JP3460416B2 - 電子ビーム描画装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置Info
- Publication number
- JP3460416B2 JP3460416B2 JP31774695A JP31774695A JP3460416B2 JP 3460416 B2 JP3460416 B2 JP 3460416B2 JP 31774695 A JP31774695 A JP 31774695A JP 31774695 A JP31774695 A JP 31774695A JP 3460416 B2 JP3460416 B2 JP 3460416B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- aperture
- deflector
- width
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
に関する。
て、例えば、特開平4−246815 号公報に記載のように、
成形偏向用の偏向器のほかに専用の図形選択用偏向器を
持たせ、第一アパーチャを通過した電子ビーム像を第二
アパーチャ上に投影させ、図形を選択する方法が採られ
ていた。図形選択偏向器は、大きな偏向角が必要なた
め、駆動電圧が50Vと大きく、偏向整定時間も1μs
と長い。また、従来、三角図形の描画は、細かな矩形に
分割して描画していたため、三角形を含む図形の描画に
は多くの時間を必要としていた。
形を選択するために専用の図形選択偏向器が必要なた
め、装置の構成が複雑になるとともに、図形選択偏向器
を用いて三角形の図種を選択するため、偏向整定時間が
かかり、描画のスループットが向上しないという問題が
ある。また、三角形を細かい矩形で描画する方法でもパ
ターン数が多くなりスループットが上がらないという問
題があった。
大きさを変えるとともに、かつ一括で高速に描画するこ
とにある。
二のアパーチャに投影し、二つのアパーチャを通過した
電子ビームによって図形を成形する電子ビーム描画装置
において、第二アパーチャ上に可変成形用の矩形図形開
口と、その周辺に複数の方向の異なる三角形の開口部を
設け、可変成形用のW(幅)/H(高さ)偏向器によっ
て三角形の図種を選択するとともに、W/H偏向量を変
えることによって三角形の大きさを変える構成とする。
また、三角形を選択するとともに大きさを変えるため
に、図形の種類を示す図種データと図形の大きさを示す
W/H寸法データとを入力として、W/H偏向器に印加
する電圧を補正する回路を設ける。さらに、矩形開口の
周辺に配置された三角形が選択されたときに生じる始点
座標(X/Y)のずれ量を補正するために、図種と始点
データX/Yとを入力として、それぞれの三角形の始点
座標を補正する回路を設ける。
を示す図である。コンピュータ1から送られた描画デー
タは描画制御装置2によって、図形の位置や大きさを決
定するためのW/H偏向信号101やX/Y偏向信号1
02を出力するとともに、ステージ9を制御するための
ステージ制御信号108を出力し、それぞれ描画装置本
体に供給される。
矩形の開口部103を持つアパーチャ4を通り、W/H
偏向電極5によって偏向された後、矩形や複数の三角形
の開口を持つアパーチャ6に照射される。アパーチャ4
を通過した矩形の電子ビーム105がW/H偏向電極に
より偏向され、アパーチャ6の矩形開口部104に照射
されると、アパーチャ6を通過した電子ビームは、W/
H偏向によって指定された大きさの矩形ビームとなり、
X/Y偏向電極7でウエハ上の所望の位置に偏向され、
ウエハ8に矩形図形106を描画する。また、W/H偏
向電極5によりアパーチャ6上の三角形の開口が選択さ
れた場合には三角図形107を描画する。
W/H偏向器5によって、図形の大きさを制御すると同
時に、四角形や各種の三角形などの図種を選択し三角形
を一括図形として描画する。また、W/H偏向器によっ
て図種を選択した時に生じるそれぞれの図形位置のオフ
セット(始点のずれ)は、X/Y偏向信号102に加算
してX/Y偏向器7で偏向することによって、座標が補
正され、指定された位置に正確に描画する。
における偏向器の構成を示した図である。電子源201
から放出された電子ビームはアパーチャ4を通り、矩形
のビームとなる。矩形ビームは、成形偏向器5と図形選
択偏向器202および転写レンズ203とによって、ア
パーチャ6上の一括図形あるいは可変矩形が選択され、
縮小レンズ207で縮小された後、対物絞り204を通
過し、対物レンズ205,対物偏向器206で偏向され、ス
テージ9に搭載されたウエハ8に図形を描画する。
ーチャ6の詳細を示した図である。アパーチャ6は中央
部分に矩形開口部301を配置し、その周りに302の
ような一括図形アパーチャを配置している。アパーチャ
4を通過した電子ビームは、成形偏向器5と図種選択用
の図形選択偏向器202によって、304あるいは30
5の位置に偏向され、大きさの異なる矩形を描画する。
一方、一括図形を描画する場合には、303の位置にア
パーチャ4を通過した電子ビームを偏向して、一括図形
を描画する。
として図形選択偏向器202を使用している。一括図形
は、図形の種類が多いため、アパーチャ6上に広い範囲
で開口部を設けている。そのため、図形選択偏向器は大
きな偏向角が必要であり、駆動電圧が50Vと大きく、
偏向時間も1μsと長い。したがって、図形選択偏向器
を用いて三角形の図種を選択して描画していたのでは描
画時間がかかる。
開口部の近くに4種類の方向の違う三角形の開口部を設
け、これにアパーチャ4を通過した電子ビームを可変成
形偏向器(W/H偏向器)を用いて偏向し描画する方法
である。
の一例を示す図である。アパーチャ6は、可変成形用の
矩形図形開口401の周りに、方向の異なる4種類の三
角形の図形用開口402,403,404,405を設
けている。アパーチャ4を通過した電子ビーム406
は、可変成形用の静電偏向器によって、図中斜線で示す
ような位置に偏向され,,,,の形の図形を
描画する。は、矩形(四角形)であり、,,,
はそれぞれの形をした三角形である。アパーチャ4を
通過した電子ビーム(図中斜線)をそれぞれ矢印のよう
