JP3472713B2 - Coating device and coating method - Google Patents
Coating device and coating methodInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶ディス
プレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）に使われる
ガラス基板上にレジスト液を塗布する塗布装置及び塗布
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a resist solution on a glass substrate used in, for example, a liquid crystal display (LCD).
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＬＣＤの製造工程においては、ＬＣＤ用
のガラス基板上にＩＴＯ（Indium TinOxide）の薄膜や
電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造
に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利
用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジス
トを基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。2. Description of the Related Art In the manufacturing process of LCD, in order to form a thin film of ITO (Indium TinOxide) and an electrode pattern on a glass substrate for LCD, a photolithography technique similar to that used for manufacturing a semiconductor device is used. Used. In the photolithography technique, a photoresist is applied to a substrate, which is exposed and further developed.
【０００３】このようなレジスト塗布工程では、ガラス
基板Ｇを回転させながらその上にレジスト液を滴下する
ことが従来から行われている。In such a resist coating process, it has been conventionally practiced to drop a resist solution on the glass substrate G while rotating the glass substrate G.
【０００４】図６は従来のレジスト塗布装置の一例を示
す正面図、図７はその平面図である。これらの図に示す
ように、ガラス基板Ｇを搬出入するための開口部１０１
が上部に設けられたカップ１０２内にガラス基板Ｇを真
空吸着保持するスピンチャック１０３が配置されてお
り、スピンチャック１０３は図示を省略した回転駆動機
構により回転されるようになっている。そして、ガラス
基板Ｇをスピンチャック１０３上に真空吸着保持した
後、ノズル１０４をガラス基板Ｇのほぼ中心の上方に位
置させ、ノズル１０４からガラス基板Ｇの上面にレジス
ト液を滴下するようになっている。FIG. 6 is a front view showing an example of a conventional resist coating apparatus, and FIG. 7 is a plan view thereof. As shown in these figures, an opening 101 for loading and unloading the glass substrate G.
A spin chuck 103 for vacuum-holding a glass substrate G is arranged in a cup 102 provided at the top of the spin chuck 103, and the spin chuck 103 is rotated by a rotation drive mechanism (not shown). Then, after the glass substrate G is vacuum-adsorbed and held on the spin chuck 103, the nozzle 104 is positioned above substantially the center of the glass substrate G, and the resist solution is dropped from the nozzle 104 onto the upper surface of the glass substrate G. There is.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、図８（ａ）
に示すように、ガラス基板Ｇのほぼ中心に滴下されたレ
ジスト液１０５は遠心力によってガラス基板Ｇの外周に
広がろうとするが、図８（ｂ）に示すように、ガラス基
板Ｇの外周付近でレジスト液１０５に割れ（レジスト液
１０５外周のギザギザ部分）を生じる恐れがある。そこ
で、従来からガラス基板Ｇ上に大量のレジスト液を供給
することでこのような割れの発生を防止していた。By the way, FIG. 8 (a)
As shown in FIG. 8, the resist solution 105 dropped almost at the center of the glass substrate G tries to spread to the outer periphery of the glass substrate G by the centrifugal force. However, as shown in FIG. Therefore, the resist liquid 105 may be cracked (a jagged portion on the outer periphery of the resist liquid 105). Therefore, conventionally, generation of such a crack has been prevented by supplying a large amount of resist solution onto the glass substrate G.
【０００６】しかしながら、このような場合、ガラス基
板Ｇ上に供給されたレジスト液の大半がガラス基板Ｇ外
周から零れ落ちるため、大半のレジスト液が無駄にな
る、という課題がある。However, in such a case, there is a problem that most of the resist solution supplied onto the glass substrate G spills from the outer periphery of the glass substrate G, and most of the resist solution is wasted.
【０００７】本発明は上記のような課題を解決するため
になされたもので、塗布液の使用量を少なくすることが
できる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とす
る。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method which can reduce the amount of coating liquid used.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつつ回転す
る保持回転部材と、前記保持回転部材により保持され回
転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を供給する
塗布液供給ノズルと、前記塗布液の遠心力による被処理
体上での広がりに応じて塗布液外周の外側に溶剤を供給
していく溶剤供給ノズルとを具備する。即ち、本発明で
は、被処理体のほぼ回転中心に供給された塗布液の広が
りに応じてその外側にシンナ等の溶剤が供給され、この
供給された溶剤によって外側に広がろうとする塗布液の
速度が均一化され、さらに溶剤によってぬれ性も向上す
るため、従来のように遠心力によって塗布液を広げた場
合に発生する塗布液の割れはなくなる。よって、塗布液
を大量に供給する必要がなくなり、塗布液の使用量を少
なくすることができる。In order to solve such problems, a coating apparatus according to the present invention comprises a holding and rotating member which rotates while holding an object to be processed, and an object to be processed which is held and rotated by the holding and rotating member. A coating liquid supply nozzle that supplies the coating liquid to the upper center of rotation, and a solvent supply nozzle that supplies the solvent to the outside of the outer periphery of the coating liquid in accordance with the spreading of the coating liquid on the object due to the centrifugal force. It is equipped with. That is, in the present invention, a solvent such as thinner is supplied to the outside in accordance with the spread of the coating liquid supplied to substantially the center of rotation of the object to be processed, and the coating liquid that is about to spread to the outside by the supplied solvent. Since the speed is made uniform and the wettability is improved by the solvent, cracking of the coating liquid which occurs when the coating liquid is spread by centrifugal force as in the conventional case is eliminated. Therefore, it is not necessary to supply a large amount of the coating liquid, and the amount of the coating liquid used can be reduced.
【０００９】本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつ
つ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保
持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を
供給する塗布液供給ノズルと、溶剤を塗布液供給前に予
め被処理体上に供給すると共に、前記塗布液の遠心力に
よる被処理体上での広がりに応じて塗布液外周の外側に
溶剤を供給していく溶剤供給ノズルとを具備する。即
ち、本発明では、塗布液供給前に、少なくとも被処理体
上のほぼ回転中心にシンナ等の溶剤を供給するため、ぬ
れ性のさらなる向上が図れ、塗布液外周における割れが
より少なくなり、塗布液の使用量を従来よりも少なくす
ることができる。The coating apparatus according to the present invention comprises a holding and rotating member that rotates while holding an object to be processed, and a coating solution that supplies the coating solution to substantially the center of rotation on the object to be held and rotated by the holding and rotating member. A supply nozzle and a solvent are supplied onto the object to be processed in advance before the application of the coating solution, and the solvent is supplied to the outside of the outer periphery of the coating solution in accordance with the spread of the coating solution on the object to be treated due to the centrifugal force. And a solvent supply nozzle. That is, in the present invention, since a solvent such as thinner is supplied to at least substantially the center of rotation on the object to be treated before supplying the coating liquid, the wettability can be further improved and cracks on the outer periphery of the coating liquid can be reduced. The amount of liquid used can be made smaller than before.
【００１０】本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつ
つ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保
持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を
供給する塗布液供給ノズルと、前記供給された塗布液が
遠心力により被処理体上で広がる際における塗布液外周
の割れを防止するための補助液を供給する補助液供給ノ
ズルと、前記補助液供給ノズルを被処理体上のほぼ回転
中心に対応する位置から外周へ、塗布液の広がりに応じ
て塗布液外周の外側に補助液を供給し得るように移送す
る移送機構とを具備する。即ち、本発明では、移送機構
を具備するため、被処理体のほぼ回転中心に供給された
塗布液の広がりに応じて確実に補助液を供給でき、塗布
液外周における割れをより確実に防止し、塗布液の使用
量を従来よりも少なくすることができる。The coating apparatus of the present invention comprises a holding and rotating member that rotates while holding an object to be processed, and a coating solution that supplies the coating solution to substantially the center of rotation on the object to be processed that is held and rotated by the holding and rotating member. The supply nozzle, the auxiliary liquid supply nozzle for supplying the auxiliary liquid for preventing the outer periphery of the coating liquid from being cracked when the supplied coating liquid spreads on the object by centrifugal force, and the auxiliary liquid supply nozzle And a transfer mechanism for transferring the auxiliary liquid from a position substantially corresponding to the center of rotation on the processing body to the outer periphery so that the auxiliary liquid can be supplied to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. That is, in the present invention, since the transfer mechanism is provided, it is possible to reliably supply the auxiliary liquid according to the spread of the coating liquid supplied to the substantially center of rotation of the object to be processed, and to more reliably prevent cracks on the outer periphery of the coating liquid. The amount of the coating liquid used can be reduced as compared with the conventional case.
【００１１】本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつ
つ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保
持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を
供給する塗布液供給ノズルと、前記供給された塗布液が
遠心力により被処理体上で広がる際における塗布液外周
の割れを防止するための補助液を供給する補助液供給ノ
ズルと、前記補助液供給ノズルを被処理体上のほぼ回転
中心に対応する位置から外周へ移送する移送機構と、前
記移送機構を、塗布液の広がりに応じて塗布液外周の外
側に補助液を供給し得るように移送するよう制御する制
御機構とを具備する。即ち、本発明では、移送機構のタ
イミングを制御する制御機構を有しているため、補助液
の供給タイミングの正確性がさらに向上し、塗布液使用
量のさらなる低減に資する。The coating apparatus according to the present invention comprises a holding and rotating member that rotates while holding an object to be processed, and a coating solution that supplies the coating solution to substantially the center of rotation on the object to be processed that is held and rotated by the holding and rotating member. The supply nozzle, the auxiliary liquid supply nozzle for supplying the auxiliary liquid for preventing the outer periphery of the coating liquid from being cracked when the supplied coating liquid spreads on the object by centrifugal force, and the auxiliary liquid supply nozzle A transfer mechanism for transferring from the position substantially corresponding to the center of rotation on the processing body to the outer periphery, and the transfer mechanism so as to transfer the auxiliary liquid to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. And a control mechanism for That is, in the present invention, since the control mechanism for controlling the timing of the transfer mechanism is provided, the accuracy of the supply timing of the auxiliary liquid is further improved, which contributes to the further reduction of the amount of coating liquid used.
