JP3482787B2 - Emergency gas processing system and emergency gas processing method - Google Patents
Emergency gas processing system and emergency gas processing methodInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば特定高圧ガ
スを原料ガスとして用いて半導体の成長を行う半導体成
長装置の緊急ガス処理システム並びに緊急ガス処理方法
に係わる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor growth method for growing a semiconductor by using a specific high pressure gas as a source gas.
The present invention relates to a long equipment emergency gas treatment system and an emergency gas treatment method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】特定高圧ガスを用いる半導体成長装置、
例えばＭＯＣＶＤ（有機金属熱分解気相成長）装置等に
おいては、原料の供給系（例えばシリンダーキャビネッ
ト、有機金属）や、制御系（例えばマスフローコントロ
ーラ）、反応系（例えば反応管）、ガス排気及び処理系
（例えば減圧ポンプ、除害装置）等の各装置が半導体成
長装置本体と隣接一体化した装置を形成しているのが一
般的である。2. Description of the Related Art A semiconductor growth apparatus using a specific high pressure gas,
For example, in a MOCVD (Organic Metal Pyrolysis Vapor Deposition) apparatus, etc., a raw material supply system (eg, cylinder cabinet, organic metal), control system (eg, mass flow controller), reaction system (eg, reaction tube), gas exhaust and treatment. It is general that each device such as a system (for example, a decompression pump, an abatement device) is adjacent to and integrated with the main body of the semiconductor growth device.
【０００３】半導体成長装置の操作を行う箇所（操作ス
ペース）は、成長されるべき基板の導入等を行うことも
あり、作業者がいる時間が長いので、クリーンな環境を
保持する必要がある。一方、メンテナンスや、原料交換
等を行う箇所（メンテナンススペース）は、クリーン度
に関してはその限りではないが、ガスの漏洩などの緊急
時の安全対策上、操作スペースに比して気圧的に低い環
境にする必要がある。そして、各装置の内部は、筐体排
気により操作スペース、メンテナンススペースより圧力
の低い環境を保つようにしている。At a place where the semiconductor growth apparatus is operated (operation space), a substrate to be grown may be introduced and the like, and a worker may spend a long time, so that it is necessary to maintain a clean environment. On the other hand, the place where maintenance and material replacement (maintenance space) is not limited to cleanliness, but in terms of safety measures in case of emergency such as gas leakage, it is lower than the operating space in terms of atmospheric pressure. Need to The inside of each device is kept in an environment where the pressure is lower than the operation space and the maintenance space by exhausting the casing.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】近年の半導体産業の繁
栄により、半導体成長装置も複数台有していることが一
般的であり、制御しなければならない環境が増大して、
決して小さい領域とは言えなくなってきている。そのよ
うな増大する環境下においても、高圧ガス取扱法に準拠
した緊急時の安全対策は十分に検討されなければならな
い事項である。しかしながら、制御を要する環境の増加
に従い、緊急時のための安全設備への投資も増大するこ
とになり、この緊急時のための投資をいかに適正なもの
とするかは大きな課題である。Due to the prosperity of the semiconductor industry in recent years, it is common to have a plurality of semiconductor growth devices, and the environment that must be controlled increases,
It is no longer a small area. Even in such an increasing environment, emergency safety measures based on the High Pressure Gas Handling Law must be thoroughly considered. However, as the environment requiring control increases, investment in safety equipment for emergencies also increases, and how to properly invest in such emergencies is a major issue.
【０００５】上述した問題に鑑みて、本発明において
は、緊急時の安全を充分に確保し、かつ設備の簡略化が
可能である緊急ガス処理システム並びに緊急ガス処理方
法を提供するものである。In view of the above-mentioned problems, in the present invention, it is possible to sufficiently secure the safety in an emergency and to simplify the equipment.