に偏向電圧を変えて動かすことによって、大きさを変え
た三角形を描画することが可能となる。
座標関係を示した図である。(X0,Y0)は矩形の始
点(原点)であり、この座標が描画時の基準となってい
る。また、(X1,Y1)は開口部の原点であり、(Xs
1,Ys1)は三角図形の始点である。図5において
網かけ部分501は、可変成形偏向器(W/H偏向器)に
電圧が印加されていないときの、アパーチャ4を通過し
た電子ビームの位置である。また、網かけ部分502
は、W/H偏向器に所定の電圧を印加し、の三角形を
描画する場合の電子ビームの位置である。大きさW1/
H1の三角形を描画するためには、(X0,Y0)にあ
る電子ビームを、矢印(A)に相当する距離だけW/H
偏向器によって偏向する必要がある。また、三角形の始
点(Xs1,Ys1)は、矢印(B)に示すようにX/Y
偏向器によって図形の基準点(X0,Y0)までシフト
させる必要がある。
描画する場合の、座標関係を示した図である。また、表
1は、それぞれの図形を描画しようとする場合の、W/
H偏向量およびX/Y偏向量を数式で表わしたものであ
る。
られる偏向量は、次のとおりである。
量、X′,Y′…X/Y偏向器への偏向量、X0,Y0
…図形の基準となる始点座標、X1,Y1…可変三角形
を実現するためのアパーチャの物理的な原点である。
(b)に示すような演算を行い、それぞれの偏向器を駆
動する。
/H偏向量の発生回路の一例である。ここで、各図の符
号50は幅データ、51は高さデータ、52は図種デー
タ、55はXの始点データ、56はYの始点データを示
す。
WおよびH、三角図形の形を表わすC(図種)は、描画
データ50,51,52として上位のコンピュータなど
から入力される。W補正メモリ702およびH補正メモ
リ704には、あらかじめ、図種およびそれぞれの図形
のW/Hに対応した、W/H偏向補正量を上位のコンピ
ュータから入力しておく。W偏向量(W′)は、入力さ
れたW寸法50と図種52とをアドレスとしてW補正メ
モリ702を参照し、加算器701によってW寸法50
との加算を行い出力される。一方、H偏向量H′は、加
算器703によって同様な計算を行い出力する。W′お
よびH′の偏向量は、DA変換器および増幅器(ともに
図示せず)を経て、偏向器に偏向電圧を印加する。
の実施例である。電子ビーム描画装置においてビームを
偏向する場合には、偏向歪補正を考慮して、例えば次式
のような演算を行い偏向信号を発生させる。
めた値として、メモリ802に(W+a1W),メモリ8
03に(a2H),メモリ804に(a3WH)を入力して
おき、それぞれの出力を加算器801で加算してW偏向
量W′として出力する。一方、H偏向量H′も同様に、
メモリ806に(H+b1H),メモリ807に(b2
W),メモリ808に(b3WH)を入力しておき、加算
器805で加算して出力する。
実施例である。
入力される。始点Xの補正量としてメモリ902に、図
種とWが変化することによって生じる補正量を、メモリ
903に、図種とHが変化することによって生じる補正
量をそれぞれ入力しておき、加算器901で図形の始点
Xとの加算を行い、X方向偏向量X′を出力する。一
方、Y座標についても同様に、メモリ905,906に
それぞれ図種とWおよびHが変化したことによって生じ
る偏向補正量を入力しておき、加算器904で加算し
て、Y方向偏向量Y′を出力する。
リを用いた構成としたが、上記補正回路をパイプライン
演算などによる積和演算回路で構成することもできる。
形選択偏向器を用いることなく、任意の大きさの三角図
形を一括で描画できる。また、W/H偏向器のみで、三
角形の図形選択と大きさを変えることができるため、高
速な描画が可能となり、スループットの向上に大きく貢
献することができる。
向器の構成を示した説明図。
示した説明図。
す説明図。
した説明図。
回路の一実施例のブロック図。
ク図。
ロック図。
ム、4…アパーチャ、5…可変成形偏向器、6…アパー
チャ、7…X/Y偏向器、8…ウエハ、9…ステージ、
103…アパーチャ矩形開口、104…矩形開口、10
5…アパーチャ通過ビーム、106,107…描画図
形。
Claims (3)
- 【請求項1】電子ビームを三角形に成形する機能を備え
た電子ビーム描画装置であって、 第1のアパーチャと、 矩形の開口部と該矩形の開口部の周囲に設けられた三角
形の開口部とを備える第2のアパーチャと、 前記第2のアパーチャを通過した電子ビームが投影され
るウエハを保持するステージと、 前記第1のアパーチャを通過した電子ビームの幅と高さ
方向の偏向量を変える可変成型用偏向器と、前記電子ビームを成型しようとする 図形の種類を示す信
号と、該図形の幅と高さとを示す信号とを基に、前記第
1のアパーチャを通過した電子ビームの幅と高さ方向の
偏向量を計算する手段とを有し、 該計算された電子ビームの幅と高さの偏向量から得られ
る偏向信号を前記可変成形用偏向器のみに印加すること
により、前記第1のアパーチャを通過した電子ビームを
偏向し、もって前記ウエハに描画する三角形の電子ビー
ムの形状と大きさとを変えることを特徴とする電子ビー
ム描画装置。 - 【請求項2】請求項1に記載の電子ビーム描画装置にお
いて、 描画しようとする図形の種類を示す信号手段と、前記電子ビームを成型しようとする 図形の幅と高さとを
示す信号手段と、 前記2つの信号手段の出力によって前記可変成型用偏向
器に印加する前記図形の幅と高さからなるデータの補正
信号を発生する手段と、 描画位置の基準点を変更するX/Y偏向器と 、該X/Y偏向器に印加するX,Y方向の位置データを計
算する手段と を有し、 該補正信号の発生手段によって、描画しようとする三角
形の原点を補正する電子ビーム描画装置。 - 【請求項3】請求項1または2に記載の電子ビーム描画
装置において、前記電子ビームを成 型しようとする図形
の種類を示す信号と該図形の幅と高さとを示す信号は、
共に描画データとして前記偏向量を計算する手段に入力