【００１２】本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつ
つ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保
持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を
供給する塗布液供給ノズルと、前記被処理体の表面に向
けて溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、前記溶剤供給ノ
ズルを前記保持回転部材により保持され回転される被処
理体上のほぼ回転中心から該被処理体の外周に向けて移
動する移動手段と、前記保持回転部材による被処理体の
回転及び前記移動手段による溶剤供給ノズルの移動を、
これらの回転と移動とを関連付けながら制御する制御手
段とを具備する。ここで、例えば前記被処理体のほぼ回
転中心に供給され該被処理体の外周に向けて広がる塗布
液の外縁を検出する検出手段を更に設け、前記制御手段
は、前記検出手段による検出結果に基づき、前記被処理
体の表面に向けて供給される溶剤の供給位置が被処理体
の外周に向けて広がる塗布液の外縁の外側に位置するよ
うに、前記保持回転部材による被処理体の回転及び前記
移動手段による溶剤供給ノズルの移動を制御するように
構成してもよいし、前記被処理体の表面に向けて供給さ
れる溶剤の供給位置が被処理体の外周に向けて広がる塗
布液の外縁の外側に位置するように、前記保持回転部材
による被処理体の回転及び前記移動手段による溶剤供給
ノズルの移動を制御するためのデータを予め記憶する記
憶手段を更に設け、前記制御手段は、前記記憶手段によ
り記憶されたデータに基づき、前記保持回転部材による
被処理体の回転及び前記移動手段による溶剤供給ノズル
の移動を制御するように構成してもよい。本発明では、
上述した効果に加え、被処理体の表面に向けて供給され
る溶剤の供給位置が被処理体の外周に向けて広がる塗布
液の外縁の外側に正確に位置するように制御することが
可能になる。例えば、被処理体の表面に向けて供給され
る溶剤の供給位置が被処理体の外周に向けて広がる塗布
液の内側に位置すると、塗布液に溶剤による欠けが発生
するが、このような正確な制御によって欠けの発生を防
止できる。The coating apparatus according to the present invention comprises a holding and rotating member that rotates while holding an object to be processed, and a coating solution that supplies the coating solution to substantially the center of rotation of the object to be processed which is held and rotated by the holding and rotating member. A supply nozzle, a solvent supply nozzle that supplies a solvent toward the surface of the object to be processed, and the object to be processed from substantially the center of rotation on the object that is held and rotated by the holding and rotating member. The moving means for moving toward the outer periphery of, the rotation of the object to be processed by the holding rotating member and the movement of the solvent supply nozzle by the moving means,
A control means for controlling the rotation and the movement in association with each other is provided. Here, for example, a detection means for detecting an outer edge of the coating liquid which is supplied to substantially the center of rotation of the object to be processed and spreads toward the outer periphery of the object to be processed is further provided, and the control means determines the detection result by the detection means. On the basis of the rotation of the object to be processed by the holding and rotating member, the supply position of the solvent supplied to the surface of the object to be processed is located outside the outer edge of the coating liquid spreading toward the outer periphery of the object to be processed. Also, it may be configured to control the movement of the solvent supply nozzle by the moving means, and the supply position of the solvent supplied toward the surface of the object to be processed spreads toward the outer periphery of the object to be processed. So as to be located on the outer side of the outer edge of the storage means, the storage means further stores in advance data for controlling the rotation of the object to be processed by the holding and rotating member and the movement of the solvent supply nozzle by the moving means. Based on the data stored by the storage unit may be configured to control the movement of the solvent supply nozzle by rotation and the moving means of the workpiece by the holding rotating member. In the present invention,
In addition to the effects described above, it is possible to control so that the supply position of the solvent supplied toward the surface of the object to be processed is accurately positioned outside the outer edge of the coating liquid spreading toward the outer periphery of the object to be processed. Become. For example, if the supply position of the solvent supplied toward the surface of the object to be processed is located inside the coating solution that spreads toward the outer periphery of the object to be processed, the coating solution may be chipped due to the solvent. The occurrence of chipping can be prevented by various controls.
【００１３】本発明の塗布方法は、保持回転部材上に保
持された被処理体上のほぼ中心に塗布液を供給し、遠心
力により被処理体上で広げられることにより塗布される
塗布液の塗布方法において、塗布液を被処理体上のほぼ
中心に供給する工程と、供給された塗布液が遠心力によ
り被処理体上で広がる際における塗布液外周の割れを防
止するための補助液を、塗布液の広がりに応じて塗布液
外周の外側に供給していく工程とを具備する。即ち、本
発明では、被処理体のほぼ回転中心に供給された塗布液
の広がりに応じてその外側にシンナ等が供給され、この
供給されたシンナ等によって外側に広がろうとする塗布
液の速度が均一化され、さらにシンナ等によってぬれ性
も向上するため、従来のように遠心力によって塗布液を
広げた場合に発生する塗布液の割れはなくなる。よっ
て、塗布液を大量に供給する必要がなくなり、塗布液の
使用量を少なくすることができる。According to the coating method of the present invention, the coating liquid is supplied to almost the center of the object to be processed which is held on the holding and rotating member, and is spread on the object to be processed by the centrifugal force so that the coating solution is applied. In the coating method, a step of supplying the coating liquid to almost the center of the object to be treated and an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the object to be treated by centrifugal force. And the step of supplying the coating liquid to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. That is, in the present invention, a thinner or the like is supplied to the outside according to the spread of the coating liquid supplied to substantially the center of rotation of the object to be processed, and the speed of the coating liquid that tends to spread to the outside by the supplied thinner or the like. Is uniformed and the wettability is improved by thinner or the like, so that cracking of the coating solution which occurs when the coating solution is spread by centrifugal force as in the conventional case is eliminated. Therefore, it is not necessary to supply a large amount of the coating liquid, and the amount of the coating liquid used can be reduced.
【００１４】本発明の塗布方法は、保持回転部材上に保
持された被処理体上のほぼ中心に塗布液を供給し、遠心
力により被処理体上で広げられることにより塗布される
塗布液の塗布方法において、供給された塗布液が遠心力
により被処理体上で広がる際における塗布液外周の割れ
を防止するための補助液を、被処理体上に、塗布液供給
前に予め供給する工程と、塗布液を被処理体上のほぼ中
心に供給する工程と、さらに、前記補助液を、塗布液の
広がりに応じて塗布液外周の外側に供給していく工程と
を具備する。即ち、本発明では、塗布液供給前に、少な
くとも被処理体上のほぼ回転中心にシンナ等を供給する
ため、ぬれ性のさらなる向上が図れ、塗布液外周におけ
る割れがより少なくなり、塗布液の使用量を従来よりも
少なくすることができる。According to the coating method of the present invention, the coating liquid is supplied to approximately the center of the object to be treated which is held on the holding and rotating member, and is spread on the object to be treated by centrifugal force so that the coating liquid is applied. In the coating method, a step of previously supplying an auxiliary liquid for preventing a crack on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the substrate by centrifugal force before the coating liquid is supplied onto the substrate. And a step of supplying the coating liquid to almost the center of the object to be processed, and a step of supplying the auxiliary liquid to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. That is, in the present invention, since the thinner or the like is supplied to at least substantially the center of rotation on the object to be treated before supplying the coating liquid, the wettability can be further improved, cracks on the outer periphery of the coating liquid can be reduced, and The amount used can be reduced as compared with the conventional one.
【００１５】本発明の塗布方法は、回転する被処理体の
ほぼ回転中心に塗布液を供給する工程と、所定期間経過
後、前記被処理体の回転を減速しつつ、塗布液外周の外
側に溶剤を供給していく工程とを具備する。本発明で
は、上述した効果に加え、溶剤の塗布を被処理体の減速
時に行っているので、溶剤を供給するための手段を低速
或いは移動させる必要がなくなり、制御が容易になる。
本発明の塗布装置は、被処理体を回転させ供給された塗
布液を広げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記
塗布液を前記被処理体のほぼ中心部に供給する塗布液供
給ノズルと、前記被処理体に広がる塗布液に基づいて移
動し溶剤を供給する溶剤供給ノズルとを具備する。本発
明の塗布装置は、被処理体を回転させ供給された塗布液
を広げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布
液を前記被処理体のほぼ中心部のみに供給する塗布液供
給ノズルと、前記被処理体に広がる塗布液に基づいて被
処理体と平行に移動し被処理体の中心方向に傾斜して溶
剤を供給する溶剤供給ノズルとを具備する。本発明の塗
布装置は、被処理体を回転させ供給された塗布液を広
げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布液を
前記被処理体のほぼ中心部に供給する塗布液供給ノズル
と、前記被処理体に広がる塗布液に先行して移動し溶剤
を供給する溶剤供給ノズルとを具備する。本発明の塗布
装置は、被処理体を回転させ供給された塗布液を広げ、
塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布液を前記
被処理体のほぼ中心部に供給する塗布液供給ノズルと、
前記被処理体に広がる塗布液に基づいて移動し溶剤を供
給する溶剤供給ノズルと、を具備し、前記溶剤供給ノズ
ルの駆動を前記塗布液供給ノズルの駆動より先行して駆
動する制御機構とを具備する。本発明の塗布方法は、被
処理体を回転させ供給された塗布液を広げ、塗布膜を形
成する塗布方法において、前記被処理体のほぼ中心部に
溶剤を供給する工程と、前記溶剤の供給を前記被処理体
の周縁方向に移動する工程と、この溶剤の供給を前記被
処理体の周縁方向の移動に基づいて前記塗布液を前記被
処理体のほぼ中心部に供給する工程とを具備する。 本発
明の塗布方法は、被処理体を回転させ供給された塗布液
を広げ、塗布膜を形成する塗布方法において、前記被処
理体のほぼ中心部から被処理体の周縁方向に向かって溶
剤を供給する工程と、この工程中前記溶剤を追い越さな
い程度の量の前記塗布液を前記被処理体のほぼ中心部に
供給する工程とを具備する。本発明の塗布方法は、被処
理体を回転させ供給された塗布液を広げ、塗布膜を形成
する塗布方法において、前記被処理体と平行に移動しつ
つ前記被処理体のほぼ中心部から被処理体の周縁方向に
向かって溶剤を供給する工程と、前記移動に基づいて前
記塗布液を前記被処理体のほぼ中心部に供給する工程と
を具備する。 The coating method of the present invention comprises a step of supplying the coating liquid to the substantially center of rotation of the rotating object to be treated, and, after a lapse of a predetermined period of time, decelerating the rotation of the object to be treated, and applying the coating liquid to the outside of the outer periphery of the coating liquid. And a step of supplying a solvent. In the present invention, in addition to the effects described above, the solvent is applied when the object to be processed is decelerated, so that it is not necessary to move the means for supplying the solvent at a low speed or to move, and control is facilitated.
The coating apparatus of the present invention is a coating apparatus that is provided by rotating the object to be treated.
In a coating device that spreads the cloth liquid and forms a coating film,
The coating liquid is supplied to almost the center of the object to be treated.
Based on the supply nozzle and the coating liquid spreading on the object to be processed,
And a solvent supply nozzle that moves to supply a solvent. Starting
The bright coating device is a coating liquid supplied by rotating the object to be processed.
In a coating device for spreading the coating film to form a coating film.
A coating liquid supply that supplies the liquid only to almost the center of the object to be treated.
Based on the supply nozzle and the coating liquid spreading on the object to be treated,
Moves parallel to the processing object and inclines toward the center of the object to be melted.
And a solvent supply nozzle for supplying the agent. Coating of the present invention
The cloth device spreads the applied coating liquid by rotating the object to be processed.
Coating liquid in a coating device that forms a coating film.
A coating liquid supply nozzle that supplies the liquid to almost the center of the object to be processed.
And the solvent that moves in advance of the coating liquid spreading on the object to be treated.
And a solvent supply nozzle for supplying. Application of the present invention
The device rotates the object to be processed, spreads the supplied coating liquid,
In a coating device for forming a coating film, the coating liquid is
A coating liquid supply nozzle for supplying the substantially central portion of the object to be processed,
It moves based on the coating liquid spreading on the object to be treated to supply the solvent.
And a solvent supply nozzle for supplying the solvent.
Drive the coating liquid before driving the coating liquid supply nozzle.
And a moving control mechanism. The coating method of the present invention
Rotate the processing body to spread the supplied coating liquid and shape the coating film.
In the coating method to be formed,
The step of supplying a solvent and the supply of the solvent are performed on the object to be treated.
The step of moving the solvent in the peripheral direction and the supply of this solvent.
Based on the movement of the processing body in the peripheral direction, the coating liquid is covered with the coating liquid.
And a step of supplying the treatment body to substantially the center thereof. Starting
The bright coating method is the coating liquid supplied by rotating the object to be processed.
In the coating method of spreading the coating film to form a coating film.
Melt from the center of the body toward the peripheral edge of the object to be processed.
The step of supplying the agent and the solvent must not be overtaken during this step.
Apply a small amount of the coating solution to the center of the object to be treated.
And a step of supplying. The coating method of the present invention
Form the coating film by rotating the body and spreading the supplied coating liquid.
In the coating method,
From the center of the object to be processed to the peripheral direction of the object.
The process of supplying the solvent toward the
And a step of supplying the coating liquid to almost the central portion of the object to be treated,
It is equipped with.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係る塗
布・現像処理システムの斜視図である。図１に示すよう
に、この塗布・現像処理システム１の前方には、ガラス
基板Ｇを、塗布・現像処理システム１に対して搬出入す
るローダ・アンローダ部２が設けられている。このロー
ダ・アンローダ部２には、ガラス基板Ｇを例えば２５枚
ずつ収納したカセットＣを所定位置に整列させて載置さ
せるカセット載置台３と、各カセットＣから処理すべき
ガラス基板Ｇを取り出し、また塗布・現像処理システム
１において処理の終了したガラス基板Ｇを各カセットＣ
へ戻すローダ・アンローダ４が設けられている。図示の
ローダアンローダ４は、本体５の走行によってカセット
Ｃの配列方向に移動し、本体５に搭載された板片状のピ
ンセット６によって各カセットＣからガラス基板Ｇを取
り出し、また各カセットＣへガラス基板Ｇを戻すように
なっている。また、ピンセット６の両側には、ガラス基
板Ｇの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ
部材７が設けられている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a coating / developing processing system according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, in front of the coating / developing processing system 1, a loader / unloader section 2 for loading / unloading the glass substrate G into / from the coating / developing processing system 1 is provided. In the loader / unloader unit 2, for example, a cassette mounting table 3 on which a cassette C containing, for example, 25 glass substrates G at a predetermined position is arranged and mounted, and a glass substrate G to be processed is taken out from each cassette C, In addition, the glass substrate G that has been processed in the coating / developing processing system 1 is placed in each cassette C.
A loader / unloader 4 is provided for returning to. The illustrated loader / unloader 4 moves in the arrangement direction of the cassettes C by the traveling of the main body 5, takes out the glass substrate G from each cassette C by the plate-like tweezers 6 mounted on the main body 5, and also transfers glass to each cassette C. The substrate G is returned. Further, on both sides of the tweezers 6, there are provided substrate alignment members 7 for holding the four corners of the glass substrate G and performing alignment.
【００１７】塗布・現像処理システム１の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路１０、１１が第１
の受け渡し部１２を介して一直線上に設けられており、
この搬送路１０、１１の両側には、ガラス基板Ｇに対す
る各処理を行うための各種処理装置が配置されている。At the center of the coating / developing system 1,
The corridor-shaped transport paths 10 and 11 arranged in the longitudinal direction are first
Is provided in a straight line through the delivery section 12 of
Various processing devices for performing each processing on the glass substrate G are arranged on both sides of the transport paths 10 and 11.
【００１８】図示の塗布・現像処理システム１にあって
は、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄
すると共に高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄
装置１６が例えば２台並設されている。また、搬送路１
０を挟んで反対側に、二基の現像装置１７が並設され、
その隣りに二基の加熱装置１８が積み重ねて設けられて
いる。In the coating / development processing system 1 shown in the figure, for example, two cleaning devices 16 for brush cleaning the glass substrate G and cleaning with high-pressure jet water are provided on one side of the transport path 10. It is set up. Also, the transport path 1
Two developing devices 17 are arranged side by side on the opposite side across 0.
Next to it, two heating devices 18 are stacked and provided.
【００１９】また、搬送路１１の一側方に、ガラス基板
Ｇにレジスト液を塗布する前にガラス基板Ｇを疎水処理
するアドヒージョン装置２０が設けられ、このアドヒー
ジョン装置２０の下方には冷却用のクーリング装置２１
が配置されている。また、これらアドヒージョン装置２
０とクーリング装置２１の隣には加熱装置２２が二列に
二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路１１
を挟んで反対側に、ガラス基板Ｇの表面にレジスト液を
塗布することによってガラス基板Ｇの表面にレジスト膜
を形成するレジスト塗布装置２３が配置されている。図
示はしないが、これら塗布装置２３の側部には、第２の
受け渡し部２８を介し、ガラス基板Ｇ上に形成されたレ
ジスト膜に所定の微細パターンを露光するための露光装
置等が設けられる。第２の受け渡し部２８は、ガラス基
板Ｇを搬入および搬出するための搬出入ピンセット２９
および受け渡し台３０を備えている。Further, an adhesion device 20 for hydrophobically treating the glass substrate G before applying the resist solution to the glass substrate G is provided on one side of the transport path 11, and below the adhesion device 20 is a cooling device. Cooling device 21
Are arranged. In addition, these adhesion devices 2
0 and the cooling device 21 are adjacent to each other and two heating devices 22 are arranged in two rows. In addition, the transport path 11
A resist coating device 23 for coating a resist solution on the surface of the glass substrate G to form a resist film on the surface of the glass substrate G is disposed on the opposite side of the glass substrate G. Although not shown, an exposure device and the like for exposing a predetermined fine pattern on the resist film formed on the glass substrate G via the second transfer part 28 is provided on the side of the coating device 23. . The second transfer unit 28 is a carry-in / take-out tweezers 29 for carrying in and carrying out the glass substrate G.
And a delivery table 30.
【００２０】以上の各処理装置１６〜１８および２０〜
２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラ
ス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１
の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置
１６〜１８および第１の受け渡し部１２との間でガラス
基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の
搬送装置２６が第１の受け渡し部１２、第２の受け渡し
部２８および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板
Ｇを搬送するために搬送路１１上を移動するようになっ
ている。Each of the above processing devices 16-18 and 20-
23 is arranged on both sides of the transport paths 10 and 11 with the entrance and exit of the glass substrate G facing inward. First
Transport device 25 moves on the transport path 10 to transport the glass substrate G among the loader / unloader unit 2, the processing devices 16 to 18 and the first transfer unit 12, and the second transport device 26. Moves on the transfer path 11 to transfer the glass substrate G among the first transfer section 12, the second transfer section 28, and the processing devices 20 to 23.
【００２１】各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一
対のアーム２７、２７を有しており、各処理装置１６〜
１８および２０〜２３にアクセスするときは、一方のア
ーム２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス
基板Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基
板Ｇをチャンバ内に搬入するように構成されている。Each of the transfer devices 25 and 26 has a pair of upper and lower arms 27 and 27, and each of the processing devices 16 to.
When accessing 18 and 20 to 23, one arm 27 carries out the processed glass substrate G from the chamber of each processing apparatus, and the other arm 27 carries in the unprocessed glass substrate G into the chamber. Is configured.
【００２２】図２は図１に示したレジスト塗布装置２３
の正面図、図３はその平面図である。これらの図に示す
ように、レジスト塗布装置２３のほぼ中央には、カップ
２９が配置され、カップ２９内にはガラス基板Ｇを保持
するための保持回転部材であるスピンチャック２８が配
置されている。FIG. 2 shows the resist coating device 23 shown in FIG.
Is a front view and FIG. 3 is a plan view thereof. As shown in these drawings, a cup 29 is arranged at substantially the center of the resist coating device 23, and a spin chuck 28 which is a holding and rotating member for holding the glass substrate G is arranged in the cup 29. .
【００２３】スピンチャック２８には、ガラス基板Ｇを
真空吸着保持するための真空吸着装置３７が接続されて
いる。カップ２９の上部には、ガラス基板Ｇを出し入れ
するための開口部３８が設けられている。開口部３８に
は、上蓋３０が被せられるようになっている。上蓋３０
は開閉機構（図示を省略）によって移動可能に支持され
ている。The spin chuck 28 is connected to a vacuum suction device 37 for vacuum suction holding the glass substrate G. An opening 38 for inserting and removing the glass substrate G is provided on the upper portion of the cup 29. The upper lid 30 is put on the opening 38. Top lid 30
Is movably supported by an opening / closing mechanism (not shown).
【００２４】第１のモータ３１はスピンチャック２８を
回転させるための駆動源であり、第２のモータ３２はカ
ップ２９を回転させるための駆動源である。昇降シリン
ダ３３はスピンチャック２８をＺ軸方向に昇降させるた
めの駆動源である。The first motor 31 is a drive source for rotating the spin chuck 28, and the second motor 32 is a drive source for rotating the cup 29. The lift cylinder 33 is a drive source for moving the spin chuck 28 up and down in the Z-axis direction.
【００２５】スピンチャック２８の載置部４０の外周側
下面には、シール部材４１が取り付けられている。スピ
ンチャック２８を下降させて、シール部材４１をカップ
２９の底部に当接させると、気密な処理スペース４２が
形成されるようになっている。A seal member 41 is attached to the lower surface of the mounting portion 40 of the spin chuck 28 on the outer peripheral side. When the spin chuck 28 is lowered to bring the seal member 41 into contact with the bottom portion of the cup 29, an airtight processing space 42 is formed.
【００２６】第１のモータ３１及び第２のモータ３２は
ＣＰＵ３６によって回転駆動が制御されるようになって
いる。また、ＣＰＵ３６によって昇降シリンダ３３は昇
降制御されるようになっている。The rotation drive of the first motor 31 and the second motor 32 is controlled by the CPU 36. Further, the elevating cylinder 33 is controlled to elevate and lower by the CPU 36.
【００２７】昇降シリンダ３３の回転軸４３は、固定カ
ラー４４の内周面にベアリング４５を介して回転可能に
装着される回転円筒４６の円周面に嵌着されるスプライ
ン軸受４７に摺動可能に連結されている。スプライン軸
受４７には、従動プーリ４８が装着されており、従動プ
ーリ４８には第1のモータ３１の駆動軸４９に装着され
た駆動プーリ５０との間にタイミングベルト５１が掛け
渡されている。The rotating shaft 43 of the lifting cylinder 33 is slidable on a spline bearing 47 fitted on the circumferential surface of a rotating cylinder 46 which is rotatably mounted on the inner peripheral surface of a fixed collar 44 via a bearing 45. Are linked to. A driven pulley 48 is mounted on the spline bearing 47, and a timing belt 51 is stretched between the driven pulley 48 and a drive pulley 50 mounted on a drive shaft 49 of the first motor 31.
【００２８】したがって、第１のモータ３１の駆動によ
ってタイミングベルト５１を介して回転軸４３が回転し
てスピンチャック２８が回転される。Therefore, when the first motor 31 is driven, the rotary shaft 43 is rotated via the timing belt 51 and the spin chuck 28 is rotated.
【００２９】また、回転軸４３の下部側は図示しない筒
体内に配設されており、筒体内において回転軸４３はバ
キュームシール部５２を介して昇降シリンダ３３の駆動
によって回転軸４３がＺ軸方向に移動し得るようになっ
ている。The lower side of the rotary shaft 43 is disposed in a cylinder (not shown), and the rotary shaft 43 is driven by the lifting cylinder 33 via the vacuum seal 52 to move the rotary shaft 43 in the Z-axis direction. You can move to.
【００３０】カップ２９は、固定カラー４４の外周面に
ベアリング５３を介して装着される回転外筒５４の上端
部に固定される連結筒５５を介して取り付けられてお
り、回転外筒５４に装着される従動プーリ５６と第2の
モータ３２の駆動軸５７に装着される駆動プーリ５８に
掛け渡されるタイミングベルト５９によって第2のモー
タ３２からの駆動がカップ２９に伝達されてカップ２９
が水平方向に回転されるように構成されている。The cup 29 is attached to the outer peripheral surface of the fixed collar 44 via a connecting cylinder 55 fixed to the upper end of a rotating outer cylinder 54 mounted via a bearing 53, and is attached to the rotating outer cylinder 54. The drive from the second motor 32 is transmitted to the cup 29 by the timing belt 59 that is wound around the driven pulley 56 and the drive pulley 58 mounted on the drive shaft 57 of the second motor 32.
Is configured to rotate horizontally.
【００３１】また、カップ２９の外周側には、中空リン
グ状のドレンカップ６０が配設されており、カップ２９
から飛散されたミストを回収し得るようになっている。A hollow ring-shaped drain cup 60 is arranged on the outer peripheral side of the cup 29.
The mist scattered from can be collected.
【００３２】さらに、第１のモータ３１にはエンコーダ
６１が取り付けられ、第2のモータ３２にはエンコーダ
６２が取り付けられている。これらエンコーダ６１、６
２によって検出された検出信号はＣＰＵ３６に伝達さ
れ、ＣＰＵ３６にて比較演算された出力信号に基づいて
第１のモータ３１及び第２のモータ３２についての回転
動作がそれぞれ制御されるようになっている。Further, an encoder 61 is attached to the first motor 31 and an encoder 62 is attached to the second motor 32. These encoders 61, 6
The detection signal detected by 2 is transmitted to the CPU 36, and the rotation operation of each of the first motor 31 and the second motor 32 is controlled based on the output signal which is compared and calculated by the CPU 36. .
【００３３】図３に示すように、カップ２９の両側に
は、図示を省略した一対のプーリ間に無端ベルト７１、
７１が掛け渡されている。プーリは駆動手段であるステ
ッピングモータ７１ａにより回転駆動され、これにより
無端ベルト７１が回転するようになっている。無端ベル
ト７１、７１間には、後述の補助液供給機構８０を構成
する保持部材８１が掛け渡されており、この保持部材８
１は図示を省略した駆動機構により昇降可能とされてい
る。As shown in FIG. 3, an endless belt 71 is provided between a pair of pulleys (not shown) on both sides of the cup 29.
71 has been passed over. The pulley is rotatably driven by a stepping motor 71a, which is a drive unit, so that the endless belt 71 is rotated. A holding member 81 constituting an auxiliary liquid supply mechanism 80, which will be described later, is stretched between the endless belts 71, 71.
1 can be moved up and down by a drive mechanism (not shown).
【００３４】カップ２９の外側には、レジスト液供給機
構７２が配置されている。レジスト液供給機構７２は、
図示を省力した駆動機構により回動される回動部材７３
を有し、回動部材７３の先端部にはガラス基板Ｇのほぼ
回転中心にレジスト液を供給するための塗布液供給ノズ
ルであるレジスト液供給ノズル７４が取り付けられてい
る。なお、図示しないが、無端ベルト７１、７１間に、
後述の補助液供給機構８０を構成する保持部材８１とは
別途に他の保持部材を配置し、この他の保持部材８１の
ほぼ中央に、ほぼ円筒形状で、上部に開口部が設けら
れ、下部に吐出孔が設けられている受け器ノズルを配設
し、レジスト液供給ノズル７４からのレジスト液をこの
受け器ノズルに対して供給し、受け器ノズルの吐出孔か
らガラス基板Ｇ上にレジスト液を供給する構成とするこ
ともできる。この場合には、レジスト液が圧力ではなく
重力により供給されることになるため、ガラス基板Ｇ上
にレジスト液が平均的に塗布されるという利点を有す
る。A resist liquid supply mechanism 72 is arranged outside the cup 29. The resist liquid supply mechanism 72 is
Rotating member 73 that is rotated by a drive mechanism (not shown)
A resist solution supply nozzle 74, which is a coating solution supply nozzle for supplying the resist solution to the substantially center of rotation of the glass substrate G, is attached to the tip of the rotating member 73. Although not shown, between the endless belts 71, 71,
Another holding member is arranged separately from a holding member 81 that constitutes an auxiliary liquid supply mechanism 80, which will be described later. The other holding member 81 has a substantially cylindrical shape at the substantially center thereof, and an opening is provided at the upper portion, and a lower portion is provided. A receiver nozzle having a discharge hole is provided in the receiver, the resist liquid from the resist liquid supply nozzle 74 is supplied to the receiver nozzle, and the resist liquid is discharged onto the glass substrate G from the discharge hole of the receiver nozzle. Can also be configured to be supplied. In this case, since the resist solution is supplied by gravity instead of pressure, there is an advantage that the resist solution is evenly applied onto the glass substrate G.
【００３５】補助液供給機構８０は、上記したように、
無端ベルト７１、７１間に掛け渡された保持部材８１
と、この保持部材８１のほぼ中央に配置された補助液供
給ノズルであるシンナ供給ノズル８２とを有して構成さ
れている。なお、塗布液が本実施の形態のようにレジス
ト液である場合には、塗布液外周の割れ防止用の補助液
としてはシンナ等の有機溶剤を用いることが好ましい。The auxiliary liquid supply mechanism 80 is, as described above,
A holding member 81 hung between the endless belts 71.
And a thinner supply nozzle 82, which is an auxiliary liquid supply nozzle, arranged substantially at the center of the holding member 81. When the coating liquid is a resist liquid as in the present embodiment, it is preferable to use an organic solvent such as thinner as an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid.
【００３６】ここで、保持部材８１には、ガラス基板Ｇ
のほぼ回転中心に供給されガラス基板Ｇの外周に向けて
広がるレジストの外縁を検出する検出手段としての検出
センサ８２ａが設けられている。この検出センサ８２ａ
による検出結果は、ＣＰＵ３６に送られるようになって
いる。ＣＰＵ３６は、この結果に基づき、第１のモータ
３１及び第２のモータ３２についての回転（つまりガラ
ス基板Ｇの回転）ステッピングモータ７１ａにより回転
（つまりシンナ供給ノズル８２の移動）を制御するもの
である。具体的には、ＣＰＵ３６は、レジスト液が広が
っていく外周の外側に、レジスト液が広がっていくスピ
ードに僅かに先行してシンナを供給できるように、ガラ
ス基板Ｇの回転及びシンナ供給ノズル８２の移動を制御
する。なお、上記のような検出手段を設けるのではな
く、ガラス基板Ｇの表面に向けて供給されるシンナの供
給位置がガラス基板Ｇの外周に向けて広がるレジスト液
の外縁の外側に位置するように、第１のモータ３１及び
第２のモータ３２についての回転（つまりガラス基板Ｇ
の回転）ステッピングモータ７１ａにより回転（つまり
シンナ供給ノズル８２の移動）を制御するためのデータ
を予め記憶する記憶手段を設け、ＣＰＵ３６が、レジス
ト液が広がっていく外周の外側に、レジスト液が広がっ
ていくスピードに僅かに先行してシンナを供給できるよ
うに、ガラス基板Ｇの回転及びシンナ供給ノズル８２の
移動を制御するように構成しても構わない。Here, the holding member 81 includes the glass substrate G.
A detection sensor 82a is provided as a detection means for detecting the outer edge of the resist which is supplied to substantially the center of rotation and spreads toward the outer periphery of the glass substrate G. This detection sensor 82a
The result of detection by is sent to the CPU 36. Based on this result, the CPU 36 controls the rotation (that is, the rotation of the glass substrate G) of the first motor 31 and the second motor 32 by the stepping motor 71a (that is, the movement of the thinner supply nozzle 82). . Specifically, the CPU 36 rotates the glass substrate G and moves the thinner supply nozzle 82 so that thinner can be supplied to the outside of the outer periphery where the resist solution spreads, slightly ahead of the speed at which the resist solution spreads. Control movement. Instead of providing the above-described detection means, the supply position of the thinner supplied toward the surface of the glass substrate G is located outside the outer edge of the resist solution spreading toward the outer periphery of the glass substrate G. , Rotation about the first motor 31 and the second motor 32 (that is, the glass substrate G
The CPU 36 provides a storage means for storing in advance data for controlling the rotation (that is, the movement of the thinner supply nozzle 82) by the stepping motor 71a, and the CPU 36 spreads the resist solution outside the outer periphery where the resist solution spreads. The rotation of the glass substrate G and the movement of the thinner supply nozzle 82 may be controlled so that the thinner can be supplied slightly ahead of the moving speed.
【００３７】また、シンナ供給ノズル８２は、ガラス基
板Ｇのほぼ回転中心に相当する位置から移送し始める
が、ガラス基板Ｇのほぼ回転中心に相当する位置には、
レジスト液を供給するためのレジスト液供給ノズル７４
が位置している。したがって、シンナ供給ノズル８２の
移送開始位置は、ガラス基板Ｇのほぼ回転中心に相当す
る位置といっても、厳密には、図３に示したようにレジ
スト液供給ノズル７４のレジスト液供給位置に隣接した
位置とならざるを得ない。このため、シンナ供給ノズル
８２は、当該位置からでもガラス基板Ｇのほぼ回転中心
に相当する位置にシンナを供給できるようにするため、
図４（ａ）に示したように、ノズルの向きをガラス基板
Ｇの回転中心に向けてやや傾斜させて配置することが好
ましい。The thinner supply nozzle 82 starts to move from a position substantially corresponding to the center of rotation of the glass substrate G, but at a position substantially corresponding to the center of rotation of the glass substrate G.
Resist solution supply nozzle 74 for supplying the resist solution
Is located. Therefore, although the transfer start position of the thinner supply nozzle 82 is a position substantially corresponding to the center of rotation of the glass substrate G, strictly speaking, as shown in FIG. 3, it is at the resist liquid supply position of the resist liquid supply nozzle 74. There is no choice but to be adjacent to each other. Therefore, the thinner supply nozzle 82 can supply the thinner to the position substantially corresponding to the rotation center of the glass substrate G even from this position.
As shown in FIG. 4A, it is preferable to arrange the nozzle so that the direction of the nozzle is slightly inclined toward the center of rotation of the glass substrate G.
【００３８】次に、このように構成されたレジスト塗布
装置２３の動作について説明する。スピンチャック２８
がカップ２９の開口部３８より上方に上昇している状態
で、搬送装置２６よりスピンチャック２８上にガラス基
板Ｇが移載され、真空吸着保持される。Next, the operation of the resist coating device 23 thus constructed will be described. Spin chuck 28
The glass substrate G is transferred from the transfer device 26 onto the spin chuck 28 in a state in which the glass substrate G is raised above the opening 38 of the cup 29, and is vacuum suction-held.
【００３９】次に、昇降シリンダ３３の駆動によりスピ
ンチャック２８が下降され、ガラス基板Ｇが開口部３８
を介してカップ２９内に搬入される。Then, the spin chuck 28 is lowered by driving the elevating cylinder 33, and the glass substrate G is opened 38.
It is carried into the cup 29 via.
【００４０】次に、回動部材７３が回動され、その先端
部のレジスト液供給ノズル７４がガラス基板Ｇ上のほぼ
中心に相当する位置にセットされる。また、搬送用レー
ル７１、７１に沿って保持部材８１が移動し、シンナ供
給ノズル８２がレジスト液供給ノズル７４に隣接した位
置にセットされる。この際、シンナ供給ノズル８２は、
上記したようにガラス基板Ｇのほぼ中心に向けられて調
整されている。Next, the rotating member 73 is rotated, and the resist solution supply nozzle 74 at the tip thereof is set at a position corresponding to substantially the center of the glass substrate G. Further, the holding member 81 moves along the transfer rails 71, 71, and the thinner supply nozzle 82 is set at a position adjacent to the resist liquid supply nozzle 74. At this time, the thinner supply nozzle 82 is
As described above, the glass substrate G is adjusted so as to be oriented substantially at the center thereof.
【００４１】次に、第１のモータ３１によりスピンチャ
ック２８の回転が開始されると共に、まず、シンナ供給
ノズル８２からシンナ８２ａが供給され始め、これと同
時にガラス基板Ｇの外側に向かってその保持部材８１が
搬送用レール７１、７１に沿って移動していく（図４
（ａ），（ｂ）参照）。そして、シンナの供給直後に
は、レジスト液供給ノズル７４からレジスト液７４ａの
供給が開始される。Next, the rotation of the spin chuck 28 is started by the first motor 31, and first, the thinner 82a starts to be supplied from the thinner supply nozzle 82, and at the same time, the thinner 82a is held toward the outside of the glass substrate G. The member 81 moves along the transfer rails 71, 71 (FIG. 4).
(See (a) and (b)). Immediately after the supply of the thinner, the supply of the resist solution 74a is started from the resist solution supply nozzle 74.
【００４２】これにより、シンナ８２ａおよびレジスト
液７４ａのいずれもスピンチャック２８の回転に伴う遠
心力により広がっていくが、図４（ａ）〜（ｃ）に示し
たように、シンナ８２ａがシンナ供給ノズル８２から吐
出（供給）されることによって、ガラス基板Ｇ上には、
一時的に吐出（供給）ライン８２ｂが形成される。しか
も、この吐出ライン８２ｂは、スピンチャック２８が回
転しているため、ほぼリング状にその部分だけが一時的
に盛り上がるように、かつ、保持部材８１が回転中心か
ら外周に向かって移送されているため、リングの直径が
レジスト液７４ａの広がりに対応して次第に大きくなる
ように形成されていく。この結果、レジスト液７４ａ
は、このシンナ８２ａの吐出ライン８２ｂに規制されな
がら広がっていくことになり、レジスト液７４ａの外周
はシンナ８２ａの吐出ライン８２ｂに沿って均一速度で
広がり、割れることなく広がることになる。また、シン
ナ８２ａによりガラス基板Ｇに対するぬれ性を向上させ
ることができることも作用して、レジスト液７４ａは、
その外周が割れることなく広がっていく。As a result, both the thinner 82a and the resist solution 74a are spread by the centrifugal force accompanying the rotation of the spin chuck 28, but as shown in FIGS. 4 (a) to 4 (c), the thinner 82a supplies the thinner. By being discharged (supplied) from the nozzle 82, on the glass substrate G,
The ejection (supply) line 82b is temporarily formed. Moreover, since the spin chuck 28 is rotating in the discharge line 82b, only the portion thereof is temporarily raised in a substantially ring shape, and the holding member 81 is transferred from the rotation center toward the outer circumference. Therefore, the diameter of the ring is gradually increased in accordance with the spread of the resist liquid 74a. As a result, the resist liquid 74a
Will spread while being regulated by the discharge line 82b of the thinner 82a, and the outer periphery of the resist liquid 74a will spread at a uniform speed along the discharge line 82b of the thinner 82a without cracking. Further, the thinner 82a also improves the wettability of the glass substrate G, and the resist liquid 74a is
The outer circumference spreads without cracking.
【００４３】なお、上記した説明では、シンナ８２ａの
供給開始直後からレジスト液７４ａの供給を開始してい
るが、これに先立って保持部材８１を移送させてシンナ
８２ａだけを、予めガラス基板Ｇ上に供給し、その後再
び、保持部材８１をガラス基板Ｇの中心に相当する位置
に復帰させた後、改めて、上記した工程を行うようにし
てもよい。これにより、ガラス基板Ｇに対するぬれ性が
さらに高まり、レジスト液７４ａの使用量をより低減す
ることができる。In the above description, the supply of the resist liquid 74a is started immediately after the supply of the thinner 82a is started. However, prior to this, the holding member 81 is transferred so that only the thinner 82a is previously placed on the glass substrate G. May be supplied to the holding member 81 and then the holding member 81 may be returned to the position corresponding to the center of the glass substrate G, and then the above-described steps may be performed again. As a result, the wettability with respect to the glass substrate G is further enhanced, and the amount of the resist liquid 74a used can be further reduced.
【００４４】その後、第１のモータ３１の回転が停止さ
れてガラス基板Ｇの回転が停止される。また、回動部材
７３は、カップ２９の外側まで回動され、保持部材８１
もカップ２９の外側まで搬送される。Then, the rotation of the first motor 31 is stopped and the rotation of the glass substrate G is stopped. Further, the rotating member 73 is rotated to the outside of the cup 29, and the holding member 81
Is also conveyed to the outside of the cup 29.
【００４５】次に、開閉機構（図示を省略）によって上
蓋３０が下降されて開口部３８に被せられ、開口部３８
が閉じられる。そして、第１のモータ３１と第２のモー
タ３２が同期回転されることによって、スピンチャック
２８、カップ２９、上蓋３０及びガラス基板Ｇが一体的
に回転される。これにより、ガラス基板Ｇ上に塗布され
たレジスト液が乾燥し、ガラス基板Ｇ上にレジスト膜が
形成される。Next, the upper lid 30 is lowered by an opening / closing mechanism (not shown) to cover the opening 38, and the opening 38 is opened.
Is closed. Then, the spin chuck 28, the cup 29, the upper lid 30, and the glass substrate G are integrally rotated by synchronously rotating the first motor 31 and the second motor 32. As a result, the resist solution applied on the glass substrate G is dried and a resist film is formed on the glass substrate G.
【００４６】その後、第１のモータ３１と第２のモータ
３２の回転が停止されてスピンチャック２８、カップ２
９、上蓋３０及びガラス基板Ｇの一体的な回転が停止さ
れ、開閉機構（図示を省略）によって上蓋３０が上昇さ
れ、開口部３８が空けられる。After that, the rotations of the first motor 31 and the second motor 32 are stopped, and the spin chuck 28 and the cup 2 are stopped.
9, the integral rotation of the upper lid 30 and the glass substrate G is stopped, the upper lid 30 is lifted by the opening / closing mechanism (not shown), and the opening 38 is opened.
【００４７】次に、昇降シリンダ３３の駆動によりスピ
ンチャック２８が上昇され、ガラス基板Ｇが開口部３８
を介してカップ２９外に搬出され、ガラス基板Ｇがスピ
ンチャック２８上から搬送装置２６に移載される。Next, the spin chuck 28 is raised by driving the elevating cylinder 33, and the glass substrate G is opened 38.
The glass substrate G is carried out of the cup 29 via the, and the glass substrate G is transferred from the spin chuck 28 to the transfer device 26.
【００４８】以上のように、本実施の形態によれば、レ
ジスト液が遠心力によって広がる際に、保持部材８１に
配置されたシンナ供給ノズル８２からレジスト液外周の
外側にシンナが供給されるため、レジスト液の広がりを
シンナによって規制しながら、しかもガラス基板Ｇに対
するぬれ性を向上させながらレジスト液を塗布すること
ができる。したがって、レジスト液外周の割れがなくな
り、結果としてレジスト液の使用量を従来よりも少なく
することができる。As described above, according to the present embodiment, when the resist solution spreads due to the centrifugal force, the thinner is supplied from the thinner supply nozzle 82 arranged in the holding member 81 to the outside of the outer periphery of the resist solution. The resist solution can be applied while controlling the spread of the resist solution by the thinner and improving the wettability to the glass substrate G. Therefore, the outer periphery of the resist solution is not cracked, and as a result, the amount of the resist solution used can be reduced as compared with the conventional case.
【００４９】本発明は上述した実施の形態には限定され
ない。例えば、図５に示すように、レジスト液を供給し
ていく過程で、ガラス基板の回転を減速する期間を設
け、この減速期間を上述したようなシンナを供給するた
めの期間としても構わない。これにより、シンナ供給ノ
ズル８２の移動速度を遅くでき、或いは移動が不要とな
るので、移動制御が簡単になるという効果がある。The present invention is not limited to the above embodiment. For example, as shown in FIG. 5, in the process of supplying the resist solution, a period for decelerating the rotation of the glass substrate may be provided, and this deceleration period may be the period for supplying the thinner as described above. As a result, the movement speed of the thinner supply nozzle 82 can be slowed down, or the movement is unnecessary, which has the effect of simplifying the movement control.
【００５０】また、上述した実施形態において、シンナ
供給ノズル８２により吐出されるシンナを少なめの量か
ら徐々に多くしていきながらシンナ供給ノズル８２のス
キャンを行うように構成してもよい。これにより、ガラ
ス基板Ｇにはどの位置においても一定量のシンナを供給
することが可能となる。In the above-described embodiment, the thinner supply nozzle 82 may be scanned while gradually increasing the thinner discharged from the thinner supply nozzle 82 from a small amount. This makes it possible to supply a constant amount of thinner to the glass substrate G at any position.
【００５１】例えば、上述した実施の形態では、レジス
ト液を塗布する装置に本発明を適用したが、他の塗布液
を塗布する装置にも本発明を当然適用することができ、
またガラス基板ばかりでなく他の被処理体にも当然本発
明を適用できる。For example, in the above-described embodiments, the present invention is applied to the apparatus for applying the resist liquid, but the present invention can naturally be applied to the apparatus for applying other coating liquids.
The present invention can be applied not only to the glass substrate but also to other objects to be processed.
【００５２】[0052]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、前記保
持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ
回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、前記
塗布液の遠心力による被処理体上での広がりに応じて塗
布液外周の外側に溶剤を供給していく溶剤供給ノズルと
を具備するように構成したので、塗布液を大量に供給す
る必要がなくなり、塗布液の使用量を少なくすることが
できる。As described above, according to the present invention,
A holding rotary member that rotates while holding the object to be processed, a coating liquid supply nozzle that supplies the coating liquid to substantially the center of rotation on the object that is held and rotated by the holding rotary member, and a centrifugal force of the coating liquid. Since it is configured to have a solvent supply nozzle that supplies the solvent to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread on the object to be processed by the above, it is not necessary to supply a large amount of the coating liquid, The amount used can be reduced.
【００５３】本発明によれば、被処理体を保持しつつ回
転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保持さ
れ回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を供給
する塗布液供給ノズルと、溶剤を塗布液供給前に予め被
処理体上に供給すると共に、前記塗布液の遠心力による
被処理体上での広がりに応じて塗布液外周の外側に溶剤
を供給していく溶剤供給ノズルとを具備するように構成
したので、ぬれ性のさらなる向上が図れ、塗布液外周に
おける割れがより少なくなり、塗布液の使用量を従来よ
りも少なくすることができる。According to the present invention, the holding and rotating member that rotates while holding the object to be processed, and the coating liquid supply that supplies the coating solution to substantially the center of rotation on the object to be processed which is held and rotated by the holding and rotating member. A nozzle and a solvent that supplies a solvent in advance to the object to be processed before supplying the coating liquid, and supplies the solvent to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid on the object to be treated due to the centrifugal force. Since it is configured to include the supply nozzle, the wettability can be further improved, cracks on the outer periphery of the coating liquid can be reduced, and the amount of the coating liquid used can be reduced as compared with the conventional case.
【００５４】本発明によれば、被処理体を保持しつつ回
転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保持さ
れ回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を供給
する塗布液供給ノズルと、前記供給された塗布液が遠心
力により被処理体上で広がる際における塗布液外周の割
れを防止するための補助液を供給する補助液供給ノズル
と、前記補助液供給ノズルを被処理体上のほぼ回転中心
に対応する位置から外周へ、塗布液の広がりに応じて塗
布液外周の外側に補助液を供給し得るように移送する移
送機構とを具備するように構成したので、塗布液の広が
りに応じて確実に補助液を供給でき、塗布液外周におけ
る割れをより確実に防止し、塗布液の使用量を従来より
も少なくすることができる。According to the present invention, the holding and rotating member that rotates while holding the object to be processed, and the coating liquid supply that supplies the coating solution to substantially the center of rotation on the object to be held and rotated by the holding and rotating member. A nozzle, an auxiliary liquid supply nozzle for supplying an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the object to be processed by centrifugal force, and the auxiliary liquid supply nozzle for processing Since it is configured to have a transfer mechanism that transfers the auxiliary liquid from the position substantially corresponding to the center of rotation on the body to the outer periphery so that the auxiliary liquid can be supplied to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid, It is possible to reliably supply the auxiliary liquid in accordance with the spread of the liquid, more reliably prevent cracks on the outer periphery of the coating liquid, and reduce the amount of the coating liquid used as compared with the conventional case.
【００５５】本発明の塗布装置によれば、被処理体を保
持しつつ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材に
より保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗
布液を供給する塗布液供給ノズルと、前記供給された塗
布液が遠心力により被処理体上で広がる際における塗布
液外周の割れを防止するための補助液を供給する補助液
供給ノズルと、前記補助液供給ノズルを被処理体上のほ
ぼ回転中心に対応する位置から外周へ移送する移送機構
と、前記移送機構を、塗布液の広がりに応じて塗布液外
周の外側に補助液を供給し得るように移送するよう制御
する制御機構とを具備するように構成したので、補助液
の供給タイミングの正確性がさらに向上し、塗布液使用
量のさらなる低減に資する。According to the coating apparatus of the present invention, the coating liquid is supplied to the holding and rotating member that rotates while holding the object to be processed, and substantially the center of rotation on the object to be processed that is held and rotated by the holding and rotating member. A coating liquid supply nozzle, an auxiliary liquid supply nozzle for supplying an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the object by centrifugal force, and the auxiliary liquid supply nozzle And a transfer mechanism for transferring to the outer periphery from a position substantially corresponding to the center of rotation on the object to be processed, and the transfer mechanism so that the auxiliary liquid can be supplied to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. Therefore, the accuracy of the auxiliary liquid supply timing is further improved, and the amount of coating liquid used is further reduced.
【００５６】本発明の塗布装置によれば、被処理体を保
持しつつ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材に
より保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗
布液を供給する塗布液供給ノズルと、前記被処理体の表
面に向けて溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、前記溶剤
供給ノズルを前記保持回転部材により保持され回転され
る被処理体上のほぼ回転中心から該被処理体の外周に向
けて移動する移動手段と、前記保持回転部材による被処
理体の回転及び前記移動手段による溶剤供給ノズルの移
動を、これらの回転と移動とを関連付けながら制御する
制御手段とを具備するので、上述した効果に加え、被処
理体の表面に向けて供給される溶剤の供給位置が被処理
体の外周に向けて広がる塗布液の外縁の外側に正確に位
置するように制御することが可能になる。According to the coating apparatus of the present invention, the coating liquid is supplied to the holding and rotating member that rotates while holding the object to be processed, and substantially the center of rotation on the object to be processed that is held and rotated by the holding and rotating member. A coating liquid supply nozzle, a solvent supply nozzle for supplying a solvent toward the surface of the object to be processed, and the solvent supply nozzle from the rotation center of the object to be processed which is held and rotated by the holding and rotating member. A moving unit that moves toward the outer periphery of the processing body, and a control unit that controls the rotation of the processing target body by the holding and rotating member and the movement of the solvent supply nozzle by the moving unit while associating the rotation and the movement. In addition to the effects described above, the solvent is supplied to the surface of the object to be processed so that the position of the solvent is accurately located outside the outer edge of the coating liquid that spreads toward the outer periphery of the object. Rukoto becomes possible.
【００５７】本発明によれば、保持回転部材上に保持さ
れた被処理体上のほぼ中心に塗布液を供給し、遠心力に
より被処理体上で広げられることにより塗布される塗布
液の塗布方法において、塗布液を被処理体上のほぼ中心
に供給する工程と、供給された塗布液が遠心力により被
処理体上で広がる際における塗布液外周の割れを防止す
るための補助液を、塗布液の広がりに応じて塗布液外周
の外側に供給していく工程とを具備するように構成した
ので、塗布液を大量に供給する必要がなくなり、塗布液
の使用量を少なくすることができる。According to the present invention, the coating liquid is applied to the center of the object to be processed held on the holding and rotating member, and the coating solution is applied by being spread on the object to be processed by centrifugal force. In the method, a step of supplying the coating liquid to approximately the center of the object to be treated, and an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the object to be treated by centrifugal force, Since it is configured to include a step of supplying the coating liquid to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid, it is not necessary to supply a large amount of the coating liquid, and the amount of the coating liquid used can be reduced. .
【００５８】本発明によれば、保持回転部材上に保持さ
れた被処理体上のほぼ中心に塗布液を供給し、遠心力に
より被処理体上で広げられることにより塗布される塗布
液の塗布方法において、供給された塗布液が遠心力によ
り被処理体上で広がる際における塗布液外周の割れを防
止するための補助液を、被処理体上に、塗布液供給前に
予め供給する工程と、塗布液を被処理体上のほぼ中心に
供給する工程と、さらに、前記補助液を、塗布液の広が
りに応じて塗布液外周の外側に供給していく工程とを具
備するように構成したので、ぬれ性のさらなる向上が図
れ、塗布液外周における割れがより少なくなり、塗布液
の使用量を従来よりも少なくすることができる。According to the present invention, the coating liquid is supplied to approximately the center of the object to be processed held on the holding and rotating member, and is applied by being spread on the object to be processed by centrifugal force. In the method, a step of preliminarily supplying an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the substrate by centrifugal force before the coating liquid is supplied. And a step of supplying the coating liquid to almost the center of the object to be processed, and a step of supplying the auxiliary liquid to the outside of the outer periphery of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. Therefore, the wettability can be further improved, cracks on the outer periphery of the coating liquid can be reduced, and the amount of the coating liquid used can be reduced as compared with the conventional case.
【００５９】本発明の塗布方法は、回転する被処理体の
ほぼ回転中心に塗布液を供給する工程と、所定期間経過
後、前記被処理体の回転を減速しつつ、塗布液外周の外
側に溶剤を供給していく工程とを具備する。本発明で
は、上述した効果に加え、溶剤の塗布を被処理体の減速
時に行っているので、溶剤を供給するための手段を低速
或いは移動させる必要がなくなり、制御が容易になる。The coating method of the present invention comprises a step of supplying the coating liquid to the substantially center of rotation of the rotating object to be treated, and a step of decelerating the rotation of the object to be treated outside the outer periphery of the coating liquid after a lapse of a predetermined period. And a step of supplying a solvent. In the present invention, in addition to the effects described above, the solvent is applied when the object to be processed is decelerated, so that it is not necessary to move the means for supplying the solvent at a low speed or to move, and control is facilitated.
【図１】 本発明の一の実施の形態に係る塗布・現像処
理システムの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a coating / developing processing system according to an embodiment of the present invention.
【図２】 図１に示したレジスト塗布装置の正面図であ
る。2 is a front view of the resist coating apparatus shown in FIG.
【図３】 図１に示したレジスト塗布装置の平面図であ
る。FIG. 3 is a plan view of the resist coating apparatus shown in FIG.
【図４】 図１に示したレジスト塗布装置による塗布工
程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a coating process by the resist coating apparatus shown in FIG.
【図５】 本発明の変形例を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a modified example of the present invention.
【図６】 従来のレジスト塗布装置の一例を示す正面図
である。FIG. 6 is a front view showing an example of a conventional resist coating apparatus.
【図７】 従来のレジスト塗布装置の一例を示す平面図
である。FIG. 7 is a plan view showing an example of a conventional resist coating apparatus.
【図８】 従来のレジスト塗布装置における問題点を示
す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a problem in a conventional resist coating apparatus.
２３ レジスト塗布装置 ２８ スピンチャック ７１ 搬送用レール ７２ レジスト液供給機構 ７４ レジスト液供給ノズル ７４ａ レジスト液 ８０ 補助液供給機構 ８１ 保持部材 ８２ シンナ供給ノズル ８２ａ シンナ ８２ｂ 吐出ライン Ｇ ガラス基板Ｇ 23 Resist coating device 28 Spin chuck 71 Transport rail 72 Resist solution supply mechanism 74 Resist liquid supply nozzle 74a resist liquid 80 Auxiliary liquid supply mechanism 81 holding member 82 Thinner supply nozzle 82a Thinna 82b Discharge line G glass substrate G
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/16 502 H01L 21/027 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/16 502 H01L 21/027
Claims (17)
部材と、 前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上
のほぼ回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル
と、 前記塗布液の遠心力による被処理体上での広がりに応じ
て塗布液外周の外側に溶剤を供給していく溶剤供給ノズ
ルとを具備することを特徴とする塗布装置。1. A holding / rotating member that rotates while holding an object to be processed, a coating liquid supply nozzle that supplies a coating liquid to substantially the center of rotation on an object to be processed that is held and rotated by the holding and rotating member, and A coating device, comprising: a solvent supply nozzle that supplies a solvent to the outside of the outer periphery of the coating liquid in accordance with the spread of the coating liquid on the object to be processed by the centrifugal force.
部材と、 前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上
のほぼ回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル
と、 溶剤を塗布液供給前に予め被処理体上に供給すると共
に、前記塗布液の遠心力による被処理体上での広がりに
応じて塗布液外周の外側に溶剤を供給していく溶剤供給
ノズルとを具備することを特徴とする塗布装置。2. A holding / rotating member that rotates while holding the object to be processed, a coating liquid supply nozzle that supplies the coating liquid to substantially the center of rotation on the object to be held and rotated by the holding and rotating member, and a solvent. And a solvent supply nozzle that supplies a solvent to the outside of the outer periphery of the coating liquid in accordance with the spread of the coating liquid on the substrate due to the centrifugal force of the coating liquid. A coating device comprising:
部材と、 前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上
のほぼ回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル
と、 前記供給された塗布液が遠心力により被処理体上で広が
る際における塗布液外周の割れを防止するための補助液
を供給する補助液供給ノズルと、 前記補助液供給ノズルを被処理体上のほぼ回転中心に対
応する位置から外周へ、塗布液の広がりに応じて塗布液
外周の外側に補助液を供給し得るように移送する移送機
構とを具備することを特徴とする塗布装置。3. A holding / rotating member that rotates while holding an object to be processed, a coating liquid supply nozzle that supplies a coating liquid to substantially the center of rotation on an object to be processed that is held and rotated by the holding and rotating member, and An auxiliary liquid supply nozzle for supplying an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the object by centrifugal force, and the auxiliary liquid supply nozzle is provided on the object to be treated. A coating device comprising: a transfer mechanism that transfers the auxiliary liquid from a position corresponding to the center of rotation to the outer periphery so that the auxiliary liquid can be supplied to the outside of the outer periphery of the coating liquid in accordance with the spread of the coating liquid.
部材と、 前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上
のほぼ回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル
と、 前記供給された塗布液が遠心力により被処理体上で広が
る際における塗布液外周の割れを防止するための補助液
を供給する補助液供給ノズルと、 前記補助液供給ノズルを被処理体上のほぼ回転中心に対
応する位置から外周へ移送する移送機構と、 前記移送機構を、塗布液の広がりに応じて塗布液外周の
外側に補助液を供給し得るように移送するよう制御する
制御機構とを具備することを特徴とする塗布装置。4. A holding / rotating member that rotates while holding an object to be processed, a coating liquid supply nozzle that supplies a coating liquid to substantially the center of rotation of the object to be held and rotated by the holding and rotating member, An auxiliary liquid supply nozzle for supplying an auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the supplied coating liquid spreads on the object by centrifugal force, and the auxiliary liquid supply nozzle is provided on the object to be treated. A transfer mechanism that transfers from the position corresponding to the center of rotation to the outer circumference, and a control mechanism that controls the transfer mechanism to transfer the auxiliary liquid to the outside of the outer circumference of the coating liquid according to the spread of the coating liquid. A coating device comprising:
部材と、 前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上
のほぼ回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル
と、 前記被処理体の表面に向けて溶剤を供給する溶剤供給ノ
ズルと、 前記溶剤供給ノズルを前記保持回転部材により保持され
回転される被処理体上のほぼ回転中心から該被処理体の
外周に向けて移動する移動手段と、前記被処理体のほぼ回転中心に供給され該被処理体の外
周に向けて広がる塗布液の外縁を検出する検出手段と、 前記検出手段による検出結果に基づき、前記被処理体の
表面に向けて供給される溶剤の供給位置が被処理体の外
周に向けて広がる塗布液の外縁の外側に位置するよう
に、前記保持回転部材による被処理体の回転及び前記移
動手段による溶剤供給ノズルの移動を制御する制御手段
と を具備する ことを特徴とする塗布装置。5. Holding rotation for rotating while holding an object to be processed
Members, On the object to be processed which is held and rotated by the holding rotating member
Coating liquid supply nozzle that supplies the coating liquid almost at the center of rotation
When, A solvent supply nozzle for supplying a solvent toward the surface of the object to be treated.
Cheating, The solvent supply nozzle is held by the holding rotary member.
The object to be processed is rotated from the center of rotation on the object to be rotated.
A movement means that moves toward the outer circumference,The material is supplied to almost the center of rotation of the object to be processed
Detection means for detecting the outer edge of the coating liquid spreading toward the circumference, Based on the detection result by the detection means,
The position of the solvent supplied toward the surface is outside the object to be processed.
Be positioned outside the outer edge of the coating solution that spreads toward the circumference
The rotation of the object to be processed by the holding and rotating member and the transfer.
Control means for controlling the movement of the solvent supply nozzle by the moving means
When To have A coating device characterized by the above.
部材と、 前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上
のほぼ回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル
と、 前記被処理体の表面に向けて溶剤を供給する溶剤供給ノ
ズルと、 前記溶剤供給ノズルを前記保持回転部材により保持され
回転される被処理体上のほぼ回転中心から該被処理体の
外周に向けて移動する移動手段と、 前記被処理体の表面に向けて供給される溶剤の供給位置
が被処理体の外周に向けて広がる塗布液の外縁の外側に
位置するように、前記保持回転部材による被処理体の回
転及び前記移動手段による溶剤供給ノズルの移動を制御
するためのデータを予め記憶する記憶手段と、 前記記憶手段により記憶されたデータに基づき、前記保
持回転部材による被処理体の回転及び前記移動手段によ
る溶剤供給ノズルの移動を制御する制御手段とを具備す
ることを特徴とする塗布装置。A holding rotating member 6. rotates while holding the object to be processed, and the coating liquid supply nozzle for supplying a coating solution to a substantially center of rotation of the workpiece to be rotated is held by the holding rotating member, wherein A solvent supply nozzle for supplying a solvent toward the surface of the object to be processed, and the solvent supply nozzle from the substantially center of rotation on the object to be held and rotated by the holding and rotating member toward the outer periphery of the object to be processed. The moving means for moving and the supply position of the solvent supplied toward the surface of the object to be processed are located outside the outer edge of the coating liquid spreading toward the outer periphery of the object to be processed, and are covered by the holding and rotating member. Storage means for pre-storing data for controlling the rotation of the processing body and the movement of the solvent supply nozzle by the moving means, and the processing by the holding and rotating member based on the data stored by the storage means. Rotation and coating apparatus characterized by comprising a control means for controlling the movement of the solvent supply nozzle by said moving means.
のほぼ中心に塗布液を供給し、遠心力により被処理体上
で広げられることにより塗布される塗布液の塗布方法に
おいて、 塗布液を被処理体上のほぼ中心に供給する工程と、 供給された塗布液が遠心力により被処理体上で広がる際
における塗布液外周の割れを防止するための補助液を、
塗布液の広がりに応じて塗布液外周の外側に供給してい
く工程とを具備することを特徴とする塗布方法。7. A method for applying a coating liquid, which comprises applying the coating liquid to a substantially center of an object to be processed held on a holding and rotating member and spreading the liquid on the object to be processed by centrifugal force. A step of supplying the liquid to almost the center of the object to be treated, and an auxiliary liquid for preventing the outer periphery of the coating solution from cracking when the supplied coating liquid spreads on the object to be treated by centrifugal force,
And a step of supplying the coating solution to the outside of the outer periphery of the coating solution according to the spread of the coating solution.
のほぼ中心に塗布液を供給し、遠心力により被処理体上
で広げられることにより塗布される塗布液の塗布方法に
おいて、 供給された塗布液が遠心力により被処理体上で広がる際
における塗布液外周の割れを防止するための補助液を、
被処理体上に、塗布液供給前に予め供給する工程と、 塗布液を被処理体上のほぼ中心に供給する工程と、 さらに、前記補助液を、塗布液の広がりに応じて塗布液
外周の外側に供給していく工程とを具備することを特徴
とする塗布方法。8. A method for applying a coating liquid, which comprises applying the coating liquid to a substantially center of an object to be processed held on a holding and rotating member and spreading the liquid on the object to be processed by centrifugal force. Auxiliary liquid for preventing cracks on the outer periphery of the coating liquid when the applied coating liquid spreads on the object to be processed by centrifugal force,
A step of supplying the coating liquid onto the object to be processed in advance, a step of supplying the coating liquid to almost the center of the object to be treated, and further, the auxiliary liquid according to the spread of the coating liquid on the outer periphery of the coating liquid. And a step of supplying it to the outside of the coating method.
液を供給する工程と、 所定期間経過後、前記被処理体の回転を減速しつつ、塗
布液外周の外側に溶剤を供給していく工程とを具備する
ことを特徴とする塗布方法。9. A step of supplying a coating liquid to substantially the center of rotation of a rotating object to be treated, and after a predetermined period of time, decelerating the rotation of the object to be treated and supplying a solvent to the outside of the outer periphery of the coating solution. A coating method comprising the steps of:
側に向かうにつれて少なめ量から徐々に多くしていくこ
とを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の塗布方
法。 10. The coating method according to claim 5, wherein the amount of the auxiliary liquid or the solvent is gradually increased from the smaller amount toward the outside of the object to be treated.
を広げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布
液を前記被処理体のほぼ中心部に供給する塗布液供給ノ
ズルと、前記被処理体に広がる塗布液が規制されながら
遠心力で広がる ように、塗布液の広がりに応じて塗布液
外周の外側に溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、 を具備したことを特徴とする塗布装置。11. A coating liquid supply nozzle for supplying the coating liquid to substantially the central portion of the processing target in a coating device for rotating the processing target to spread the supplied coating liquid to form a coating film, while the coating solution spreading on the target object is restricted
Depending on the spread of the coating liquid, the coating liquid can be spread by centrifugal force.
A solvent supply nozzle for supplying a solvent to the outer periphery, and a coating device.
を広げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布
液を前記被処理体のほぼ中心部のみに供給する塗布液供
給ノズルと、塗布液の広がりに応じて前記被処理体と平
行に移動し被処理体の中心方向に傾斜して溶剤を塗布液
外周の外側に供給する溶剤供給ノズルと、 を具備したことを特徴とする塗布装置。12. A coating liquid supply nozzle for supplying the coating liquid to substantially only the central portion of the processing target in a coating device for rotating the processing target to spread the supplied coating liquid to form a coating film, Depending on the spread of the coating liquid, it moves parallel to the object to be treated and inclines toward the center of the object to be treated to apply the solvent.
A coating device comprising: a solvent supply nozzle that supplies the liquid to the outside of the outer periphery .
を広げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布
液を前記被処理体のほぼ中心部に供給する塗布液供給ノ
ズルと、前記被処理体に広がる塗布液に先行して移動し
溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、 を具備したことを特徴とする塗布装置。13. A coating liquid supply nozzle for supplying the coating liquid to substantially the central portion of the processing target in a coating device for rotating the processing target to spread the supplied coating liquid to form a coating film, A coating device, comprising: a solvent supply nozzle that moves ahead of the coating liquid spreading on the object to be processed and supplies a solvent.
を広げ、塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布
液を前記被処理体のほぼ中心部に供給する塗布液供給ノ
ズルと、前記被処理体に広がる塗布液に基づいて移動し
溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、を具備し、前記溶剤
供給ノズルの駆動を前記塗布液供給ノズルの駆動より先
行して駆動する制御機構と、 を具備したことを特徴とする塗布装置。14. A coating apparatus for rotating a target object to spread the supplied coating solution to form a coating film, the coating solution supplying nozzle for supplying the coating solution to a substantially central portion of the target object, and A solvent supply nozzle that moves based on the coating liquid spreading on the object to be processed to supply a solvent, and a control mechanism that drives the solvent supply nozzle prior to driving the coating liquid supply nozzle. An applicator characterized by being provided.
を広げ、塗布膜を形成する塗布方法において、溶剤を回
転する被処理体のほぼ中心部から外側に向かって移動し
ながら供給し、被処理体上にリング状に一時的に盛り上
がる溶剤の吐出ラインを形成する工程と、前記塗布液を
前記被処理体のほぼ中心部に供給し、前記吐出ラインに
規制されながら遠心力により塗布液を広げる工程と、 を具備したことを特徴とする塗布方法。15. In a coating method for forming a coating film by rotating a target object to spread the supplied coating liquid, the solvent is stirred.
It moves from the center of the rotating object to the outside.
While it is supplied, it rises temporarily in a ring shape on the object to be processed.
And a step of forming a discharge line for the solvent, and supplying the coating liquid to the substantially central portion of the object to be processed to the discharge line.
A coating method comprising a step of spreading the coating solution by centrifugal force while being regulated .
を広げ、塗布膜を形成する塗布方法において、前記被処
理体のほぼ中心部から被処理体の周縁方向に向かって溶
剤を供給する工程と、この工程中前記溶剤を追い越さな
い程度の量の前記塗布液を前記被処理体のほぼ中心部に
供給する工程と、 を具備したことを特徴とする塗布方法。16. A coating method for forming a coating film by rotating an object to be processed to spread the applied coating liquid, and supplying a solvent from a substantially central portion of the object to be treated in a peripheral direction of the object. A coating method comprising: a step; and a step of supplying an amount of the coating liquid that does not pass the solvent during this step to substantially the center of the object to be treated.
液を供給し、遠心力により被処理体上で広げられること
により塗布される塗布液の塗布方法において、 前記塗布液を被処理体のほぼ中心に供給する工程と、 前記供給された塗布液が遠心力により被処理体上で広が
るのを規制するように塗布液の広がりに応じて塗布液外
周の外側に溶剤を一時的に盛り上がるようにリング状に
供給して塗布液の広がりを規制しながら塗布液を被処理
体上で広げる工程とを具備することを特徴とする塗布方
法。 17. A method for applying a coating liquid, which comprises applying the coating liquid to a substantially center of a rotating target to be processed and spreading the coating liquid on the target by centrifugal force. And the step of supplying the coating solution to the substantially central portion of the coating solution, and the solvent is temporarily swelled outside the outer circumference of the coating solution in accordance with the spreading of the coating solution so as to prevent the supplied coating solution from spreading on the object to be processed by centrifugal force. And a step of spreading the coating solution on the object to be treated while controlling the spreading of the coating solution in a ring shape as described above.
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