The present invention provides a possible emergency gas treatment system and an emergency gas treatment method.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の緊急ガス処理シ
ステムは、シリンダーキャビネットを半導体成長装置の
成長装置本体より分離し、独立した給排気システムとし
た半導体成長装置に対して、シリンダーキャビネットの
筐体排気を緊急ガス処理装置に接続し、緊急時には、通
常排気から緊急ガス処理装置へ切り換え可能とする構成
とする。 [Means for Solving the Problems] Emergency gas treatment system of the present invention
Stem is a cylinder cabinet for semiconductor growth equipment
Separated from the main body of the growth equipment, and made an independent air supply / exhaust system
For semiconductor growth equipment,
Connect the housing exhaust to an emergency gas treatment device to
Configuration that allows switching from normal exhaust to emergency gas processing equipment
And
【０００７】[0007]
【０００８】また、本発明の緊急ガス処理方法は、シリ
ンダーキャビネットを半導体成長装置の成長装置本体よ
り分離し、独立した給排気システムとした半導体成長装
置に対して、緊急ガス処理装置に接続されたシリンダー
キャビネットの筐体排気を、通常時は通常のガス処理装
置に導入し、緊急時には通常排気の配管を遮断し、緊急
ガス処理装置への配管へ切り換えてガス処理を行う。Further, in the emergency gas treatment method of the present invention, the cylinder cabinet is separated from the growth apparatus main body of the semiconductor growth apparatus, and the semiconductor growth apparatus as an independent air supply / exhaust system is connected to the emergency gas treatment apparatus. Exhaust gas from the cylinder cabinet is normally introduced into a normal gas treatment device, and in an emergency, the pipe of the normal exhaust gas is shut off and switched to a pipe to the emergency gas treatment device for gas treatment.
【０００９】[0009]
【００１０】上述の本発明の緊急ガス処理システムによ
れば、シリンダーキャビネットの筐体排気を緊急ガス処
理装置に接続し、通常排気から緊急ガス処理装置へ切り
換え可能とすることにより、必要な仕様が異なる通常排
気と緊急ガス処理装置とをそれぞれ機能を維持したまま
簡略化することができる。According to the emergency gas treatment system of the present invention described above, the exhaust gas of the cylinder cabinet is connected to the emergency gas treatment device so that the normal exhaust gas can be switched to the emergency gas treatment device. Different normal exhaust and emergency gas treatment equipment can be simplified while maintaining their respective functions.
【００１１】上述の本発明の緊急ガス処理方法によれ
ば、緊急時にはシリンダーキャビネットの筐体排気を緊
急ガス処理装置へ切り替えることにより、緊急時にはシ
リンダーキャビネットを特に重点的にガス処理すること
ができる。According to the above-described emergency gas treatment method of the present invention, by switching the exhaust of the cylinder cabinet casing to the emergency gas treatment device in an emergency, it is possible to treat the cylinder cabinet with a particularly intensive gas treatment in an emergency.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明は、特定高圧ガスを配置し
開閉の制御をするシリンダーキャビネットを、半導体成
長装置の成長装置本体より分離して、この成長装置本体
から独立した給排気システムとされた部屋に配置してな
る半導体成長装置に対して、シリンダーキャビネットの
筐体排気を緊急ガス処理装置に接続し、緊急時には、通
常排気から緊急ガス処理装置へ切り換え可能とする緊急
ガス処理システムである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention arranges a specific high pressure gas.
A cylinder cabinet that controls the opening and closing of the semiconductor
This growth device body is separated from the long equipment growth device body.
It should be placed in a room that has
Cylinder cabinet
Connect the housing exhaust to an emergency gas treatment device to
Emergency that allows switching from normal exhaust to emergency gas processing equipment
It is a gas processing system .
【００１３】[0013]
【００１４】また本発明は、上記緊急ガス処理システム
において、半導体成長装置が複数の装置に区分され、各
装置の筐体のうち少なくとも上記シリンダーキャビネッ
トが配される装置の筐体に緊急ガス処理装置以外の簡易
処理装置を有している構成とする。In the emergency gas treatment system according to the present invention, the semiconductor growth apparatus is divided into a plurality of apparatuses, and at least the cylinder cabinet of at least the cylinder cabinet of each apparatus is disposed in the apparatus case. Other than the simple processing device.
【００１５】また本発明は、特定高圧ガスを配置し開閉
の制御をするシリンダーキャビネットを、半導体成長装
置の成長装置本体より分離して、成長装置本体から独立
した給排気システムとされた部屋に配置してなる半導体
成長装置に対して、緊急ガス処理装置に接続されたシリ
ンダーキャビネットの筐体排気を、通常時は通常のガス
処理装置に導入し、緊急時には通常排気の配管を遮断
し、緊急ガス処理装置への配管へ切り換えてガス処理を
行う緊急ガス処理方法である。Further, according to the present invention, a cylinder cabinet for arranging a specific high pressure gas and controlling the opening and closing of the semiconductor cabinet is separated from the growth apparatus main body of the semiconductor growth apparatus and placed in a room which is an air supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. For the semiconductor growth equipment, the exhaust of the cylinder cabinet connected to the emergency gas treatment equipment is introduced to the ordinary gas treatment equipment during normal times, and the piping of the ordinary exhaust gas is shut off during emergencies. It is an emergency gas treatment method in which gas treatment is performed by switching to a pipe to a treatment device.
【００１６】以下、図面を参照して本発明の緊急ガス処
理システム及び緊急ガス処理方法の実施例を説明する。
図１は、本発明に係る半導体成長装置の一例の概略構成
図を示す。半導体成長装置１は、ガス容器（ボンベ、シ
リンダー）を収納すると共に、これらガス容器の開閉を
制御するシリンダーキャビネット２と、それ以外の部
分、即ち成長装置本体３とに大別されている。ただし、
これは半導体成長装置を構成する複数の装置のうち主要
な装置に関してであり、周辺機器（真空ポンプ等）に関
してはこの限りではない。シリンダーキャビネット２と
成長装置本体３は、配管４を介して接続されており、こ
の配管４によりガスの供給が可能となっている。 An emergency gas treatment system according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
Embodiments of the management system and the emergency gas treatment method will be described.
FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of an example of a semiconductor growth apparatus according to the present invention . The semiconductor growth apparatus 1 is roughly divided into a cylinder cabinet 2 that stores gas containers (cylinders and cylinders) and controls opening and closing of these gas containers, and the other portion, that is, a growth apparatus main body 3. However,
This is a main device among a plurality of devices that constitute the semiconductor growth apparatus, and is not limited to peripheral devices (vacuum pump and the like). The cylinder cabinet 2 and the growth apparatus main body 3 are connected to each other via a pipe 4, and the pipe 4 enables gas supply.
【００１７】尚、この例では半導体成長装置１が配置さ
れている部屋が、シリンダーキャビネット室１１、メン
テナンス室１２、操作室１３、作業室１４に区分されて
おり、各部屋１１，１２，１３，１４がそれぞれ独立し
た給排気システムＳ1 ，Ｓ2，Ｓ3 ，Ｓ4 を有してい
る。In this example, the room in which the semiconductor growth apparatus 1 is arranged is divided into a cylinder cabinet room 11, a maintenance room 12, an operation room 13 and a working room 14, and each room 11, 12, 13, 14 has independent air supply / exhaust systems S 1 , S 2 , S 3 , and S 4 .
【００１８】また、シリンダーキャビネット室１１は、
万一ガスの漏洩があった場合に、比較的高濃度のガスが
漏洩することになるので、このガスが他の部屋１２，１
３，１４に出て行かないように最も低い圧力にしておく
必要がある。そして、望ましくは、シリンダーキャビネ
ット室１１＜メンテナンス室１２＜操作室１３＜作業室
１４というように、各部屋の圧力を順に低圧から高圧に
して、万一ガスの漏洩があった場合においても、人間が
立ち入る部屋、即ち作業室１４や操作室１３にガスが入
り込まないようにする。Further, the cylinder cabinet chamber 11 is
In the unlikely event of a gas leak, a gas with a relatively high concentration will leak, so this gas will be used in other rooms 12, 1
It is necessary to keep the lowest pressure so as not to go out to 3 and 14. It is desirable that the pressure in each chamber be sequentially changed from low pressure to high pressure, such as cylinder cabinet chamber 11 <maintenance chamber 12 <operation chamber 13 <work chamber 14, and even if a gas leaks, human The gas is prevented from entering the room where the room enters, that is, the work room 14 and the operation room 13.
【００１９】このようなシリンダーキャビネット２を分
離した構成をとることにより、シリンダーキャビネット
室１１はシリンダーキャビネット２に対応した大きさに
縮小することができる。シリンダーキャビネット２と成
長装置本体３とを一体化している場合には、部屋を半導
体成長装置１全体を覆うようにする必要が生じるが、シ
リンダーキャビネット２を分離することにより、各部屋
の大きさの総和は一体化した場合よりも小さくできる。
従って、部屋全体を必要最小限の大きさに設定できるた
め、換気する必要のある容積を小さくすることができ、
給排気システムを容易に設計することができる。By adopting such a structure that the cylinder cabinet 2 is separated, the cylinder cabinet chamber 11 can be reduced in size to correspond to the cylinder cabinet 2. When the cylinder cabinet 2 and the growth apparatus main body 3 are integrated, it is necessary to cover the room with the entire semiconductor growth apparatus 1. However, by separating the cylinder cabinet 2, the size of each room can be reduced. The sum can be smaller than when integrated.
Therefore, since the entire room can be set to the minimum required size, the volume that needs to be ventilated can be reduced,
The air supply / exhaust system can be easily designed.
【００２０】上述の例では、シリンダーキャビネット２
を成長装置本体３と分離して配置した半導体成長装置１
を構成したが、このような構成の半導体成長装置１に対
して、通常時と緊急時に切り替えを行う緊急ガスシステ
ム２０を構成することにより、ガスの漏洩時のような緊
急時においてこれに対処することができる。その例を次
に示す。In the above example, the cylinder cabinet 2
Semiconductor growth apparatus 1 in which the wafer is separated from the growth apparatus main body 3
However, by configuring the semiconductor growth apparatus 1 having such a configuration with the emergency gas system 20 that switches between the normal time and the emergency, this can be dealt with in an emergency such as a gas leak. be able to. An example is shown below.
【００２１】図２は、図１の構成の半導体成長装置１に
対して、緊急ガス処理システム２０を構成したものであ
る。尚、図１における作業室１４は省略している。半導
体成長装置１例えばＭＯＣＶＤ装置からは、シリンダー
キャビネット２、成長装置本体３を含めて複数の筐体排
気がなされ、図示しないが例えばスクラバー等に導入さ
れている。スクラバーは、液体中にガスを通してバブリ
ングさせて、ガス中の成分を液体に取り込ませるもので
ある。また、シリンダーキャビネット２からの排気の配
管２３には、途中に簡易処理装置２２が配置されてい
る。FIG. 2 shows a configuration of an emergency gas processing system 20 for the semiconductor growth apparatus 1 having the configuration shown in FIG. The working chamber 14 in FIG. 1 is omitted. From the semiconductor growth apparatus 1, for example, the MOCVD apparatus, a plurality of casings including the cylinder cabinet 2 and the growth apparatus main body 3 are evacuated and introduced into, for example, a scrubber, which is not shown. The scrubber is a device for bubbling gas through the liquid to incorporate the components in the gas into the liquid. In addition, a simple processing device 22 is arranged in the middle of a pipe 23 for exhausting air from the cylinder cabinet 2.
【００２２】シリンダーキャビネット室１１の筐体排気
は、更に緊急ガス処理装置２１に接続されている。これ
らの排気配管２３には、それぞれダンパーＤ1 及びＤ2
が設けられて、これらダンパーＤ1 ，Ｄ2 が開閉するこ
とにより、緊急ガス処理装置２２側（Ｄ1 ）とスクラバ
ー側（Ｄ2 ）との切り替えを可能としてなる。The casing exhaust of the cylinder cabinet chamber 11 is further connected to an emergency gas processing device 21. These exhaust pipes 23 have dampers D 1 and D 2 respectively.
Is provided and the dampers D 1 and D 2 are opened and closed to enable switching between the emergency gas treatment device 22 side (D 1 ) and the scrubber side (D 2 ).
【００２３】そして、通常はスクラバー側のダンパーＤ
2 がオープン（開）、緊急ガス処理装置２２側のダンパ
ーＤ1 がクローズ（閉）となって、シリンダーキャビネ
ット２の筐体排気と成長装置本体３の筐体排気がいずれ
もスクラバーに流れる。The damper D on the scrubber side is usually used.
2 is open (open) and the damper D 1 on the emergency gas treatment device 22 side is closed (closed), so that both the case exhaust of the cylinder cabinet 2 and the case exhaust of the growth apparatus main body 3 flow to the scrubber.
【００２４】一方、緊急ガス処理装置２１を使用する必
要が生じたときには、スクラバー側のダンパーＤ2 がク
ローズ（閉）、緊急ガス処理装置２１側のダンパーＤ1
がオープン（開）となることにより、シリンダーキャビ
ネット２からの筐体排気は、ダンパーＤ2 によりスクラ
バーには流れずに、緊急ガス処理装置２１へ導入され
る。On the other hand, when it becomes necessary to use the emergency gas treatment device 21, the damper D 2 on the scrubber side is closed and the damper D 1 on the emergency gas treatment device 21 side is closed.
Is opened, the housing exhaust gas from the cylinder cabinet 2 is introduced into the emergency gas treatment device 21 without flowing to the scrubber by the damper D 2 .
【００２５】上述の切り替え動作を行う手段について
は、警報機の信号を利用して自動的に切り替える構成と
してもよく、釦を押すことにより手動で切り替える構成
としてもよく、また自動切り替えと手動切り替えを兼用
する構成としてもよい。The means for performing the above switching operation may be configured to automatically switch using a signal from an alarm device, or may be configured to switch manually by pushing a button, or to perform automatic switching and manual switching. It may be configured to be shared.
【００２６】尚、望ましくは、この例のようにシリンダ
ーキャビネット２の筐体排気の配管に、ある程度のガス
処理能力を有する簡易処理装置２２を配置して、小規模
のガス漏洩については、この簡易処理装置２２だけで充
分に対処することができる構成とする。また、シリンダ
ーキャビネット２以外の部分に簡易処理装置を設けても
よい。Incidentally, it is desirable to arrange a simple processing device 22 having a certain gas processing capacity in the exhaust pipe of the cylinder cabinet 2 as in this example so as to prevent small-scale gas leakage. The processing device 22 alone is sufficient to deal with the problem. Further, a simple processing device may be provided in a part other than the cylinder cabinet 2.
【００２７】このように緊急ガス処理システム２０を構
成して、緊急ガス処理を行うことにより、緊急時にシリ
ンダーキャビネットからの筐体排気をする緊急ガス処理
装置２１と、スクラバー等の通常排気の処理設備を、そ
れぞれの用途に最適化してかつ簡略化されたシステムを
構成できる。The emergency gas processing system 20 is configured as described above, and the emergency gas processing apparatus 21 exhausts the housing from the cylinder cabinet in an emergency by performing the emergency gas processing, and the normal exhaust processing equipment such as a scrubber. Can be optimized for each application and a simplified system can be configured.
【００２８】複雑なシステムになると、誤動作などの可
能性が維持されるよりもむしろ増加すると考えられ、こ
れに伴い実際の緊急時に本来の役割を果たさない可能性
も増加すると考えられる。システムの簡略化は、その意
味からも動作の確実性を向上させるために重要であると
考えられる。In a complicated system, it is considered that the possibility of malfunction or the like increases rather than being maintained, and along with this, the possibility of not playing its original role in an actual emergency is also likely to increase. From this point of view, simplification of the system is considered important in order to improve the certainty of operation.
【００２９】また、緊急時に、ダンパーＤ1 ，Ｄ2 をそ
れぞれ開閉することにより、シリンダーキャビネット２
からの筐体排気スクラバーへの通常排気から緊急ガス処
理装置２１へ切り替えることから、濃度が高いガスが漏
洩する可能性がある原料ガス容器を含むシリンダーキャ
ビネット２に対して重点的にガス処理を行うことが出来
るので、より安全な処理を行うことができる。In an emergency, the cylinder cabinet 2 can be opened by opening and closing the dampers D 1 and D 2 , respectively.
Since the normal exhaust gas from the casing to the exhaust gas scrubber is switched to the emergency gas treatment device 21, the gas treatment is intensively performed on the cylinder cabinet 2 including the raw material gas container in which a high concentration gas may leak. Therefore, safer processing can be performed.
【００３０】本発明の緊急ガス処理システム並びに緊急
ガス処理方法は、上述の例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取
り得る。 The emergency gas treatment system and the emergency gas treatment method of the present invention are not limited to the above examples,
Various other configurations are possible without departing from the scope of the present invention.
【００３１】[0031]
【発明の効果】上述の本発明によれば、原料ガスのシリ
ンダーの開閉などを制御するシリンダーキャビネットを
成長装置から分離し、専用の部屋として、更にそのシリ
ンダーキャビネット専用の部屋の給排気システムを管理
することにより、より安全性が向上した環境を実現する
ことができる。According to the present invention described above, the cylinder cabinet for controlling the opening and closing of the cylinder of the raw material gas is separated from the growth apparatus, and as a dedicated room, the air supply / exhaust system of the room dedicated to the cylinder cabinet is managed. By doing so, an environment with improved safety can be realized.
【００３２】また、本発明の緊急ガス処理システムによ
り、シリンダーキャビネットの筐体排気を利用して、こ
れを緊急時の緊急ガスの処理装置に接続し、緊急時のみ
切り換えるシステムを構成することにより、緊急ガス処
理システムが機能を維持しながら簡略化できるので、緊
急時の安全を充分に確保すると共に安全設備の簡略化が
可能であるので、設備への投資効率も向上することがで
きる。従って本発明により、緊急処理システムが簡略化
されることにより、誤動作等の可能性が低くなるので、
動作の確実性を向上させることができる。Further, according to the emergency gas treatment system of the present invention, by utilizing the casing exhaust of the cylinder cabinet, connecting this to the emergency gas treatment device in an emergency, and constructing a system for switching only in an emergency, Since the emergency gas treatment system can be simplified while maintaining its function, it is possible to ensure sufficient safety in an emergency and simplify safety equipment, so that the efficiency of investment in equipment can be improved. Therefore, according to the present invention, since the emergency processing system is simplified, the possibility of malfunction is reduced.
The certainty of operation can be improved.
【００３３】また、本発明の緊急ガス処理方法により、
緊急時にはシリンダーキャビネットを特に重点的にガス
処理することができるので、濃度が高いガスが漏洩する
可能性があるシリンダーキャビネットに対して重点的に
ガス処理を行って、より安全な処理を行うことができ
る。Further, according to the emergency gas treatment method of the present invention,
In an emergency, the cylinder cabinet can be treated with special emphasis on gas treatment, so it is possible to perform a safer treatment by concentrating the gas treatment on the cylinder cabinet where high concentration gas may leak. it can.
【図１】本発明に係る半導体成長装置の一例の概略構成
図である。1 is a schematic diagram of an example of a semiconductor growth apparatus according to the present invention.
【図２】図１の半導体成長装置に適用した本発明の緊急
ガス処理システムの実施例の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an emergency gas treatment system of the present invention applied to the semiconductor growth apparatus of FIG.
１ 半導体成長装置、２ シリンダーキャビネット、３
成長装置本体、１１シリンダーキャビネット室、１２
メンテナンス室、１３ 操作室、１４ 作業室、２０
緊急ガス処理システム、２１ 緊急ガス処理装置、２
２ 簡易処理装置、２３ 排気配管、Ｓ1 ，Ｓ2 ，
Ｓ3 ，Ｓ4 給排気システム、Ｄ1 ，Ｄ2ダンパー1 semiconductor growth equipment, 2 cylinder cabinet, 3
Growth device body, 11 cylinder cabinet room, 12
Maintenance room, 13 operation room, 14 working room, 20
Emergency gas treatment system, 21 Emergency gas treatment equipment, 2
2 simple processing equipment, 23 exhaust pipes, S 1 , S 2 ,
S 3 , S 4 air supply / exhaust system, D 1 , D 2 damper
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/02 Ｈ０１Ｌ 21/02 Ｄ (72)発明者 佐藤 浩通 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−260379（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−149591（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−15373（ＪＰ，Ａ) 実公 平５−17520（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/205 C30B 25/14 F17C 13/08 301 F17D 1/02 F24F 7/06 H01L 21/02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H01L 21/02 H01L 21/02 D (72) Inventor Komichi Sato 6-35 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (56) References JP-A-6-260379 (JP, A) JP-A-5-149591 (JP, A) JP-A-64-15373 (JP, A) Jitsuko 5-17520 (JP, Y2) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/205 C30B 25/14 F17C 13/08 301 F17D 1/02 F24F 7/06 H01L 21/02
Claims (3)
シリンダーキャビネットを、半導体成長装置の成長装置
本体より分離して、該成長装置本体から独立した給排気
システムとされた部屋に配置してなる半導体成長装置に
対して、 上記シリンダーキャビネットの筐体排気を緊急ガス処理
装置に接続し、 緊急時には、通常排気から上記緊急ガス処理装置へ切り
換え可能とすることを特徴とする緊急ガス処理システ
ム。1. A cylinder cabinet for arranging a specific high pressure gas and controlling opening and closing is separated from a growth apparatus main body of a semiconductor growth apparatus and placed in a room which is an air supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. In the semiconductor growth apparatus, the exhaust gas of the cylinder cabinet is connected to an emergency gas processing apparatus, and in an emergency, the normal exhaust gas can be switched to the emergency gas processing apparatus.
され、各装置の筐体のうち少なくとも上記シリンダーキ
ャビネットが配される装置の筐体に緊急ガス処理装置以
外の簡易処理装置を有していることを特徴とする請求項
１に記載の緊急ガス処理システム。2. The semiconductor growth apparatus is divided into a plurality of apparatuses, and a simple processing apparatus other than the emergency gas processing apparatus is provided in a housing of at least the cylinder cabinet of the housing of each apparatus. Claims characterized in that
Emergency gas treatment system according to 1.
シリンダーキャビネットを、半導体成長装置の成長装置
本体より分離して、該成長装置本体から独立した給排気
システムとされた部屋に配置してなる半導体成長装置に
対して、 上記緊急ガス処理装置に接続されたシリンダーキャビネ
ットの筐体排気を、 通常時は通常のガス処理装置に導入し、 緊急時には通常排気の配管を遮断し、緊急ガス処理装置
への配管へ切り換えてガス処理を行うことを特徴とする
緊急ガス処理方法。3. A cylinder cabinet for arranging a specific high pressure gas and controlling opening / closing is separated from the growth apparatus main body of the semiconductor growth apparatus and placed in a room which is an air supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. For the semiconductor growth device, the exhaust of the cylinder cabinet connected to the emergency gas treatment device is introduced into the normal gas treatment device during normal operation, and the pipe of the normal exhaust gas is cut off during an emergency to perform emergency gas treatment. An emergency gas treatment method, characterized by performing gas treatment by switching to piping to the device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27104796A JP3482787B2 (en) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | Emergency gas processing system and emergency gas processing method |
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