される電子ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31774695A JP3460416B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 電子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31774695A JP3460416B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 電子ビーム描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09161714A JPH09161714A (ja) | 1997-06-20 |
JP3460416B2 true JP3460416B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
ID=18091578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31774695A Expired - Fee Related JP3460416B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 電子ビーム描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3460416B2 (ja) |
-
1995
- 1995-12-06 JP JP31774695A patent/JP3460416B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09161714A (ja) | 1997-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07191199A (ja) | 荷電粒子ビーム露光システム及び露光方法 | |
JP5243898B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | |
US11774860B2 (en) | Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium | |
JP2002534792A (ja) | 荷電粒子ビーム形状コード決定方法および装置 | |
US10381196B2 (en) | Charged particle beam writing apparatus and method for calculating irradiation coefficient | |
JP6295035B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JPH0691005B2 (ja) | 荷電ビ−ム描画方法 | |
JP3460416B2 (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
JP4006216B2 (ja) | 可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法 | |
US10283314B2 (en) | Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method | |
JP4664552B2 (ja) | 可変成型ビーム型パターン描画装置 | |
JP2526326B2 (ja) | 露光処理システム装置 | |
JP4312205B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP3285645B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
JPH0982630A (ja) | 可変成形電子線描画装置 | |
JP2002260982A (ja) | 可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法 | |
JP5576458B2 (ja) | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 | |
JP3967546B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法 | |
JPH0586850B2 (ja) | ||
JPH10270341A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
JPH1154403A (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
US20210027987A1 (en) | Multi-beam writing method and multi-beam writing apparatus | |
JP6804954B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JPH07321004A (ja) | 電子線描画方法及び装置 | |
Eidson | Solid state: Fast electron-beam lithography: High blanking speeds may make this new system a serious challenger in producing submicrometer ICs |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070815 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090815 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100815 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100815 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130815 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |