coil.
径よりも大きいことを特徴とする光磁気ディスク用磁気Magnetism for magneto-optical disks characterized by being larger than the diameter
ヘッド。head.
層の境界面は、内径にいくに従い前記基板に向かうよう
に傾斜しており、 前記第２の保護層と前記第２のレジスト層の境界面は、
内径にいくに従い前記第１の保護層に向かうように傾斜
しており、 前記第２のレジスト層の内径側端部は、前記第１のレジ
スト層の内径側端部よりも外側に位置することを特徴と
した請求項３の光磁気ディスク用磁気ヘッド。 4. The first protective layer and the first resist
The boundary surface of the layers should face the substrate as the inner diameter increases.
And the interface between the second protective layer and the second resist layer is
Incline toward the first protective layer as it goes to the inner diameter
And has the inner diameter side end portion of the second resist layer, said first register
Characterized by being located outside the inner diameter side end of the strike layer
The magnetic head for a magneto-optical disk according to claim 3.
ディスク用磁気ヘッドを備える光磁気ディスク記録再生Magneto-optical disk recording / reproducing equipped with magnetic head for disk
装置であって、A device, 光磁気ディスクに対して前記磁気ヘッドと同一の側に配Placed on the same side of the magneto-optical disk as the magnetic head
置され、前記磁気ヘッドの前記コイル中心開口を通過しPlaced through the coil center opening of the magnetic head
て前記光磁気ディスクにレーザ光を照射する光ヘッドをAn optical head that irradiates the magneto-optical disk with laser light.
有することを特徴とする光磁気ディスク記録再生装置。A magneto-optical disk recording / reproducing apparatus having.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000075562A JP3490951B2 (en) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | Magnetic head for magneto-optical disk and magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000075562A JP3490951B2 (en) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | Magnetic head for magneto-optical disk and magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001266431A JP2001266431A (en) | 2001-09-28 |
| JP3490951B2 true JP3490951B2 (en) | 2004-01-26 |
Family
ID=18593437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000075562A Expired - Lifetime JP3490951B2 (en) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | Magnetic head for magneto-optical disk and magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3490951B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3668112B2 (en) * | 2000-09-07 | 2005-07-06 | 富士通株式会社 | Magneto-optical head and method of manufacturing magneto-optical head coil |
| US20080231991A1 (en) * | 2004-01-19 | 2008-09-25 | Koninklijke Philips Electronic, N.V. | Method of Manufacturing a Magneto-Optical Device |
| KR102262904B1 (en) * | 2015-04-29 | 2021-06-09 | 삼성전기주식회사 | Inductor |
| KR102194727B1 (en) * | 2015-04-29 | 2020-12-23 | 삼성전기주식회사 | Inductor |
-
2000
- 2000-03-17 JP JP2000075562A patent/JP3490951B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001266431A (en) | 2001-09-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008123664A (en) | Method for manufacturing vertical writing head having notched trailing shield | |
| JP2000105906A (en) | Production of thin film magnetic head | |
| JPH05298624A (en) | Composite thin film magnetic head | |
| JPH04366408A (en) | Thin-film magnetic head assembly body and its manufacturing method | |
| US20010050830A1 (en) | Magnetic head and method of manufacturing the same | |
| JP3490951B2 (en) | Magnetic head for magneto-optical disk and magneto-optical disk recording / reproducing apparatus including the same | |
| US6515825B1 (en) | Thin film magnetic head having a bottom pole layer, a gap layer, and a top pole layer which are formed by plating | |
| US7894160B2 (en) | Thin-film magnetic head controlling floating amount by locally projecting element portion toward recording medium by thermal expansion and method of manufacturing the same | |
| JPH09180127A (en) | Production of thin-film magnetic head | |
| JPH11259813A (en) | Thin film coil, magnetic head and magneto-optical head | |
| JPS6142716A (en) | Thin-film magnetic head | |
| JP2003162850A (en) | Magnetic head, magneto-optical storage device and method for forming layer of magnetic material | |
| JPH05290325A (en) | Production of thin-film magnetic head | |
| JPH03162706A (en) | Thin-film magnetic head | |
| JPH10255205A (en) | Magnetic head for magneto-optical recording, and magneto-optical recording apparatus | |
| JPH07153026A (en) | Thin-film magnetic head and magnetic disk device | |
| JPH04192105A (en) | Thin-film magnetic head and magnetic disk device mounted therewith | |
| JPH0684141A (en) | Thin film magnetic head | |
| JP2004087068A (en) | Compound optical head and optical disk device using the same | |
| JPH03162705A (en) | Thin-film magnetic head | |
| JPH087222A (en) | Thin film magnetic head and its production | |
| EP1528550B1 (en) | Magnetic field generator and magneto-optical information storage device | |
| JPH11232718A (en) | Magneto-optical head and magneto-optical recording device | |
| JP2638874B2 (en) | Magnetic head device for magneto-optical recording | |
| JPH08106665A (en) | Magneto-optical recorder and magnetic head |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 3490951 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131107 Year of fee payment: 10 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |